JPH04343304A - Connecting method for optical waveguide and optical fiber - Google Patents

Connecting method for optical waveguide and optical fiber

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JPH04343304A
JPH04343304A JP3115034A JP11503491A JPH04343304A JP H04343304 A JPH04343304 A JP H04343304A JP 3115034 A JP3115034 A JP 3115034A JP 11503491 A JP11503491 A JP 11503491A JP H04343304 A JPH04343304 A JP H04343304A
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JP
Japan
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optical fiber
optical
waveguide
marker
optical waveguide
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JP3115034A
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Japanese (ja)
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Toshihiro Ochiai
落合 俊宏
Hisaharu Yanagawa
柳川 久治
Koichi Kobayashi
小林 孝市
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Furukawa Electric Co Ltd
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Furukawa Electric Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To provide the connecting method for an optical waveguide and an optical fiber by which the alignment of the optical waveguide and the optical fiber can be executed efficiently and with high precision. CONSTITUTION:This connecting method constitutes a characteristic feature of attaching an optical waveguide material onto an SiO2 layer 11 formed on a silicon substrate 10, patterning this optical waveguide material and forming a waveguide circuit 13 and a marker 14 positioned at a prescribed distance from the waveguide circuit 13, manufacturing an optical waveguide 12 by attaching SiO2 onto an area excluding the marker 14, manufacturing an optical fiber block by placing an optical fiber 23 on an optical fiber groove 21 of a base body on which plural optical fiber grooves 21 whose cross section is roughly a V-shape and a marker groove 22 whose cross section is roughly a V-shape are formed, and connecting the respective optical fibers 23 and waveguide circuits 13 by aligning the market of the optical waveguide 12 and the marker groove 22 of the optical fiber block.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、光通信技術における光
導波路と光ファイバの接続方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for connecting an optical waveguide and an optical fiber in optical communication technology.

【0002】0002

【従来の技術】近年、各種の光導波路が検討されており
、一部実用化されてきている。また、光導波路チップの
性能が向上するにつれて、光導波路チップと光ファイバ
との接続における信頼性を向上させ、その接続作業に費
やすコストを低減させるための研究が進められている。
BACKGROUND OF THE INVENTION In recent years, various optical waveguides have been studied and some have been put into practical use. Furthermore, as the performance of optical waveguide chips improves, research is underway to improve the reliability of the connection between the optical waveguide chip and optical fiber and to reduce the cost of the connection work.

【0003】従来の光導波路と光ファイバの接続方法は
、図5に示すようないわゆるモニター方式により行われ
ている。すなわち、このモニター方式は、次のようにし
て行われる。まず、複数の光ファイバが挿入された光フ
ァイバ用中子50に挿入されている両端の入射光用光フ
ァイバ51を光源52に接続し、同様に、光ファイバ用
中子53に挿入されている両端の出射光用光ファイバ5
4を光ディテクタ55に接続し、それぞれの光ファイバ
用中子50,53を導波路チップ56に仮接続する。 この状態で光源51から入射光用光ファイバ51に光を
入射し、光導波路チップ55を通過して出射された光を
光ディテクタ55で検出し、出射光のパワーを監視しな
がら光ファイバのコア部と光導波路の回路部との調心を
行って接続する。
A conventional method for connecting an optical waveguide and an optical fiber is a so-called monitor method as shown in FIG. That is, this monitoring method is performed as follows. First, the optical fibers 51 for incident light at both ends inserted into the optical fiber core 50 into which a plurality of optical fibers have been inserted are connected to the light source 52, and similarly inserted into the optical fiber core 53. Optical fiber 5 for output light at both ends
4 is connected to an optical detector 55, and the respective optical fiber cores 50 and 53 are temporarily connected to a waveguide chip 56. In this state, light is input from the light source 51 to the optical fiber 51 for incident light, and the light that passes through the optical waveguide chip 55 and is emitted is detected by the optical detector 55. While monitoring the power of the emitted light, the core of the optical fiber is The optical waveguide section and the circuit section of the optical waveguide are aligned and connected.

【0004】また、モニター方式の他に、光導波路チッ
プに機械的な基準点を設け、この基準点に基づいて光導
波路と光ファイバとを接続する方式も提案されている。 この方式によれば光ファイバのコア部と光導波路の回路
部との調心が不要となるが実用化には至っていない。
In addition to the monitoring method, a method has also been proposed in which a mechanical reference point is provided on the optical waveguide chip and the optical waveguide and optical fiber are connected based on this reference point. Although this method eliminates the need for alignment between the core portion of the optical fiber and the circuit portion of the optical waveguide, it has not yet been put to practical use.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、モニタ
ー方式は、光ファイバのコア部と光導波路の回路部との
調心が3次元的であるために複雑な工程となり製造コス
トが高くなる。また、調心工程が合理化されたとしても
、光ファイバを光源および光ディテクタに接続しなけれ
ばならないので量産性が非常に悪い。
However, in the monitoring method, since the core portion of the optical fiber and the circuit portion of the optical waveguide are aligned three-dimensionally, the process becomes complicated and the manufacturing cost increases. Furthermore, even if the alignment process were streamlined, the optical fiber must be connected to the light source and the optical detector, making mass production very difficult.

【0006】一方、光導波路チップに機械的な基準点を
設ける方式は、光導波路チップを製造した後に別工程で
基準点を設けなければならず、工程の増加になるばかり
でなく、導波回路と基準点との位置精度が悪いという欠
点がある。
On the other hand, in the method of providing a mechanical reference point on an optical waveguide chip, the reference point must be provided in a separate process after the optical waveguide chip is manufactured, which not only increases the number of steps but also The disadvantage is that the positional accuracy between the reference point and the reference point is poor.

【0007】本発明はかかる点に鑑みてなされたもので
あり、効率よくしかも高精度に光導波路と光ファイバと
の位置合わせを行うことができる光導波路と光ファイバ
の接続方法を提供することを目的とする。
The present invention has been made in view of the above points, and it is an object of the present invention to provide a method for connecting an optical waveguide and an optical fiber, which allows efficient and highly accurate positioning of the optical waveguide and optical fiber. purpose.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段】本発明は、シリコン基板
上に形成されたSiO2 層上に光導波路材料を被着し
、フォトリソグラフィー法により該光導波路材料をパタ
ーニングすることにより、所定の間隔を有して並設する
複数の光ファイバに対応した導波回路および該導波回路
から所定の距離を有して位置するマーカーを形成し、該
マーカーを除く領域上にSiO2 を被着して光導波路
を作製し、光ファイバを載置するための断面略V字形状
の複数の光ファイバ用溝および前記マーカーと位置合わ
せするための断面略V字形状のマーカー用溝を形成した
基体の光ファイバ用溝に光ファイバを載置して光ファイ
バブロックを作製し、前記光導波路のマーカーと前記光
ファイバブロックのマーカー用溝とを位置合わせするこ
とによりそれぞれの光ファイバと導波回路とを接続する
ことを特徴とする光導波路と光ファイバの接続方法を提
供する。ここで、光導波路材料としては、SiO2 +
TiO2 、SiO2 +GeO2 等を用いることが
できる。マーカーを除く領域上にSiO2 を被着する
方法としては、例えば、マーカーを含む領域にマスクを
して被着する方法等が挙げられる。
[Means for Solving the Problems] The present invention deposits an optical waveguide material on a SiO2 layer formed on a silicon substrate, and patterns the optical waveguide material by photolithography to form a predetermined interval. A waveguide circuit corresponding to a plurality of optical fibers arranged in parallel and a marker positioned at a predetermined distance from the waveguide circuit are formed, and SiO2 is coated on the area excluding the marker to form a light guide. A wave path is prepared, and a plurality of optical fiber grooves each having a substantially V-shaped cross section for mounting the optical fiber and a marker groove having a substantially V-shaped cross section for alignment with the marker are formed on the base optical fiber. An optical fiber block is produced by placing an optical fiber in a groove, and each optical fiber is connected to a waveguide circuit by aligning the marker of the optical waveguide and the marker groove of the optical fiber block. A method for connecting an optical waveguide and an optical fiber is provided. Here, as the optical waveguide material, SiO2 +
TiO2, SiO2 +GeO2, etc. can be used. Examples of the method for depositing SiO2 on the area excluding the marker include a method in which the area including the marker is covered with a mask.

【0009】光導波路材料を被着する方法は、光導波路
材料の種類によりことなるが、スパッタリング法、スピ
ンコーティング法、電子線蒸着法、抵抗加熱蒸着法、化
学的気相成長法(CVD法)、電子線エピタキシー法、
火炎堆積法、ゾルゲル法等いずれの方法を用いてもよい
。SiO2 を被着は、通常半導体製造工程において用
いられる方法により行うことができる。
Methods for depositing the optical waveguide material vary depending on the type of optical waveguide material, but include sputtering, spin coating, electron beam evaporation, resistance heating evaporation, and chemical vapor deposition (CVD). , electron beam epitaxy method,
Any method such as a flame deposition method or a sol-gel method may be used. The deposition of SiO2 can be carried out by a method commonly used in semiconductor manufacturing processes.

【0010】光ファイバブロックの基体の材料としては
、シリコン単結晶、結晶化ガラス、三酸化アルミニウム
や二酸化ジルコニウム等のセラミックス等を用いること
ができる。また、基体に複数の光ファイバ用V溝および
マーカー用V溝を形成する方法としては、基体の材料に
より異なるが、精密研削加工、エッチング等を用いるこ
とができる。
As the material for the base of the optical fiber block, silicon single crystal, crystallized glass, ceramics such as aluminum trioxide, zirconium dioxide, etc. can be used. Further, as a method for forming a plurality of optical fiber V-grooves and marker V-grooves on the base, precision grinding, etching, etc. can be used, although this varies depending on the material of the base.

【0011】[0011]

【作用】本発明の光導波路と光ファイバの接続方法は、
図4(A)に示す光導波路を通常の半導体製造方法によ
り作製し、さらに精密研削もしくはエッチング等の方法
により一工程で光ファイバブロックを作製し、光ファイ
バのコア部と光導波路の導波回路40との調心をマーカ
ー41を用いて1次元的に行うものである。
[Operation] The method for connecting an optical waveguide and an optical fiber of the present invention is as follows:
The optical waveguide shown in FIG. 4(A) is fabricated using a normal semiconductor manufacturing method, and an optical fiber block is fabricated in one step using a method such as precision grinding or etching. 40 is aligned one-dimensionally using a marker 41.

【0012】光導波路の製造において通常の半導体製造
方法を用いているので、光導波路の上面から導波回路4
0の中心までの距離X1 は、高精度で制御することが
できることがわかっている。したがって、この上面を基
準面としてシリコン基板42の底面を加工することによ
りシリコン基板42の底面から導波回路40の中心まで
の距離X2 も高精度に制御することができる。
Since a normal semiconductor manufacturing method is used to manufacture the optical waveguide, the waveguide circuit 4 is formed from the top surface of the optical waveguide.
It has been found that the distance X1 to the center of 0 can be controlled with high precision. Therefore, by processing the bottom surface of the silicon substrate 42 using this top surface as a reference surface, the distance X2 from the bottom surface of the silicon substrate 42 to the center of the waveguide circuit 40 can also be controlled with high precision.

【0013】また、通常の半導体製造方法、すなわちフ
ォトリソグラフィー法を用いているので、隣接する導波
回路40の中心間の距離および導波回路40の中心とマ
ーカー41の中心までの距離も高精度に制御することが
できる。
Furthermore, since a normal semiconductor manufacturing method, that is, a photolithography method, is used, the distance between the centers of adjacent waveguide circuits 40 and the distance between the center of the waveguide circuit 40 and the center of the marker 41 are also highly accurate. can be controlled.

【0014】また、光ファイバブロックも精密研削やエ
ッチング等により作製されるので、光ファイバ用V溝間
の距離や光ファイバ用V溝とマーカー用V溝との間の距
離を高精度に制御することができる。
Furthermore, since the optical fiber block is also manufactured by precision grinding, etching, etc., the distance between the optical fiber V grooves and the distance between the optical fiber V groove and the marker V groove can be controlled with high precision. be able to.

【0015】このように高精度に作製された光導波路と
光ファイバブロックとを1方向に移動させながら位置合
わせすることができるので、容易にしかも精度よく光フ
ァイバのコア部と光導波路の導波回路とを接続すること
ができる。
[0015] Since the optical waveguide and the optical fiber block manufactured with high precision can be aligned while moving in one direction, the core portion of the optical fiber and the waveguide of the optical waveguide can be easily and precisely aligned. Can be connected to the circuit.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て具体的に説明する。まず、光導波路チップを次のよう
にして作製する。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. First, an optical waveguide chip is manufactured as follows.

【0017】図1(A)に示すように、シリコン基板1
0上に火炎堆積法によりSiO2 層11を形成する。 図1(B)に示すように、SiO2層11上に光導波路
材料としてSiO2 +TiO2 を火炎堆積法により
被着して光導波路層12を形成する。
As shown in FIG. 1(A), a silicon substrate 1
A SiO2 layer 11 is formed on the substrate 0 by a flame deposition method. As shown in FIG. 1B, an optical waveguide layer 12 is formed by depositing SiO2 +TiO2 as an optical waveguide material on the SiO2 layer 11 by flame deposition.

【0018】この光導波路層12を通常のフォトリソグ
ラフィー法によりパターン形成して、図1(C)に示す
ように導波路回路13およびマーカー14を形成した。 すなわち、光導波路層12上にレジスト層(図示せず)
を形成し、導波路回路13およびマーカー14に対応す
るマスクを用いてエッチングし、その後レジスト層を除
去する。
This optical waveguide layer 12 was patterned by ordinary photolithography to form a waveguide circuit 13 and markers 14 as shown in FIG. 1(C). That is, a resist layer (not shown) is formed on the optical waveguide layer 12.
is formed and etched using a mask corresponding to the waveguide circuit 13 and marker 14, and then the resist layer is removed.

【0019】次いで、図1(D)に示すように、マーカ
ー14を含む領域上方にマスク15を配置して導波路回
路13およびマーカー14を形成したSiO2 層11
上にSiO2 を火炎堆積法により堆積させる。このよ
うにして図1(E)に示すような光導波路チップ1を作
製する。次に、光ファイバブロックである光ファイバ用
中子を作製する。
Next, as shown in FIG. 1(D), a mask 15 is placed above the region including the marker 14 to form the waveguide circuit 13 and the marker 14 on the SiO2 layer 11.
SiO2 is deposited thereon by flame deposition. In this way, an optical waveguide chip 1 as shown in FIG. 1(E) is manufactured. Next, an optical fiber core, which is an optical fiber block, is produced.

【0020】シリコン単結晶からなる板状体をその表面
と底面とが平行になるように精度良く加工して基板とし
、図2(A)〜(C)に示すように、この基板20に8
個の光ファイバ用V溝21およびマーカー用V溝22を
形成する。このとき、各々の光ファイバ用V溝21は、
その溝21に載置される光ファイバ23のコア部24と
光導波路チップの導波路回路13を位置合わせできるよ
うに、すなわちコア部24間の間隔Y1 と導波路回路
13の中心間の間隔が同じとなるように形成する。また
、マーカー用V溝22は、光導波路チップのマーカー1
4と位置合わせできるように、すなわちコア部24とマ
ーカー用V溝22の中央部との間隔Y2 と導波路回路
13の中心とマーカー14の中心との間隔が同じとなる
ように形成する。
A plate-shaped body made of silicon single crystal is processed with high accuracy so that its top surface and bottom surface are parallel to each other to form a substrate, and as shown in FIGS.
V-grooves 21 for optical fibers and V-grooves 22 for markers are formed. At this time, each optical fiber V-groove 21 is
In order to align the core portion 24 of the optical fiber 23 placed in the groove 21 and the waveguide circuit 13 of the optical waveguide chip, that is, the distance Y1 between the core portions 24 and the distance between the centers of the waveguide circuit 13 are adjusted. Form it so that it is the same. In addition, the V groove 22 for marker is the marker 1 of the optical waveguide chip.
4, that is, the distance Y2 between the core portion 24 and the center of the marker V-groove 22 is the same as the distance between the center of the waveguide circuit 13 and the center of the marker 14.

【0021】光ファイバ用V溝21およびマーカー用V
溝22が形成された基板20のそれぞれの光ファイバ用
V溝21に光ファイバ23を載置し、光ファイバ用V溝
21を含む領域上に光ファイバ押さ板25を設置して光
ファイバ用中子2を作製する。
V groove 21 for optical fiber and V for marker
An optical fiber 23 is placed in each optical fiber V-groove 21 of the substrate 20 in which the groove 22 is formed, and an optical fiber pressing plate 25 is installed on the area including the optical fiber V-groove 21 to hold the optical fiber. Create child 2.

【0022】次に、図3(A)および(B)に示すよう
に、光導波路チップ1と光ファイバ用中子2の接続の一
例について説明する。まず、表面を平坦に加工した支持
板30上に光導波路チップ1と光ファイバ用中子2を設
置する。このとき、光導波路チップ1もしくは光ファイ
バ用中子2を支持板30に接着材等を用いて固定しても
よい。
Next, as shown in FIGS. 3A and 3B, an example of the connection between the optical waveguide chip 1 and the optical fiber core 2 will be described. First, the optical waveguide chip 1 and the optical fiber core 2 are placed on the support plate 30 whose surface has been processed to be flat. At this time, the optical waveguide chip 1 or the optical fiber core 2 may be fixed to the support plate 30 using an adhesive or the like.

【0023】次いで、図3(C)および(D)に示すよ
うに、光導波路チップ1の接続端面と光ファイバ用中子
2の接続端面とを突き合わせ、図3(D)中の矢印方向
に圧力を加え、さらに光導波路チップ1および光ファイ
バ用中子2を支持板30上に押さえつけながら図3(C
)中の矢印方向に光ファイバ用中子2を移動させる。こ
の操作を光導波路チップ1のマーカー14の中心と光フ
ァイバ用中子2のマーカー用V溝22の中心が位置合わ
せされるまで行う。このようにして光導波路チップ1の
導波路回路13と光ファイバ用中子2に載置された光フ
ァイバ23のコア部24との位置合わせが完了した後、
図3(E),(F)に示すように光導波路チップ1と光
ファイバ用中子2を接着材等により支持板30上に固定
する。なお、光導波路チップ1と光ファイバ用中子2と
を接続し固定した後に支持板30を除去してもよい。
Next, as shown in FIGS. 3(C) and (D), the connecting end surface of the optical waveguide chip 1 and the connecting end surface of the optical fiber core 2 are butted together, and the While applying pressure and further pressing the optical waveguide chip 1 and the optical fiber core 2 onto the support plate 30, as shown in FIG.
) Move the optical fiber core 2 in the direction of the arrow inside. This operation is performed until the center of the marker 14 of the optical waveguide chip 1 and the center of the marker V-groove 22 of the optical fiber core 2 are aligned. After the alignment between the waveguide circuit 13 of the optical waveguide chip 1 and the core portion 24 of the optical fiber 23 placed on the optical fiber core 2 is completed in this way,
As shown in FIGS. 3(E) and 3(F), the optical waveguide chip 1 and the optical fiber core 2 are fixed onto the support plate 30 using an adhesive or the like. Note that the support plate 30 may be removed after the optical waveguide chip 1 and the optical fiber core 2 are connected and fixed.

【0024】本実施例においては、光導波路材料として
SiO2 +TiO2 を用い、形成方法として火炎堆
積法により光導波路層を形成しているが、上記した他の
光導波路材料を用い、または上記した他の形成方法を用
いても本発明の効果を得ることができる。
In this example, SiO2 + TiO2 is used as the optical waveguide material, and the optical waveguide layer is formed by flame deposition as the formation method. The effects of the present invention can also be obtained by using a forming method.

【0025】[0025]

【発明の効果】以上説明した如く本発明の光導波路と光
ファイバの接続方法によれば、短時間でしか小さい接続
損失で光導波路と光ファイバとの位置合わせを行うこと
ができる。
As described above, according to the method for connecting an optical waveguide and an optical fiber of the present invention, the optical waveguide and the optical fiber can be aligned in a short period of time and with a small connection loss.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】(A)〜(E)は、本発明の方法に使用される
光導波路チップの作製工程を示す説明図。
FIGS. 1A to 1E are explanatory diagrams showing the manufacturing process of an optical waveguide chip used in the method of the present invention.

【図2】(A)は本発明の方法に使用される光ファイバ
用中子の平面図、(B)は(A)に示す光ファイバ用中
子の正面図、(C)は(A)に示す光ファイバ用中子の
側面図。
[Fig. 2] (A) is a plan view of the optical fiber core used in the method of the present invention, (B) is a front view of the optical fiber core shown in (A), and (C) is a plan view of the optical fiber core shown in (A). FIG. 2 is a side view of the optical fiber core shown in FIG.

【図3】(A),(C),(E)は本発明の接続方法を
説明するための接続部の平面図、(B),(D),(F
)は(A),(C),(E)に示す接続部の側面図。
[Fig. 3] (A), (C), and (E) are plan views of the connection portion for explaining the connection method of the present invention, and (B), (D), and (F
) is a side view of the connection portion shown in (A), (C), and (E).

【図4】(A)は本発明の方法に使用される光導波路チ
ップの平面図、(B)は(A)に示す光導波路チップの
断面図。
4(A) is a plan view of an optical waveguide chip used in the method of the present invention, and FIG. 4(B) is a sectional view of the optical waveguide chip shown in FIG. 4(A).

【図5】従来の光導波路と光ファイバの接続方法を説明
するための概略図。
FIG. 5 is a schematic diagram for explaining a conventional method of connecting an optical waveguide and an optical fiber.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…シリコン基板、11…SiO2 層、12…光導
波路層、13…導波路回路、14…マーカー、15…マ
スク、20…基板、21…光ファイバ用V溝、22…マ
ーカー用V溝、23…光ファイバ、24…コア部、25
…光ファイバ押さ板、30…支持板。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 10... Silicon substrate, 11... SiO2 layer, 12... Optical waveguide layer, 13... Waveguide circuit, 14... Marker, 15... Mask, 20... Substrate, 21... V groove for optical fiber, 22... V groove for marker, 23 ...Optical fiber, 24...Core part, 25
...Optical fiber pressing plate, 30... Supporting plate.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  シリコン基板上に形成されたSiO2
 層上に光導波路材料を被着し、フォトリソグラフィー
法により該光導波路材料をパターニングすることにより
、所定の間隔を有して並設する複数の光ファイバに対応
した導波回路および該導波回路から所定の距離を有して
位置するマーカーを形成し、該マーカーを除く領域上に
SiO2 を被着して光導波路を作製し、光ファイバを
載置するための断面略V字形状の複数の光ファイバ用溝
および前記マーカーと位置合わせするための断面略V字
形状のマーカー用溝を形成した基体の光ファイバ用溝に
光ファイバを載置して光ファイバブロックを作製し、前
記光導波路のマーカーと前記光ファイバブロックのマー
カー用溝とを位置合わせすることによりそれぞれの光フ
ァイバと導波回路とを接続することを特徴とする光導波
路と光ファイバの接続方法。
Claim 1: SiO2 formed on a silicon substrate
A waveguide circuit compatible with a plurality of optical fibers arranged in parallel at a predetermined interval by depositing an optical waveguide material on a layer and patterning the optical waveguide material by photolithography, and the waveguide circuit A marker is formed at a predetermined distance from the center, and SiO2 is deposited on the area excluding the marker to produce an optical waveguide. An optical fiber block is prepared by placing an optical fiber in the optical fiber groove of a base body in which an optical fiber groove and a marker groove having a substantially V-shaped cross section for alignment with the marker are formed. A method for connecting an optical waveguide and an optical fiber, comprising connecting each optical fiber to a waveguide circuit by aligning a marker and a marker groove of the optical fiber block.
JP3115034A 1991-05-20 1991-05-20 Connecting method for optical waveguide and optical fiber Pending JPH04343304A (en)

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DE69229708T DE69229708T2 (en) 1991-05-20 1992-05-20 METHOD FOR CONNECTING AN OPTICAL FIBER GUIDE TO AN OPTICAL FIBER
US07/966,147 US5361382A (en) 1991-05-20 1992-05-20 Method of connecting optical waveguide and optical fiber
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EP92910594A EP0541820B1 (en) 1991-05-20 1992-05-20 Method of connecting an optical waveguide to an optical fiber
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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US6309803B1 (en) * 1999-07-01 2001-10-30 Lumenon, Innovative Lightwave Technology, Inc. On-substrate cleaving of sol-gel waveguide
WO2002061479A1 (en) * 2001-01-26 2002-08-08 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber array, and circuit connection method using the optical fiber array

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US6309803B1 (en) * 1999-07-01 2001-10-30 Lumenon, Innovative Lightwave Technology, Inc. On-substrate cleaving of sol-gel waveguide
WO2002061479A1 (en) * 2001-01-26 2002-08-08 Sumitomo Electric Industries, Ltd. Optical fiber array, and circuit connection method using the optical fiber array

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