JPH0432521B2 - - Google Patents

Info

Publication number
JPH0432521B2
JPH0432521B2 JP62042208A JP4220887A JPH0432521B2 JP H0432521 B2 JPH0432521 B2 JP H0432521B2 JP 62042208 A JP62042208 A JP 62042208A JP 4220887 A JP4220887 A JP 4220887A JP H0432521 B2 JPH0432521 B2 JP H0432521B2
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
resistive
coating
trimming
substrate
electrode coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Expired - Lifetime
Application number
JP62042208A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JPS63209105A (en
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed filed Critical
Priority to JP62042208A priority Critical patent/JPS63209105A/en
Publication of JPS63209105A publication Critical patent/JPS63209105A/en
Publication of JPH0432521B2 publication Critical patent/JPH0432521B2/ja
Granted legal-status Critical Current

Links

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention] 【産業上の利用分野】[Industrial application field]

この発明は、チツプ抵抗器製造用基板およびチ
ツプ抵抗器のトリミング方法にに関する。
The present invention relates to a chip resistor manufacturing substrate and a chip resistor trimming method.

【従来の技術】[Conventional technology]

第9図に示すようなチツプ抵抗器Cは、次の各
工程を経て製造される。 まず、割り溝を格子状に形成しながら焼成した
セラミツク基板1の上面における割り溝で囲まれ
た各矩形の領域の両端部に電極被膜3を一括印刷
形成した後、各矩形の単位領域に所定形状の抵抗
被膜2を一括印刷形成する。これにより、各矩形
の領域に、電極被膜3と、これを導通するように
両端に配された抵抗被膜2とからなる各単位チツ
プ抵抗器C…の基本的部分が構成される。そして
この時点において、各単位チツプ抵抗器C…の両
電極3に順次図示しない測定プローブを接触させ
て抵抗値を計測し、そして各チツプ抵抗器C…の
抵抗被膜2を抵抗値が所定の値となるように所定
量切除するトリミングを行なう。このトリミング
は通常、レーザ光によつて、たとえば第6図に示
すように抵抗被膜2をその縁から抵抗器の幅方向
に所定量焼き切るなどして行なわれる。トリミン
グパターンは、第6図のようなI型、第7図のよ
うなL型、第8図のようなダブルL型などがあ
り、要するに抵抗被膜2の通電部分の断面積と長
さを変化させることにより、所定の抵抗値を得る
ものである。 こうして各単位値抵抗器C……の抵抗値が所定
の値に設定された後は、表面に保護コーテイング
を行なつた後上記セラミツク基板1をその縦方向
の割り溝にそつて分割して一列棒状の基板片を得
てその側縁面ないし側縁に近い裏面に電極被膜を
塗布焼成して形成し、最後に横方向の割り溝にそ
つて各単位チツプ抵抗器毎に分割する。 ところで、上記のトリミングに際してのセラミ
ツク基板1の位置決めは、第10図に示すよう
に、支持テーブル4に突設されたガイドピン5に
基板1の縁を当接させて行なう外形基準によつて
いた。すなわち、こうして位置決めれたセラミツ
ク基板1に対し支持テーブル基準でセラミツク基
板に対して相対的に動く測定プローブを順次各単
位チツプ抵抗器の電極(電極被膜)に接触させて
測定を行なうとともに、支持テーブル基準でセラ
ミツク基板に対して相対的に動くレーザ光発生装
置によつ上述のようなトリミングを行なつてい
た。
Chip resistor C as shown in FIG. 9 is manufactured through the following steps. First, the electrode coating 3 is printed all at once on both ends of each rectangular area surrounded by the grooves on the upper surface of the fired ceramic substrate 1 while forming the grooves in a lattice pattern. A shaped resistive film 2 is formed by printing at once. As a result, each rectangular area constitutes the basic part of each unit chip resistor C, which consists of an electrode coating 3 and resistive coatings 2 disposed at both ends so as to conduct the electrode coating 3. At this point, a measuring probe (not shown) is brought into contact with both electrodes 3 of each unit chip resistor C... in order to measure the resistance value, and the resistance value of the resistance coating 2 of each chip resistor C... is a predetermined value. Trimming is performed to remove a predetermined amount so that This trimming is usually performed by burning off a predetermined amount of the resistive film 2 from its edge in the width direction of the resistor using a laser beam, for example, as shown in FIG. Trimming patterns include an I-type as shown in Figure 6, an L-type as shown in Figure 7, and a double-L type as shown in Figure 8. In short, the trimming pattern changes the cross-sectional area and length of the current-carrying part of the resistive film 2. By doing so, a predetermined resistance value is obtained. After the resistance value of each unit value resistor C is set to a predetermined value in this way, the surface is coated with a protective coating, and then the ceramic substrate 1 is divided along its longitudinal grooves and arranged in a row. A bar-shaped substrate piece is obtained, an electrode coating is applied and fired on the side edge surface or the back surface near the side edge, and finally it is divided into each unit chip resistor along the horizontal dividing groove. By the way, the positioning of the ceramic substrate 1 during the above-mentioned trimming is done by the external shape reference, which is done by bringing the edge of the substrate 1 into contact with the guide pin 5 protruding from the support table 4, as shown in FIG. Ta. That is, with respect to the thus positioned ceramic substrate 1, measurements are made by sequentially contacting the electrode (electrode coating) of each unit chip resistor with a measurement probe that moves relative to the ceramic substrate with reference to the support table. The above-mentioned trimming was performed using a laser light generator that moved relative to the ceramic substrate as a reference.

【発明が解決しようとする問題点】[Problems to be solved by the invention]

しかしながら、上記のようにセラミツク基板を
外形基準で位置めするとともに測定プローブおよ
びレーザ光発生装置を支持テーブル基準で相対的
に動かして(すなわち、測定プローブあるいはレ
ーザ光発生器に対し支持テーブル側が動いてセラ
ミツク基板を送ることもある。)トリミングを行
なう場合、セラミツク基板に縁にバリができてい
てセラミツク基板1の位置決めが正しくできなか
つたり、たとえセラミツク基板1の位置決めが正
しくできていても電極被膜3および抵抗被膜2の
印刷ずれがあると、測定プローブが正しく電極3
に接触できなくて測定不良を起したり、また、第
6図に符号sで示すトリミング開始位置がずれて
正しくトリミングできないという問題がある。さ
らに、たとえば電極被膜3が第7図のX方向にず
れていると、電極被膜3をトリミングしてしまつ
てチツプ抵抗器そのものが不良となるという問題
もある。また、上記のようにセラミツク基板1の
位置決めが正しくできなかつたり、印刷ずれが生
じていたりすると、同一のセラミツク基板1のす
べてのチツプ抵抗器が不良となるので、上記の問
題は重大である。 この発明は、上記の事情のもとで考えだされた
ものであつて、簡単な構成により、セラミツク基
板の外形にかかわりなく、常に正しいトリミング
を行いうるように構成した新たなチツプ抵抗器製
造用基板およびこの基板を用いたチツプ抵抗器の
トリミング方法を提供することをその目的として
いる。
However, as described above, when the ceramic substrate is positioned based on the external shape and the measurement probe and laser beam generator are moved relative to the support table (i.e., the support table side moves relative to the measurement probe or laser beam generator), (Ceramic substrates may be sent.) When trimming, there may be burrs on the edges of the ceramic substrate, making it difficult to position the ceramic substrate 1 correctly, or even if the ceramic substrate 1 is positioned correctly, the electrode coating 3 may be damaged. Also, if there is a printing misalignment of the resistive coating 2, the measurement probe will not be able to
There are problems in that the trimming start position indicated by the symbol s in FIG. 6 is shifted and the trimming cannot be done correctly. Furthermore, if the electrode coating 3 is misaligned in the X direction in FIG. 7, for example, the electrode coating 3 may be trimmed, resulting in a defective chip resistor itself. Furthermore, if the ceramic substrate 1 is not positioned correctly or there is printing misalignment as described above, all the chip resistors on the same ceramic substrate 1 will be defective, so the above problem is serious. This invention was devised under the above circumstances, and is a new method for manufacturing chip resistors that has a simple structure that allows correct trimming to be performed at all times regardless of the external shape of the ceramic substrate. The object is to provide a substrate and a method for trimming a chip resistor using the substrate.

【問題を解決するための手段】[Means to solve the problem]

上記の問題を解決するため、この発明では、次
の技術的手段を講じている。 すなわち、本発明によるチツプ抵抗器製造用基
板は、各単位領域に電極被膜および抵抗被膜を一
括印刷することにより単位チツプ抵抗器が複数列
複数行に一括形成されてなるチツプ抵抗器製造用
基板であつて、 上記各単位領域に所定形状の電極被膜または/
および抵抗被膜を一括印刷形成する際、同時に、
電極被膜あるいは抵抗被膜のパターンと一定の位
置関係にある少なくとも二つの認識標を電極被膜
用インクまたは/および抵抗被膜用インクによつ
て基板上の余白に印刷形成したことを特徴とする
としている。 そして、本発明のチツプ抵抗器のトリミング方
法は、各単位領域に電極被膜および抵抗被膜を一
括印刷することにより単位チツプ抵抗器が複数例
複数行に一括形成された基板に対し、上記抵抗被
膜をレーザ光で焼き切ることにより所定量切除す
るトリミング方法において、 上記各単位領域に所定形状の電極被膜または/
および抵抗被膜を一括印刷形成する際、同時に、
電極被膜あるいは抵抗被膜のパターンと一定の位
置関係にある少なくとも二つの認識標を電極被膜
用インクまたは/および抵抗被膜用インクによつ
て基板上の余白に印刷形成しておき、 トリミング工程におけるトリミング用レーザ光
発生器の基板に対するその表面方向の位置および
表面直交軸周りの回転位置を、上記認識標を光学
的に認識することにより、上記電極被膜または/
および抵抗被膜のパターンを基準として決定する
ようにしたことを特徴としている。
In order to solve the above problem, the present invention takes the following technical measures. That is, the substrate for manufacturing chip resistors according to the present invention is a substrate for manufacturing chip resistors in which unit chip resistors are collectively formed in multiple columns and multiple rows by collectively printing an electrode coating and a resistive coating on each unit area. In this case, each of the above unit areas is coated with an electrode coating or/and a predetermined shape.
When simultaneously printing and forming resistive coatings,
The present invention is characterized in that at least two recognition marks in a fixed positional relationship with the pattern of the electrode coating or the resistive coating are printed on the blank space on the substrate using ink for the electrode coating and/or ink for the resistive coating. The method for trimming a chip resistor of the present invention is to apply the resistive film to a substrate on which a plurality of unit chip resistors are collectively formed in a plurality of rows by collectively printing an electrode film and a resistive film in each unit area. In a trimming method in which a predetermined amount is removed by burning out with a laser beam, each unit area is coated with an electrode coating or/and a predetermined shape.
When simultaneously printing and forming resistive coatings,
At least two recognition marks having a certain positional relationship with the pattern of the electrode coating or the resistive coating are printed on the margins of the substrate using ink for the electrode coating and/or ink for the resistive coating, and are used for trimming in the trimming process. By optically recognizing the recognition mark, the position of the laser beam generator in the surface direction with respect to the substrate and the rotational position around the axis perpendicular to the surface, the electrode coating or/and
and the pattern of the resistive coating as a reference.

【作用】[Effect]

たとえば、抵抗被膜を印刷する際に同時にセラ
ミツク基板の余白上に印刷形成される認識標は、
抵抗被膜のパターンとの位置関係が決つているか
ら、上記認識標を認識することにより、抵抗被膜
パターンの印刷面上での絶対的な位置および垂直
軸周りの回転姿勢が計測できる。すなわち、上記
セラミツク基板をX・Y方向ならびにθ方向に駆
動しうるテーブルに載置しておいて、少なくとも
二つの認識標のうちの一つの認識標の上記計測結
果に基づいて上記テーブルをX・Y方向に所定量
動かすことにより、抵抗被膜の印刷パターンに対
するレーザ光発生器の印刷面方向の相対位置を決
めることができる。次に、上記の一つの認識標の
計測結果に加え、もう一つの認識標の計測結果に
応じて、抵抗被膜の印刷パターンのθ方向の傾き
をも知ることができ、この傾きに応じてセラミツ
ク基板をθ方向に回転させることにより、抵抗被
膜の印刷パターンに対するレーザ光発生器のθ方
向、すなわち印刷面に対する直交軸周りの回転相
対位置を決定することができる。その結果、セラ
ミツク基板の外形を基準とするのではなく、抵抗
被膜の印刷パターンを基準としてレーザ光発生器
を駆動することができる。 また、同様にして、電極被膜の印刷パターンを
基準としてレーザ光発生器を駆動することもでき
る。
For example, the recognition mark printed on the margin of the ceramic substrate at the same time as printing the resistive coating is
Since the positional relationship with the resistive coating pattern is determined, by recognizing the recognition mark, the absolute position of the resistive coating pattern on the printed surface and the rotational posture around the vertical axis can be measured. That is, the ceramic substrate is placed on a table that can be driven in the X, Y directions and the θ direction, and the table is moved in the X and Y directions based on the measurement result of one of the at least two recognition marks. By moving a predetermined amount in the Y direction, the relative position of the laser beam generator in the printed surface direction with respect to the printed pattern of the resistive coating can be determined. Next, in addition to the measurement result of one recognition mark mentioned above, it is also possible to know the inclination in the θ direction of the printed pattern of the resistive coating according to the measurement result of the other recognition mark, and the ceramic By rotating the substrate in the θ direction, it is possible to determine the rotational relative position of the laser beam generator in the θ direction with respect to the printed pattern of the resistive film, that is, around the orthogonal axis with respect to the printed surface. As a result, the laser light generator can be driven based on the printed pattern of the resistive film, rather than based on the outer shape of the ceramic substrate. Similarly, the laser light generator can also be driven based on the printed pattern of the electrode coating.

【効果】【effect】

以上のように本発明においては、トリミングを
すべきレーザ光発生器が、セラミツク基板上に印
刷された電極被膜の印刷パターンおよび/または
抵抗被膜の印刷パターンを基準として印刷面方向
の位置および印刷面に対する直交軸周りの回転位
置が決められ、かつ駆動されるので、たとえセラ
ミツク基板に対する抵抗被膜の印刷がずれていて
も、これに関係なく抵抗被膜上の所定部位を正確
にトリミングすることできる。そもそも、トリミ
ングとは、抵抗被膜の導通部分の断面積および長
さを調節するものであるから、この抵抗被膜の印
刷パターンを基準としてトリミングする本発明方
法によれば、セラミツク基板を外形によつて位置
決めしながら抵抗被膜をトリミングしていた従来
に比べ、きわめて正確なトリミンクを行なうこと
ができるのである。また、電極被膜の印刷パター
ンを基準としてトリミングを行なうこともできる
から、セラミツク基板自体の位置がずれていて電
極被膜をトリミングしてしまうという不都合も回
避できる。
As described above, in the present invention, the position of the laser beam generator to be trimmed is determined based on the printing pattern of the electrode coating and/or the printing pattern of the resistive coating printed on the ceramic substrate. Since the rotational position around the orthogonal axis is determined and driven, even if the printing of the resistive coating with respect to the ceramic substrate is misaligned, a predetermined portion on the resistive coating can be accurately trimmed regardless of this. In the first place, trimming is to adjust the cross-sectional area and length of the conductive part of the resistive coating, so according to the method of the present invention, which trims using the printed pattern of the resistive coating as a reference, the ceramic substrate can be trimmed according to the external shape. Compared to the conventional method of trimming the resistive coating while positioning it, extremely accurate trimming can be performed. Furthermore, since trimming can be performed based on the printed pattern of the electrode coating, it is possible to avoid the inconvenience of trimming the electrode coating due to misalignment of the ceramic substrate itself.

【実施例の説明】[Explanation of Examples]

以下、本発明の実施例を図面を参照して具体的
に説明する。 第1図は、本発明方法でトリミングする前の段
階のセラミツク基板1の平面図である。 このセラミツク基板1は、周囲の余白部分に認
識標6,6,7,7が印刷されていることを除け
ば、従来のものと同様である。すなわち、等間隔
複数本の横割り溝8…と、等間隔複数本の縦割り
溝9…とからなる格子状の割り溝がセラミツク表
面に形成されて、各割り溝8…,9…で囲まれる
矩形の単位領域Aが複数列複数行隣接して形成さ
れる。そして各単位領域Aには、第2図に拡大し
て示すように、電極被膜3…が一括印刷された
後、抵抗被膜2…が一括印刷される。これらの印
刷は、通常、抵抗被膜を形成すべきペースト、あ
るいは電極被膜を形成すべきペーストをインクと
して、スクリーン印刷法によつて行なわれる。電
極被膜印刷用および抵抗被膜印刷用の各マスクに
は、第2図の電極被膜3…、あるいは抵抗被膜2
…がそれぞれ複数行複数列並んだような抜きパタ
ーンが形成されている。そしてセラミツク基板1
上に上記の印刷マスクを位置決めしながら置き、
インクの載つたマスク上をスキージで擦ることに
より、インクを上記抜きパターンと対応してセラ
ミツク上に転写して、上記抵抗被膜2…および電
極被膜3…を形成するのである。 本発明法では、上記印刷マスク上に、所定部位
に新たに抜きパターンを加えることにより、第1
図および第2図に示すような少なくとも二つ以上
の認識標6,6,7,7を、電極被膜印刷時ある
いは抵抗被膜印刷時に同時に、セラミツク基板1
の余白部分に印刷する。このうち、符号7,7で
示す認識標を電極被膜印刷じ同時に印刷される認
識標、符号6,6で示す認識標は、抵抗被膜印刷
時に同時に印刷される認識標であり、本例ではそ
れぞれ2箇所印刷される。したがつて上記各認識
標7,7,6,6は、電極被膜3の印刷パターン
あるいは抵抗被膜2の印刷パターンに対し、常に
位置が決つている。 次に、トリミング工程において、上記印刷済み
のセラミツク基板1は、ガイドピン5などで一応
の位置決めがなされながら、支持台10に載置さ
れる。この支持台10は、第3図に示すように、
回転テーブル11と、X・Yテーブル12とが組
み合された駆動装置13に支持されて、X方向、
Y方向およびθ方向に動くようになつている。そ
して、支持台10の上方には、光学的認識装置1
4が配置されている。 上記支持台10にセラミツク基板1が載置され
ると、まず、光学的認識装置14が、たとえば、
上記の認識標6,6の各座標を認識する。これに
より、この認識標6,6の、レーザ光発生器(図
示略)との関係においてあるべき位置に対するX
方向、Y方向およびθ方向のずれが測定できるか
ら、これに基づいて上記回転テーブル11および
X・Yテーブル12とを制御して上記支持台10
を動かし、上記認識標6,6の位置を、レーザ光
発生器(図示略)との関係においてあるべき位置
となるように修正する。上記のようにこの認識標
6,6の抵抗被膜2…の印刷パターンとの関係は
決つているから、上記のように2つの認識標6,
6の位置を調節することにより、レーザ光発生器
との関係において抵抗被膜2…の印刷パターンの
位置を正しく決めることができるのである。すな
わち、2つの認識標を使つて印刷パターンの位置
を修正するようにしているから、この印刷パター
ンの位置を、X・Y方向だけでなく、θ方向にも
修正することできるものである。 こうして抵抗被膜2…の印刷パターンの位置が
修正された後は、第4図に示すように、横列複数
対のプローブ15,15(図面には、一対のプロ
ーブを示してある)が順次単位領域Aの電極被膜
3,3上をスキヤンしてゆく。そして第5図に示
すように、この計測結果と、得るべき抵抗値との
関係において定まる抵抗被膜3の導通部の断面積
および長さに対応するように、抵抗被膜3…をレ
ーザ光で焼き切つて削除するトリミングが順次行
なわれる。 たとえば、第6図のようにI型のトリミングを
行なう場合、その始点sが丁度抵抗被膜の縁から
始まることが製品の精度を高める上で重要である
が、本発明では、この場合のトリミングの始点s
を、抵抗被膜2…の印刷パターンとの関係におい
て正確に決定することができ、トリミングの始点
が抵抗被膜3の内部に入り込んだり、隣の抵抗被
膜にかかつたりするということを完壁に回避する
ことができる。そして、トリミングの長さlは、
上記の測定プローブによる測定結果が所望値とな
るようになされる。 また、第7図のようにL型のトリミングを行な
う場合には、トリミングの始点sが電極被膜3に
近い位置とせざるをえないため、電極被膜3…の
印刷が図のX方向にずれていてこの電極被膜3を
トリミングしてしまうことを防止するには、むし
ろ、電極被膜3…の印刷パターンを基準としてト
リミングした方が良い。この場合には、上記の説
明における抵抗被膜2…の印刷パターンの調節を
する代わりに、認識標7,7を使つて電極被膜3
…の印刷パターンのレーザ光発生器に対する相対
位置調節をした後、トリミングを行なえばよい。 もちろん、この発明の範囲は上述し実施例に限
定されるものではない。実施例では、セラミツク
基板1を載置する支持台側をX,Y,θ方向に動
かせて、各印刷パターンのレーザ光発生器との関
係位置を調節するようにしたが、逆に、レーザ光
発生器の基準位置を動かせて、各印刷パターンと
レーザ光発生器の関係位置を調節するようにして
もよい。
Embodiments of the present invention will be specifically described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a plan view of a ceramic substrate 1 before trimming by the method of the present invention. This ceramic substrate 1 is similar to the conventional one except that recognition marks 6, 6, 7, and 7 are printed on the surrounding margins. That is, a lattice-like groove consisting of a plurality of equally spaced horizontal grooves 8... and a plurality of equally spaced vertical grooves 9... is formed on the ceramic surface, and is surrounded by each groove 8..., 9... A plurality of rectangular unit areas A are formed adjacent to each other in a plurality of columns and a plurality of rows. Then, in each unit area A, as shown in an enlarged view in FIG. 2, the electrode coatings 3... are printed all at once, and then the resistive coatings 2... are printed all at once. These printings are usually performed by screen printing using a paste for forming a resistive film or a paste for forming an electrode film as an ink. Each mask for electrode coating printing and resistive coating printing includes electrode coating 3... or resistive coating 2 shown in Fig. 2.
A punching pattern is formed in which ... are arranged in a plurality of rows and in a plurality of columns. And ceramic substrate 1
Place the above printing mask on top while positioning it,
By rubbing the mask with the ink on it with a squeegee, the ink is transferred onto the ceramic in correspondence with the above-mentioned punching pattern, thereby forming the above-mentioned resistive coatings 2 and electrode coatings 3. In the method of the present invention, by adding a new punching pattern to a predetermined portion on the printing mask, the first
At least two or more recognition marks 6, 6, 7, 7 as shown in FIG.
Print in the margins of Among these, the recognition marks indicated by numerals 7 and 7 are the recognition marks printed at the same time as printing the electrode coating, and the recognition marks indicated by numerals 6 and 6 are the recognition marks printed at the same time when printing the resistive coating, and in this example, they are respectively printed. Printed in two places. Therefore, each of the recognition marks 7, 7, 6, 6 is always positioned with respect to the printed pattern of the electrode coating 3 or the printed pattern of the resistive coating 2. Next, in the trimming step, the printed ceramic substrate 1 is placed on the support stand 10 while being positioned using guide pins 5 and the like. This support stand 10, as shown in FIG.
A rotary table 11 and an X/Y table 12 are supported by a combined drive device 13, and rotate in the X direction.
It is designed to move in the Y direction and the θ direction. An optical recognition device 1 is provided above the support stand 10.
4 is placed. When the ceramic substrate 1 is placed on the support stand 10, first, the optical recognition device 14, for example,
Recognize each coordinate of the recognition marks 6, 6 above. This allows the recognition marks 6, 6 to be
Since the deviations in the direction, the Y direction and the θ direction can be measured, the rotary table 11 and the X/Y table 12 are controlled based on this to
is moved to correct the positions of the recognition marks 6, 6 so that they are at the desired positions in relation to the laser beam generator (not shown). As mentioned above, the relationship between the recognition marks 6, 6 and the printed pattern of the resistive coating 2... is determined, so as mentioned above, the two recognition marks 6,
By adjusting the position of 6, it is possible to correctly determine the position of the printed pattern of the resistive coating 2 in relation to the laser light generator. That is, since the position of the printed pattern is corrected using two recognition marks, the position of the printed pattern can be corrected not only in the X and Y directions but also in the θ direction. After the position of the printed pattern of the resistive coating 2 has been corrected in this way, as shown in FIG. The electrode coatings 3 and 3 of A are scanned. Then, as shown in FIG. 5, the resistive film 3 is burnt with a laser beam so as to correspond to the cross-sectional area and length of the conductive part of the resistive film 3, which is determined based on the relationship between this measurement result and the resistance value to be obtained. Trimming by cutting and deleting is performed sequentially. For example, when performing I-shaped trimming as shown in FIG. Starting point s
can be determined accurately in relation to the printed pattern of the resistive coating 2..., completely avoiding the possibility that the trimming starting point will enter inside the resistive coating 3 or touch the neighboring resistive coating. can do. And the trimming length l is
The measurement result by the measurement probe described above is made to be a desired value. In addition, when performing L-shaped trimming as shown in Figure 7, the trimming starting point s must be located close to the electrode coating 3, so the printing of the electrode coating 3... may be shifted in the X direction in the figure. In order to prevent the electrode coating 3 of the lever from being trimmed, it is better to trim using the printed pattern of the electrode coating 3 as a reference. In this case, instead of adjusting the printing pattern of the resistive coating 2 in the above explanation, the recognition marks 7, 7 can be used to adjust the printing pattern of the electrode coating 3.
After adjusting the relative position of the printed pattern with respect to the laser beam generator, trimming may be performed. Of course, the scope of the invention is not limited to the above embodiments. In the embodiment, the support base on which the ceramic substrate 1 is placed can be moved in the X, Y, and θ directions to adjust the position of each printing pattern in relation to the laser beam generator. The reference position of the generator may be moved to adjust the relative position of each printed pattern to the laser light generator.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明のセラミツク基板の平面図、第
2図は第1図に示すセラミツク基板の要部を拡大
して示す平面図、第3図はセラミツク基板の位置
決め装置の全体概略構成斜視図、第4図はトリミ
ング工程に先立つ抵抗測定工程の説明図、第5図
ないし第8図はトリミング工程の説明図、第9図
はチツプ抵抗器の全体拡大斜視図、第10図は従
来例の説明図である。 1……セラミツク基板、2……抵抗被膜、3…
…電極被膜、6……認識標、7……認識標、8,
9……割り溝、A……単位領域、C……単位チツ
プ抵抗器。
FIG. 1 is a plan view of the ceramic substrate of the present invention, FIG. 2 is an enlarged plan view of the main parts of the ceramic substrate shown in FIG. 1, and FIG. 3 is a perspective view of the overall schematic configuration of the ceramic substrate positioning device. , Fig. 4 is an explanatory diagram of the resistance measurement process prior to the trimming process, Figs. 5 to 8 are explanatory diagrams of the trimming process, Fig. 9 is an enlarged perspective view of the entire chip resistor, and Fig. 10 is an illustration of the conventional example. It is an explanatory diagram. 1... Ceramic substrate, 2... Resistive coating, 3...
...electrode coating, 6...recognition mark, 7...recognition mark, 8,
9... Division groove, A... unit area, C... unit chip resistor.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 各単位領域に電極被膜および抵抗被膜を一括
印刷することにより単位チツプ抵抗器が複数列複
数行に一括形成されてなるチツプ抵抗器製造用基
板であつて、 上記各単位領域に所定形状の電極被膜または/
および抵抗被膜を一括印刷形成する際、同時に、
電極被膜あるいは抵抗被膜のパターンと一定の位
置関係にある少なくとも二つの認識標を電極被膜
用インクまたは/および抵抗被膜用インクによつ
て基板上の余白に印刷形成したことを特徴とす
る、チツプ抵抗器製造用基板。 2 各単位領域に電極被膜および抵抗被膜を一括
印刷することにより単位チツプ抵抗器が複数例複
数行に一括形成された基板に対し、上記抵抗被膜
をレーザ光で焼き切ることにより所定量切除する
トリミング方法において、 上記各単位領域に所定形状の電極被膜または/
および抵抗被膜を一括印刷形成する際、同時に、
電極被膜あるいは抵抗被膜のパターンと一定の位
置関係にある少なくとも二つの認識標を電極被膜
用インクまたは/および抵抗被膜用インクによつ
て基板上の余白に印刷形成しておき、 トリミング工程におけるトリミング用レーザ光
発生器の基板に対するその表面方向の位置および
表面直交軸周りの回転位置を、上記認識標を光学
的に認識することにより、上記電極被膜または/
および抵抗被膜のパターンを基準として決定する
ようにしたことを特徴とする、チツプ抵抗器のト
リミング方法。
[Scope of Claims] 1. A chip resistor manufacturing substrate in which unit chip resistors are collectively formed in multiple columns and multiple rows by collectively printing an electrode coating and a resistive coating in each unit area, wherein each of the above units An electrode coating of a predetermined shape or/
At the same time, when printing and forming resistive coatings at once,
A chip resistor, characterized in that at least two recognition marks in a certain positional relationship with the pattern of the electrode coating or the resistive coating are printed on a blank space on a substrate using ink for the electrode coating and/or ink for the resistive coating. Substrate for vessel manufacturing. 2. A trimming method in which a predetermined amount of the resistive film is removed by burning off the resistive film with a laser beam from a substrate on which multiple unit chip resistors are formed in multiple rows by printing an electrode film and a resistive film in each unit area at once. In each of the above unit areas, an electrode coating of a predetermined shape or/
At the same time, when printing and forming resistive coatings at once,
At least two recognition marks having a certain positional relationship with the pattern of the electrode coating or the resistive coating are printed on the margins of the substrate using ink for the electrode coating and/or ink for the resistive coating, and are used for trimming in the trimming process. By optically recognizing the recognition mark, the position of the laser beam generator in the surface direction with respect to the substrate and the rotational position around the axis perpendicular to the surface, the electrode coating or/and
and a method for trimming a chip resistor, characterized in that the determination is made based on the pattern of the resistive film.
JP62042208A 1987-02-25 1987-02-25 Method of trimming chip resistor Granted JPS63209105A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62042208A JPS63209105A (en) 1987-02-25 1987-02-25 Method of trimming chip resistor

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP62042208A JPS63209105A (en) 1987-02-25 1987-02-25 Method of trimming chip resistor

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JPS63209105A JPS63209105A (en) 1988-08-30
JPH0432521B2 true JPH0432521B2 (en) 1992-05-29

Family

ID=12629599

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP62042208A Granted JPS63209105A (en) 1987-02-25 1987-02-25 Method of trimming chip resistor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JPS63209105A (en)

Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS56148804A (en) * 1980-04-22 1981-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing chip resistor
JPS6039204B2 (en) * 1976-11-12 1985-09-05 ミノルタ株式会社 Two-component wide-angle zoom lens system

Family Cites Families (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6039204U (en) * 1983-08-24 1985-03-19 ロ−ム株式会社 chip resistor

Patent Citations (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS6039204B2 (en) * 1976-11-12 1985-09-05 ミノルタ株式会社 Two-component wide-angle zoom lens system
JPS56148804A (en) * 1980-04-22 1981-11-18 Matsushita Electric Ind Co Ltd Method of manufacturing chip resistor

Also Published As

Publication number Publication date
JPS63209105A (en) 1988-08-30

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US4918374A (en) Method and apparatus for inspecting integrated circuit probe cards
US4376584A (en) Pattern printing including aligning masks and monitoring such alignment
JPH10289803A (en) Resistor and manufacture thereof
CN114460442A (en) High-precision needle-off compensation method and device for flying needle test and storage medium
JPH0432521B2 (en)
US5060371A (en) Method of making probe cards
KR100313476B1 (en) How to make a thermalprinthead
JPH06258394A (en) Coordinate correcting method for board tester with movable probe
JPH067561B2 (en) Positioning method for semiconductor wafer chips
JP4227821B2 (en) Manufacturing method of chip resistor
JP6792484B2 (en) Chip resistors and their manufacturing methods
JP3810365B2 (en) Laser trimming device
CN219641785U (en) Jig for laser resistance adjustment
JPH08255706A (en) Method for printing thick film to substrate
JP2001315299A (en) Method for positioning screen mask in screen printing
JP2505743B2 (en) Substrate for electronic device and method for forming thick film element on substrate for electronic device
JPH06140480A (en) Method and device for testing electrode pad of semiconductor device
JPH0226636Y2 (en)
JPS60196964A (en) Circuit substrate with resistor for detecting position and detecting method of positional displacement of circuit substrate thereof
JPH0727806B2 (en) Thick film printing method on substrate
JPH07186427A (en) Manufacture of thermal print head
JPH0770365B2 (en) Chip type electronic parts
JP2726651B2 (en) Marking method for defective element
JP2813095B2 (en) Thermal head manufacturing method and insulating substrate
JPH02113502A (en) Film resistance of integrated circuit

Legal Events

Date Code Title Description
LAPS Cancellation because of no payment of annual fees