JPH04324464A - Image forming method - Google Patents

Image forming method

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JPH04324464A
JPH04324464A JP9434691A JP9434691A JPH04324464A JP H04324464 A JPH04324464 A JP H04324464A JP 9434691 A JP9434691 A JP 9434691A JP 9434691 A JP9434691 A JP 9434691A JP H04324464 A JPH04324464 A JP H04324464A
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JP
Japan
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layer
photoreceptor
toner
image forming
image
Prior art date
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Application number
JP9434691A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takao Kawamura
河村 孝夫
Seiji Akita
成司 秋田
Kazuki Wakita
脇田 和樹
Masao Nakano
正夫 中野
Hiroshi Ito
浩 伊藤
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Kyocera Corp
Original Assignee
Kyocera Corp
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Filing date
Publication date
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Publication of JPH04324464A publication Critical patent/JPH04324464A/en
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  • Electrophotography Using Other Than Carlson'S Method (AREA)
  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Combination Of More Than One Step In Electrophotography (AREA)

Abstract

PURPOSE:To provide an image forming method in which corona charging is unnecessitated and sufficient image density and excellent image quality are obtained. CONSTITUTION:Developing bias voltage is impressed on a photosensitive body 2 constituted by successively laminating a light transmissive conductive layer, a carrier injection preventing layer, an amorphous silicon-based photoconductive layer, and a photoconductive amorphous silicon carbide surface layer on a light transmissive supporting body 3 through conductive magnetic toner. Then, the photosensitive body is exposed from the light transmissive supporting body side with the light of specified wavelength which is substantially absorbed by the layer thickness equal to or under that of the photoconductive layer, and optical carrier is temporarily trapped in an area corresponding to a bright part just under a surface insulating layer, then the toner is made to adhere to the surface of the photosensitive body with electric field generated with the optical carrier by interposing the surface layer. While the toner is moved to a transfer part, the charge of the toner and the trapped optical carrier are neutralized through the surface layer and the toner is transferred to a recording paper.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は画像形成方法に関し、特
にコロナ帯電を不要として露光と現像とがほぼ同時に行
なえるように組み合わせ、且つクリーニングを不要にで
きた電子写真方式による画像形成方法に関するものであ
る。
[Field of Industrial Application] The present invention relates to an image forming method, and more particularly to an image forming method using an electrophotographic method that eliminates the need for corona charging, allows exposure and development to be performed almost simultaneously, and eliminates the need for cleaning. It is.

【0002】0002

【従来の技術】従来、最も一般的な電子写真プロセスと
して、コロナ放電による感光体の帯電を利用したカール
ソン法の画像形成方法が広く知られており、既に実用化
されている。
2. Description of the Related Art Hitherto, as the most common electrophotographic process, the Carlson image forming method, which utilizes the charging of a photoreceptor by corona discharge, is widely known and has already been put into practical use.

【0003】このカールソン法によれば、コロナ放電に
より感光体表面を帯電し、次いで画像露光により露光部
の帯電電荷を消失させて静電潜像を形成し、その静電潜
像を帯電したトナーで現像し、記録紙に転写、定着され
て記録紙上に画像を形成し、然る後、残留トナーをクリ
ーニングして感光体を繰り返し使用するものである。し
かしながら、カールソン法では、装置の構成や画像形成
プロセスが複雑になり、コロナ放電用に高電圧電源が必
要となり、またコロナ放電を用いるためにオゾンが発生
する等の問題点があった。
According to the Carlson method, the surface of the photoreceptor is charged by corona discharge, and then the charge in the exposed area is erased by imagewise exposure to form an electrostatic latent image, and the electrostatic latent image is transferred to the charged toner. The photoreceptor is developed, transferred and fixed onto recording paper to form an image on the recording paper, and then the remaining toner is cleaned and the photoreceptor is used repeatedly. However, the Carlson method has problems such as a complicated device configuration and image forming process, a need for a high voltage power source for corona discharge, and ozone generation due to the use of corona discharge.

【0004】これに対して近時、コロナ放電を不要とす
る電子写真方式による画像形成方法が提案されている(
特公平2−4900号、特公昭60−59592号等参
照)。
In response to this, recently, an image forming method using an electrophotographic method that does not require corona discharge has been proposed (
(See Japanese Patent Publication No. 2-4900, Japanese Patent Publication No. 60-59592, etc.)

【0005】特公平2−4900号に提案された画像形
成方法によれば、透光性支持体上に透光性導電層と光導
電層と主として有機材料から成る絶縁層を順次設けた感
光体を用い、この感光体の絶縁層側に導電性磁性トナー
を供給しながら、トナーと透光性導電層との間に電圧を
印加しつつ光導電層を露光することで、明部においては
絶縁層を挟んで光導電層とトナーとの間に逆極性の電荷
対を形成し、磁力によるトナーの搬送力に打勝ってトナ
ーを感光体表面に静電力で吸着し、一方、暗部において
は上記露光の後に、磁力により絶縁層表面からトナーを
除去することで、感光体上に露光明部にトナーを付着さ
せ画像を形成する。
According to the image forming method proposed in Japanese Patent Publication No. 2-4900, a photoreceptor is prepared in which a transparent conductive layer, a photoconductive layer, and an insulating layer mainly made of an organic material are sequentially provided on a transparent support. By applying a voltage between the toner and the transparent conductive layer while supplying conductive magnetic toner to the insulating layer side of the photoconductor and exposing the photoconductive layer to light, the insulation layer becomes insulated in bright areas. A charge pair of opposite polarity is formed between the photoconductive layer and the toner with the layer in between, and the toner is attracted to the surface of the photoreceptor by electrostatic force, overcoming the toner transport force caused by magnetic force. After exposure, the toner is removed from the surface of the insulating layer by magnetic force, thereby causing the toner to adhere to the brightly exposed areas on the photoreceptor to form an image.

【0006】また、特公昭60−59592号に提案さ
れた画像形成方法によれば、透光性支持体上に透光性導
電層と光半導体層と絶縁体層を順次設けた感光体を使用
し、トナー供給機と透光性導電層の間に電圧を印加しな
がら透光性支持体側から光半導体層を露光することによ
り、絶縁体層上にトナー像を形成する。その後、このト
ナー像を紙と接触させ、トナー供給器と透光性導電層の
間に印加した電圧と透光性導電層からみて逆極性の電圧
を紙の背面に印加して、トナー像を紙上に転写するとと
もに、光導電層中に残留する電荷像を消去する。
Furthermore, according to an image forming method proposed in Japanese Patent Publication No. 60-59592, a photoreceptor is used in which a light-transmitting conductive layer, a photosemiconductor layer, and an insulating layer are sequentially provided on a light-transmitting support. Then, a toner image is formed on the insulating layer by exposing the optical semiconductor layer from the side of the transparent support while applying a voltage between the toner supply device and the transparent conductive layer. Thereafter, this toner image is brought into contact with paper, and a voltage of opposite polarity from the voltage applied between the toner supply device and the transparent conductive layer is applied to the back side of the paper, to bring the toner image into contact with the paper. At the same time as it is transferred onto paper, the charge image remaining in the photoconductive layer is erased.

【0007】また、このような画像形成方法において、
上記光導電層にアモルファスシリコン層(以下、アモル
ファスシリコンをa−Siと略す)を用いることが提案
されている(特開昭63−240553 号、特開平2
−106761号参照)。
[0007] Furthermore, in such an image forming method,
It has been proposed to use an amorphous silicon layer (hereinafter amorphous silicon is abbreviated as a-Si) as the photoconductive layer (JP-A-63-240553, JP-A-2, No.
-106761).

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする問題点】しかしながら、本発
明者等の実験によれば、上記提案の画像形成方法におい
ては、十分な画像濃度を有し、かつ高い画像品質を備え
た画像を得るのは困難であり、更に、繰り返して画像形
成を行なう場合には、プロセスの前歴が残像となって画
像に現われるという問題点もあった。有機絶縁層を用い
た場合、耐磨耗性に劣るために感光体の寿命が著しく低
下するという問題点もあった。また更に、a−Si光導
電層を備えた感光体を用いた場合においても、未だ満足
し得るような画像濃度が得られず、またバイアス電圧を
高めて画像濃度を高めようとしても、感光体の絶縁耐圧
が低いために絶縁破壊されやすく、これによって所望通
りの画像濃度が得られないという問題点があり、感光体
の層構成の改善が必要であった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, according to experiments conducted by the present inventors, it has been found that the image forming method proposed above cannot obtain images with sufficient image density and high image quality. Furthermore, when images are formed repeatedly, there is another problem in that the previous history of the process appears as an afterimage in the images. When an organic insulating layer is used, there is also a problem that the life of the photoreceptor is significantly shortened due to poor abrasion resistance. Furthermore, even when using a photoreceptor equipped with an a-Si photoconductive layer, a satisfactory image density cannot be obtained, and even if an attempt is made to increase the image density by increasing the bias voltage, the photoreceptor Since the dielectric strength of the photoreceptor is low, dielectric breakdown occurs easily, and as a result, the desired image density cannot be obtained.Therefore, it is necessary to improve the layer structure of the photoreceptor.

【0009】従って本発明の目的は、叙上の問題点を解
決し、感光体の寿命を高め、十分な画像濃度と良好な画
像品質が得られる画像形成方法を提供することにある。
SUMMARY OF THE INVENTION Accordingly, an object of the present invention is to provide an image forming method that solves the above-mentioned problems, increases the life of a photoreceptor, and provides sufficient image density and good image quality.

【0010】更に本発明の目的は、コロナ放電を不要と
するとともに、感光体表面からトナーを除去するクリー
ニング工程や、光導電層中に残留する電荷像を消去する
イレース工程を不要とした画像形成方法を提供すること
にある。
A further object of the present invention is to form an image that eliminates the need for corona discharge, a cleaning process for removing toner from the surface of a photoreceptor, and an erase process for erasing charge images remaining in the photoconductive layer. The purpose is to provide a method.

【0011】[0011]

【問題点を解決するための手段】本発明の画像形成方法
は、透光性支持体上に透光性導電層とキャリア注入阻止
層とa−Si系光導電層と光導電性アモルファスシリコ
ンカーバイド表面層とを順次積層して成る感光体に、導
電性磁性トナーを介して現像バイアス電圧を印加すると
ともに、上記光導電層の層厚以下で実質的に吸収される
ような所定の波長の光で露光して、表面層の直下の明部
に対応する領域に光キャリアを集め、そして、その光キ
ャリアにより表面層を挟んで生ずる電界によってトナー
を感光体表面に付着させ、次いで、上記光キャリアと上
記トナーの電荷とを中和させ、然る後、そのトナーを記
録紙に転写することを特徴とするものである。
[Means for Solving the Problems] The image forming method of the present invention includes a transparent conductive layer, a carrier injection blocking layer, an a-Si photoconductive layer, and a photoconductive amorphous silicon carbide layer formed on a transparent support. A developing bias voltage is applied to a photoreceptor formed by sequentially laminating a surface layer and a surface layer through a conductive magnetic toner, and light of a predetermined wavelength that is substantially absorbed at a thickness equal to or less than the layer thickness of the photoconductive layer is applied. The photocarriers are collected in the area corresponding to the bright area directly under the surface layer, and the toner is attached to the surface of the photoreceptor by the electric field generated by the photocarriers across the surface layer. This method is characterized by neutralizing the toner and the electric charge of the toner, and then transferring the toner to recording paper.

【0012】また、本発明の画像形成方法は、転写後の
イレース工程やクリーニング工程がないことを特徴とす
るものである。
The image forming method of the present invention is also characterized in that there is no erase step or cleaning step after transfer.

【0013】更に、本発明の画像形成方法は、現像バイ
アス電圧印加用現像器の感光体と対面する側に制御電極
を配設して、バイアス電圧とは独立に電圧を制御するこ
とができるようにしたことを特徴とするものである。
Furthermore, in the image forming method of the present invention, a control electrode is disposed on the side facing the photoreceptor of the developing device for applying a developing bias voltage, so that the voltage can be controlled independently of the bias voltage. It is characterized by the following.

【0014】更に、本発明の画像形成方法は、上記a−
Si系光導電層の層厚が、その層の吸収係数の露光波長
に対して決定される光吸収層の厚みに更に0.1〜10
.0μmの厚みの層領域を加えたものであることも特徴
とするものである。
Furthermore, the image forming method of the present invention includes the above a-
The layer thickness of the Si-based photoconductive layer is 0.1 to 10% greater than the thickness of the light absorption layer determined for the exposure wavelength of the absorption coefficient of the layer.
.. It is also characterized by the addition of a layer region with a thickness of 0 μm.

【0015】更に、本発明の画像形成方法は、上記アモ
ルファスシリコンカーバイド表面層(以下、アモルファ
スシリコンカーバイドをa−SiCと略す)の層厚が、
0.05〜5μmであることも特徴とするものである。
Furthermore, in the image forming method of the present invention, the layer thickness of the amorphous silicon carbide surface layer (hereinafter amorphous silicon carbide is abbreviated as a-SiC) is
It is also characterized by being 0.05 to 5 μm.

【0016】[0016]

【実施例】以下、本発明を実施例により説明する。[Examples] The present invention will be explained below with reference to Examples.

【0017】図1は本発明の画像形成方法に係わる画像
形成装置1を表わす模式図であり、図中、2は透光性支
持体3上に透光性導電層とキャリア注入阻止層とa−S
i系光導電層とa−SiC表面層の各層4が積層された
ドラム状の感光体、5は露光手段としてのLEDヘッド
、5aはそのヘッドに設けられたセルフォックレンズア
レイ、6は現像器、7は転写ローラである。LEDヘッ
ド5と現像器6は、感光体2のある一部を介して、ほぼ
対称的に配置される。8はイレース用光源としてのLE
Dアレイであり、感光体2の外側に配置してもよい。 尚、このイレース用光源は本発明においては必ずしも必
要とされるものではない。現像器6においては、例えば
8極の円柱状の磁極ローラ9と、その外周に亘って配設
された導電性スリーブ10とから成り、更にドクターブ
レード11で一定の層厚に決められた導電性磁性トナー
はスリーブ10の外周へ配送され、磁気ブラシ12を形
成する。また、スリーブ10と透光性導電層との間には
バイアス電源13が設けられ、その透光性導電層とバイ
アス電源13の間に感光体2の電位特性に応じて+或い
は−の5〜300Vの電圧を印加する。14は感光体2
の表面に形成されたトナー像、15は記録紙、16は残
留トナーである。これ以外に現像剤の回転手段と感光体
2の回転手段とを設ける。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an image forming apparatus 1 according to the image forming method of the present invention. -S
A drum-shaped photoreceptor in which each layer 4 of an i-based photoconductive layer and an a-SiC surface layer is laminated, 5 is an LED head as an exposure means, 5a is a SELFOC lens array provided on the head, and 6 is a developing device. , 7 is a transfer roller. The LED head 5 and the developing device 6 are arranged almost symmetrically with a certain part of the photoreceptor 2 interposed therebetween. 8 is LE as a light source for erasing
It is a D array and may be arranged outside the photoreceptor 2. Note that this erasing light source is not necessarily required in the present invention. The developing device 6 consists of a cylindrical magnetic pole roller 9 with, for example, eight poles and a conductive sleeve 10 disposed around its outer periphery. Magnetic toner is delivered to the outer circumference of sleeve 10 to form magnetic brush 12 . Further, a bias power supply 13 is provided between the sleeve 10 and the transparent conductive layer, and between the transparent conductive layer and the bias power supply 13, a voltage of + or - 5 to 5 is provided depending on the potential characteristics of the photoreceptor 2. Apply a voltage of 300V. 14 is photoreceptor 2
15 is a recording paper, and 16 is residual toner. In addition to this, means for rotating the developer and means for rotating the photoreceptor 2 are provided.

【0018】次に上記構成の画像形成装置1を用いた画
像形成方法を図2〜図7により説明する。
Next, an image forming method using the image forming apparatus 1 having the above configuration will be explained with reference to FIGS. 2 to 7.

【0019】これらの図に示す感光体2は、透光性支持
体3の上に、透光性導電層4aとキャリア注入阻止層4
bとa−Si系光導電層4cとa−SiC表面層4dと
が順次積層されている。
The photoreceptor 2 shown in these figures has a transparent conductive layer 4a and a carrier injection blocking layer 4 on a transparent support 3.
b, an a-Si type photoconductive layer 4c, and an a-SiC surface layer 4d are sequentially laminated.

【0020】先ず図2及び図3においては、回転する感
光体2の透光性支持体3側からa−Si系光導電層4c
にLEDヘッド5よりセルフォックレンズアレイ5aを
通して画像露光の光を照射し、a−Si系光導電層4c
の内部に光キャリアとして正孔電子対を発生させると、
現像器6側に+のバイアス電圧を印加してあれば、その
バイアス電圧によって光キャリア対の内の電子はa−S
i系光導電層4cの表面側へ移動し、a−SiC表面層
4dがa−Si系光導電層4cよりも高抵抗であるため
に露光明部に対応するa−SiC表面層4dの領域の直
下に電子が集まって一時的にトラップされ、一方、正孔
はキャリア注入阻止層側に集まる。このような感光体2
中の電荷の流れに対応して、導電性トナーには正の電荷
が注入し、表面層4dを挟んで大きな電界が発生し、ト
ナーが表面層4dの表面に引き付けられて、露光明部に
対応して感光体2に付着する。
First, in FIGS. 2 and 3, the a-Si photoconductive layer 4c is removed from the transparent support 3 side of the rotating photoreceptor 2.
Image exposure light is irradiated from the LED head 5 through the SELFOC lens array 5a to form the a-Si photoconductive layer 4c.
When a hole-electron pair is generated as a photocarrier inside,
If a + bias voltage is applied to the developing device 6 side, the bias voltage causes the electrons in the photocarrier pair to become a-S.
Moves to the surface side of the i-based photoconductive layer 4c, and since the a-SiC surface layer 4d has a higher resistance than the a-Si-based photoconductive layer 4c, a region of the a-SiC surface layer 4d corresponding to the bright exposed area Electrons gather directly under the layer and are temporarily trapped, while holes gather on the carrier injection blocking layer side. Such a photoreceptor 2
In response to the flow of charges inside, positive charges are injected into the conductive toner, a large electric field is generated across the surface layer 4d, the toner is attracted to the surface of the surface layer 4d, and the toner is drawn to the exposed bright area. Correspondingly, it adheres to the photoreceptor 2.

【0021】次に図4に示すように、画像露光の光を照
射しない非露光部では、上記のような感光体2中の電荷
の移動が生じないため、トナーを感光体2に引き付ける
電界も発生しないので、トナーは付着せず、前のプロセ
スでの残留トナーは磁力によって現像器6に回収され、
これによってクリーニング工程を不要とすることができ
る。
Next, as shown in FIG. 4, in the non-exposed area where the light for image exposure is not irradiated, the electric charge in the photoreceptor 2 does not move as described above, so the electric field that attracts the toner to the photoreceptor 2 is also reduced. Since no toner is generated, toner does not adhere, and residual toner from the previous process is collected into the developing device 6 by magnetic force.
This makes it possible to eliminate the need for a cleaning process.

【0022】更に図5に示すように、感光体2上に画像
露光に対応して形成されたトナー像14の電荷は、感光
体2の表面層4dの抵抗が光導電性を有する程度に絶縁
層よりも低いため、感光体2が現像部を通過して転写部
に至るまでの間に、表面層直下に一時的にトラップされ
ていた電荷と表面層4dを介して結合して中和し合って
、トナーの電荷と感光体2の電荷が共に消滅する。
Furthermore, as shown in FIG. 5, the charge of the toner image 14 formed on the photoreceptor 2 in response to image exposure is insulated to the extent that the resistance of the surface layer 4d of the photoreceptor 2 has photoconductivity. Since the surface layer is lower than the surface layer, when the photoreceptor 2 passes through the developing section and reaches the transfer section, the charges temporarily trapped just below the surface layer are combined with and neutralized through the surface layer 4d. At the same time, both the charge on the toner and the charge on the photoreceptor 2 disappear.

【0023】その後、電荷を放出したトナーは、同じく
電荷を放出した感光体2との結合力が弱くなるので記録
紙への転写が容易になり、図6に示すように、記録紙1
5を介して電圧を印加された転写ローラ7により記録紙
15上に転写され、、次いで定着手段(図示せず)によ
り定着されて、記録画像となる。
Thereafter, the toner that has released the charge has a weak bond with the photoreceptor 2 that has also released the charge, so that it is easily transferred to the recording paper, and as shown in FIG.
The image is transferred onto the recording paper 15 by the transfer roller 7 to which a voltage is applied via the transfer roller 5, and then fixed by a fixing means (not shown) to form a recorded image.

【0024】次いで図7に示すように、トナー層14を
転写した後の感光体2には電荷の残留がないため、イレ
ース用光源8からの除電光の照射等のイレース工程は特
に必要とせず、感光体2は初期状態に戻る。また、感光
体2とその表面の残留トナー16との電気的な引力は既
になくなっているため、残留トナー16は現像器6の磁
力によって現像器6に容易に回収され、再び画像形成に
利用される。
Next, as shown in FIG. 7, since there is no charge remaining on the photoreceptor 2 after the toner layer 14 has been transferred, there is no particular need for an erase process such as irradiation of static eliminating light from the erase light source 8. , the photoreceptor 2 returns to its initial state. Furthermore, since the electrical attraction between the photoreceptor 2 and the residual toner 16 on its surface has already disappeared, the residual toner 16 is easily collected by the developing device 6 by the magnetic force of the developing device 6 and used again for image formation. Ru.

【0025】尚、ここではイレース工程が不要である場
合の説明を行なったが、転写後の感光体2を安定して初
期状態に戻すために、イレース用光源8からの除電光の
照射等のイレース工程を設けてもよい。
Although the case where the erase process is not necessary has been described here, in order to stably return the photoreceptor 2 to its initial state after transfer, it is necessary to irradiate the erase process with light for eliminating static electricity from the erase light source 8, etc. An erase step may also be provided.

【0026】以上の通り、図2〜図7に示す各プロセス
を繰り返して画像形成が行なわれる。
As described above, image formation is performed by repeating each process shown in FIGS. 2 to 7.

【0027】本発明の画像形成方法によれば、上述した
プロセスの図2及び図3において、a−Si系光導電層
4cの層厚以下で実質的に吸収されるような所定の波長
の光で露光しており、これによって光キャリアの発生効
率が高められるとともに、表面層4dとの界面付近に画
像露光時においても暗抵抗の高い層領域が形成される傾
向にあり、その結果、表面層4dの直下に集まった電荷
の横方向の移動が抑制され、解像力の良好な画像が形成
される。
According to the image forming method of the present invention, in FIGS. 2 and 3 of the above-described process, light of a predetermined wavelength that is substantially absorbed below the layer thickness of the a-Si photoconductive layer 4c is used. This increases the generation efficiency of photocarriers, and also tends to form a layer region with high dark resistance near the interface with the surface layer 4d even during image exposure, and as a result, the surface layer The lateral movement of the charges gathered directly under 4d is suppressed, and an image with good resolution is formed.

【0028】本発明者等が繰り返し行なった実験によれ
ば、a−Si系光導電層4cの厚みは、露光波長の光に
対するこの層4cの吸収係数から求められる光吸収層の
厚みに対して更に0.1〜10.0μmを加えた厚みと
するのが望ましい。このような厚みの層領域を表面層4
dとの界面付近に形成すれば、上記目的をより優位に達
成することができる。
According to experiments repeatedly conducted by the present inventors, the thickness of the a-Si photoconductive layer 4c is equal to the thickness of the light absorption layer determined from the absorption coefficient of this layer 4c for light at the exposure wavelength. It is desirable that the thickness is further increased by 0.1 to 10.0 μm. The layer area with such thickness is called surface layer 4.
If it is formed near the interface with d, the above object can be achieved more advantageously.

【0029】図9に、代表的なa−Si:H層(Ego
pt:1.76eV)における、光の波長に対する吸収
係数から求めた光吸収層の厚みの変化を示す。同図によ
れば、a−Si:H層において入射光の90%が吸収さ
れる深さは、波長550nmに対しては約0.4μm、
一般的なELの発光波長である580nmに対しては約
0.6μm、600nmに対しては約0.8μm、一般
的なLEDの一つである波長660nmに対しては約2
.2μm、700nmに対しては約3.8μmであるこ
とがわかる。
FIG. 9 shows a typical a-Si:H layer (Ego
pt: 1.76 eV), the change in the thickness of the light absorption layer determined from the absorption coefficient with respect to the wavelength of light is shown. According to the figure, the depth at which 90% of incident light is absorbed in the a-Si:H layer is approximately 0.4 μm for a wavelength of 550 nm.
Approximately 0.6 μm for a general EL emission wavelength of 580 nm, approximately 0.8 μm for 600 nm, and approximately 2 μm for a general LED emission wavelength of 660 nm.
.. It can be seen that it is approximately 3.8 μm for 2 μm and 700 nm.

【0030】この様な光吸収層の厚みの変化は、使用す
るa−Si系光導電層4cの光吸収特性により異なるが
、いずれにせよ、a−Si系光導電層4cの厚みを画像
露光に使用する光の波長に対する吸収係数から求めた光
吸収層の厚み、特に90%の光を吸収する厚みに0.1
〜10.0μmを加えた厚みとすることにより、露光を
ほぼ完全に吸収して有効に光キャリアを発生することが
出来、この層の厚みを必要以上に厚くすることもなくな
る。
Such a change in the thickness of the light absorption layer varies depending on the light absorption characteristics of the a-Si photoconductive layer 4c used, but in any case, the thickness of the a-Si photoconductive layer 4c can be changed by image exposure. The thickness of the light absorption layer determined from the absorption coefficient for the wavelength of light used for
By adding a thickness of ~10.0 μm, exposure light can be almost completely absorbed and photocarriers can be effectively generated, and the thickness of this layer does not need to be made thicker than necessary.

【0031】また、この層4cの厚みを上記に基づいて
設定した必要最小限とすることにより、画像形成の際の
バイアス電圧により光導電層4cおよび表面層4dにか
かる電界が、低いバイアス電圧でも十分に高くなるため
、良好な画像形成が行なえる。
Furthermore, by setting the thickness of this layer 4c to the necessary minimum based on the above, the electric field applied to the photoconductive layer 4c and the surface layer 4d due to the bias voltage during image formation can be reduced even at a low bias voltage. Since the height is sufficiently high, good image formation can be performed.

【0032】本発明においては、転写後の除電効果を高
めるために、イレース用除電光を用いても良い。このイ
レース用除電光としては、その波長を上述した露光用光
源の波長に比べて、長波長化した光を用いるとよい。こ
れによって表面層4dの直下に光が到達しやすくなって
、効率的にイレースすることができる。
[0032] In the present invention, in order to enhance the effect of static elimination after transfer, an erasing static elimination light may be used. It is preferable to use light whose wavelength is longer than that of the above-mentioned exposure light source as the erasing static-eliminating light. This makes it easier for light to reach directly beneath the surface layer 4d, allowing efficient erasing.

【0033】次に本発明に用いられる感光体2の典型的
な層構成は図10に示す通りであり、同図により具体的
に述べる。
Next, a typical layer structure of the photoreceptor 2 used in the present invention is shown in FIG. 10, and will be specifically described with reference to the same figure.

【0034】上記透光性支持体3を構成する材料には、
パイレックスガラス、ソーダガラス、ホウ珪酸ガラスな
ど、また石英、サファイアなどの無機質系のもの、並び
に弗素樹脂、ポリエステル、ポリカーボネート、ポリエ
チレンテレフタレート、エポキシなどの耐熱性有機樹脂
系のものが挙げられる。
[0034] The materials constituting the translucent support 3 include:
Examples include Pyrex glass, soda glass, borosilicate glass, etc., inorganic materials such as quartz and sapphire, and heat-resistant organic resin materials such as fluororesin, polyester, polycarbonate, polyethylene terephthalate, and epoxy.

【0035】上記透光性導電層4aを構成する材料には
、インジウム・スズ・酸化物(ITO)、酸化錫、酸化
鉛、酸化インジウム、ヨウ化銅などがあり、また半透明
になる程度に薄くしたAl、Ni、Auなどから成る金
属薄層を用いてもよい。その層形成法には真空蒸着法、
活性反応蒸着法、RFスパッタリング法、DCスパッタ
リング法、RFマグネトロンスパッタリング法、DCマ
グネトロンスパッタリング法、熱CVD法、プラズマC
VD法、スプレー法、塗布法、浸漬法などがある。
Materials constituting the transparent conductive layer 4a include indium tin oxide (ITO), tin oxide, lead oxide, indium oxide, copper iodide, etc. A thin metal layer made of thinned Al, Ni, Au, etc. may also be used. The layer formation method includes vacuum evaporation method,
Active reactive vapor deposition method, RF sputtering method, DC sputtering method, RF magnetron sputtering method, DC magnetron sputtering method, thermal CVD method, plasma C
Examples include the VD method, spray method, coating method, and dipping method.

【0036】キャリア注入阻止層4bは感光体2の表面
がバイアス電圧を印加されつつ現像剤と接触した際に、
透光性導電層4aからa−Si系光導電層4cへのキャ
リアの注入を阻止することにより、画像ノイズを除き、
露光部と非露光部との静電コントラストを高めて画像品
質を向上させると共に、現像におけるバックグラウンド
のカブリを低減する。
When the surface of the photoreceptor 2 comes into contact with the developer while a bias voltage is applied, the carrier injection blocking layer 4b
By preventing the injection of carriers from the transparent conductive layer 4a to the a-Si photoconductive layer 4c, image noise can be removed.
To improve image quality by increasing electrostatic contrast between exposed and unexposed areas, and to reduce background fog during development.

【0037】この層4bには、絶縁層が好ましいが、そ
れに代えて高抵抗層、あるいはa−Si系のp型または
n型半導体層を用いることも可能である。ここで、絶縁
層とは、体積抵抗率が極めて大きく、その層の内部にお
いて、正負両極性の電荷の移動を共に阻止する性質を有
するものをいう。また、高抵抗層とは、体積抵抗率が絶
縁層よりも小さいが光導電層よりも大きいものをいう。 就中、その層の内部において、一方の極性の電荷の移動
は阻止するが、他方の極性の電荷の移動を許容する性質
を有するものが、感光体用として好ましい。
This layer 4b is preferably an insulating layer, but a high resistance layer or an a-Si based p-type or n-type semiconductor layer can also be used instead. Here, the insulating layer refers to a layer that has an extremely high volume resistivity and has the property of blocking the movement of both positive and negative charges within the layer. Furthermore, a high-resistance layer refers to a layer whose volume resistivity is smaller than that of an insulating layer but larger than that of a photoconductive layer. In particular, a material having a property of blocking the movement of charges of one polarity but allowing the movement of charges of the other polarity within the layer is preferable for photoreceptors.

【0038】この層4bには、透光性導電層4aからの
キャリアの注入を阻止する電気的な特性と共に、透光性
支持体3側からの画像露光の光を吸収しないように透光
性が高く(光学的バンドギャップが大きい、または光透
過率が高い)、更に透光性導電層4aやa−Si系光導
電層4cとの密着性が良く、a−Si系光導電層4cの
形成時の加熱等にも大きな変質を起こさないといった特
性が必要である。
This layer 4b has electrical properties that prevent the injection of carriers from the transparent conductive layer 4a, and also has a transparent property so as not to absorb light for image exposure from the side of the transparent support 3. (large optical band gap or high light transmittance), and has good adhesion to the transparent conductive layer 4a and the a-Si photoconductive layer 4c, and has a high adhesion to the a-Si photoconductive layer 4c. It must have the property of not causing major deterioration even when heated during formation.

【0039】この層4bに用いる絶縁層としては、絶縁
性のアモルファスシリコンカーバイド(a−SiCX 
)、アモルファスシリコンオキサイド(a−SiOX 
)、アモルファスシリコンナイトライド(a−SiNX
 )、a−SiC・O、a−SiC・N、a−SiO・
N、a−SiC・O・N等のa−Si系絶縁層や、ポリ
エチレンテレフタレートやパリレン、ポリ四フッ化エチ
レン、ポリイミド、ポリフッ化エチレンプロピレン、ウ
レタン樹脂、エポキシ樹脂、ポリエステル樹脂、ポリカ
ーボネート樹脂、酢酸セルローズ樹脂、その他の有機絶
縁層等を用いると良い。a−Si系絶縁層形成において
は、C、N、O等の含有量を層厚方向に変化させたもの
も用いることができる。
The insulating layer used for this layer 4b is made of insulating amorphous silicon carbide (a-SiCX).
), amorphous silicon oxide (a-SiOX
), amorphous silicon nitride (a-SiNX
), a-SiC・O, a-SiC・N, a-SiO・
N, a-Si type insulating layer such as a-SiC・O・N, polyethylene terephthalate, parylene, polytetrafluoroethylene, polyimide, polyfluoroethylene propylene, urethane resin, epoxy resin, polyester resin, polycarbonate resin, acetic acid It is preferable to use cellulose resin or other organic insulating layer. In forming an a-Si-based insulating layer, it is also possible to use a material in which the content of C, N, O, etc. is varied in the layer thickness direction.

【0040】また、この層4bとして高抵抗層を用いる
場合には、特にa−SiCX 、a−SiOX 、a−
SiNX 、a−SiO・N、a−SiC・O・N等の
a−Si系の高抵抗層が好ましく、上記a−Si系絶縁
層に比べて、カーボン(C)、酸素(O)、窒素(N)
の含有量を少なくしたり、成膜条件を適宜調整して形成
する。 また、この層4bとしてa−Si系のp型またはn型半
導体層を用いた場合には、a−Si系光導電層4cに比
べて光学的バンドギャップを大きくするために、或いは
更に密着性を高めるために、C、O、N等の元素を含有
させ、更に透光性導電層4aからのキャリアの注入を阻
止するために不純物元素を含有させる。即ち、負電荷キ
ャリアの注入を阻止するためには、周期律表第IIIa
族元素(以下、周期律表第IIIa族元素をIIIa族
元素と略す)を1〜 10,000ppm、好適には1
00〜5,000ppm含有させると良く、一方、正電
荷キャリアの注入を阻止するためには、周期律表第Va
族元素(以下、周期律表第Va族元素をVa族元素と略
す)を5,000ppm以下、好適には300 〜3,
000ppm含有させると良い。そして、これらの元素
は層厚方向に亘って勾配を設けても良く、その場合には
層全体の平均含有量が上記範囲内であれば良い。
Further, when a high resistance layer is used as this layer 4b, especially a-SiCX, a-SiOX, a-
A-Si based high resistance layers such as SiNX, a-SiO.N, a-SiC.O.N. (N)
It is formed by reducing the content of or adjusting the film forming conditions as appropriate. In addition, when an a-Si based p-type or n-type semiconductor layer is used as this layer 4b, it is necessary to increase the optical band gap compared to the a-Si based photoconductive layer 4c or to improve the adhesion. In order to increase the resistance, elements such as C, O, and N are contained, and further, an impurity element is contained in order to prevent injection of carriers from the transparent conductive layer 4a. That is, in order to prevent the injection of negative charge carriers, the periodic table IIIa
Group elements (hereinafter, Group IIIa elements of the periodic table are abbreviated as Group IIIa elements) from 1 to 10,000 ppm, preferably 1
00 to 5,000 ppm, and on the other hand, in order to prevent the injection of positive charge carriers, Va
Group elements (hereinafter, Group Va elements of the periodic table are abbreviated as Group Va elements) at 5,000 ppm or less, preferably 300 to 3,
It is preferable to contain 000 ppm. These elements may have a gradient in the layer thickness direction, and in that case, the average content of the entire layer may be within the above range.

【0041】このようにIIIa族元素を含有させた場
合は、正極性の現像バイアスが用いられ、他方、Va族
元素を含有した場合は、負極性の現像バイアスが用いら
れる。
When a group IIIa element is contained in this manner, a positive developing bias is used, whereas when a group Va element is contained, a negative developing bias is used.

【0042】ここで、IIIa族元素やVa族元素とし
ては、それぞれB元素やP元素が共有結合性に優れて半
導体特性を敏感に変え得る点で、その上優れた注入阻止
能が得られるという点で望ましい。
Here, as group IIIa elements and group Va elements, element B and element P, respectively, have excellent covalent bonding properties and can sensitively change semiconductor properties, and are said to have excellent injection blocking ability. desirable in that respect.

【0043】このようなキャリア注入阻止層4bもしく
は高抵抗層や半導体層の厚みは、0.01〜5μm、好
適には0.1〜3μmの範囲内が良く、これにより良好
な注入阻止能が確保し易く、またこの層4bでの露光の
不必要な吸収を抑制してa−Si系光導電層4cにおい
て光キャリアを有効に生成でき、しかも、残留電位の上
昇を抑制することが出来る。
The thickness of such carrier injection blocking layer 4b, high resistance layer, or semiconductor layer is preferably in the range of 0.01 to 5 μm, preferably 0.1 to 3 μm, so that good injection blocking ability can be achieved. It is easy to secure, and unnecessary absorption of exposure light in this layer 4b can be suppressed, photocarriers can be effectively generated in the a-Si photoconductive layer 4c, and increase in residual potential can be suppressed.

【0044】a−Si系光導電層4cは、例えばグロー
放電分解法、スパッタリング法、ECR法、蒸着法など
により形成し、その形成に当たってダングリングボンド
終端用に水素(H)やハロゲン元素を1〜40原子%含
有させる。また、この層の暗導電率や光導電率などの電
気的特性、光学的バンドギャップなどについて所望の特
性を得るために、IIIa族元素やVa族元素を含有さ
せたり、C、N、O等の元素を含有させると良い。就中
、a−SiCを光導電層4cに用いる場合には、Si1
−X CX のX値を0<X≦0.5 、好適には0.
05≦X≦0.45の範囲に設定すると良く、この範囲
であれば、a−Si層よりも高抵抗となり、かつ良好な
キャリアの走行が確保できるという点で望ましい。II
Ia族元素やVa族元素としては、それぞれB元素やP
元素が共有結合性に優れて半導体特性を敏感に変え得る
点で、その上優れた光感度特性が得られるという点で望
ましい。
The a-Si photoconductive layer 4c is formed by, for example, a glow discharge decomposition method, a sputtering method, an ECR method, a vapor deposition method, etc., and when it is formed, hydrogen (H) or a halogen element is added to terminate the dangling bond. Contain up to 40 atom%. In addition, in order to obtain desired electrical properties such as dark conductivity and photoconductivity, and optical band gap of this layer, group IIIa elements and Va group elements may be contained, C, N, O, etc. It is preferable to contain the following elements. In particular, when a-SiC is used for the photoconductive layer 4c, Si1
-X The X value of CX is 0<X≦0.5, preferably 0.
It is preferable to set it in the range of 05≦X≦0.45, and this range is desirable because it has a higher resistance than the a-Si layer and can ensure good carrier travel. II
Group Ia elements and Group Va elements include B element and P element, respectively.
It is desirable because the element has excellent covalent bonding properties and can sensitively change semiconductor properties, and also because excellent photosensitivity properties can be obtained.

【0045】更に、a−Si系光導電層4cの中を、光
キャリア発生の機能を高めた層領域と、キャリア輸送の
機能を持たせた層領域とを積層したものとすると、光感
度と静電コントラスト、耐電圧等を共に高めることが出
来る。
Furthermore, if a layer region with an enhanced photocarrier generation function and a layer region with a carrier transport function are laminated in the a-Si photoconductive layer 4c, the photosensitivity and It is possible to improve both electrostatic contrast and withstand voltage.

【0046】この際、光励起層領域は、光キャリアの生
成を高めるため、成膜時の条件において、(1)低成膜
速度で成膜する、(2)H2 やHeでの希釈率を高め
る、(3)ドープする元素を輸送層よりも多く含有させ
る、等すると良い。
At this time, in order to increase the generation of photocarriers in the photoexcitation layer region, the conditions during film formation are (1) formed at a low film formation rate, and (2) increased dilution rate with H2 or He. , (3) It is preferable to contain a larger amount of the element to be doped than the transport layer.

【0047】また、キャリア輸送層領域は、主に感光体
2の耐電圧を高めると共に、励起層領域から注入された
キャリアを感光体2表面へスムーズに走行させる役割を
持つが、この層領域においても光励起層領域を透過して
きた光によりキャリア生成が行われ、感光体2の光感度
に寄与する。
Further, the carrier transport layer region mainly has the role of increasing the withstand voltage of the photoreceptor 2 and allowing carriers injected from the excitation layer region to travel smoothly to the surface of the photoreceptor 2, but in this layer region, Also, carriers are generated by the light transmitted through the photoexcitation layer region, contributing to the photosensitivity of the photoreceptor 2.

【0048】また、a−Si系光導電層4cの中を、光
励起層領域と、輸送層領域とを積層したものとした場合
には、光励起層領域の厚みを上記吸収深さにほぼ等しく
設定すると良い。
Furthermore, when the a-Si photoconductive layer 4c is formed by laminating a photoexcitation layer region and a transport layer region, the thickness of the photoexcitation layer region is set to be approximately equal to the above absorption depth. That's good.

【0049】a−SiC表面層4dは、a−Si系光導
電層4bと同様の薄膜形成手段により形成する。そして
、その形成に当たっては、ダングリングボンド終端用に
水素(H)やハロゲン元素を含有させる。また、この層
4dの暗導電率や光導電率などの電気的特性、光学的バ
ンドギャップなどについて所望の特性を得るために、I
IIa族元素やVa族元素を含有させたり、N、O等の
元素を含有させると良い。
The a-SiC surface layer 4d is formed by the same thin film forming means as the a-Si photoconductive layer 4b. When forming the bond, hydrogen (H) or a halogen element is added to terminate the dangling bond. In addition, in order to obtain desired electrical properties such as dark conductivity and photoconductivity, and optical band gap of this layer 4d, I
It is preferable to contain a group IIa element or a group Va element, or to contain elements such as N and O.

【0050】表面層4dとして光導電性を有するa−S
iCを用いることにより、a−Si系光導電層4cとの
密着性が良好であると共に、耐磨耗性、耐環境性等の特
性も高くなり、長期にわたって安定した画像形成が行な
える。
A-S having photoconductivity as the surface layer 4d
By using iC, adhesion to the a-Si photoconductive layer 4c is good, and properties such as abrasion resistance and environmental resistance are also improved, allowing stable image formation over a long period of time.

【0051】表面層4dとa−Si系光導電層4cの両
方にa−SiCX を用いた場合には、光導電層4cに
含まれるC量に比べて表面層4dのCを多く含有させる
。 この表面層4dにおけるC量は、Si1−X CX の
X値で0.05≦X<0.6 、好適には0.1 ≦X
≦0.5 の範囲が良い。また、この層4d内でC量に
勾配を形成してもよく、あるいはCと共に、N、O、G
e等を含有させて、密着性、耐環境性、光導電性を更に
高めることができる。
When a-SiCX is used for both the surface layer 4d and the a-Si photoconductive layer 4c, the surface layer 4d contains a larger amount of C than the amount of C contained in the photoconductive layer 4c. The amount of C in this surface layer 4d is 0.05≦X<0.6, preferably 0.1≦X, as the X value of Si1-X CX
A range of ≦0.5 is preferable. Further, a gradient may be formed in the amount of C within this layer 4d, or in addition to C, N, O, G
The adhesion, environmental resistance, and photoconductivity can be further improved by incorporating e.g.

【0052】表面層4dの厚みは0.05〜5μm、好
適には0.1 〜3μmにすれば良く、0.05μm未
満の場合には、この層4dで十分な絶縁耐圧の向上や、
光キャリアを効果的にトラップしてトナー像の形成に寄
与させて画像濃度を向上させることが出来ず、また、繰
り返し使用した場合、磨耗により寿命も劣る。5μmを
越えた場合には精細な電荷パターンを形成するに当たっ
て、この層4d中で電界(電気力線)が膜面方向に広が
りを生じ、これにより解像力の低下をきたし、十分な解
像度が得られない。また、この層4dに残留する電荷が
多くなるため、画像濃度の低下やバックのカブリ、ある
いは繰り返し使用における画像濃度の変化等の問題が生
じる。
The thickness of the surface layer 4d may be 0.05 to 5 μm, preferably 0.1 to 3 μm. If the thickness is less than 0.05 μm, this layer 4d can sufficiently improve the dielectric strength and
It is not possible to effectively trap photocarriers to contribute to the formation of toner images and improve image density, and when used repeatedly, the lifespan is shortened due to wear. If it exceeds 5 μm, the electric field (lines of electric force) in this layer 4d will spread in the direction of the film surface when forming a fine charge pattern, resulting in a decrease in resolution and making it impossible to obtain sufficient resolution. do not have. Further, since a large amount of charge remains in the layer 4d, problems such as a decrease in image density, background fog, and changes in image density during repeated use occur.

【0053】かくして得られる感光体層の全体の膜厚は
、上記の設定によるが、露光光源としてLEDやELを
用いた場合には、約1〜15μm、好適には1〜5μm
の範囲内が良く、この範囲内であれば、露光が十分に吸
収されて良好な光感度を示すと共に、感光体としての耐
圧も確保でき、低いバイアス電圧で良好な画像が得られ
る。
[0053] The overall thickness of the photoreceptor layer thus obtained depends on the above settings, but when an LED or EL is used as the exposure light source, it is approximately 1 to 15 μm, preferably 1 to 5 μm.
Within this range, exposure light is sufficiently absorbed to exhibit good photosensitivity, and the withstand voltage as a photoreceptor can be ensured, and good images can be obtained with a low bias voltage.

【0054】以上の通り本発明によれば、a−Si系光
導電層4cに対する露光吸収領域を制限し、これによっ
て暗抵抗値の大きな層領域を形成して、良好な画像が得
られる画像形成方法を提案することができた。
As described above, according to the present invention, the exposure and absorption region of the a-Si photoconductive layer 4c is limited, thereby forming a layer region with a large dark resistance value, and thereby forming an image in which a good image can be obtained. I was able to suggest a method.

【0055】本発明は、上記構成以外に次のように変更
してもよい。
In addition to the above configuration, the present invention may be modified as follows.

【0056】例えば上記の動作説明においては、現像バ
イアス電圧に正の電圧を用いた場合を述べたが、負の電
圧を用いた場合も、電荷の極性が上記説明と逆になるの
みで、全く同様の原理で画像形成が行なわれる。
For example, in the above explanation of the operation, we have described the case where a positive voltage is used as the developing bias voltage, but even when a negative voltage is used, the polarity of the charge will simply be opposite to the above explanation, and there will be no problem at all. Image formation is performed using a similar principle.

【0057】また、露光手段にはLEDヘッド5を用い
たが、ELヘッドや蛍光プリントヘッド、プラズマイメ
ージバー、レーザ、液晶シャッタ、強誘電体シャッタ等
を用いてもよい。更にまたイレース用光源8にも、LE
Dアレイの他、ハロゲンランプや蛍光灯、ELアレイ等
の光源が使用可能である。
Further, although the LED head 5 is used as the exposure means, an EL head, a fluorescent print head, a plasma image bar, a laser, a liquid crystal shutter, a ferroelectric shutter, etc. may also be used. Furthermore, the erase light source 8 also has an LE
In addition to the D array, light sources such as halogen lamps, fluorescent lamps, and EL arrays can be used.

【0058】次に本発明者等は、上記の動作のための望
ましい現像手段を見い出し、これを図8により説明する
Next, the present inventors have found a desirable developing means for the above operation, and will explain this with reference to FIG.

【0059】同図は上記感光体2の一部と現像器6によ
り形成される現像剤溜り17を表わす説明図である。
This figure is an explanatory diagram showing a developer reservoir 17 formed by a part of the photoreceptor 2 and the developing device 6.

【0060】現像剤を保持させる現像器6は、導電性の
スリーブ10と、その内部に配置された磁極ローラ9と
から成り、現像剤の搬送は、磁極ローラ9を固定してス
リーブ10を回転してもよく、またはスリーブ10を固
定して内部の磁極ローラ9を回転しても良い。
The developing device 6 that holds the developer consists of a conductive sleeve 10 and a magnetic pole roller 9 disposed inside the sleeve 10. The developer is transported by fixing the magnetic pole roller 9 and rotating the sleeve 10. Alternatively, the sleeve 10 may be fixed and the internal magnetic pole roller 9 may be rotated.

【0061】ここで現像剤を感光体2と逆方向に回転さ
せると、現像器6と感光体2の最近接部位よりも下流側
(現像剤が離れる側)に、現像剤溜り17が生じる。現
像剤溜り17は、図の破線で区切った部分である。即ち
、現像剤の本来の高さよりもはみ出した部分が現像剤溜
り17であり、現像剤の搬送速度や現像剤の高さ、スリ
ーブ10と感光体2の表面とのギャップ等は、感光体2
の回転速度や必要とする現像剤溜り17の大きさに応じ
て適宜設定する。
When the developer is rotated in the opposite direction to the photoreceptor 2, a developer pool 17 is generated on the downstream side (the side where the developer leaves) of the closest portion between the developer 6 and the photoreceptor 2. The developer reservoir 17 is a portion separated by a broken line in the figure. That is, the part of the developer that protrudes from the original height is the developer reservoir 17, and the conveyance speed of the developer, the height of the developer, the gap between the sleeve 10 and the surface of the photoreceptor 2, etc.
It is set appropriately depending on the rotational speed of the developer reservoir 17 and the required size of the developer reservoir 17.

【0062】尚、感光体2と現像剤とを逆方向に回転さ
せると、現像器6と感光体2との最近接部位よりも下流
側に現像剤溜り17が発生し、現像剤を感光体2と同方
向に回転させ、現像剤の周速を感光体2の周速よりも大
きくする場合よりも、安定で再現性が高い。従って、現
像剤溜り17を安定して再現性良く得るためには感光体
2と現像剤とを逆方向に回転させることが好ましい。
Note that when the photoreceptor 2 and the developer are rotated in opposite directions, a developer pool 17 is generated downstream of the closest portion between the developing device 6 and the photoreceptor 2, and the developer is transferred to the photoreceptor. The developer is more stable and has higher reproducibility than the case where the developer is rotated in the same direction as the photoreceptor 2 and the circumferential speed of the developer is made larger than the circumferential speed of the photoreceptor 2. Therefore, in order to stably obtain the developer reservoir 17 with good reproducibility, it is preferable to rotate the photoreceptor 2 and the developer in opposite directions.

【0063】また、18は制御電極であり、この制御電
極18はスリーブ10上で感光体2との最近接部位に設
け、絶縁体19でスリーブ10と絶縁する。制御電極1
8は、感光体2や現像剤に均一な電界が加わるように、
スリーブ10の長さ方向に沿った帯状とする。
Reference numeral 18 denotes a control electrode, which is provided on the sleeve 10 at a location closest to the photoreceptor 2, and is insulated from the sleeve 10 with an insulator 19. Control electrode 1
8, so that a uniform electric field is applied to the photoreceptor 2 and the developer.
The sleeve 10 is shaped like a band along its length.

【0064】尚、制御電極18の電位を現像器6の電位
と独立に設定するための電圧印加手段20を設けておく
ことが好ましい。
It is preferable to provide a voltage applying means 20 for setting the potential of the control electrode 18 independently of the potential of the developing device 6.

【0065】現像剤には例えば導電性磁性トナーを用い
るが、これは磁気ブラシ12および現像剤溜り17を形
成し、必要な導電性を有すれば、1成分の現像剤でも良
く、導電性のキャリアと絶縁性のトナーとを所定の混合
比で混合して必要な導電率にした2成分の現像剤を用い
ても良い。
For example, a conductive magnetic toner is used as the developer, which forms the magnetic brush 12 and the developer reservoir 17, and may be a one-component developer as long as it has the necessary conductivity. A two-component developer may be used in which a carrier and an insulating toner are mixed at a predetermined mixing ratio to obtain the required conductivity.

【0066】画像露光を行なう位置は、感光体2の表面
と現像スリーブ10との最近接位置Aではなく、感光体
2の逆方向回転で下流側に形成した現像剤溜り17の位
置Bとし、好ましくは現像剤溜り17の中でも下流側の
後半部とする。現像剤溜り17の位置で露光を行なうこ
とにより、露光までの間に感光体2への現像バイアス電
圧の印加が十分に安定し、感光体2の履歴の影響が抑え
られると共に、感光体2の表面の残留トナー16や画像
背景部のトナーの回収が十分に行なわれる。更に、感光
体2への現像バイアス電圧の印加が十分に安定してから
露光を行なって光キャリアを発生させるので、表面層4
dへの電荷の移動が効率良く行なわれて、表面層4dを
挟んで形成される電界が十分に大きくなるため、トナー
と感光体2との電気的引力が強く、良好なトナー像14
が形成される。そして、トナー像14の形成後は感光体
2が現像剤溜り17から速やかに離れるため、感光体2
の表面のトナー像14が現像剤の衝突や摩擦等のような
機械的な力により乱されることがなく、良好な解像度の
トナー像14が得られる。
The image exposure position is not the closest position A between the surface of the photoreceptor 2 and the developing sleeve 10, but the position B of the developer reservoir 17 formed on the downstream side by rotating the photoreceptor 2 in the opposite direction. Preferably, it is located in the latter half of the developer reservoir 17 on the downstream side. By performing exposure at the position of the developer reservoir 17, the application of the developing bias voltage to the photoconductor 2 is sufficiently stabilized before exposure, the influence of the history of the photoconductor 2 is suppressed, and the The residual toner 16 on the surface and the toner in the background of the image are sufficiently collected. Furthermore, since exposure is performed to generate photocarriers after the application of the developing bias voltage to the photoreceptor 2 is sufficiently stable, the surface layer 4
Since the charge is efficiently transferred to d and the electric field formed across the surface layer 4d becomes sufficiently large, the electric attraction between the toner and the photoreceptor 2 is strong, resulting in a good toner image 14.
is formed. After the toner image 14 is formed, the photoreceptor 2 quickly leaves the developer reservoir 17, so the photoreceptor 2
The toner image 14 on the surface of the toner image 14 is not disturbed by mechanical forces such as developer collisions or friction, and a toner image 14 with good resolution can be obtained.

【0067】また、現像剤溜り17の位置では、感光体
2の表面と現像スリーブ10とが最も近接する位置Aよ
りも、感光体2の表面と磁極ローラ9の距離が大きくな
る。このため、現像剤を磁極ローラ9の側に吸引する磁
力は弱くなり、感光体2の表面に形成された残留トナー
16の一部が磁力によって現像器6の側に回収されて画
像濃度が低下したり、磁力により乱されて解像度が低下
したりすることを防止できる。
Furthermore, at the position of the developer reservoir 17, the distance between the surface of the photoreceptor 2 and the magnetic pole roller 9 is greater than at position A, where the surface of the photoreceptor 2 and the developing sleeve 10 are closest. Therefore, the magnetic force that attracts the developer toward the magnetic pole roller 9 becomes weaker, and a portion of the residual toner 16 formed on the surface of the photoreceptor 2 is collected toward the developing device 6 by the magnetic force, resulting in a decrease in image density. It is possible to prevent the resolution from being degraded due to the disturbance caused by the magnetic force.

【0068】更に、帯状の制御電極18を設け、その電
位を電圧印加手段20により所定の電位に調整する。例
えば制御電極18を接地し、透光性導電層4aと共通電
位にする。あるいはスリーブ10の電位に対して、その
電位を低くもしくは高く設定する。
Furthermore, a strip-shaped control electrode 18 is provided, and its potential is adjusted to a predetermined potential by a voltage applying means 20. For example, the control electrode 18 is grounded to have a common potential with the transparent conductive layer 4a. Alternatively, the potential is set lower or higher than the potential of the sleeve 10.

【0069】このようにスリーブ10とは独立に電位を
印加できる制御電極18を設けると、感光体2に残留し
ている表面電荷を現像剤を介して中和し、あるいは感光
体2の表面の電位を揃え、以前の画像形成プロセスによ
る感光体2の履歴の影響を打ち消すことができ、この結
果、繰り返し使用時、例えば1枚の画像を得るために感
光体2を数回転させる場合等に、安定した現像状態と記
録画像とが得られる。
By providing the control electrode 18 that can apply a potential independently of the sleeve 10 in this manner, the surface charge remaining on the photoreceptor 2 is neutralized through the developer, or the surface charge of the photoreceptor 2 is It is possible to equalize the potentials and cancel the influence of the history of the photoreceptor 2 due to the previous image forming process. As a result, during repeated use, for example, when the photoreceptor 2 is rotated several times to obtain one image, A stable developing state and recorded image can be obtained.

【0070】ここで制御電極18の電位を調整すると、
画像濃度や地カブリ等に対する最適画像形成条件を調整
し得る。また、現在のところそのメカニズムが明らかで
はないが、本発明者等の画像評価実験においては、制御
電極18の電位を高くし、スリーブ10の電位を低くす
ることにより、非露光部にトナーが付着し、露光部には
トナーが付着しない、いわゆる反転現像も可能になった
Here, when the potential of the control electrode 18 is adjusted,
Optimum image forming conditions for image density, background fog, etc. can be adjusted. Furthermore, although the mechanism is not clear at present, in the image evaluation experiments conducted by the present inventors, by increasing the potential of the control electrode 18 and lowering the potential of the sleeve 10, toner adheres to the non-exposed area. However, so-called reversal development, in which toner does not adhere to the exposed areas, has also become possible.

【0071】次に実施例を個々詳述する。Next, each example will be described in detail.

【0072】(例1)透明な円筒状ガラス基板の外周面
に、透光性導電層4aとしてITO層を活性反応蒸着法
により1000Åの厚みで形成し、次いでその上に容量
結合型グロー放電分解装置を用いて表1の成膜条件によ
りa−SiC絶縁性注入阻止層4b、a−Si光導電層
4c、光導電性a−SiC表面層4dを順次積層して、
感光体Aを作製した。この際、a−Si光導電層4cの
厚みは、露光光源15に用いるLEDの波長の660n
mの光を90%吸収する厚みである約2.2μmより0
.2μm厚い2.4μmとした。
(Example 1) An ITO layer with a thickness of 1000 Å was formed as a transparent conductive layer 4a on the outer peripheral surface of a transparent cylindrical glass substrate by active reaction vapor deposition, and then capacitively coupled glow discharge decomposition was performed on the ITO layer. Using an apparatus, the a-SiC insulating injection blocking layer 4b, the a-Si photoconductive layer 4c, and the photoconductive a-SiC surface layer 4d were sequentially laminated under the film-forming conditions shown in Table 1.
Photoreceptor A was produced. At this time, the thickness of the a-Si photoconductive layer 4c is 660 nm, which is the wavelength of the LED used for the exposure light source 15.
0 from approximately 2.2 μm, which is the thickness that absorbs 90% of the light of m
.. It was set to 2.4 μm thick by 2 μm.

【0073】[0073]

【表1】[Table 1]

【0074】この感光体Aを図1に示すような画像形成
装置に装着し、そして、スリーブ10と透光性導電層4
aとの間に現像バイアス電圧Vs=+30Vの電圧を印
加し、波長660nm、露光量0.5μJ/cm2 の
条件で画像露光を行ない、感光体上にトナー像を形成し
、そのトナー像を記録紙に転写し、熱定着を行なって画
像を得た。
This photoreceptor A is mounted on an image forming apparatus as shown in FIG.
A developing bias voltage Vs = +30 V is applied between the photoreceptor a, image exposure is performed under conditions of a wavelength of 660 nm and an exposure amount of 0.5 μJ/cm2, a toner image is formed on the photoreceptor, and the toner image is recorded. The image was transferred to paper and heat-fixed to obtain an image.

【0075】この画像を評価したところ、光学濃度(以
下、O.D.と記す)が1.3の画像濃度を有し、バッ
クのカブリのない解像度の良好な画像であった。
When this image was evaluated, it was found that the image had an optical density (hereinafter referred to as O.D.) of 1.3 and had good resolution without background fog.

【0076】また、繰り返して画像形成を行なっても、
残像や画像濃度の変化等の前歴の影響が見られず、良好
な画像評価結果を得た。
[0076] Even if image formation is repeated,
No influence of previous history such as afterimages or changes in image density was observed, and good image evaluation results were obtained.

【0077】(例2)感光体Aを作製するに当たり、a
−Si光導電層4cの厚みを、光源のLEDの波長66
0nmの光を90%吸収する厚み約2.2μmより小さ
い1.5μmとし、感光体Bを作製した。
(Example 2) In producing photoreceptor A, a
-The thickness of the Si photoconductive layer 4c is set to 666 nm, the wavelength of the LED of the light source.
Photoreceptor B was prepared with a thickness of 1.5 μm, which is smaller than about 2.2 μm, which absorbs 90% of 0 nm light.

【0078】この感光体Bを(例1)と同様に図1の構
成の画像形成装置に装着し、感光体層の電界が同一とな
るようにバイアス電圧を+20Vとして、他は同様の条
件で画像評価を行なったところ、光キャリアの発生が十
分に行なわれず、画像濃度がO.D.で0.8と不十分
であった。
This photoreceptor B was installed in the image forming apparatus having the configuration shown in FIG. 1 in the same manner as in (Example 1), and the bias voltage was set to +20V so that the electric field of the photoreceptor layer was the same, and the other conditions were the same. When image evaluation was performed, it was found that photocarriers were not sufficiently generated and the image density was O. D. It was 0.8, which was insufficient.

【0079】(例3)感光体Aを作製するに当たり、a
−Si光導電層4cの厚みを、光源のLEDの波長66
0nmの光を90%吸収する厚み約2.2μmより15
μm大きい約17μmとし、感光体Cを作製した。
(Example 3) In producing photoreceptor A, a
-The thickness of the Si photoconductive layer 4c is set to 666 nm, the wavelength of the LED of the light source.
15 from the thickness of approximately 2.2 μm, which absorbs 90% of 0 nm light.
A photoreceptor C was fabricated with a diameter larger than 17 μm.

【0080】この感光体Cを(例1)と同様に図1の構
成の画像形成装置に装着し、感光体層の電界が同一とな
るようにバイアス電圧を+200Vとして、他は同様の
条件で画像評価を行なったところ、画像濃度がO.D.
で1.2で、バックのカブリや解像力も概ね良好な画像
が得られた。
This photoreceptor C was installed in the image forming apparatus having the configuration shown in FIG. 1 in the same manner as in (Example 1), and the bias voltage was set to +200 V so that the electric field of the photoreceptor layer was the same, and the other conditions were the same. When the image was evaluated, the image density was O. D.
At 1.2, images with generally good background fog and resolution were obtained.

【0081】しかし、バイアス電圧を+100Vとして
同様の条件で画像評価を行なったところ、トナー像を形
成するための表面層4dでの十分な電界が得られず、画
像濃度がO.D.で0.9と低い画像であった。
However, when image evaluation was performed under the same conditions with a bias voltage of +100V, a sufficient electric field was not obtained in the surface layer 4d to form a toner image, and the image density was O. D. The image quality was as low as 0.9.

【0082】(例4)感光体Aを作製するに当たり、a
−SiC絶縁性注入阻止層4bを形成せず、他は同様に
して感光体Dを作製した。
(Example 4) In producing photoreceptor A, a
A photoreceptor D was produced in the same manner except that the -SiC insulating injection blocking layer 4b was not formed.

【0083】この感光体Dを(例1)と同様に図1の構
成の画像形成装置に装着し、(例1)と同様の条件で画
像評価を行なったところ、画像のバックのカブリが少し
見られ、感光体Aよりもやや劣る結果であった。
When this photoreceptor D was installed in the image forming apparatus having the configuration shown in FIG. 1 in the same manner as in (Example 1) and the image was evaluated under the same conditions as in (Example 1), it was found that the background of the image was slightly fogged. The results were slightly inferior to those of photoreceptor A.

【0084】(例5)感光体Aを作製するに当たり、a
−SiC絶縁性注入阻止層4bに代えて、ポリイミドか
らなる厚み0.2μmの絶縁層を塗布・乾燥法により形
成した。更にその上に、容量結合型グロー放電分解装置
を用いて、(例1)と同様のa−Si光導電層4cと光
導電性a−SiC表面層4dとを順次積層して、感光体
Eを作製した。
(Example 5) In producing photoreceptor A, a
In place of the -SiC insulating injection blocking layer 4b, an insulating layer made of polyimide and having a thickness of 0.2 μm was formed by a coating and drying method. Furthermore, using a capacitively coupled glow discharge decomposition device, an a-Si photoconductive layer 4c and a photoconductive a-SiC surface layer 4d similar to (Example 1) are sequentially laminated thereon to form a photoreceptor E. was created.

【0085】この感光体Eを図1の構成の画像形成装置
に装着し、(例1)と同様の条件で画像評価を行なった
ところ、O.D.が1.3の画像濃度を有し、バックの
カブリのない、解像度の良好な画像であった。
When this photoreceptor E was installed in an image forming apparatus having the configuration shown in FIG. 1 and image evaluation was performed under the same conditions as in Example 1, O. D. The image had an image density of 1.3, had no background fog, and had good resolution.

【0086】(例6)感光体Aを作製するに当たり、光
導電性a−SiC表面層4dを積層せず、その他は感光
体Aと同様の条件により、光導電性a−SiC表面層4
dを有しない感光体Fを作製した。
(Example 6) In producing photoreceptor A, photoconductive a-SiC surface layer 4d was not laminated and the other conditions were the same as those for photoreceptor A.
Photoreceptor F without d was produced.

【0087】この感光体Fを図1の構成の画像形成装置
に装着し、(例1)と同様の条件で画像評価を行なった
ところ、電位コントラストが不十分で画像濃度が低く、
バックのカブリも目立つ画像であり、感光体Aよりも劣
る結果であった。また、繰り返し使用に対する耐久性に
乏しく、数百枚の画像形成で表面の磨耗や耐電圧不足に
起因する画像欠陥が認められた。
When this photoreceptor F was installed in an image forming apparatus having the configuration shown in FIG. 1 and image evaluation was performed under the same conditions as in Example 1, it was found that the potential contrast was insufficient and the image density was low.
The image had noticeable background fog, and the results were inferior to those of photoreceptor A. Furthermore, the durability against repeated use was poor, and image defects due to surface abrasion and insufficient withstand voltage were observed after several hundred images were formed.

【0088】(例7)感光体Aを作製するに当たり、光
導電性a−SiC表面層4dを表2に示すように形成し
、その他は感光体Aと同様の条件により形成して感光体
Gを作製した。
(Example 7) In producing photoreceptor A, a photoconductive a-SiC surface layer 4d was formed as shown in Table 2, and the other conditions were the same as those for photoreceptor A. was created.

【0089】[0089]

【表2】[Table 2]

【0090】この感光体Gを図1に示すような画像形成
装置に装着し、(例1)と同様の条件で画像評価したと
ころ、O.D.が1.3の画像濃度を有し、バックのカ
ブリのない解像度の良好な画像であった。
This photoreceptor G was mounted on an image forming apparatus as shown in FIG. 1, and the image was evaluated under the same conditions as in Example 1. D. The image density was 1.3, and the image had good resolution and no background fog.

【0091】また、繰り返して画像形成を行なっても、
感光体Aと同様に残像や画像濃度の変化等の前歴の影響
が見られず、良好な画像評価結果を得た。
[0091] Even if image formation is repeated,
Similar to photoreceptor A, no influence of previous history such as afterimage or change in image density was observed, and good image evaluation results were obtained.

【0092】尚、(例1)、(例7)に示す画像形成方
法において、制御電極18を取り外して制御電極電圧V
E を印加せず、その他は各々同じ条件の画像形成方法
を行ったところ、実用上使用可能な範囲ではあるが、バ
ックに若干のカブリを生じた。
In the image forming methods shown in (Example 1) and (Example 7), the control electrode 18 is removed and the control electrode voltage V
When an image forming method was carried out under the same conditions except that E was not applied, some fogging occurred on the back, although it was within a practically usable range.

【0093】また、同じく(例1)、(例7)に示す画
像形成方法において、イレース用光源8を使用してイレ
ース光の照射を行いながら画像形成を行ったところ、画
像形成前の感光体の状態が安定し、良好な画像品質の画
像が安定して得られた。
Furthermore, in the same image forming methods shown in (Example 1) and (Example 7), when the image was formed while irradiating the erase light using the erase light source 8, the photoreceptor before image formation was The condition was stable, and images of good image quality were stably obtained.

【0094】[0094]

【発明の効果】本発明の画像形成方法によれば、a−S
i系光導電層の上に光導電性を有するSiC表面層を積
層したことにより、露光明部に対応する表面層領域の直
下に光キャリアを一時的にトラップし、その光キャリア
により表面絶縁層を挟んで生ずる電界によりトナーを感
光体表面に付着させることができるため、画像濃度を高
めることができ、良好なトナー像形成を行なうことがで
き、更にイレース工程を不要にすることができた。
Effects of the Invention According to the image forming method of the present invention, a-S
By laminating a photoconductive SiC surface layer on the i-based photoconductive layer, photocarriers are temporarily trapped directly under the surface layer region corresponding to the brightly exposed area, and the photocarriers cause the surface insulating layer to Since the toner can be attached to the surface of the photoreceptor by the electric field generated between the toner and the toner, the image density can be increased, good toner image formation can be performed, and an erase step can be made unnecessary.

【0095】また、表面層が絶縁層である場合に比べて
、光導電性を有する程度に体積抵抗が小さいため、画像
形成後に転写に至るまでの時間で表面層を挟んでトラッ
プされていたキャリアが表面層を介して結合して中和し
合うため、記録紙へのトナー転写が容易になると共に、
イレース工程を不要にすることができた。
In addition, compared to the case where the surface layer is an insulating layer, the volume resistance is small enough to have photoconductivity, so carriers trapped across the surface layer during the time from image formation to transfer. Because the toners combine and neutralize each other through the surface layer, toner transfer to the recording paper becomes easier, and
This made it possible to eliminate the need for an erase process.

【0096】また、本発明の画像形成方法によれば、a
−Si系光導電層の厚みを、光の波長に対する吸収係数
から求めた90%の光を吸収する光吸収層領域に0.1
〜10.0μmを加えた厚みとすることにより、露光を
ほぼ完全に吸収して有効に光キャリアを発生することが
出来た。そして、a−Si系光導電層の厚みを上記で設
定した必要最小限とすることにより、画像形成の際のバ
イアス電圧により光導電層にかかる電圧が、低いバイア
ス電圧でも十分に高くなるため、良好な画像形成が行な
える。
Further, according to the image forming method of the present invention, a
- The thickness of the Si-based photoconductive layer is set to 0.1 in the light absorption layer region that absorbs 90% of the light determined from the absorption coefficient for the wavelength of light.
By adding a thickness of ~10.0 μm, it was possible to almost completely absorb exposure light and effectively generate photocarriers. By setting the thickness of the a-Si photoconductive layer to the necessary minimum value set above, the voltage applied to the photoconductive layer by the bias voltage during image formation becomes sufficiently high even at a low bias voltage. Good image formation can be performed.

【0097】a−Si系光導電層を備えた従来の感光体
においては、成膜速度が小さいのに加えて、30〜40
μm層厚が必要であり、そのために8〜10時間の製造
所要時間となって製造コストを著しく高めていたが、こ
れに対して本発明の画像形成方法によれば、a−Si系
光導電層の厚みが2〜3μmであればよく、このように
非常に薄い層を形成すれば、製造時間が短くなって製造
コスト低減させることができた。
In the conventional photoreceptor equipped with an a-Si type photoconductive layer, in addition to the low film formation rate,
μm layer thickness is required, which requires a manufacturing time of 8 to 10 hours, which significantly increases manufacturing costs.In contrast, according to the image forming method of the present invention, a-Si photoconductive The thickness of the layer only needs to be 2 to 3 μm, and by forming such a very thin layer, the manufacturing time can be shortened and the manufacturing cost can be reduced.

【0098】更に従来のカールソン法による画像形成方
法であれば、コロナ帯電を行なっているのでオゾンが発
生し、しかも、一般的にはSe系光導電層を用いること
が多く、人体に悪影響を及ぼすのであるが、これに対し
て本発明によれば、オゾンが発生せず、無害なa−Si
層を用いるので、環境汚染上何等問題がない。
Furthermore, in the conventional image forming method using the Carlson method, corona charging is performed, which generates ozone, and moreover, Se-based photoconductive layers are often used, which has an adverse effect on the human body. However, according to the present invention, ozone is not generated and harmless a-Si is used.
Since a layer is used, there is no problem in terms of environmental pollution.

【0099】また、本発明の画像形成方法においては、
光源をドラム状感光体の内部に設け、しかも、イレース
やクリーニングの各工程を不要とすることができるので
、それに伴う配設部材が必要でなくなり、その結果、フ
ァックス、プリンタ、デジタルコピア等の複合的機能を
有する超小型装置の実現が可能となった。
Furthermore, in the image forming method of the present invention,
Since the light source can be installed inside the drum-shaped photoreceptor, and the erasing and cleaning processes can be omitted, there is no need for associated installation materials, and as a result, it is possible to use multiple devices such as fax machines, printers, digital copiers, etc. It has become possible to realize an ultra-compact device with advanced functions.

【0100】更にまた、本発明の画像形成方法によれば
、透光性導電層とa−Si系光導電層との間にキャリア
注入阻止層を形成したことにより、画像形成の際に透光
性導電層からa−Si系光導電層へのキャリアの注入を
阻止することが出来るため、露光部と非露光部との静電
コントラストを高めて画像濃度を向上させると共に、現
像におけるバックグラウンドのカブリを低減することが
できた。
Furthermore, according to the image forming method of the present invention, a carrier injection blocking layer is formed between the light-transmitting conductive layer and the a-Si photoconductive layer, so that light-transmitting is prevented during image formation. Since injection of carriers from the photoconductive layer to the a-Si photoconductive layer can be prevented, the electrostatic contrast between the exposed and non-exposed areas can be increased to improve image density, and the background during development can be prevented. It was possible to reduce fog.

【0101】更にまた、本発明の画像形成方法によれば
、残留トナーを効率良く再利用でき、画像のバックのカ
ブリを低減して良好な画像を得ることができた。
Furthermore, according to the image forming method of the present invention, residual toner can be efficiently reused, fog on the background of an image can be reduced, and a good image can be obtained.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

【図1】本発明に係わる電子写真方法による画像形成装
置を示す模式図である。
FIG. 1 is a schematic diagram showing an image forming apparatus using an electrophotographic method according to the present invention.

【図2】本発明に係わる電子写真方法における動作原理
を示す模式図である。
FIG. 2 is a schematic diagram showing the operating principle of the electrophotographic method according to the present invention.

【図3】本発明に係わる電子写真方法における動作原理
を示す模式図である。
FIG. 3 is a schematic diagram showing the operating principle of the electrophotographic method according to the present invention.

【図4】本発明に係わる電子写真方法における動作原理
を示す模式図である。
FIG. 4 is a schematic diagram showing the operating principle of the electrophotographic method according to the present invention.

【図5】本発明に係わる電子写真方法における動作原理
を示す模式図である。
FIG. 5 is a schematic diagram showing the operating principle of the electrophotographic method according to the present invention.

【図6】本発明に係わる電子写真方法における動作原理
を示す模式図である。
FIG. 6 is a schematic diagram showing the operating principle of the electrophotographic method according to the present invention.

【図7】本発明に係わる電子写真方法における動作原理
を示す模式図である。
FIG. 7 is a schematic diagram showing the operating principle of the electrophotographic method according to the present invention.

【図8】本発明の画像形成方法の要部構成図である。FIG. 8 is a configuration diagram of main parts of the image forming method of the present invention.

【図9】波長に対する光吸収の深さを表す線図である。FIG. 9 is a diagram showing the depth of light absorption versus wavelength.

【図10】本発明に係わる感光体の層構成を示す断面図
である。
FIG. 10 is a cross-sectional view showing the layer structure of a photoreceptor according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

2      感光体 5      LEDヘッド 6      現像器 7      転写ローラ 8      イレース用光源 4a    透光性導電層 4b    キャリア注入阻止層 4c    光導電層 4d    表面層 2 Photoreceptor 5 LED head 6 Developing device 7 Transfer roller 8 Light source for erasing 4a Translucent conductive layer 4b Carrier injection blocking layer 4c Photoconductive layer 4d Surface layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】透光性支持体上に透光性導電層とキャリア
注入阻止層とアモルファスシリコン系光導電層と光導電
性アモルファスシリコンカーバイド表面層とを順次積層
して成る感光体に、導電性磁性トナーを介して現像バイ
アス電圧を印加するとともに、上記光導電層の層厚以下
で実質的に吸収されるような所定の波長の光で透光性支
持体側から露光して表面層の直下の明部に対応する領域
に光キャリアを集め、次いで該光キャリアにより表面層
をはさんで生ずる電界によってトナーを感光体表面に付
着させ、その後、上記光キャリアと上記トナーの電荷と
を中和させ、然る後、該トナーを記録紙に転写すること
を特徴とする画像形成方法。
1. A photoreceptor comprising a light-transmitting conductive layer, a carrier injection blocking layer, an amorphous silicon-based photoconductive layer, and a photoconductive amorphous silicon carbide surface layer sequentially laminated on a light-transmitting support; While applying a developing bias voltage through the magnetic toner, the light-transmitting support is exposed to light of a predetermined wavelength that is substantially absorbed below the layer thickness of the photoconductive layer to form a layer immediately below the surface layer. The photocarriers are collected in a region corresponding to the bright part of the photoreceptor, and then the toner is attached to the surface of the photoreceptor by an electric field generated by the photocarriers across the surface layer, and then the charges of the photocarrier and the toner are neutralized. An image forming method characterized in that the toner is transferred to recording paper.
【請求項2】前記転写後にクリーニング工程を経ないで
次の画像形成を行う請求項1記載の画像形成方法。
2. The image forming method according to claim 1, wherein the next image formation is performed without a cleaning step after the transfer.
【請求項3】前記転写後に前記光導電層に光照射して表
面層直下に残留している光キャリアを消去する工程を経
ないで次の画像形成を行う請求項1記載の画像形成方法
3. The image forming method according to claim 1, wherein the next image formation is performed without passing through the step of irradiating the photoconductive layer with light to erase photocarriers remaining directly under the surface layer after the transfer.
【請求項4】前記感光体の表面層と対向するように現像
バイアス電圧印加用現像器を設けるとともに、該現像器
と上記表面層との間に、上記現像バイアス電圧と依存し
ない電位を備えた制御電極を配設した請求項1記載の画
像形成方法。
4. A developing device for applying a developing bias voltage is provided to face the surface layer of the photoreceptor, and a potential independent of the developing bias voltage is provided between the developing device and the surface layer. The image forming method according to claim 1, further comprising a control electrode.
【請求項5】前記アモルファスシリコン系光導電層が、
該層の吸収係数の前記露光の波長に対して決定される光
吸収層領域の厚みに更に0.1〜10.0μmの厚みの
層領域を加えた層厚である請求項1記載の画像形成方法
5. The amorphous silicon-based photoconductive layer comprises:
2. The image forming method according to claim 1, wherein the layer thickness is the sum of the thickness of the light-absorbing layer region whose absorption coefficient of the layer is determined with respect to the wavelength of the exposure, plus a layer region having a thickness of 0.1 to 10.0 μm. Method.
【請求項6】前記アモルファスシリコンカーバイド表面
層の層厚が、0.05〜5μmである請求項1記載の画
像形成方法。
6. The image forming method according to claim 1, wherein the amorphous silicon carbide surface layer has a layer thickness of 0.05 to 5 μm.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JPH06202412A (en) * 1992-12-26 1994-07-22 Canon Inc Image forming device

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