JPH0431800A - ウィグラー装置 - Google Patents
ウィグラー装置Info
- Publication number
- JPH0431800A JPH0431800A JP13530690A JP13530690A JPH0431800A JP H0431800 A JPH0431800 A JP H0431800A JP 13530690 A JP13530690 A JP 13530690A JP 13530690 A JP13530690 A JP 13530690A JP H0431800 A JPH0431800 A JP H0431800A
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- Japan
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- incident
- plane
- deflected
- perpendicularly
- electromagnet
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- Pending
Links
- 239000002245 particle Substances 0.000 claims abstract description 13
- 230000004907 flux Effects 0.000 abstract description 4
- 238000007599 discharging Methods 0.000 abstract 4
- 238000005452 bending Methods 0.000 description 14
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 4
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 2
- 150000002500 ions Chemical class 0.000 description 2
Landscapes
- Particle Accelerators (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野コ
本発明は、電子やイオン等の荷電粒子のビームを偏向さ
せるウィグラー装置に関する。
せるウィグラー装置に関する。
［従来の技術］
従来、第３図に示されるように、加速器等に使用される
ウィグラー装置は、電子やイオン等の荷電粒子のビーム
１を偏向させて所望の光を得るためのもので、磁極の向
きが交互に逆に構成された３極偏向電磁石２〜４を有す
る。
ウィグラー装置は、電子やイオン等の荷電粒子のビーム
１を偏向させて所望の光を得るためのもので、磁極の向
きが交互に逆に構成された３極偏向電磁石２〜４を有す
る。
この３極偏向電磁石２〜４は、Ｙ軸方向に延在している
レーストラック型のボビンの外周にコイルが巻かれたも
のを２個、図面に対して垂直方向（Ｚ軸方向）に夫々対
峙して構成されている。
レーストラック型のボビンの外周にコイルが巻かれたも
のを２個、図面に対して垂直方向（Ｚ軸方向）に夫々対
峙して構成されている。
尚、この３極偏向電磁石２〜４は、夫々、ビーム１が入
射される入射面と、入射されたビーム１か偏向された後
、偏向されたビーム１を出射する出射面とを備えている
。
射される入射面と、入射されたビーム１か偏向された後
、偏向されたビーム１を出射する出射面とを備えている
。
これにより、コイルに電流を流すと、Ｚ軸方向に交互に
磁束が発生して、Ｎ極、及びＳ極の磁極が交互に構成さ
れる。
磁束が発生して、Ｎ極、及びＳ極の磁極が交互に構成さ
れる。
この結果、ビーム１は第３図の矢印に示される交互に逆
向きのローレンツ力を受けて、ビーム１がＹ軸に対して
所定の偏向角θ（０くθく９０°）で偏向される。
向きのローレンツ力を受けて、ビーム１がＹ軸に対して
所定の偏向角θ（０くθく９０°）で偏向される。
尚、偏向電磁石の磁極端部において、ビームの縦方向（
Ｚ軸方向）のレンズ作用をエツジ集束という。
Ｚ軸方向）のレンズ作用をエツジ集束という。
［発明が解決しようとする課題］
しかしながら、３極偏向電磁石２〜４の入出射面では、
偏向角θでビーム１が入出射すると、運動量の変化が生
じて屈折作用を起こしてしまうことがあった。
偏向角θでビーム１が入出射すると、運動量の変化が生
じて屈折作用を起こしてしまうことがあった。
即ち、ビームは各入射面及び各出射面に対して、偏向角
θで通過するため、エツジ集束を起こしてビーム１の軌
道の安定性が悪化するという欠点があった。
θで通過するため、エツジ集束を起こしてビーム１の軌
道の安定性が悪化するという欠点があった。
そこで、本発明の技術的課題は、ビーム１の軌道がＺ軸
方向にずれることを防止して、ビーム１の安定性を改善
することを目的とするウィグラー装置を提供することに
ある。
方向にずれることを防止して、ビーム１の安定性を改善
することを目的とするウィグラー装置を提供することに
ある。
［課題を解決するための手段］
本発明によれば、荷電粒子ビームが入射される入射面と
、入射された前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向部と
、偏向された前記荷電粒子ビームを出射する出射面とを
備える偏向手段を複数有するウィグラー装置において、
前記複数の偏向手段は、前記荷電粒子ビームを各入射面
及び各出射面に対して、垂直に通過させる手段を有する
ことを特徴とするウィグラー装置が得られる。
、入射された前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向部と
、偏向された前記荷電粒子ビームを出射する出射面とを
備える偏向手段を複数有するウィグラー装置において、
前記複数の偏向手段は、前記荷電粒子ビームを各入射面
及び各出射面に対して、垂直に通過させる手段を有する
ことを特徴とするウィグラー装置が得られる。
［実施例コ
以下、本発明のウィグラー装置に係る一実施例について
図面を参照して説明する。
図面を参照して説明する。
第１図及び第２図を参照して、本発明に係るウィグラー
装置は、３極偏向電磁石５．６．７を有している。
装置は、３極偏向電磁石５．６．７を有している。
３極偏向電磁石５．６．７の形状を説明する。
偏向電磁石６のボビンは、上面及び下面が正３角形で、
側面が長方形の角柱である。一方、偏向電磁石５．７の
ボビンは、上面及び下面が直角３角形で、側面が長方形
の角柱である。３極偏向電磁石５．６．７は、ボビンの
側面にコイルが巻かれたものを２個、Ｚ軸方向に夫々対
峙して構成している。
側面が長方形の角柱である。一方、偏向電磁石５．７の
ボビンは、上面及び下面が直角３角形で、側面が長方形
の角柱である。３極偏向電磁石５．６．７は、ボビンの
側面にコイルが巻かれたものを２個、Ｚ軸方向に夫々対
峙して構成している。
上記ウィグラー装置では、３極偏向電磁石５．６．７の
コイルに夫々予め定められた電流を流して、第２図に示
す方向に磁束を発生させる。即ち、Ｚ軸方向に交互に磁
束Ｂが発生して、Ｎ極、及びＳ極の磁極か交互に構成さ
れる。
コイルに夫々予め定められた電流を流して、第２図に示
す方向に磁束を発生させる。即ち、Ｚ軸方向に交互に磁
束Ｂが発生して、Ｎ極、及びＳ極の磁極か交互に構成さ
れる。
このように、電磁石５の入射面から入射したビームは、
Ｘ軸に対して傾斜角θ、（０くθ１＜９０°）に偏向さ
れ、出射面に対して垂直に出射される。そして、電磁石
６の入射面に垂直に入射したビームは、偏向され、出射
面に対して垂直に出射される。それから、電磁石７の入
射面に対して垂直に入射したビームは、偏向され、出射
面に対して垂直に、即ち、Ｘ軸方向に出射される。
Ｘ軸に対して傾斜角θ、（０くθ１＜９０°）に偏向さ
れ、出射面に対して垂直に出射される。そして、電磁石
６の入射面に垂直に入射したビームは、偏向され、出射
面に対して垂直に出射される。それから、電磁石７の入
射面に対して垂直に入射したビームは、偏向され、出射
面に対して垂直に、即ち、Ｘ軸方向に出射される。
従って、ビーム１は３極偏同電磁石５．６．７の各入射
面及び各出射面に対して、垂直に通過するので、レンズ
作用が生ぜず、運動量は変化しない。
面及び各出射面に対して、垂直に通過するので、レンズ
作用が生ぜず、運動量は変化しない。
よって、ビーム１は、３極偏向電磁石５．６．７の磁極
の端部でエツジ集束を起こすことなく、安定性のよいビ
ーム１を得ることができる。
の端部でエツジ集束を起こすことなく、安定性のよいビ
ーム１を得ることができる。
［発明の効果］
以上説明したように、本発明によれば、荷電粒子ビーム
を各入射面及び各出射面に対して、垂直に通過させる手
段を有することにより、エツジ集束を起こすことなく、
安定性のよいビームを得ることかできるという効果があ
る。
を各入射面及び各出射面に対して、垂直に通過させる手
段を有することにより、エツジ集束を起こすことなく、
安定性のよいビームを得ることかできるという効果があ
る。
第１図は本発明のウィグラー装置に係る一実施例を示す
図、第２図は第１図のＡＡｉｓに沿って切断した断面図
、第３図は従来のウィグラー装置を示す図である。 １・・・ビーム、２．３．４・・・３極偏向電磁石、５
゜６．７・・・３極偏向電磁石。
図、第２図は第１図のＡＡｉｓに沿って切断した断面図
、第３図は従来のウィグラー装置を示す図である。 １・・・ビーム、２．３．４・・・３極偏向電磁石、５
゜６．７・・・３極偏向電磁石。
Claims (1)
- （１）荷電粒子ビームが入射される入射面と、入射され
た前記荷電粒子ビームを偏向させる偏向部と、偏向され
た前記荷電粒子ビームを出射する出射面とを備える偏向
手段を複数有するウィグラー装置において、前記複数の
偏向手段は、前記荷電粒子ビームを各入射面及び各出射
面に対して、垂直に通過させる手段を有することを特徴
とするウィグラー装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13530690A JPH0431800A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | ウィグラー装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13530690A JPH0431800A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | ウィグラー装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0431800A true JPH0431800A (ja) | 1992-02-03 |
Family
ID=15148637
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13530690A Pending JPH0431800A (ja) | 1990-05-28 | 1990-05-28 | ウィグラー装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0431800A (ja) |
-
1990
- 1990-05-28 JP JP13530690A patent/JPH0431800A/ja active Pending
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