JPH04317002A - Production of color filter - Google Patents

Production of color filter

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JPH04317002A
JPH04317002A JP3084249A JP8424991A JPH04317002A JP H04317002 A JPH04317002 A JP H04317002A JP 3084249 A JP3084249 A JP 3084249A JP 8424991 A JP8424991 A JP 8424991A JP H04317002 A JPH04317002 A JP H04317002A
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JP
Japan
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color filter
colored
layer
photosensitive
pattern
Prior art date
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JP3084249A
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Japanese (ja)
Inventor
▲檀▼上 耕太郎
Kotaro Danjo
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication date
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Abstract

PURPOSE:To obtain the color filter to be used for flat displays, such as liquid crystal displays or imagers, such as CCDs, or color sensors, etc., with high accuracy and good efficiency. CONSTITUTION:A photosensitive layer formed on a base is exposed via a photomask having prescribed patterns and tacky adhesiveness is developed in the exposed parts, by which a colored powder material is stuck to these exposed parts and colored patterns are formed. The colored layers 16 consisting of plural colors of the required color patterns are formed on the base by repeating this operation, then the colored layers 16 on the base are transferred onto the tacky adhesive layer 6 on a transparent substrate, by which the color filter is obtd.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルタの製造方
法に係り、特に、例えば液晶ディスプレイ等のフラット
ディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラ
ーセンサ等に用いられるカラーフィルタを高精度で、か
つ効率よく得ることのできるカラーフィルタの製造方法
に関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing color filters, and in particular, to manufacture color filters for use in flat displays such as liquid crystal displays, imagers such as CCDs, color sensors, etc. with high precision and efficiency. The present invention relates to a method of manufacturing color filters that can be obtained easily.

【0002】0002

【従来の技術】例えば、カラービデオカメラの撮像管に
は、複数色の微細なストライプが透明基板上に形成され
たカラーフィルタが装着されている。また、液晶ディス
プレイ(LCD)においても、近年のカラー化の要請に
対応するために、アクティブマトリックス方式および単
純マトリックス方式のいずれの方式においてもカラーフ
ィルタが用いられている。例えば、薄膜トランジスタ(
TFT)を用いたアクティブマトリックス方式の液晶デ
ィスプレイでは、カラーフィルタは赤(R)、緑(G)
、青(B)の3原色が用いられ、R,G,Bのそれぞれ
の画素に対応する電極をオン、オフさせることで液晶が
シャッタとして作動しR,G,Bのそれぞれの画素を光
が透過してカラー表示が行われる。そして、色混合は2
色以上の画素に対応する液晶シャッタを開き混色して別
の色に見せる加色混合の原理により網膜上で視覚的に行
われる。
2. Description of the Related Art For example, the image pickup tube of a color video camera is equipped with a color filter in which fine stripes of a plurality of colors are formed on a transparent substrate. Furthermore, in liquid crystal displays (LCDs), color filters are used in both active matrix and simple matrix systems in order to meet the recent demand for colorization. For example, a thin film transistor (
In active matrix liquid crystal displays using TFT, the color filters are red (R) and green (G).
The three primary colors of , blue (B) are used, and by turning on and off the electrodes corresponding to each pixel of R, G, and B, the liquid crystal operates as a shutter and lights each pixel of R, G, and B. Transparent color display is performed. And the color mixture is 2
This is visually performed on the retina using the principle of additive color mixing, in which liquid crystal shutters corresponding to pixels of more colors are opened and the colors are mixed to appear as different colors.

【0003】上述のようにして用いられるカラーフィル
タは、従来、染色法、分散法等の手段を用いて製造され
ていた。ここで、染色法によるカラーフィルタの製造は
、例えば次のようにして行われている。すなわち、ゼラ
チン、カゼイン、ポリビニルアルコール等の親水性樹脂
に重クロム酸塩等の感光剤を添加した塗布液を、スピン
コート塗布法等により透明ガラス基板上に塗布し、次い
で、所定パターンのマスクを用いて露光・現像を行い、
その後、染料により染色して第一着色層を形成する。そ
の後、この第一着色層上に二度染め防止のために防染層
を設けてから第二着色層および第三着色層をそれぞれ第
一着色層の形成と同様にして形成する。これにより、透
明ガラス基板上にR,G,Bの各着色層を備えたカラー
フィルタを得ることができる。
[0003] Color filters used as described above have conventionally been manufactured using methods such as dyeing methods and dispersion methods. Here, the production of color filters by the dyeing method is carried out, for example, as follows. That is, a coating solution made by adding a photosensitive agent such as dichromate to a hydrophilic resin such as gelatin, casein, or polyvinyl alcohol is applied onto a transparent glass substrate by spin coating or the like, and then a mask with a predetermined pattern is applied. Exposure and development are carried out using
Thereafter, the first colored layer is formed by dyeing with a dye. Thereafter, a resisting layer is provided on the first colored layer to prevent double dyeing, and then a second colored layer and a third colored layer are formed in the same manner as the first colored layer. Thereby, a color filter including R, G, and B colored layers on a transparent glass substrate can be obtained.

【0004】また、分散法を用いたカラーフィルタの製
造は、例えば次のようにして行われている。すなわち、
透明感光性樹脂に染料、有機顔料、無機顔料等の着色剤
を分散した感光液を透明ガラス基板上に塗布して感光性
樹脂層を形成する。次に、この感光性樹脂層上に所定形
状の開口パターンを有するマスクを載置し、露光・現像
を行い第一着色層を形成する。同様にして第二着色層、
第三着色層を形成してR,G,Bの各着色層を備えたカ
ラーフィルタを得ることができる。
[0004] Color filters are manufactured using the dispersion method, for example, as follows. That is,
A photosensitive liquid in which a coloring agent such as a dye, an organic pigment, an inorganic pigment, etc. is dispersed in a transparent photosensitive resin is applied onto a transparent glass substrate to form a photosensitive resin layer. Next, a mask having an opening pattern of a predetermined shape is placed on this photosensitive resin layer, and exposure and development are performed to form a first colored layer. Similarly, the second colored layer,
By forming a third colored layer, a color filter including R, G, and B colored layers can be obtained.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、染色法
においては、色調が豊富で解像性に優れるカラーフィル
タが得られる反面、染色の際に既に着色された部分が二
度染めされないように防染対策を施す必要がある等の点
から工程が煩雑であり製造コストが高くなるという問題
があった。また、被染体に水溶性高分子材料を用いてい
るため耐熱性、耐薬品性、耐光性等が劣るという問題も
あった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, while the dyeing method provides a color filter with a rich variety of tones and excellent resolution, it is difficult to prevent the already colored areas from being dyed twice during dyeing. There was a problem that the process was complicated and the manufacturing cost was high due to the need to take countermeasures. Furthermore, since a water-soluble polymer material is used for the object to be dyed, there is also a problem that heat resistance, chemical resistance, light resistance, etc. are inferior.

【0006】また、分散法においては、微細なパターン
を形成することが可能である反面、色変えの度にフォト
リソグラフィー工程の処理を行う必要があり、工程が煩
雑で製造コスト低減が困難であるという問題があった。 このような背景から、低コスト化と量産化を同時に可能
にするとともに、大画面化も可能なカラーフィルタの製
造方法として印刷法が提案されている。従来より提案さ
れている印刷法としては、平版オフセット印刷、凹版オ
フセット印刷等のオフセット方式、スクリーン印刷方式
、フレキソ印刷方式等がある。
[0006]Also, although it is possible to form fine patterns using the dispersion method, it is necessary to perform a photolithography process every time the color is changed, making the process complicated and difficult to reduce manufacturing costs. There was a problem. Against this background, a printing method has been proposed as a method of manufacturing color filters that enables cost reduction and mass production at the same time, and also allows for larger screens. Conventionally proposed printing methods include offset methods such as lithographic offset printing and intaglio offset printing, screen printing methods, and flexo printing methods.

【0007】しかしながら、印刷法においては、画素の
太りや細り、ピンホールの発生等により印刷形状が悪化
し、特に微細パターンの再現が困難であるという問題が
あった。また、特に細線の厚みが充分にとれないため、
例えばブラックマトリックスのように遮光性の要求され
る着色パターンを備えるカラーフィルタの製造には適さ
ないものであった。したがって、高品位のブラックマト
リックスを備えるカラーフィルタを製造する場合には、
コストのかかるクロム蒸着法等によりブラックマトリッ
クスを形成する必要があった。さらに、従来の印刷法に
おいては、ブランケットからガラス基板にインキを転移
させる際に、インキの一部分のみが転移するためインキ
層内での分裂が生じて、印刷後のインキ表面が平滑にな
らないという問題があった。さらにまた、プロセスが不
安定なため連続して印刷を続けた場合、印刷膜厚が変化
したり、印刷形状が悪化するという問題もあった。
However, the printing method has the problem that the printed shape deteriorates due to thickening or thinning of pixels, generation of pinholes, etc., and it is particularly difficult to reproduce fine patterns. In addition, since the thickness of particularly thin lines cannot be made sufficiently,
For example, it is not suitable for manufacturing a color filter having a colored pattern such as a black matrix that requires light-shielding properties. Therefore, when manufacturing a color filter with a high-quality black matrix,
It was necessary to form a black matrix by a costly chromium vapor deposition method or the like. Furthermore, in conventional printing methods, when ink is transferred from the blanket to the glass substrate, only a portion of the ink is transferred, resulting in splits within the ink layer, resulting in the ink surface not being smooth after printing. was there. Furthermore, since the process is unstable, if printing is continued continuously, there is a problem that the printed film thickness changes and the printed shape deteriorates.

【0008】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、液晶ディスプレイ等のフラットディスプ
レイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ
等に用いられるカラーフィルタを高精度で、かつ効率よ
く得ることのできるカラーフィルタの製造方法を提供す
ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and it is an object of the present invention to produce color filters used in flat displays such as liquid crystal displays, imagers such as CCDs, color sensors, etc. with high precision and efficiency. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a color filter that can be obtained.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は複数色の着色パターンからなる着色
層を備えるカラーフィルタの製造方法において、露光に
より粘着性を発現する感光性物質を支持体上に塗布して
感光性層を形成した後、所定のパターンを有するフォト
マスクを介して前記感光性層を露光し露光部分に着色粉
末物質を付着させて着色パターンを形成する工程を必要
色数分繰り返して着色層を形成し、その後、予め粘着層
が形成された透明基板の該粘着層に前記支持体上の着色
層を転写するような構成とした。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a color filter having a colored layer consisting of a colored pattern of a plurality of colors. After forming a photosensitive layer by coating it on a support, the photosensitive layer is exposed to light through a photomask having a predetermined pattern, and a colored powder substance is attached to the exposed area to form a colored pattern. The colored layer was formed repeatedly for the required number of colors, and then the colored layer on the support was transferred to the adhesive layer of the transparent substrate on which the adhesive layer was previously formed.

【0010】0010

【作用】支持体上に形成された感光性層は、所定のパタ
ーンを有するフォトマスクを介して露光されて露光部分
に粘着性が発現され、この露光部分に着色粉末物質を付
着させて着色パターンが形成され、これを繰り返すこと
により必要とする複数色の着色パターンからなる着色層
を形成し、次に、支持体上の着色層は透明基板上の粘着
層に転写させてカラーフィルタが得られる。これにより
、透明基板上に形成された着色層の表面平滑性は良好で
あり、保護膜を形成することなく透明共通電極を形成す
ることができ、カラーフィルタの工程の簡略化がなされ
て製造コストの低減が可能である。
[Operation] The photosensitive layer formed on the support is exposed to light through a photomask having a predetermined pattern to develop tackiness in the exposed areas, and a colored powder substance is attached to the exposed areas to form a colored pattern. is formed, and by repeating this process, a colored layer consisting of the required colored pattern of multiple colors is formed. Next, the colored layer on the support is transferred to the adhesive layer on the transparent substrate to obtain a color filter. . As a result, the surface smoothness of the colored layer formed on the transparent substrate is good, and a transparent common electrode can be formed without forming a protective film, which simplifies the color filter process and reduces manufacturing costs. It is possible to reduce

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明により製造されたカラーフ
ィルタを用いたアクティブマトリックス方式による液晶
ディスプレイ(LCD)の一例を示す斜視図であり、図
2は同じく概略断面図である。図1および図2において
、LCD1はカラーフィルタ10と透明ガラス基板20
とをシール部材30を介して対向させ、その間に捩れネ
マティック(TN)液晶からなる厚さ約5〜10μm程
度の液晶層40を形成し、さらに、カラーフィルタ10
と透明ガラス基板20の外側に偏光板50,51が配設
されて構成されている。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an example of an active matrix liquid crystal display (LCD) using a color filter manufactured according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view. 1 and 2, the LCD 1 includes a color filter 10 and a transparent glass substrate 20.
A liquid crystal layer 40 made of twisted nematic (TN) liquid crystal and having a thickness of approximately 5 to 10 μm is formed between the color filter 10 and the color filter 10 .
Polarizing plates 50 and 51 are arranged on the outside of a transparent glass substrate 20.

【0012】図3はカラーフィルタ10の拡大部分断面
図であり、カラーフィルタ10は透明基板12と、この
透明基板12上に粘着層6を介して形成されたブラック
マトリックス14、着色層16と、ブラックマトリック
ス14および着色層16を覆うように設けられた保護層
18と透明共通電極19とを備えている。このカラーフ
ィルタ10は透明共通電極19が液晶層40側に位置す
るように配設されている。そして、着色層16は赤色パ
ターン16R、緑色パターン16G、青色パターン16
Bからなり、各着色パターンの配列は図1に示されるよ
うにモザイク配列となっている。尚、着色パターンの配
列はこれに限定されるものではなく、三角配列、ストラ
イプ配列等としてもよい。
FIG. 3 is an enlarged partial sectional view of the color filter 10. The color filter 10 includes a transparent substrate 12, a black matrix 14 formed on the transparent substrate 12 via an adhesive layer 6, a colored layer 16, It includes a protective layer 18 provided to cover the black matrix 14 and the colored layer 16, and a transparent common electrode 19. This color filter 10 is arranged so that the transparent common electrode 19 is located on the liquid crystal layer 40 side. The colored layer 16 includes a red pattern 16R, a green pattern 16G, and a blue pattern 16.
The colored patterns are arranged in a mosaic arrangement as shown in FIG. Note that the arrangement of the colored patterns is not limited to this, and may be a triangular arrangement, a striped arrangement, or the like.

【0013】また、透明ガラス基板20上には表示電極
22が各着色パターン16R、16G、16Bに対応す
るように設けられ、各表示電極22は薄膜トランジスタ
(TFT)24を有している。また、各表示電極22間
にはブラックマトリックス14に対応するように走査線
(ゲート電極母線)26aとデータ線26bが配設され
ている。
Further, display electrodes 22 are provided on the transparent glass substrate 20 so as to correspond to the colored patterns 16R, 16G, and 16B, and each display electrode 22 has a thin film transistor (TFT) 24. Furthermore, scanning lines (gate electrode bus lines) 26 a and data lines 26 b are arranged between each display electrode 22 so as to correspond to the black matrix 14 .

【0014】このようなLCD1では、各着色パターン
16R、16G、16Bが画素を構成し、偏光板51側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層40がシャッタとして
作動し、着色パターン16R、16G、16Bのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。カラー
フィルタ10の透明基板12としては、石英ガラス、パ
イレックスガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッ
ト材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可
撓性を有するフレキシブル材等を用いることができる。 このなかで、特にコーニング社製7059ガラスは、熱
膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処
理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成
分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブ
マトリックス方式によるLCD用のカラーフィルタに適
している。
In such an LCD 1, each of the colored patterns 16R, 16G, and 16B constitutes a pixel, and the liquid crystal is turned on and off by turning on and off the display electrode corresponding to each pixel while illumination light is irradiated from the polarizing plate 51 side. The layer 40 operates as a shutter, and light is transmitted through each pixel of the colored patterns 16R, 16G, and 16B to perform color display. As the transparent substrate 12 of the color filter 10, a rigid material without flexibility such as quartz glass, Pyrex glass, or a synthetic quartz plate, or a flexible material with flexibility such as a transparent resin film or an optical resin plate is used. be able to. Among these, Corning's 7059 glass is a material with a low coefficient of thermal expansion, and has excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment.Also, since it is an alkali-free glass that does not contain any alkali components, it is a material with a low coefficient of thermal expansion. Suitable for matrix type LCD color filters.

【0015】本発明では、露光により粘着性を発現する
感光性物質を用いて一旦支持体上に着色層を形成し、こ
の着色層を粘着層を介して透明基板12上に転写して着
色層16とする。ここで、本発明によるカラーフィルタ
製造の一例を図4および図5を参照して説明する。先ず
支持体としての可撓性フィルム11上に感光性物質を塗
布して厚さ0.5〜5μm程度の感光性層13を形成す
る(図4(A))。次に、ブラックマトリックス用のフ
ォトマスクを介して感光性層13を露光し露光部分13
aに粘着性を発現させる(図4(B))。そして、感光
性層13上に隠蔽粉末物質を散布し(図4(C))、露
光部分13aに隠蔽粉末物質を付着させるとともに余分
な隠蔽粉末物質を吹き飛ばしてブラックマトリックス1
4′を形成する(図4(D))。次に、赤色パターン用
のフォトマスクを介して感光性層13を露光し露光部分
13bに粘着性を発現させる(図4(E))。そして、
感光性層13上に赤色粉末物質を散布し(図5(A))
、露光部分13bに赤色粉末物質を付着させるとともに
余分な赤色粉末物質を吹き飛ばして赤色パターン16′
Rを形成する(図5(B))。同様に、緑色パターン用
のフォトマスクを介して露光し、緑色粉末物質を付着さ
せて緑色パターン16′Gを形成し(図5(C))、青
色パターン用のフォトマスクを介して露光し、青色粉末
物質を付着させて青色パターン16′Bを形成する(図
5(D))。
In the present invention, a colored layer is once formed on a support using a photosensitive substance that develops adhesiveness when exposed to light, and this colored layer is transferred onto the transparent substrate 12 via the adhesive layer to form the colored layer. 16. Here, an example of manufacturing a color filter according to the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5. First, a photosensitive material is applied onto a flexible film 11 as a support to form a photosensitive layer 13 having a thickness of about 0.5 to 5 μm (FIG. 4(A)). Next, the photosensitive layer 13 is exposed to light through a photomask for a black matrix, and the exposed portion 13 is
a to develop adhesiveness (Fig. 4(B)). Then, a concealing powder substance is scattered on the photosensitive layer 13 (FIG. 4(C)), and the concealing powder substance is attached to the exposed portion 13a, and the excess concealing powder substance is blown off to form the black matrix 1.
4' (Fig. 4(D)). Next, the photosensitive layer 13 is exposed to light through a photomask for a red pattern to develop adhesiveness in the exposed portion 13b (FIG. 4(E)). and,
A red powder substance is sprinkled on the photosensitive layer 13 (FIG. 5(A)).
, a red powder material is attached to the exposed portion 13b and the excess red powder material is blown off to form a red pattern 16'.
R is formed (FIG. 5(B)). Similarly, exposure is performed through a photomask for a green pattern, a green powder substance is deposited to form a green pattern 16'G (FIG. 5(C)), and exposed through a photomask for a blue pattern. A blue powder material is deposited to form a blue pattern 16'B (FIG. 5D).

【0016】一方、透明基板12上には予め粘着層6を
形成しておき(図6(A))、この粘着層6にブラック
マトリックス14′および各着色パターン16′R,1
6′G,16′Bが密着するように可撓性フィルム11
を透明基板12上の重ねる。そして、可撓性フィルム1
1上をローラー8を転動させて可撓性フィルム11を押
圧することにより、ブラックマトリックス14′および
各着色パターン16′R,16′G,16′Bを粘着層
6に接着させるとともに可撓性フィルム11を剥離する
(図6(B))。これにより、ブラックマトリックス1
4、および各着色パターン16R,16G,16Bから
なる着色層16を粘着層6を介して透明基板12上に形
成する。
On the other hand, an adhesive layer 6 is previously formed on the transparent substrate 12 (FIG. 6(A)), and a black matrix 14' and each colored pattern 16'R, 1 are formed on this adhesive layer 6.
Flexible film 11 so that 6'G and 16'B are in close contact with each other
are superimposed on the transparent substrate 12. And flexible film 1
By rolling the roller 8 on the flexible film 11 and pressing the flexible film 11, the black matrix 14' and each colored pattern 16'R, 16'G, 16'B are adhered to the adhesive layer 6 and the flexible film 11 is pressed. The adhesive film 11 is peeled off (FIG. 6(B)). As a result, black matrix 1
4, and a colored layer 16 consisting of colored patterns 16R, 16G, and 16B is formed on the transparent substrate 12 via the adhesive layer 6.

【0017】尚、上述の製造工程においてブラックマト
リックス形成工程を削除することにより、ブラックマト
リックスのないカラーフィルタを製造することができる
。また、上述の実施例では、可撓性フィルム11上にブ
ラックマトリックス14′を形成してから各着色パター
ン16′R,16′G,16′Bを形成しているが、形
成順序はこれに限定されるものではない。
Note that by omitting the black matrix forming step in the above manufacturing process, a color filter without a black matrix can be manufactured. Further, in the above embodiment, the colored patterns 16'R, 16'G, and 16'B are formed after forming the black matrix 14' on the flexible film 11, but the order of formation is as follows. It is not limited.

【0018】本発明によるカラーフィルタ製造の他の態
様を図7を参照して説明する。図7において、ローラー
状の支持体71の周面上に感光性物質を塗布して厚さ0
.5〜5μm程度の感光性層73を形成し、上述の例と
同様にしてブラックマトリックス用のフォトマスクを介
して支持体71上の感光性層73を露光し露光部分に粘
着性を発現させる。そして、感光性層73上に隠蔽粉末
物質を散布し、露光部分に隠蔽粉末物質を付着させると
ともに余分な隠蔽粉末物質を吹き飛ばしてブラックマト
リックス74′を形成する。次に、赤色パターン用のフ
ォトマスクを介して支持体71上の感光性層73を露光
し露光部分に粘着性を発現させ、その後、感光性層73
上に赤色粉末物質を散布し、露光部分13bに赤色粉末
物質を付着させるとともに余分な赤色粉末物質を吹き飛
ばして赤色パターン76′Rを形成する。同様に、緑色
パターン用のフォトマスクを介して露光し、緑色粉末物
質を付着させて緑色パターン76′Gを形成し、また、
青色パターン用のフォトマスクを介して露光し、青色粉
末物質を付着させて青色パターン76′Bを形成する。 これにより、ローラー状の支持体71の感光性層73上
にはブラックマトリックス74′および各着色パターン
76′R,76′G,76′Bが形成される(図7(A
))。
Another aspect of manufacturing a color filter according to the present invention will be explained with reference to FIG. In FIG. 7, a photosensitive material is coated on the circumferential surface of a roller-shaped support 71 to a thickness of 0.
.. A photosensitive layer 73 having a thickness of approximately 5 to 5 μm is formed, and the photosensitive layer 73 on the support 71 is exposed to light through a photomask for a black matrix in the same manner as in the above example to develop tackiness in the exposed portion. Then, a concealing powder material is spread on the photosensitive layer 73, and the concealing powder material is adhered to the exposed portion, and the excess concealing powder material is blown off to form a black matrix 74'. Next, the photosensitive layer 73 on the support body 71 is exposed to light through a photomask for a red pattern to develop adhesiveness in the exposed portion, and then the photosensitive layer 73
A red powder material is sprinkled on the exposed portion 13b, and the red powder material is blown off to form a red pattern 76'R. Similarly, a green powder material is deposited by exposure through a photomask for a green pattern to form a green pattern 76'G, and
Exposure is performed through a photomask for a blue pattern, and a blue powder material is deposited to form a blue pattern 76'B. As a result, a black matrix 74' and colored patterns 76'R, 76'G, and 76'B are formed on the photosensitive layer 73 of the roller-shaped support 71 (see FIG. 7(A).
)).

【0019】つぎに、このローラー状の支持体71を透
明基板72に予め設けられている粘着層78上に回転移
動させて感光性層73上のブラックマトリックス74′
および各着色パターン76′R,76′G,76′Bを
透明基板72に転写する。これにより、ブラックマトリ
ックス74、および各着色パターン76R,76G,7
6Bからなる着色層76を粘着層78を介して透明基板
72上に形成する。
Next, this roller-shaped support 71 is rotated and moved onto the adhesive layer 78 previously provided on the transparent substrate 72 to form a black matrix 74' on the photosensitive layer 73.
Then, the colored patterns 76'R, 76'G, and 76'B are transferred onto the transparent substrate 72. As a result, the black matrix 74 and each colored pattern 76R, 76G, 7
A colored layer 76 made of 6B is formed on the transparent substrate 72 via an adhesive layer 78.

【0020】支持体としての可撓性フィルム11は、ポ
リオレフィン、塩化ビニル、セロハン、アセテート、ア
セタール、フェノール、エポキシシリコン、ゴム、ナイ
ロン、ポリエステル、ポリアミド、ポリカーボネート、
ポリアリレート、ポリスルホン、アクリルポリイミド、
フッ素系、ポリエーテルスルホン、ポリエーテルエーテ
ルケトン、ポリビニルアルコール、エチレンビニルアル
コール、ニトリル、ウレタン、ポリビニルブチラール等
の樹脂フィルム、金属、セラミックスフィルム及びそれ
らの複合体フィルム等を使用することができる。そして
、このような可撓性フィルム11の表面粗さは、±1μ
m以内であることが好ましい。
The flexible film 11 as a support is made of polyolefin, vinyl chloride, cellophane, acetate, acetal, phenol, epoxy silicone, rubber, nylon, polyester, polyamide, polycarbonate,
polyarylate, polysulfone, acrylic polyimide,
Resin films such as fluorine-based, polyether sulfone, polyether ether ketone, polyvinyl alcohol, ethylene vinyl alcohol, nitrile, urethane, polyvinyl butyral, etc., metal, ceramic films, composite films thereof, etc. can be used. The surface roughness of such flexible film 11 is ±1μ.
It is preferable that it is within m.

【0021】可撓性フィルムの平滑化方法としては、透
明層コーティング、鏡面ドラムカレンダリング、研摩、
その他一般的手法が可能であるが、特に表面研摩ガラス
の研摩面とフィルムの間に紫外線硬化樹脂等を狭んで引
き伸ばし、紫外線硬化させることにより容易に表面平滑
化フィルムが得られる。また、このアィルムを使用した
場合、着色層転写後のカラーフィルタ表面の平滑性が特
に良好となる。
Methods for smoothing the flexible film include transparent layer coating, mirror drum calendaring, polishing,
Although other general methods are possible, in particular, a surface-smoothed film can be easily obtained by narrowing an ultraviolet curable resin or the like between the polished surface of the surface-polished glass and the film, stretching it, and curing it with ultraviolet rays. Furthermore, when this film is used, the smoothness of the surface of the color filter after the colored layer is transferred becomes particularly good.

【0022】また、ローラー状の支持体71としては、
ステンレス等の鉄鋼材料、アルミニウム等の非鉄金属材
料、ガラス等の無機材料及びポリオレフィン等の有機材
料、さらには、それらの複合系材料等の材質の支持体を
使用することができる。このような支持体の感光性層が
形成される面には、シリコン樹脂、ワックス類、フッ素
系樹脂、セルロース系樹脂、その他支持体及び/または
感光性層と離型性を有する材料等により離型処理を施す
ことが好ましい。
Further, as the roller-shaped support 71,
Supports made of materials such as steel materials such as stainless steel, non-ferrous metal materials such as aluminum, inorganic materials such as glass, organic materials such as polyolefin, and composite materials thereof can be used. The surface of such a support on which the photosensitive layer is formed is coated with a material such as silicone resin, wax, fluorine resin, cellulose resin, or other material that has release properties from the support and/or the photosensitive layer. It is preferable to perform mold treatment.

【0023】露光により粘着性を発現する感光性物質と
しては、下記に示されるような1,4−ジヒドロピリジ
ン化合物を用いることができる。1,4−ジヒドロピリ
ジン化合物  :  2,6−ジメチル−4−(2′−
ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピリジン−3,5
−ジカルボン酸ジメチルエステル;  2,6−ジメチ
ル−4−(2′−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロ
ピリジン−3,5−ジカルボン酸ジエチルエステル; 
 2,6−ジメチル−4−(2′−ニトロ−4′,5′
−ジメトキシフェニル)−1,4−ジヒドロピリジン−
3,5−ジカルボン酸ジエチルエステル;  2,6−
ジメチル−4−(2′−ニトロフェニル)−1,4−ジ
ヒドロピリジン−3,5−ジカルボン酸ジイソプロピル
エステル;  2,6−ジメチル−4−(2′−ニトロ
フェニル)−1,4−ジヒドロピリジン−3,5−ジカ
ルボン酸ジ(β−エトキシエチル)エステル;  2,
6−ジメチル−4−(2′−ニトロフェニル)−1,4
−ジヒドロピリジン−3,5−ジカルボン酸3−メチル
−5−エチルエステル;  2,6−ジメチル−4−(
2′−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピリジン−
3,5−ジカルボン酸3−イソプロピル−5−メチルエ
ステル;  2,6−ジメチル−4−(2′−ニトロフ
ェニル)−3−アセト−1,4−ジヒドロピリジン−5
−カルボン酸エチルエステル;  2,6−ジメチル−
4−(2′−ニトロフェニル)−3,5−ジアセト−1
,4−ジヒドロピリジンおよび2,6−ジメチル−4−
(2′−ニトロフェニル)−3,5−ジシアノ−1,4
−ジヒドロピリジン。
As the photosensitive substance that develops tackiness upon exposure to light, 1,4-dihydropyridine compounds as shown below can be used. 1,4-dihydropyridine compound: 2,6-dimethyl-4-(2'-
Nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5
-dicarboxylic acid dimethyl ester; 2,6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid diethyl ester;
2,6-dimethyl-4-(2'-nitro-4',5'
-dimethoxyphenyl)-1,4-dihydropyridine-
3,5-dicarboxylic acid diethyl ester; 2,6-
Dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid diisopropyl ester; 2,6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3 ,5-dicarboxylic acid di(β-ethoxyethyl) ester; 2,
6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-1,4
-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid 3-methyl-5-ethyl ester; 2,6-dimethyl-4-(
2'-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-
3,5-dicarboxylic acid 3-isopropyl-5-methyl ester; 2,6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-3-aceto-1,4-dihydropyridine-5
-Carboxylic acid ethyl ester; 2,6-dimethyl-
4-(2'-nitrophenyl)-3,5-diaceto-1
, 4-dihydropyridine and 2,6-dimethyl-4-
(2'-nitrophenyl)-3,5-dicyano-1,4
-dihydropyridine.

【0024】このような1,4−ジヒドロピリジン化合
物は、例えば1モルの脂肪族または芳香族アルデヒド、
1モルのアンモニアおよび2モルのβ−ケトカルボン酸
エステル、β−ケトカルボン酸ニトリルあるいはβ−ジ
ケトンとから、Hantzsch合成の方法に従って製
造することができる。また、感光性物質としては、上記
に示されるような1,4−ジヒドロピリジン化合物の他
に、例えば下記の化学式で示されるようなDDMA等の
各種の感光性ジアゾニウム塩を使用することができる。
Such 1,4-dihydropyridine compounds can contain, for example, 1 mol of an aliphatic or aromatic aldehyde,
It can be produced from 1 mol of ammonia and 2 mol of β-ketocarboxylic acid ester, β-ketocarboxylic acid nitrile or β-diketone according to the method of Hantzsch synthesis. In addition to the 1,4-dihydropyridine compounds shown above, various photosensitive diazonium salts such as DDMA shown by the following chemical formula can be used as the photosensitive substance.

【0025】[0025]

【化1】[Chemical formula 1]

【0026】但し、感光性物質として感光性ジアゾニウ
ム塩を用いた場合、露光領域への隠蔽粉末物質あるいは
着色粉末物質の均一分布は、露光および粉末物質散布が
定量の水分の存在下に行われる場合にのみ実現可能であ
る。このため、室内の湿度および室内で空気のさらされ
る時間を確定し、かつ制御するための高価な装置が必要
となる。
However, when a photosensitive diazonium salt is used as the photosensitive substance, the uniform distribution of the concealing powder substance or the colored powder substance in the exposed area cannot be achieved if the exposure and powder substance scattering are carried out in the presence of a fixed amount of moisture. This is only possible if This requires expensive equipment to determine and control indoor humidity and indoor air exposure time.

【0027】上述の感光性物質は、単独で用いて感光性
層13を形成してもよく、あるいはバインダーと混合し
て使用してもよい。バインダーとの混合割合は、バイン
ダー1重量部に対して0.2〜9重量部程度が好ましい
。使用するバインダーとしては、ポリアクリル酸エステ
ルおよび/またはポリメタクリル酸エステル、アクリル
酸および/またはメタクリル酸もしくは他のアクリルモ
ノマーおよび/またはビニルモノマー類の共重合体; 
 マレイン酸無水物、マレイン酸および/またはそのス
チレン、もしくは他のビニルモノマーのジ−もしくはセ
ミエステル類の共重合体;  ポリ塩化ビニル、その塩
素化処理生成物、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチ
レン等の塩素含有ビニルポリマー、または共重合体; 
 ポリスチレンおよびマレイン酸等とのスチレン共重合
体、ポリエチレンおよびマレイン酸等とのエチレン共重
合体;  ブタジエン、クロロプレン等に基づく合成ゴ
ムおよびそれらのスチレン、アクリロニトリル等との共
重合体;  高分子量のポリエチレンオキサイドまたは
ポリエピクロルヒドリンのようなポリエーテルが挙げら
れる。
The above photosensitive materials may be used alone to form the photosensitive layer 13, or may be used in combination with a binder. The mixing ratio with the binder is preferably about 0.2 to 9 parts by weight per 1 part by weight of the binder. Binders used include copolymers of polyacrylic esters and/or polymethacrylic esters, acrylic acid and/or methacrylic acid or other acrylic monomers and/or vinyl monomers;
Copolymers of maleic anhydride, maleic acid and/or its styrene, or di- or semi-esters of other vinyl monomers; polyvinyl chloride, its chlorinated products, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, etc. Chlorine-containing vinyl polymer or copolymer;
Styrene copolymers with polystyrene and maleic acid, etc., ethylene copolymers with polyethylene and maleic acid, etc.; Synthetic rubbers based on butadiene, chloroprene, etc. and their copolymers with styrene, acrylonitrile, etc.; High molecular weight polyethylene oxide Or a polyether such as polyepichlorohydrin.

【0028】また、感光性物質には増感剤、安定化剤等
を含有することができる。上述のような感光性物質を透
明基板12上に塗布するには、スピンコート法等の公知
の方法を用いることができる。また、感光性層13の露
光に用いる光源としては、超高圧水銀灯、キセノンラン
プ、蛍光灯等が挙げられる。露光における照射量は50
〜300mJ/cm2 程度が好ましい。
[0028] Furthermore, the photosensitive substance may contain a sensitizer, a stabilizer, and the like. In order to apply the photosensitive material as described above onto the transparent substrate 12, a known method such as a spin coating method can be used. Further, examples of the light source used for exposing the photosensitive layer 13 include an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a fluorescent lamp, and the like. The irradiance during exposure is 50
It is preferably about 300 mJ/cm2.

【0029】隠蔽粉末物質および着色粉末物質は、酸化
チタン(TiO2 )、SiO2 、ガラス粉末、カー
ボンブラック、グラファイト、銅ーフタロシアニン類、
アゾ染料、アルミニウム、銅、鉄等の金属粉末あるいは
金属酸化物等を、バインダーを用いて平均粒径30μm
以下、好ましくは3μm以下の微細粒子としたものを使
用することができる。
The concealing powder material and the colored powder material include titanium oxide (TiO2), SiO2, glass powder, carbon black, graphite, copper-phthalocyanines,
Azo dyes, metal powders such as aluminum, copper, iron, etc. or metal oxides are mixed with a binder to an average particle size of 30 μm.
Hereinafter, preferably fine particles of 3 μm or less can be used.

【0030】バインダーとしては、ポリスチレンホモポ
リマー、水素添加スチレン樹脂、スチレン−イソブチレ
ン共重合体、スチレン・ブタジエン共重合体、ABS(
アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン三元共重合体
)、ASAまたはAAS(アクリロニトリル・スチレン
・アクリル酸エステル三元共重合体)、ASまたはSA
N(スチレン・アクリロニトリル共重合体)、AAS(
アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン三元共重合
体)、ACS(アクリロニトリル・塩素化ポリエチレン
・スチレン三元共重合体)、AES(アクリロニトリル
・EVA・スチレン三元共重合体)、スチレン・Pクロ
ロスチレン共重合体、スチレン・プロピレン共重合体、
スチレン・ブタジエン架橋ポリマー、スチレン・アリル
アルコール共重合体、スチレン・ブタジエンゴムエマル
ジョン、スチレン・マレイン酸エステル共重合体、スチ
レン・イソブチレン共重合体(自己架橋型)、スチレン
・無水マイレン酸共重合体、スチレン・3−N,Nジエ
チルアミノアクリル酸プロピル共重合体等のポリスチレ
ン系樹脂;  ポリメチルメタアクリレート、エチルメ
タアクリレート、n−ブチルメタアクリレート、グリシ
ジルメタアクリレート、含フッ素アクリレート、メチレ
ン・メタアクリレート/ブチルメタアクリレート共重合
体、アクリル酸エチル/アクリル酸共重合体等のアクリ
ル系樹脂;  スチレン・アクリル共重合体、スチレン
・ジエチルアミノ・エチルメタアクリレート共重合体、
スチレン・ブタジエン・アクリル酸エステル共重合体、
スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・ブタジエン
・塩素化パラフィン共重合体、スチレン・メチルメタア
クリレート共重合体、スチレン・メチルメタアクリレー
ト共重合体/スチレンブチルメタアクリレートのブレン
ド、スチレン・n−ブチルメタアクリレート、スチレン
・ジエチルアミノ・エチルメタアクリレート、スチレン
・メチルメタアクリレート・n−ブチルアクリレート(
75:5:20)、スチレン・メチルメタアクリレート
・ブチルアクリレート−N−(エトキシメチル)アクリ
ルアミド、スチレン・グリシジルメタアクリレート、ス
チレン・ジメチルアミノ・エチルメタアクリレート、ス
チレン・ブタジエン・ジメチル・アミノエチルメタアク
リレート(60:26:4)、スチレン・アクリル酸エ
ステル・マレイン酸エステル(三元共重合体)、スチレ
ン・メタアクリル酸メチル・アクリル酸2−エチルヘキ
シル共重合体、スチレン・n−ブチルアクリレート・エ
チルグリコールメタアクリレート、スチレン・n−ブチ
ルメタアクリレート・アクリル酸共重合体(59:40
:1)、スチレン・n−ブチルメタアクリレート・無水
マレイン酸樹脂、スチレン・ブチルアクリレート・イソ
ブチルマレイン酸ハーフエステル・ジビニルベンゼン共
重合体、スチレン・n−ブチルアクリレート−4−ヘキ
サフルオロブチルメタアクリレート共重合体、スチレン
・ブタジエン・アクリレート共重合体(59:36:5
)のエマルジョン等のスチレン・(メタ)アクリル酸エ
ステル共重合体等を使用することができる。
As the binder, polystyrene homopolymer, hydrogenated styrene resin, styrene-isobutylene copolymer, styrene-butadiene copolymer, ABS (
Acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer), ASA or AAS (acrylonitrile-styrene-acrylic acid ester terpolymer), AS or SA
N (styrene/acrylonitrile copolymer), AAS (
Acrylonitrile/acrylic rubber/styrene terpolymer), ACS (acrylonitrile/chlorinated polyethylene/styrene terpolymer), AES (acrylonitrile/EVA/styrene terpolymer), styrene/P-chlorostyrene copolymer Coalescence, styrene-propylene copolymer,
Styrene/butadiene crosslinked polymer, styrene/allyl alcohol copolymer, styrene/butadiene rubber emulsion, styrene/maleic acid ester copolymer, styrene/isobutylene copolymer (self-crosslinked), styrene/maleic anhydride copolymer, Polystyrene resins such as styrene/3-N,N diethylaminopropyl acrylate copolymer; polymethyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, glycidyl methacrylate, fluorine-containing acrylate, methylene methacrylate/butyl methacrylate Acrylic resins such as acrylate copolymers, ethyl acrylate/acrylic acid copolymers; styrene/acrylic copolymers, styrene/diethylamino/ethyl methacrylate copolymers,
Styrene-butadiene-acrylic ester copolymer,
Styrene/butadiene copolymer, styrene/butadiene/chlorinated paraffin copolymer, styrene/methyl methacrylate copolymer, styrene/methyl methacrylate copolymer/styrene butyl methacrylate blend, styrene/n-butyl methacrylate , styrene/diethylamino/ethyl methacrylate, styrene/methyl methacrylate/n-butyl acrylate (
75:5:20), styrene/methyl methacrylate/butyl acrylate-N-(ethoxymethyl)acrylamide, styrene/glycidyl methacrylate, styrene/dimethylamino/ethyl methacrylate, styrene/butadiene/dimethyl/aminoethyl methacrylate ( 60:26:4), styrene/acrylic ester/maleic ester (terpolymer), styrene/methyl methacrylate/2-ethylhexyl acrylate copolymer, styrene/n-butyl acrylate/ethyl glycol meth Acrylate, styrene/n-butyl methacrylate/acrylic acid copolymer (59:40
:1), Styrene/n-butyl methacrylate/maleic anhydride resin, styrene/butyl acrylate/isobutyl maleic acid half ester/divinylbenzene copolymer, styrene/n-butyl acrylate-4-hexafluorobutyl methacrylate copolymer Coalescence, styrene-butadiene-acrylate copolymer (59:36:5
) can be used.

【0031】また、バインダーには湿潤剤、帯電防止剤
等の添加剤を加えてもよい。尚、隠蔽粉末物質はバイン
ダーを用いることなく金属、カーボンブラック、グラフ
ァイト等の粉末を直接使用してもよい。この場合、金属
粉末は平均粒径1μm以下、カーボンブラック粉末、グ
ラファイト粉末は平均粒径3μm以下が好ましい。
[0031]Additives such as wetting agents and antistatic agents may also be added to the binder. Incidentally, as the concealing powder substance, powder of metal, carbon black, graphite, etc. may be directly used without using a binder. In this case, the metal powder preferably has an average particle size of 1 μm or less, and the carbon black powder and graphite powder preferably have an average particle size of 3 μm or less.

【0032】尚、露光部分への隠蔽粉末物質、各着色粉
末物質の付着は、上述のように1回の付着操作のみとし
てもよく、あるいは複数回繰り返してもよい。また、ブ
ラックマトリックス14′(74′)、および各着色パ
ターン16′R,16′G,16′B(76′R,76
′G,76′B)の形成後に加熱処理(100〜500
℃、好ましくは200〜300℃)を施し、その後、透
明基板に転写してもよい。特に、支持体から透明基板1
2に転写された感光性層13が透明基板12の全面に存
在する場合、得られるカラーフィルタの周縁部にも感光
性層13が存在することとなり、このため、この部分か
ら剥離が生じる恐れがある。このような場合、上記のよ
うな加熱処理により、感光性層13(73)の感光性物
質が昇華除去することは、極めて有効である。
[0032] The deposition of the concealing powder substance and each colored powder substance on the exposed area may be performed only once as described above, or may be repeated multiple times. In addition, the black matrix 14'(74') and each colored pattern 16'R, 16'G, 16'B (76'R, 76'
'G, 76'B) is then heat treated (100-500
C, preferably 200 to 300 C), and then transferred to a transparent substrate. In particular, from the support to the transparent substrate 1
If the photosensitive layer 13 transferred to 2 is present on the entire surface of the transparent substrate 12, the photosensitive layer 13 will also be present at the peripheral edge of the resulting color filter, and therefore there is a risk of peeling from this area. be. In such a case, it is extremely effective to sublimate and remove the photosensitive material of the photosensitive layer 13 (73) by the heat treatment as described above.

【0033】透明基板12に形成される粘着層6(78
)は、ゴム系、アクリル系、シリコン系、ビニルエーテ
ル系、酢酸ビニル系、ウレタン系、エポキシ系、ナイロ
ン系、ポリエステル系、フェノール系等の透明粘着剤、
不飽和ポリエステル/スチレン系、アクリル酸エステル
系、ポリチオール/ポリエン系、エポキシ系、ビニルエ
ーテル系等の電離放射線硬化型の透明樹脂、その他、転
写時には粘着性があるが、その後の熱処理等で硬化する
熱硬化型の透明樹脂等を用いることができる。
Adhesive layer 6 (78) formed on transparent substrate 12
) are transparent adhesives such as rubber-based, acrylic-based, silicone-based, vinyl ether-based, vinyl acetate-based, urethane-based, epoxy-based, nylon-based, polyester-based, phenol-based, etc.
Ionizing radiation-curable transparent resins such as unsaturated polyester/styrene, acrylic ester, polythiol/polyene, epoxy, vinyl ether, etc., and other transparent resins that are sticky during transfer but harden with subsequent heat treatment, etc. A curable transparent resin or the like can be used.

【0034】カラーフィルタ10のブラックマトリック
ス14と着色層16を覆うように設けられる保護層18
は、カラーフィルタ10の表面平滑化、信頼性の向上、
および液晶層40への汚染防止等を目的とするものであ
り、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹
脂用の透明樹脂、あるいは二酸化ケイ素等の透明無機化
合物等を用いて形成することができる。保護層の厚さは
0.5〜50μm程度が好ましい。ここで、本発明では
上述のように露光により粘着性を発現する感光性物質を
用いて一旦支持体上に着色層を形成し、この着色層を粘
着層を介して透明基板上に転写して着色層とするので、
透明基板上の着色層の表面平滑性が高いものとなり、上
記のような保護層を形成しなくてもよい。
A protective layer 18 is provided to cover the black matrix 14 and colored layer 16 of the color filter 10.
smooths the surface of the color filter 10, improves reliability,
It is intended to prevent contamination of the liquid crystal layer 40, etc., and can be formed using a transparent resin for acrylic resin, epoxy resin, polyimide resin, or a transparent inorganic compound such as silicon dioxide. . The thickness of the protective layer is preferably about 0.5 to 50 μm. Here, in the present invention, as described above, a colored layer is once formed on a support using a photosensitive substance that develops adhesiveness upon exposure to light, and this colored layer is transferred onto a transparent substrate via an adhesive layer. Since it is a colored layer,
The surface smoothness of the colored layer on the transparent substrate is high, and there is no need to form a protective layer as described above.

【0035】透明共通電極19としては、酸化インジウ
ムスズ(ITO)膜を用いることができる。ITO膜は
蒸着法、スパッタ法等の公知の方法により形成すること
ができ、厚さは200〜2000A程度が好ましい。次
に、実験例を示して本発明を更に詳細に説明する。 (実験例1)まず、メチルエチルケトン溶媒500ml
中にデュポン社製のDHP−EおよびDHP−Mをそれ
ぞれ50g溶解して、露光により粘着性を発現する感光
性物質を調製した。そして、支持体として厚さ100μ
mのPETフィルム上にスピンコート法(回転数=45
0r.p.m.)により感光性物質を塗布して感光性層
(厚さ=1.5μm)を形成した。
As the transparent common electrode 19, an indium tin oxide (ITO) film can be used. The ITO film can be formed by a known method such as a vapor deposition method or a sputtering method, and the thickness is preferably about 200 to 2000 Å. Next, the present invention will be explained in more detail by showing experimental examples. (Experimental example 1) First, 500 ml of methyl ethyl ketone solvent
50 g each of DHP-E and DHP-M manufactured by DuPont were dissolved in the solution to prepare a photosensitive material that becomes sticky when exposed to light. And the thickness is 100μ as a support.
Spin coating method (rotation speed = 45
0r. p. m. ) to form a photosensitive layer (thickness = 1.5 μm).

【0036】次に、感光性層に対してブラックマトリッ
クス用のフォトマスクを介して紫外線露光を行った。露
光用の光源は超高圧水銀灯を用い、照射量は365nm
の波長において200mJ/cm2 とした。このよう
な紫外線露光により、感光性層のうち紫外線が照射され
た領域には粘着性が発現していることが確認された。次
に、感光性層の全面に黒色トナー(巴川製紙所(株)製
、平均粒径=5μm)をふりかけ、その後、圧縮空気に
より黒色トナーを吹き飛ばした。これによって、上記の
紫外線露光により粘着性が発現している領域にのみ黒色
トナーが付着してブラックマトリックスパターンが形成
された。尚、この工程において圧縮空気により吹き飛ば
された(除去された)黒色トナーは、回収して再度使用
することができる。この時の解像力は、ライン&スペー
スで10μmであった。
Next, the photosensitive layer was exposed to ultraviolet light through a black matrix photomask. The light source for exposure is an ultra-high pressure mercury lamp, and the irradiation amount is 365 nm.
It was set to 200 mJ/cm2 at the wavelength of . It was confirmed that by such exposure to ultraviolet rays, adhesiveness was developed in the area of the photosensitive layer that was irradiated with ultraviolet rays. Next, black toner (manufactured by Tomoekawa Paper Manufacturing Co., Ltd., average particle size = 5 μm) was sprinkled over the entire surface of the photosensitive layer, and then the black toner was blown away with compressed air. As a result, the black toner adhered only to the area where tackiness was developed due to the above-mentioned ultraviolet exposure, and a black matrix pattern was formed. Note that the black toner blown away (removed) by compressed air in this step can be collected and used again. The resolution at this time was 10 μm for lines and spaces.

【0037】次に、黒色トナーが付着している感光性層
に対して赤色パターン用のフォトマスクを介して所定位
置に紫外線露光を行った。紫外線露光条件は上記の露光
と同一とした。そして、黒色トナーの場合と同様に赤色
トナー(巴川製紙所(株)製、平均粒径=8μm)を用
いて赤色パターンを形成した。次に、黒色トナーおよび
赤色トナーが付着している感光性層に対して、赤色パタ
ーンと同様にして緑色パターン用のフォトマスクを介し
て所定位置に紫外線露光を行い、緑色トナー(巴川製紙
所(株)製、平均粒径=5μm)を用いて緑色パターン
を形成した。
Next, the photosensitive layer to which the black toner was attached was exposed to ultraviolet light at predetermined positions through a photomask for a red pattern. The ultraviolet exposure conditions were the same as those for the above exposure. Then, as in the case of the black toner, a red pattern was formed using a red toner (manufactured by Tomoekawa Paper Manufacturing Co., Ltd., average particle size = 8 μm). Next, the photosensitive layer to which the black toner and red toner are attached is exposed to ultraviolet light at predetermined positions through a photomask for the green pattern in the same manner as the red pattern, and the green toner (Tomoekawa Paper Mills) Co., Ltd., average particle size = 5 μm) to form a green pattern.

【0038】さらに、黒色トナー、赤色トナーおよび緑
色トナーが付着している感光性層に対して、赤色パター
ンと同様にして青色パターン用のフォトマスクを介して
所定位置に紫外線露光を行い、青色トナー(巴川製紙所
(株)製、平均粒径=5μm)を用いて青色パターンを
形成した。つぎに、透明基板としてのコーニング社製7
059ガラス(厚さ=1.1mm)上にニッセツPE−
115(日本カーバイド社製)をスピンコート法により
塗布して厚さ5μmの粘着層を形成した。そして、この
粘着層上に上記のPETフィルムを重ね、粘着層にブラ
ックマトリックスおよび各着色パターンを密着させ、直
径10cmのローラー(重量1kg)をフィルム上に回
転移動させながらフィルムのみを剥離した。これにより
、透明基板の粘着層上にはブラックマトリックスと赤(
R)、緑(G)、青(B)の各着色パターンからなる着
色層が形成された。
Furthermore, the photosensitive layer to which the black toner, red toner, and green toner are attached is exposed to ultraviolet light at predetermined positions through a photomask for the blue pattern in the same manner as the red pattern, and the blue toner is (manufactured by Tomoekawa Paper Manufacturing Co., Ltd., average particle size = 5 μm) to form a blue pattern. Next, we used Corning's 7 as a transparent substrate.
Nissetsu PE- on 059 glass (thickness = 1.1mm)
115 (manufactured by Nippon Carbide Co., Ltd.) was applied by spin coating to form an adhesive layer with a thickness of 5 μm. Then, the above-mentioned PET film was layered on this adhesive layer, the black matrix and each colored pattern were brought into close contact with the adhesive layer, and only the film was peeled off while a roller (1 kg in weight) having a diameter of 10 cm was rotated over the film. As a result, a black matrix and a red (
A colored layer consisting of colored patterns of R), green (G), and blue (B) was formed.

【0039】次に、このような着色層を覆うように保護
層を形成した。この保護層は日本合成ゴム社製オプトマ
ーSSを用いてスピンコート法により形成され、厚さは
約3μmであった。さらに、この保護層上にスパッタリ
ング法により厚さ約220Aの透明共通電極(ITO膜
)を形成してカラーフィルタを得た。このカラーフィル
タの解像度はライン&スペースで10μmであった。 (実験例2)実験例1と同様にしてポリスルホンフィル
ム上にブラックマトリックスと赤(R)、緑(G)、青
(B)の着色パターンを形成した後、270℃で30分
間の加熱処理を施したこと、および保護層を形成しなか
った他は、実験例1と同様にしてカラーフィルタを得た
。このカラーフィルタでは、感光性物質は昇華除去され
ており、また解像度はライン&スペースで10μmであ
った。 (実験例3)支持体として表面平滑化処理ステンレス製
のローラー(直径30cm)の周面上に実験例1と同様
の感光性物質をディッピング法により塗布して厚さ1.
5μmの感光性層を形成した。そして、円筒状のブラッ
クマトリックス用フォトマスク、各着色パターン用のフ
ォトマスクを使用して、実験例1と同様に手順でローラ
ー支持体上にブラックマトリックスおよび各着色パター
ンを形成した。つぎに、実験例1と同様に粘着層が形成
されたコーニング社製7059ガラス(厚さ=1.1m
m)上に、ローラー支持体を回転移動させてローラー支
持体上のブラックマトリックスおよび各着色パターンを
透明基板上に転写した。これにより、透明基板の粘着層
上にはブラックマトリックスと赤(R)、緑(G)、青
(B)の各着色パターンからなる着色層が形成された。
Next, a protective layer was formed to cover the colored layer. This protective layer was formed by spin coating using Optomer SS manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., and had a thickness of about 3 μm. Furthermore, a transparent common electrode (ITO film) having a thickness of about 220 Å was formed on this protective layer by sputtering to obtain a color filter. The resolution of this color filter was 10 μm in line and space. (Experimental Example 2) After forming a black matrix and colored patterns of red (R), green (G), and blue (B) on a polysulfone film in the same manner as in Experimental Example 1, heat treatment was performed at 270°C for 30 minutes. A color filter was obtained in the same manner as in Experimental Example 1, except that the protective layer was not formed. In this color filter, the photosensitive substance was removed by sublimation, and the resolution was 10 μm in line and space. (Experimental Example 3) The same photosensitive material as in Experimental Example 1 was coated on the peripheral surface of a surface-smoothed stainless steel roller (diameter 30 cm) as a support by dipping to a thickness of 1.
A 5 μm photosensitive layer was formed. Then, using a cylindrical black matrix photomask and a photomask for each colored pattern, a black matrix and each colored pattern were formed on a roller support in the same manner as in Experimental Example 1. Next, Corning 7059 glass (thickness = 1.1 m) on which an adhesive layer was formed as in Experimental Example 1 was prepared.
m) The black matrix and each colored pattern on the roller support were transferred onto the transparent substrate by rotating the roller support. As a result, a colored layer consisting of a black matrix and colored patterns of red (R), green (G), and blue (B) was formed on the adhesive layer of the transparent substrate.

【0040】そして、ブラックマトリックスと着色層を
覆うように透明共通電極(ITO膜)を形成してカラー
フィルタを得た。このカラーフィルタの解像度はライン
&スペースで15μmであった。
A transparent common electrode (ITO film) was then formed to cover the black matrix and colored layer to obtain a color filter. The resolution of this color filter was 15 μm in line and space.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば支
持体上に形成された感光性層は、所定のパターンを有す
るフォトマスクを介して露光されて露光部分に粘着性が
発現され、この露光部分に着色粉末物質を付着させて着
色パターンが形成され、これを繰り返すことにより必要
とする複数色の着色パターンからなる着色層を形成し、
次に、支持体上の着色層は透明基板上の粘着層に転写さ
せてカラーフィルタが得られるため、透明基板上に形成
された着色層の表面平滑性は良好であり、保護膜を形成
することなく透明共通電極を形成することができ、カラ
ーフィルタの工程の簡略化がなされて製造コストの低減
が可能である。
As described in detail above, according to the present invention, the photosensitive layer formed on the support is exposed to light through a photomask having a predetermined pattern, and the exposed areas develop tackiness. A colored pattern is formed by attaching a colored powder substance to the exposed portion, and by repeating this process, a colored layer consisting of a colored pattern of a plurality of colors as required is formed,
Next, the colored layer on the support is transferred to the adhesive layer on the transparent substrate to obtain a color filter, so the colored layer formed on the transparent substrate has good surface smoothness and forms a protective film. It is possible to form a transparent common electrode without any problems, simplifying the color filter process, and reducing manufacturing costs.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明により製造されたカラーフィルタを用い
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
の一例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of an active matrix liquid crystal display using a color filter manufactured according to the present invention.

【図2】図1に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display shown in FIG. 1;

【図3】図1に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。
3 is an enlarged partial cross-sectional view of a color filter used in the liquid crystal display shown in FIG. 1. FIG.

【図4】本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明
するための工程図である。
FIG. 4 is a process diagram for explaining a method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【図5】本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明
するための工程図である。
FIG. 5 is a process diagram for explaining a method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【図6】本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明
するための工程図である。
FIG. 6 is a process diagram for explaining a method of manufacturing a color filter according to the present invention.

【図7】本発明によるカラーフィルタの製造方法の他の
態様を説明するための図である。
FIG. 7 is a diagram for explaining another aspect of the method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10…カラーフィルタ 6…粘着層 11…可撓性フィルム(支持体) 12…透明基板 13…感光性層 14…ブラックマトリックス 16…着色層 16R,16G,16B…着色パターン71…ローラー
状支持体 73…感光性層 74…ブラックマトリックス 76…着色層
10... Color filter 6... Adhesive layer 11... Flexible film (support) 12... Transparent substrate 13... Photosensitive layer 14... Black matrix 16... Colored layers 16R, 16G, 16B... Colored pattern 71... Roller-shaped support 73 ...Photosensitive layer 74...Black matrix 76...Colored layer

Claims (6)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  複数色の着色パターンからなる着色層
を備えるカラーフィルタの製造方法において、露光によ
り粘着性を発現する感光性物質を支持体上に塗布して感
光性層を形成した後、所定のパターンを有するフォトマ
スクを介して前記感光性層を露光し露光部分に着色粉末
物質を付着させて着色パターンを形成する工程を必要色
数分繰り返して着色層を形成し、その後、予め粘着層が
形成された透明基板の該粘着層に前記支持体上の着色層
を転写することを特徴とするカラーフィルタの製造方法
1. A method for manufacturing a color filter having a colored layer consisting of a colored pattern of a plurality of colors, in which a photosensitive material that develops tackiness upon exposure to light is coated on a support to form a photosensitive layer, and then a predetermined layer is formed. A colored layer is formed by repeating the process of exposing the photosensitive layer to light through a photomask having a pattern and adhering a colored powder substance to the exposed portion to form a colored pattern for the required number of colors. A method for manufacturing a color filter, comprising transferring a colored layer on the support to the adhesive layer of the transparent substrate on which the color filter is formed.
【請求項2】  前記支持体が可撓性フィルムであるこ
とを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタの製造方
法。
2. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein the support is a flexible film.
【請求項3】  前記可撓性フィルムは、表面粗さが±
0.1μm以内である請求項2記載のカラーフィルタの
製造方法。
3. The flexible film has a surface roughness of ±
3. The method for manufacturing a color filter according to claim 2, wherein the thickness is within 0.1 μm.
【請求項4】  前記支持体がローラ形状の支持体であ
ることを特徴とする請求項1記載のカラーフィルタの製
造方法。
4. The method for manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the support is a roller-shaped support.
【請求項5】  着色層の形成後、加熱処理を行うこと
を特徴とする請求項1乃至4記載のカラーフィルタの製
造方法。
5. The method of manufacturing a color filter according to claim 1, wherein a heat treatment is performed after forming the colored layer.
【請求項6】  前記感光性物質は1,4−ジヒドロピ
リジン化合物であることを特徴とする請求項1乃至5記
載のカラーフィルタの製造方法。
6. The method of manufacturing a color filter according to claim 1, wherein the photosensitive substance is a 1,4-dihydropyridine compound.
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