JPH04265901A - Production of color filter - Google Patents

Production of color filter

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Publication number
JPH04265901A
JPH04265901A JP3027520A JP2752091A JPH04265901A JP H04265901 A JPH04265901 A JP H04265901A JP 3027520 A JP3027520 A JP 3027520A JP 2752091 A JP2752091 A JP 2752091A JP H04265901 A JPH04265901 A JP H04265901A
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JP
Japan
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colored
color filter
layer
photosensitive
styrene
Prior art date
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Pending
Application number
JP3027520A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Hiroyuki Kusukawa
宏之 楠川
Akira Okazaki
岡崎 暁
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Dai Nippon Printing Co Ltd
Original Assignee
Dai Nippon Printing Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Dai Nippon Printing Co Ltd filed Critical Dai Nippon Printing Co Ltd
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Publication of JPH04265901A publication Critical patent/JPH04265901A/en
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Abstract

PURPOSE:To provide the process for producing color filters by which the color filters used for flat displays, such as liquid crystal displays and imagers, such as CCD, or color sensors, etc., are efficiently obtained with high accuracy. CONSTITUTION:In the process for producing the color filters having colored layers 16 consisting of colored patterns of plural colors and black matrices 14, a photosensitive layer 13 is formed by applying a transparent material which exhibits tacky adhesiveness when exposed on a transparent substrate 12 and thereafter, the black matrices 14 are formed by exposing the photosensitive layer 13 via a photomask having patterns for the black matrices and sticking a concealing powder material to the exposed parts and the colored layers 16 are formed by repeating the stage for exposing the photosensitive layer 13 via a photomask having prescribed patterns and sticking a colored powder material to the exposed parts to form colored patterns, for the required number of colors.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明はカラーフィルタの製造方
法に係り、特に、例えば液晶ディスプレイ等のフラット
ディスプレイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラ
ーセンサ等に用いられるカラーフィルタを高精度で、か
つ効率よく得ることのできるカラーフィルタの製造方法
に関する。
[Industrial Application Field] The present invention relates to a method for manufacturing color filters, and in particular, to manufacture color filters for use in flat displays such as liquid crystal displays, imagers such as CCDs, color sensors, etc. with high precision and efficiency. The present invention relates to a method of manufacturing a color filter that can be obtained easily.

【0002】0002

【従来の技術】例えば、カラービデオカメラの撮像管に
は、複数色の微細なストライプが透明基板上に形成され
たカラーフィルタが装着されている。また、液晶ディス
プレイ(LCD)においても、近年のカラー化の要請に
対応するために、アクティブマトリックス方式および単
純マトリックス方式のいずれの方式においてもカラーフ
ィルタが用いられている。例えば、薄膜トランジスタ(
TFT)を用いたアクティブマトリックス方式の液晶デ
ィスプレイでは、カラーフィルタは赤(R)、緑(G)
、青(B)の3原色が用いられ、R,G,Bのそれぞれ
の画素に対応する電極をオン、オフさせることで液晶が
シャッタとして作動しR,G,Bのそれぞれの画素を光
が透過してカラー表示が行われる。そして、色混合は2
色以上の画素に対応する液晶シャッタを開き混色して別
の色に見せる加色混合の原理により網膜上で視覚的に行
われる。
2. Description of the Related Art For example, the image pickup tube of a color video camera is equipped with a color filter in which fine stripes of a plurality of colors are formed on a transparent substrate. Furthermore, in liquid crystal displays (LCDs), color filters are used in both active matrix and simple matrix systems in order to meet the recent demand for colorization. For example, a thin film transistor (
In active matrix liquid crystal displays using TFT, the color filters are red (R) and green (G).
The three primary colors of , blue (B) are used, and by turning on and off the electrodes corresponding to each pixel of R, G, and B, the liquid crystal operates as a shutter and lights each pixel of R, G, and B. Transparent color display is performed. And the color mixture is 2
This is visually performed on the retina using the principle of additive color mixing, in which liquid crystal shutters corresponding to pixels of more than one color are opened and colors are mixed to appear as different colors.

【0003】上述のようにして用いられるカラーフィル
タは、従来、染色法、分散法等の手段を用いて製造され
ていた。ここで、染色法によるカラーフィルタの製造は
、例えば次のようにして行われている。すなわち、ゼラ
チン、カゼイン、ポリビニルアルコール等の親水性樹脂
に重クロム酸塩等の感光剤を添加した塗布液を、スピン
コート塗布法等により透明ガラス基板上に塗布し、次い
で、所定パターンのマスクを用いて露光・現像を行い、
その後、染料により染色して第一着色層を形成する。そ
の後、この第一着色層上に二度染め防止のために防染層
を設けてから第二着色層および第三着色層をそれぞれ第
一着色層の形成と同様にして形成する。これにより、透
明ガラス基板上にR,G,Bの各着色層を備えたカラー
フィルタを得ることができる。
[0003] Color filters used as described above have conventionally been manufactured using methods such as dyeing methods and dispersion methods. Here, the production of color filters by the dyeing method is performed, for example, as follows. That is, a coating solution containing a hydrophilic resin such as gelatin, casein, or polyvinyl alcohol added with a photosensitive agent such as dichromate is applied onto a transparent glass substrate by spin coating or the like, and then a mask with a predetermined pattern is applied. Exposure and development are carried out using
Thereafter, it is dyed with a dye to form a first colored layer. Thereafter, a resist dyeing layer is provided on the first colored layer to prevent double dyeing, and then a second colored layer and a third colored layer are respectively formed in the same manner as the first colored layer. As a result, a color filter including R, G, and B colored layers on a transparent glass substrate can be obtained.

【0004】また、分散法を用いたカラーフィルタの製
造は、例えば次のようにして行われている。すなわち、
透明感光性樹脂に有機顔料、無機顔料等の着色剤を分散
した感光液を透明ガラス基板上に塗布して感光性樹脂層
を形成する。次に、この感光性樹脂層上に所定形状の開
口パターンを有するマスクを載置し、露光・現像を行い
第一着色層を形成する。同様にして第二着色層、第三着
色層を形成してR,G,Bの各着色層を備えたカラーフ
ィルタを得ることができる。
[0004] Color filters are manufactured using the dispersion method, for example, as follows. That is,
A photosensitive liquid in which a coloring agent such as an organic pigment or an inorganic pigment is dispersed in a transparent photosensitive resin is applied onto a transparent glass substrate to form a photosensitive resin layer. Next, a mask having an opening pattern of a predetermined shape is placed on this photosensitive resin layer, and exposure and development are performed to form a first colored layer. Similarly, a second colored layer and a third colored layer can be formed to obtain a color filter including R, G, and B colored layers.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、染色法
においては、色調が豊富で解像性に優れるカラーフィル
タが得られる反面、染色の際に既に着色された部分が二
度染めされないように防染対策を施す必要がある等の点
から工程が煩雑であり製造コストが高くなるという問題
があった。また、着色剤に染料を用いているため耐熱性
、耐薬品性、耐光性等が劣るという問題もあった。
[Problems to be Solved by the Invention] However, while the dyeing method provides a color filter with a rich variety of tones and excellent resolution, it is difficult to prevent the already colored areas from being dyed twice during dyeing. There was a problem that the process was complicated and the manufacturing cost was high due to the need to take countermeasures. Furthermore, since dyes are used as colorants, there is also a problem that heat resistance, chemical resistance, light resistance, etc. are inferior.

【0006】また、分散法においては、耐熱性、耐光性
の高い微細なパターンを形成することが可能である反面
、色変えの度にフォトリソグラフィー工程の処理を行う
必要があり、工程が煩雑で製造コスト低減が困難である
という問題があった。このような背景から、低コスト化
と量産化を同時に可能にするとともに、大画面化も可能
なカラーフィルタの製造方法として印刷法が提案されて
いる。従来より提案されている印刷法としては、平版オ
フセット印刷、凹版オフセット印刷等のオフセット方式
、スクリーン印刷方式、フレキソ印刷方式等がある。
[0006]Also, although the dispersion method allows the formation of fine patterns with high heat resistance and light resistance, it requires a photolithography process every time the color is changed, making the process complicated. There was a problem in that it was difficult to reduce manufacturing costs. Against this background, a printing method has been proposed as a method of manufacturing color filters that allows cost reduction and mass production at the same time, and also allows for larger screens. Conventionally proposed printing methods include offset methods such as lithographic offset printing and intaglio offset printing, screen printing methods, and flexo printing methods.

【0007】しかしながら、印刷法においては、画素の
太りや細り、ピンホールの発生等により印刷形状が悪化
し、特に微細パターンの再現が困難であるという問題が
あった。また、特に細線の厚みが充分にとれないため、
例えばブラックマトリックスのように遮光性の要求され
る着色パターンを備えるカラーフィルタの製造には適さ
ないものであった。したがって、高品位のブラックマト
リックスを備えるカラーフィルタを製造する場合には、
コストのかかるクロム蒸着法等によりブラックマトリッ
クスを形成する必要があった。さらに、従来の印刷法に
おいては、ブランケットからガラス基板にインキを転移
させる際に、インキの一部分のみが転移するためインキ
層内での分裂が生じて、印刷後のインキ表面が平滑にな
らないという問題があった。さらにまた、プロセスが不
安定なため連続して印刷を続けた場合、印刷膜厚が変化
したり、印刷形状が悪化するという問題もあった。
However, the printing method has the problem that the printed shape deteriorates due to thickening or thinning of pixels, generation of pinholes, etc., and it is particularly difficult to reproduce fine patterns. In addition, since the thickness of particularly thin lines cannot be made sufficiently,
For example, it is not suitable for manufacturing a color filter having a colored pattern such as a black matrix that requires light-shielding properties. Therefore, when manufacturing a color filter with a high-quality black matrix,
It was necessary to form a black matrix by a costly chromium vapor deposition method or the like. Furthermore, in conventional printing methods, when ink is transferred from the blanket to the glass substrate, only a portion of the ink is transferred, resulting in splits within the ink layer, resulting in the ink surface not being smooth after printing. was there. Furthermore, since the process is unstable, if printing is continued continuously, there is a problem that the printed film thickness changes and the printed shape deteriorates.

【0008】本発明は上述のような事情に鑑みてなされ
たものであり、液晶ディスプレイ等のフラットディスプ
レイ、CCD等のイメージャー、あるいはカラーセンサ
等に用いられるカラーフィルタを高精度で、かつ効率よ
く得ることのできるカラーフィルタの製造方法を提供す
ることを目的とする。
The present invention has been made in view of the above-mentioned circumstances, and it is an object of the present invention to produce color filters used in flat displays such as liquid crystal displays, imagers such as CCDs, color sensors, etc. with high precision and efficiency. It is an object of the present invention to provide a method for manufacturing a color filter that can be obtained.

【0009】[0009]

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明は複数色の着色パターンからなる着色
層とブラックマトリックスとを備えるカラーフィルタの
製造方法において、露光により粘着性を発現する感光性
物質を透明基板上に塗布して感光性層を形成した後、ブ
ラックマトリックス用パターンを有するフォトマスクを
介して前記感光性層を露光し露光部分に隠蔽粉末物質を
付着させてブラックマトリックスを形成し、所定のパタ
ーンを有するフォトマスクを介して前記感光性層を露光
し露光部分に着色粉末物質を付着させて着色パターンを
形成する工程を必要色数分繰り返して着色層を形成する
ような構成とした。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a method for manufacturing a color filter comprising a colored layer consisting of a colored pattern of a plurality of colors and a black matrix, which develops tackiness upon exposure to light. After coating a photosensitive material on a transparent substrate to form a photosensitive layer, the photosensitive layer is exposed to light through a photomask having a pattern for a black matrix, and a concealing powder material is attached to the exposed area to form a black matrix. The process of forming a colored pattern by exposing the photosensitive layer to light through a photomask having a predetermined pattern and depositing a colored powder substance on the exposed portion is repeated for the required number of colors to form a colored layer. The structure is as follows.

【0010】0010

【作用】透明基板上に形成された感光性層は、ブラック
マトリックス用パターンを有するフォトマスクを介して
露光されて露光部分に粘着性が発現され、この露光部分
に隠蔽粉末物質を付着させてブラックマトリックスが形
成され、また上記感光性層は、所定のパターンを有する
フォトマスクを介して露光されて露光部分に粘着性が発
現され、この露光部分に着色粉末物質を付着させて着色
パターンが形成され、これを繰り返すことにより必要と
する複数色の着色パターンからなる着色層を備えるカラ
ーフィルタが得られる。これにより、微細パターン形成
が可能なカラーフィルタの製造が可能になるとともに、
カラーフィルタの工程の簡略化がなされて製造コストの
低減が可能である。
[Operation] The photosensitive layer formed on the transparent substrate is exposed to light through a photomask having a black matrix pattern, and the exposed areas develop tackiness, and a concealing powder substance is attached to the exposed areas to make the photosensitive layer black. A matrix is formed, and the photosensitive layer is exposed to light through a photomask having a predetermined pattern to develop tackiness in the exposed areas, and a colored powder substance is attached to the exposed areas to form a colored pattern. By repeating this process, a color filter including a colored layer having a colored pattern of a plurality of colors as required can be obtained. This makes it possible to manufacture color filters that can form fine patterns, and
The color filter process is simplified and manufacturing costs can be reduced.

【0011】[0011]

【実施例】以下、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は、本発明により製造されたカラーフ
ィルタを用いたアクティブマトリックス方式による液晶
ディスプレイ(LCD)の一例を示す斜視図であり、図
2は同じく概略断面図である。図1および図2において
、LCD1はカラーフィルタ10と透明ガラス基板20
とをシール部材30を介して対向させ、その間に捩れネ
マティック(TN)液晶からなる厚さ約5〜10μm程
度の液晶層40を形成し、さらに、カラーフィルタ10
と透明ガラス基板20の外側に偏光板50,51が配設
されて構成されている。
Embodiments Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view showing an example of an active matrix liquid crystal display (LCD) using a color filter manufactured according to the present invention, and FIG. 2 is a schematic cross-sectional view. 1 and 2, the LCD 1 includes a color filter 10 and a transparent glass substrate 20.
A liquid crystal layer 40 made of twisted nematic (TN) liquid crystal and having a thickness of approximately 5 to 10 μm is formed between the color filter 10 and the color filter 10 .
Polarizing plates 50 and 51 are arranged on the outside of a transparent glass substrate 20.

【0012】図3はカラーフィルタ10の拡大部分断面
図であり、カラーフィルタ10は透明基板12と、この
透明基板12上に形成されたブラックマトリックス14
と、着色層16と、ブラックマトリックス14と着色層
16を覆うように設けられた保護層18と透明共通電極
19とを備えている。このカラーフィルタ10は透明共
通電極19が液晶層40側に位置するように配設されて
いる。そして、着色層16は赤色パターン16R、緑色
パターン16G、青色パターン16Bからなり、各着色
パターンの配列は図1に示されるようにモザイク配列と
なっている。尚、着色パターンの配列はこれに限定され
るものではなく、三角配列、ストライプ配列等としても
よい。
FIG. 3 is an enlarged partial sectional view of the color filter 10, which includes a transparent substrate 12 and a black matrix 14 formed on the transparent substrate 12.
, a colored layer 16 , a protective layer 18 provided to cover the black matrix 14 and the colored layer 16 , and a transparent common electrode 19 . This color filter 10 is arranged so that the transparent common electrode 19 is located on the liquid crystal layer 40 side. The colored layer 16 includes a red pattern 16R, a green pattern 16G, and a blue pattern 16B, and the colored patterns are arranged in a mosaic arrangement as shown in FIG. Note that the arrangement of the colored patterns is not limited to this, and may be a triangular arrangement, a striped arrangement, or the like.

【0013】また、透明ガラス基板20上には表示電極
22が各着色パターン16R、16G、16Bに対応す
るように設けられ、各表示電極22は薄膜トランジスタ
(TFT)24を有している。また、各表示電極22間
にはブラックマトリックス14に対応するように走査線
(ゲート電極母線)26aとデータ線26bが配設され
ている。
Further, display electrodes 22 are provided on the transparent glass substrate 20 so as to correspond to the colored patterns 16R, 16G, and 16B, and each display electrode 22 has a thin film transistor (TFT) 24. Furthermore, scanning lines (gate electrode bus lines) 26 a and data lines 26 b are arranged between each display electrode 22 so as to correspond to the black matrix 14 .

【0014】このようなLCD1では、各着色パターン
16R、16G、16Bが画素を構成し、偏光板51側
から照明光を照射した状態で各画素に対応する表示電極
をオン、オフさせることで液晶層40がシャッタとして
作動し、着色パターン16R、16G、16Bのそれぞ
れの画素を光が透過してカラー表示が行われる。カラー
フィルタ10の透明基板12としては、石英ガラス、パ
イレックスガラス、合成石英板等の可撓性のないリジッ
ト材、あるいは透明樹脂フィルム、光学用樹脂板等の可
撓性を有するフレキシブル材等を用いることができる。 このなかで、特にコーニング社製7059ガラスは、熱
膨脹率の小さい素材であり寸法安定性および高温加熱処
理における作業性に優れ、また、ガラス中にアルカリ成
分を含まない無アルカリガラスであるため、アクティブ
マトリックス方式によるLCD用のカラーフィルタに適
している。
In such an LCD 1, each of the colored patterns 16R, 16G, and 16B constitutes a pixel, and the liquid crystal is turned on and off by turning on and off the display electrode corresponding to each pixel while illumination light is irradiated from the polarizing plate 51 side. The layer 40 operates as a shutter, and light is transmitted through each pixel of the colored patterns 16R, 16G, and 16B to perform color display. As the transparent substrate 12 of the color filter 10, a rigid material without flexibility such as quartz glass, Pyrex glass, or a synthetic quartz plate, or a flexible material with flexibility such as a transparent resin film or an optical resin plate is used. be able to. Among these, Corning's 7059 glass is a material with a low coefficient of thermal expansion, and has excellent dimensional stability and workability in high-temperature heat treatment.Also, since it is an alkali-free glass that does not contain any alkali components, it is a material with a low coefficient of thermal expansion. Suitable for matrix type LCD color filters.

【0015】本発明では、露光により粘着性を発現する
感光性物質を用いて透明基板12上にブラックマトリッ
クス14と着色層16を形成する。ここで、本発明によ
るカラーフィルタ製造の一例を図4および図5を参照し
て説明する。先ず透明基板12上に感光性物質を塗布し
て厚さ0.5〜5μm程度の感光性層13を形成する(
図4(A))。次に、ブラックマトリックス用のフォト
マスクを介して感光性層13を露光し露光部分13aに
粘着性を発現させる(図4(B))。そして、感光性層
13上に隠蔽粉末物質を散布し(図4(C))、露光部
分13aに隠蔽粉末物質を付着させるとともに余分な隠
蔽粉末物質を吹き飛ばしてブラックマトリックス14を
形成する(図4(D))。次に、赤色パターン用のフォ
トマスクを介して感光性層13を露光し露光部分13b
に粘着性を発現させる(図5(A))。そして、感光性
層13上に赤色粉末物質を散布し(図5(B))、露光
部分13bに赤色粉末物質を付着させるとともに余分な
赤色粉末物質を吹き飛ばして赤色パターン16Rを形成
する(図5(C))。同様に、緑色パターン用のフォト
マスクを介して露光し、緑色粉末物質を付着させて緑色
パターン16Gを形成し(図5(D))、青色パターン
用のフォトマスクを介して露光し、青色粉末物質を付着
させて青色パターン16Bを形成する(図5(E))。
In the present invention, the black matrix 14 and the colored layer 16 are formed on the transparent substrate 12 using a photosensitive material that develops adhesiveness when exposed to light. Here, an example of manufacturing a color filter according to the present invention will be described with reference to FIGS. 4 and 5. First, a photosensitive material is applied onto a transparent substrate 12 to form a photosensitive layer 13 with a thickness of about 0.5 to 5 μm (
Figure 4(A)). Next, the photosensitive layer 13 is exposed to light through a photomask for a black matrix to develop adhesiveness in the exposed portion 13a (FIG. 4(B)). Then, a concealing powder material is scattered on the photosensitive layer 13 (FIG. 4(C)), and the concealing powder material is attached to the exposed portion 13a, and the excess concealing powder material is blown off to form a black matrix 14 (FIG. 4(C)). (D)). Next, the photosensitive layer 13 is exposed through a photomask for a red pattern to expose the exposed portion 13b.
to develop adhesion (Fig. 5(A)). Then, a red powder substance is scattered on the photosensitive layer 13 (FIG. 5(B)), and the red powder substance is attached to the exposed portion 13b, and the excess red powder substance is blown away to form a red pattern 16R (FIG. 5(B)). (C)). Similarly, a green pattern 16G is formed by exposing to light through a photomask for a green pattern to deposit a green powder substance (FIG. 5(D)), and exposing to light through a photomask for a blue pattern to deposit a green powder substance. A substance is deposited to form a blue pattern 16B (FIG. 5(E)).

【0016】尚、上述の製造工程においてブラックマト
リックス形成工程を削除することにより、ブラックマト
リックスのないカラーフィルタを製造することができる
。また、上述の実施例では、ブラックマトリックス14
を形成してから着色層16を形成しているが、形成順序
はこれに限定されるものではなく、着色層16を形成し
てからブラックマトリックス14を形成してもよい。
[0016] By omitting the black matrix forming step in the above manufacturing process, a color filter without a black matrix can be manufactured. Further, in the above embodiment, the black matrix 14
Although the colored layer 16 is formed after forming the colored layer 16, the formation order is not limited to this, and the black matrix 14 may be formed after the colored layer 16 is formed.

【0017】露光により粘着性を発現する感光性物質と
しては、下記に示されるような1,4−ジヒドロピリジ
ン化合物を用いることができる。 1,4−ジヒドロピリジン化合物  :  2,6−ジ
メチル−4−(2′−ニトロフェニル)−1,4−ジヒ
ドロピリジン−3,5−ジカルボン酸ジメチルエステル
;  2,6−ジメチル−4−(2′−ニトロフェニル
)−1,4−ジヒドロピリジン−3,5−ジカルボン酸
ジエチルエステル;  2,6−ジメチル−4−(2′
−ニトロ−4′,5′−ジメトキシフェニル)−1,4
−ジヒドロピリジン−3,5−ジカルボン酸ジエチルエ
ステル;  2,6−ジメチル−4−(2′−ニトロフ
ェニル)−1,4−ジヒドロピリジン−3,5−ジカル
ボン酸ジイソプロピルエステル;  2,6−ジメチル
−4−(2′−ニトロフェニル)−1,4−ジヒドロピ
リジン−3,5−ジカルボン酸ジ(β−エトキシエチル
)エステル;  2,6−ジメチル−4−(2′−ニト
ロフェニル)−1,4−ジヒドロピリジン−3,5−ジ
カルボン酸3−メチル−5−エチルエステル;  2,
6−ジメチル−4−(2′−ニトロフェニル)−1,4
−ジヒドロピリジン−3,5−ジカルボン酸3−イソプ
ロピル−5−メチルエステル;  2,6−ジメチル−
4−(2′−ニトロフェニル)−3−アセト−1,4−
ジヒドロピリジン−5−カルボン酸エチルエステル; 
 2,6−ジメチル−4−(2′−ニトロフェニル)−
3,5−ジアセト−1,4−ジヒドロピリジンおよび2
,6−ジメチル−4−(2′−ニトロフェニル)−3,
5−ジシアノ−1,4−ジヒドロピリジン。
As the photosensitive substance that develops tackiness upon exposure to light, the following 1,4-dihydropyridine compounds can be used. 1,4-dihydropyridine compound: 2,6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid dimethyl ester; 2,6-dimethyl-4-(2'- nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid diethyl ester; 2,6-dimethyl-4-(2'
-nitro-4',5'-dimethoxyphenyl)-1,4
-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid diethyl ester; 2,6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid diisopropyl ester; 2,6-dimethyl-4 -(2'-nitrophenyl)-1,4-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid di(β-ethoxyethyl) ester; 2,6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-1,4- Dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid 3-methyl-5-ethyl ester; 2,
6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-1,4
-dihydropyridine-3,5-dicarboxylic acid 3-isopropyl-5-methyl ester; 2,6-dimethyl-
4-(2'-nitrophenyl)-3-aceto-1,4-
Dihydropyridine-5-carboxylic acid ethyl ester;
2,6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-
3,5-diaceto-1,4-dihydropyridine and 2
,6-dimethyl-4-(2'-nitrophenyl)-3,
5-dicyano-1,4-dihydropyridine.

【0018】このような1,4−ジヒドロピリジン化合
物は、例えば1モルの脂肪族または芳香族アルデヒド、
1モルのアンモニアおよび2モルのβ−ケトカルボン酸
エステル、β−ケトカルボン酸ニトリルあるいはβ−ジ
ケトンとから、Hantzsch合成の方法に従って製
造することができる。また、感光性物質としては、上記
に示されるような1,4−ジヒドロピリジン化合物の他
に、例えば下記の化学式で示されるようなDDMA等の
各種の感光性ジアゾニウム塩を使用することができる。
Such 1,4-dihydropyridine compounds may contain, for example, 1 mol of an aliphatic or aromatic aldehyde,
It can be produced from 1 mol of ammonia and 2 mol of β-ketocarboxylic acid ester, β-ketocarboxylic acid nitrile or β-diketone according to the method of Hantzsch synthesis. In addition to the 1,4-dihydropyridine compounds shown above, various photosensitive diazonium salts such as DDMA shown by the following chemical formula can be used as the photosensitive substance.

【0019】[0019]

【化1】[Chemical formula 1]

【0020】但し、感光性物質として感光性ジアゾニウ
ム塩を用いた場合、露光領域への隠蔽粉末物質あるいは
着色粉末物質の均一分布は、露光および粉末物質散布が
定量の水分の存在下に行われる場合にのみ実現可能であ
る。このため、室内の湿度および室内で空気のさらされ
る時間を確定し、かつ制御するための高価な装置が必要
となる。
However, when a photosensitive diazonium salt is used as the photosensitive substance, the uniform distribution of the concealing powder substance or the colored powder substance in the exposed area cannot be achieved if the exposure and powder substance scattering are performed in the presence of a fixed amount of moisture. This is only possible if This requires expensive equipment to determine and control indoor humidity and indoor air exposure time.

【0021】上述の感光性物質は、単独で用いて感光性
層13を形成してもよく、あるいはバインダーと混合し
て使用してもよい。バインダーとの混合割合は、バイン
ダー1重量部に対して0.2〜9重量部程度が好ましい
。使用するバインダーとしては、ポリアクリル酸エステ
ルおよび/またはポリメタクリル酸エステル、アクリル
酸および/またはメタクリル酸もしくは他のアクリルモ
ノマーおよび/またはビニルモノマー類の共重合体; 
 マレイン酸無水物、マレイン酸および/またはそのス
チレン、もしくは他のビニルモノマーのジ−もしくはセ
ミエステル類の共重合体;  ポリ塩化ビニル、その塩
素化処理生成物、ポリ塩化ビニリデン、塩素化ポリエチ
レン等の塩素含有ビニルポリマー、または共重合体; 
 ポリスチレンおよびマレイン酸等とのスチレン共重合
体、ポリエチレンおよびマレイン酸等とのエチレン共重
合体;  ブタジエン、クロロプレン等に基づく合成ゴ
ムおよびそれらのスチレン、アクリロニトリル等との共
重合体;  高分子量のポリエチレンオキサイドまたは
ポリエピクロルヒドリンのようなポリエーテルが挙げら
れる。
The above photosensitive materials may be used alone to form the photosensitive layer 13, or may be used in combination with a binder. The mixing ratio with the binder is preferably about 0.2 to 9 parts by weight per 1 part by weight of the binder. Binders used include copolymers of polyacrylic esters and/or polymethacrylic esters, acrylic acid and/or methacrylic acid or other acrylic monomers and/or vinyl monomers;
Copolymers of maleic anhydride, maleic acid and/or its styrene, or di- or semi-esters of other vinyl monomers; polyvinyl chloride, its chlorinated products, polyvinylidene chloride, chlorinated polyethylene, etc. Chlorine-containing vinyl polymer or copolymer;
Styrene copolymers with polystyrene and maleic acid, etc., ethylene copolymers with polyethylene and maleic acid, etc.; Synthetic rubbers based on butadiene, chloroprene, etc. and their copolymers with styrene, acrylonitrile, etc.; High molecular weight polyethylene oxide Or a polyether such as polyepichlorohydrin.

【0022】また、感光性物質には増感剤、安定化剤等
を含有することができる。上述のような感光性物質を透
明基板12上に塗布するには、スピンコート法等の公知
の方法を用いることができる。また、感光性層13の露
光に用いる光源としては、超高圧水銀灯、キセノンラン
プ、蛍光灯等が挙げられる。露光における照射量は50
〜300mJ/cm2 程度が好ましい。
[0022] Furthermore, the photosensitive substance may contain a sensitizer, a stabilizer, and the like. In order to apply the photosensitive material as described above onto the transparent substrate 12, a known method such as a spin coating method can be used. Further, examples of the light source used for exposing the photosensitive layer 13 include an ultra-high pressure mercury lamp, a xenon lamp, a fluorescent lamp, and the like. The irradiance during exposure is 50
It is preferably about 300 mJ/cm2.

【0023】隠蔽粉末物質および着色粉末物質は、酸化
チタン(TiO2 )、SiO2 、ガラス粉末、カー
ボンブラック、グラファイト、銅ーフタロシアニン類、
アゾ染料、アルミニウム、銅、鉄等の金属粉末あるいは
金属酸化物等を、バインダーを用いて平均粒径30μm
以下、好ましくは3μm以下の微細粒子としたものを使
用することができる。
The concealing powder material and the colored powder material include titanium oxide (TiO2), SiO2, glass powder, carbon black, graphite, copper-phthalocyanines,
Azo dyes, metal powders such as aluminum, copper, iron, etc. or metal oxides are mixed with a binder to an average particle size of 30 μm.
Hereinafter, preferably fine particles of 3 μm or less can be used.

【0024】バインダーとしては、ポリスチレンホモポ
リマー、水素添加スチレン樹脂、スチレン−イソブチレ
ン共重合体、スチレン・ブタジエン共重合体、ABS(
アクリロニトリル・ブタジエン・スチレン三元共重合体
)、ASAまたはAAS(アクリロニトリル・スチレン
・アクリル酸エステル三元共重合体)、ASまたはSA
N(スチレン・アクリロニトリル共重合体)、AAS(
アクリロニトリル・アクリルゴム・スチレン三元共重合
体)、ACS(アクリロニトリル・塩素化ポリエチレン
・スチレン三元共重合体)、AES(アクリロニトリル
・EVA・スチレン三元共重合体)、スチレン・Pクロ
ロスチレン共重合体、スチレン・プロピレン共重合体、
スチレン・ブタジエン架橋ポリマー、スチレン・アリル
アルコール共重合体、スチレン・ブタジエンゴムエマル
ジョン、スチレン・マレイン酸エステル共重合体、スチ
レン・イソブチレン共重合体(自己架橋型)、スチレン
・無水マイレン酸共重合体、スチレン・3−N,Nジエ
チルアミノアクリル酸プロピル共重合体等のポリスチレ
ン系樹脂;  ポリメチルメタアクリレート、エチルメ
タアクリレート、n−ブチルメタアクリレート、グリシ
ジルメタアクリレート、含フッ素アクリレート、メチレ
ン・メタアクリレート/ブチルメタアクリレート共重合
体、アクリル酸エチル/アクリル酸共重合体等のアクリ
ル系樹脂;  スチレン・アクリル共重合体、スチレン
・ジエチルアミノ・エチルメタアクリレート共重合体、
スチレン・ブタジエン・アクリル酸エステル共重合体、
スチレン・ブタジエン共重合体、スチレン・ブタジエン
・塩素化パラフィン共重合体、スチレン・メチルメタア
クリレート共重合体、スチレン・メチルメタアクリレー
ト共重合体/スチレンブチルメタアクリレートのブレン
ド、スチレン・n−ブチルメタアクリレート、スチレン
・ジエチルアミノ・エチルメタアクリレート、スチレン
・メチルメタアクリレート・n−ブチルアクリレート(
75:5:20)、スチレン・メチルメタアクリレート
・ブチルアクリレート−N−(エトキシメチル)アクリ
ルアミド、スチレン・グリシジルメタアクリレート、ス
チレン・ジメチルアミノ・エチルメタアクリレート、ス
チレン・ブタジエン・ジメチル・アミノエチルメタアク
リレート(60:26:4)、スチレン・アクリル酸エ
ステル・マレイン酸エステル(三元共重合体)、スチレ
ン・メタアクリル酸メチル・アクリル酸2−エチルヘキ
シル共重合体、スチレン・n−ブチルアクリレート・エ
チルグリコールメタアクリレート、スチレン・n−ブチ
ルメタアクリレート・アクリル酸共重合体(59:40
:1)、スチレン・n−ブチルメタアクリレート・無水
マレイン酸樹脂、スチレン・ブチルアクリレート・イソ
ブチルマレイン酸ハーフエステル・ジビニルベンゼン共
重合体、スチレン・n−ブチルアクリレート−4−ヘキ
サフルオロブチルメタアクリレート共重合体、スチレン
・ブタジエン・アクリレート共重合体(59:36:5
)のエマルジョン等のスチレン・(メタ)アクリル酸エ
ステル共重合体等を使用することができる。また、バイ
ンダーには湿潤剤、帯電防止剤等の添加剤を加えてもよ
い。尚、隠蔽粉末物質は、バインダーを用いることなく
、金属、カーボンブラック、グラファイト等の粉末を直
接使用してもよい。この場合、金属粉末は平均粒径1μ
m以下、カーボンブラック粉末、グラファイト粉末は平
均粒径が3μm以下が好ましい。
As the binder, polystyrene homopolymer, hydrogenated styrene resin, styrene-isobutylene copolymer, styrene-butadiene copolymer, ABS (
Acrylonitrile-butadiene-styrene terpolymer), ASA or AAS (acrylonitrile-styrene-acrylic acid ester terpolymer), AS or SA
N (styrene/acrylonitrile copolymer), AAS (
Acrylonitrile/acrylic rubber/styrene terpolymer), ACS (acrylonitrile/chlorinated polyethylene/styrene terpolymer), AES (acrylonitrile/EVA/styrene terpolymer), styrene/P-chlorostyrene copolymer Coalescence, styrene-propylene copolymer,
Styrene/butadiene crosslinked polymer, styrene/allyl alcohol copolymer, styrene/butadiene rubber emulsion, styrene/maleic acid ester copolymer, styrene/isobutylene copolymer (self-crosslinked), styrene/maleic anhydride copolymer, Polystyrene resins such as styrene/3-N,N diethylaminopropyl acrylate copolymer; polymethyl methacrylate, ethyl methacrylate, n-butyl methacrylate, glycidyl methacrylate, fluorine-containing acrylate, methylene methacrylate/butyl methacrylate Acrylic resins such as acrylate copolymers, ethyl acrylate/acrylic acid copolymers; styrene/acrylic copolymers, styrene/diethylamino/ethyl methacrylate copolymers,
Styrene-butadiene-acrylic ester copolymer,
Styrene/butadiene copolymer, styrene/butadiene/chlorinated paraffin copolymer, styrene/methyl methacrylate copolymer, styrene/methyl methacrylate copolymer/styrene butyl methacrylate blend, styrene/n-butyl methacrylate , styrene/diethylamino/ethyl methacrylate, styrene/methyl methacrylate/n-butyl acrylate (
75:5:20), styrene/methyl methacrylate/butyl acrylate-N-(ethoxymethyl)acrylamide, styrene/glycidyl methacrylate, styrene/dimethylamino/ethyl methacrylate, styrene/butadiene/dimethyl/aminoethyl methacrylate ( 60:26:4), styrene/acrylic ester/maleic ester (terpolymer), styrene/methyl methacrylate/2-ethylhexyl acrylate copolymer, styrene/n-butyl acrylate/ethyl glycol meth Acrylate, styrene/n-butyl methacrylate/acrylic acid copolymer (59:40
:1), Styrene/n-butyl methacrylate/maleic anhydride resin, styrene/butyl acrylate/isobutyl maleic acid half ester/divinylbenzene copolymer, styrene/n-butyl acrylate-4-hexafluorobutyl methacrylate copolymer Coalescence, styrene-butadiene-acrylate copolymer (59:36:5
) can be used. Additionally, additives such as wetting agents and antistatic agents may be added to the binder. Incidentally, as the concealing powder substance, powder of metal, carbon black, graphite, etc. may be used directly without using a binder. In this case, the metal powder has an average particle size of 1μ
The carbon black powder and graphite powder preferably have an average particle diameter of 3 μm or less.

【0025】尚、露光部分への隠蔽粉末物質、各着色粉
末物質の付着は、上述のように1回の付着操作のみとし
てもよく、あるいは複数回繰り返してもよい。また、ブ
ラックマトリックス14および着色層16の形成後に加
熱処理(100〜500℃、好ましくは200〜300
℃)を施してもよい。このような加熱処理により、感光
性層13の感光性物質が昇華除去されて透明基板12と
ブラックマトリックス14および着色層16との密着性
が向上するとともに、ブラックマトリックス14および
着色層16の表面平滑性が向上する。特に、透明基板1
2の全面に感光性層13を設けてブラックマトリックス
14および着色層16形成する場合、得られるカラーフ
ィルタの周縁部にも感光性層13が存在することとなり
、このため、この部分から剥離が生じる恐れがある。 このような場合、上記のような加熱処理により感光性層
13の感光性物質を昇華除去することは、極めて有効で
ある。
[0025] The deposition of the concealing powder substance and each colored powder substance on the exposed area may be performed only once as described above, or may be repeated multiple times. Further, after forming the black matrix 14 and the colored layer 16, heat treatment (100 to 500°C, preferably 200 to 300°C) is performed.
°C) may be applied. Through such heat treatment, the photosensitive substance of the photosensitive layer 13 is sublimed and removed, improving the adhesion between the transparent substrate 12 and the black matrix 14 and the colored layer 16, and smoothing the surfaces of the black matrix 14 and the colored layer 16. Improves sex. In particular, transparent substrate 1
When the photosensitive layer 13 is provided on the entire surface of the filter 2 to form the black matrix 14 and the colored layer 16, the photosensitive layer 13 is also present at the peripheral edge of the resulting color filter, and peeling occurs from this area. There is a fear. In such a case, it is extremely effective to sublimate and remove the photosensitive substance of the photosensitive layer 13 by the heat treatment as described above.

【0026】カラーフィルタ10のブラックマトリック
ス14と着色層16を覆うように設けられる保護層18
は、カラーフィルタ10の表面平滑化、信頼性の向上、
および液晶層40への汚染防止等を目的とするものであ
り、アクリル系樹脂、エポキシ系樹脂、ポリイミド系樹
脂用の透明樹脂、あるいは二酸化ケイ素等の透明無機化
合物等を用いて形成することができる。保護層の厚さは
0.5〜50μm程度が好ましい。
A protective layer 18 is provided to cover the black matrix 14 and colored layer 16 of the color filter 10.
smooths the surface of the color filter 10, improves reliability,
It is intended to prevent contamination of the liquid crystal layer 40, etc., and can be formed using a transparent resin for acrylic resin, epoxy resin, polyimide resin, or a transparent inorganic compound such as silicon dioxide. . The thickness of the protective layer is preferably about 0.5 to 50 μm.

【0027】透明共通電極19としては、酸化インジウ
ムスズ(ITO)膜を用いることができる。ITO膜は
蒸着法、スパッタ法等の公知の方法により形成すること
ができ、厚さは200〜2000Å程度が好ましい。次
に、実験例を示して本発明を更に詳細に説明する。 (実験例1)まず、メチルエチルケトン溶媒500ml
中にデュポン社製のDHP−EおよびDHP−Mをそれ
ぞれ50g溶解して、露光により粘着性を発現する感光
性物質を調製した。そして、透明基板としてコーニング
社製7059ガラス(厚さ=1.1mm)を用い、スピ
ンコート法(回転数=450r.p.m.)により感光
性物質を透明基板上に塗布して感光性層(厚さ=1.5
μm)を形成した。
As the transparent common electrode 19, an indium tin oxide (ITO) film can be used. The ITO film can be formed by a known method such as a vapor deposition method or a sputtering method, and the thickness is preferably about 200 to 2000 Å. Next, the present invention will be explained in more detail by showing experimental examples. (Experimental example 1) First, 500 ml of methyl ethyl ketone solvent
50 g each of DHP-E and DHP-M manufactured by DuPont were dissolved in the solution to prepare a photosensitive material that becomes sticky when exposed to light. Using Corning 7059 glass (thickness = 1.1 mm) as a transparent substrate, a photosensitive substance was applied onto the transparent substrate by a spin coating method (rotation speed = 450 rpm) to form a photosensitive layer. (thickness = 1.5
μm) was formed.

【0028】次に、感光性層に対してブラックマトリッ
クス用のフォトマスクを介して紫外線露光を行った。露
光用の光源は超高圧水銀灯を用い、照射量は365nm
の波長において200mJ/cm2 とした。このよう
な紫外線露光により、感光性層のうち紫外線が照射され
た領域には粘着性が発現していることが確認された。次
に、感光性層の全面に黒色トナー(巴川製紙所(株)製
、平均粒径=5μm)をふりかけ、その後、圧縮空気に
より黒色トナーを吹き飛ばした。これによって、上記の
紫外線露光により粘着性が発現している領域にのみ黒色
トナーが付着してブラックマトリックスパターンが形成
された。尚、この工程において圧縮空気により吹き飛ば
された(除去された)黒色トナーは、回収して再度使用
することができる。この時の解像力は、ライン&スペー
スで10μmであった。
Next, the photosensitive layer was exposed to ultraviolet light through a black matrix photomask. The light source for exposure is an ultra-high pressure mercury lamp, and the irradiation amount is 365 nm.
It was set to 200 mJ/cm2 at the wavelength of . It was confirmed that by such exposure to ultraviolet rays, adhesiveness was developed in the area of the photosensitive layer that was irradiated with ultraviolet rays. Next, black toner (manufactured by Tomoekawa Paper Manufacturing Co., Ltd., average particle size = 5 μm) was sprinkled over the entire surface of the photosensitive layer, and then the black toner was blown away with compressed air. As a result, the black toner adhered only to the area where tackiness was developed due to the above-mentioned ultraviolet exposure, and a black matrix pattern was formed. Note that the black toner blown away (removed) by compressed air in this step can be collected and used again. The resolution at this time was 10 μm for lines and spaces.

【0029】次に、黒色トナーが付着している感光性層
に対して赤色パターン用のフォトマスクを介して所定位
置に紫外線露光を行った。紫外線露光条件は上記の露光
と同一とした。そして、黒色トナーの場合と同様に赤色
トナー(巴川製紙所(株)製、平均粒径=8μm)を用
いて赤色パターンを形成した。次に、黒色トナーおよび
赤色トナーが付着している感光性層に対して、赤色パタ
ーンと同様にして緑色パターン用のフォトマスクを介し
て所定位置に紫外線露光を行い、緑色トナー(巴川製紙
所(株)製、平均粒径=5μm)を用いて緑色パターン
を形成した。
Next, the photosensitive layer to which the black toner was attached was exposed to ultraviolet light at predetermined positions through a photomask for a red pattern. The ultraviolet exposure conditions were the same as those for the above exposure. Then, as in the case of the black toner, a red pattern was formed using a red toner (manufactured by Tomoekawa Paper Manufacturing Co., Ltd., average particle size = 8 μm). Next, the photosensitive layer to which the black toner and red toner are attached is exposed to ultraviolet light at predetermined positions through a photomask for the green pattern in the same manner as the red pattern, and the green toner (Tomoekawa Paper Mills) Co., Ltd., average particle size = 5 μm) to form a green pattern.

【0030】さらに、黒色トナー、赤色トナーおよび緑
色トナーが付着している感光性層に対して、赤色パター
ンと同様にして青色パターン用のフォトマスクを介して
所定位置に紫外線露光を行い、青色トナー(巴川製紙所
(株)製、平均粒径=5μm)を用いて青色パターンを
形成した。これにより、赤(R)、緑(G)、青(B)
の着色パターンを有する着色層が形成された。
Furthermore, the photosensitive layer to which the black toner, red toner, and green toner are attached is exposed to ultraviolet light at predetermined positions through a photomask for the blue pattern in the same manner as the red pattern, and the blue toner is (manufactured by Tomoekawa Paper Manufacturing Co., Ltd., average particle size = 5 μm) to form a blue pattern. As a result, red (R), green (G), blue (B)
A colored layer having a colored pattern was formed.

【0031】次に、このような着色層を覆うように保護
層を形成した。この保護層は日本合成ゴム社製オプトマ
ーSSを用いてスピンコート法により形成され、厚さは
約25μmであった。さらに、この保護層上にスパッタ
リング法により厚さ約220Åの透明共通電極(ITO
膜)を形成してカラーフィルタを得た。 (実験例2)実験例1と同様にしてブラックマトリック
スと赤(R)、緑(G)、青(B)の着色パターンを有
する着色層を形成した後、270℃で30分間の加熱処
理を施し、その後、実験例1と同様にして保護層と透明
共通電極(ITO膜)とを形成してカラーフィルタを得
た。このカラーフィルタでは、感光性物質は昇華除去さ
れており、またブラックマトリックスと着色層の表面平
滑性は上記実験例1にて得られたカラーフィルタに比べ
てより向上したものであった。
Next, a protective layer was formed to cover the colored layer. This protective layer was formed by spin coating using Optomer SS manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., and had a thickness of about 25 μm. Furthermore, a transparent common electrode (ITO) with a thickness of approximately 220 Å is deposited on this protective layer by sputtering.
A color filter was obtained by forming a film). (Experimental Example 2) After forming a black matrix and a colored layer having a colored pattern of red (R), green (G), and blue (B) in the same manner as in Experimental Example 1, heat treatment was performed at 270°C for 30 minutes. Thereafter, a protective layer and a transparent common electrode (ITO film) were formed in the same manner as in Experimental Example 1 to obtain a color filter. In this color filter, the photosensitive substance was removed by sublimation, and the surface smoothness of the black matrix and colored layer was improved compared to the color filter obtained in Experimental Example 1 above.

【0032】[0032]

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば露
光により粘着性を発現する感光性物質を透明基板上に塗
布して感光性層を形成した後、ブラックマトリックス用
パターンを有するフォトマスクを介して前記感光性層を
露光し露光部分に隠蔽粉末物質を付着させてブラックマ
トリックスを形成し、所定のパターンを有するフォトマ
スクを介して前記感光性層を露光し露光部分に着色粉末
物質を付着させて着色パターンを形成する工程を必要色
数分繰り返して着色層を形成することにより、カラーフ
ィルタにおける微細パターン形成が極めて容易となり、
工程簡略化がなされて製造コストの低減が可能となる。
As described in detail above, according to the present invention, a photosensitive material having a black matrix pattern is coated on a transparent substrate to form a photosensitive layer. The photosensitive layer is exposed to light through a mask, a concealing powder substance is attached to the exposed area to form a black matrix, and the photosensitive layer is exposed to light through a photomask having a predetermined pattern, and a colored powder substance is attached to the exposed area. By repeating the process of depositing and forming a colored pattern for the required number of colors to form a colored layer, it is extremely easy to form a fine pattern in a color filter.
The process is simplified and manufacturing costs can be reduced.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明により製造されたカラーフィルタを用い
たアクティブマトリックス方式による液晶ディスプレイ
の一例を示す斜視図である。
FIG. 1 is a perspective view showing an example of an active matrix liquid crystal display using a color filter manufactured according to the present invention.

【図2】図1に示される液晶ディスプレイの概略断面図
である。
FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the liquid crystal display shown in FIG. 1;

【図3】図1に示される液晶ディスプレイに用いられて
いるカラーフィルタの拡大部分断面図である。
FIG. 3 is an enlarged partial cross-sectional view of a color filter used in the liquid crystal display shown in FIG. 1;

【図4】本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明
するための工程図である。
FIG. 4 is a process diagram for explaining a method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【図5】本発明によるカラーフィルタの製造方法を説明
するための工程図である。
FIG. 5 is a process diagram for explaining a method for manufacturing a color filter according to the present invention.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10  カラーフィルタ 12  透明基板 13  感光性層 14  ブラックマトリックス 16  着色層 10 Color filter 12 Transparent substrate 13 Photosensitive layer 14 Black Matrix 16 Colored layer

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  複数色の着色パターンからなる着色層
とブラックマトリックスとを備えるカラーフィルタの製
造方法において、露光により粘着性を発現する感光性物
質を透明基板上に塗布して感光性層を形成した後、ブラ
ックマトリックス用パターンを有するフォトマスクを介
して前記感光性層を露光し露光部分に隠蔽粉末物質を付
着させてブラックマトリックスを形成し、所定のパター
ンを有するフォトマスクを介して前記感光性層を露光し
露光部分に着色粉末物質を付着させて着色パターンを形
成する工程を必要色数分繰り返して着色層を形成するこ
とを特徴とするカラーフィルタの製造方法。
1. A method for producing a color filter comprising a colored layer having a colored pattern of a plurality of colors and a black matrix, the method comprising forming a photosensitive layer by coating a transparent substrate with a photosensitive substance that develops tackiness upon exposure to light. After that, the photosensitive layer is exposed to light through a photomask having a pattern for a black matrix, a concealing powder substance is attached to the exposed area to form a black matrix, and the photosensitive layer is exposed to light through a photomask having a predetermined pattern. A method for manufacturing a color filter, which comprises forming a colored layer by repeating the steps of exposing the layer to light and attaching a colored powder substance to the exposed portion to form a colored pattern for the required number of colors.
【請求項2】  ブラックマトリックスおよび着色層の
形成後、加熱処理を行うことを特徴とする請求項1記載
のカラーフィルタの製造方法。
2. The method for producing a color filter according to claim 1, wherein a heat treatment is performed after forming the black matrix and the colored layer.
【請求項3】  前記感光性物質は1,4−ジヒドロピ
リジン化合物であることを特徴とする請求項1または2
記載のカラーフィルタの製造方法。
3. Claim 1 or 2, wherein the photosensitive substance is a 1,4-dihydropyridine compound.
A method for manufacturing the color filter described.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
WO1999008158A1 (en) * 1997-08-08 1999-02-18 Dai Nippon Printing Co., Ltd. Pattern forming body, pattern forming method, and their applications

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