JPH04301505A - 光学定数と膜厚の測定方法及び装置 - Google Patents

光学定数と膜厚の測定方法及び装置

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JPH04301505A
JPH04301505A JP3065169A JP6516991A JPH04301505A JP H04301505 A JPH04301505 A JP H04301505A JP 3065169 A JP3065169 A JP 3065169A JP 6516991 A JP6516991 A JP 6516991A JP H04301505 A JPH04301505 A JP H04301505A
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reflecting mirror
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spectral transmittance
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、分光測定により材料、
特に薄膜材料の光学定数及び膜厚を測定するための方法
と装置に関する。
【0002】
【従来の技術】従来、分光測定による光学定数の測定方
法として、透明基板上に形成された単層の光学膜の垂直
又は垂直に近い入射光に対する分光反射率測定値Rex
p(λ)及び分光透過率測定値Texp(λ)から、所
定の膜厚と光学定数を持つ単層膜の分光反射率及び分光
透過率を与える理論式に基づいて、波長λにおける光学
定数n(λ)を逆算して求める(R,T)測定法が知ら
れている(詳細には、Thomas  C.Pauli
ck:Applied  Opticsvol.25,
No.4  pp.562〜564,1986年、参照
)。
【0003】また、一部にAlなど反射率の高い遮光膜
が被覆されている透明基板に、光学定数を測定したい薄
膜を単層に被覆したものを用意し、透明部分の分光透過
率Texp(λ)と、不透明部分の膜面からの入射光に
対する反射率Rmexp(λ)とを測定し、これから前
記(R、T)測定法と同様の方法で光学定数を求める(
T,Rm)測定法が知られている(詳細には、A.Hj
ortsberg:Applied  Optics,
vol.20,No.7,pp.1254〜1263,
1981年、参照)。
【0004】これら従来の(R,T)測定法及び(T,
Rm)測定法は、共に図1に示すような分光反射率及び
分光透過率の測定装置を使用して波長λにおける分光反
射率と分光透過率を測定している。
【0005】このような分光測定装置は良く知られてお
り、光源1から射出した光は反射鏡2を経て単色計3を
通り、波長λに単色化されて回転反射鏡4によって試料
側光束5と参照側光束6に分けられて試料室7に入射す
る。該試料室7を出た光は、反射ミラー8及び9、或い
は10及び11を経由して検出器12に入射し、検出信
号は増幅器13及びA・Dコンバーター14を経由して
分光光度計制御部15に伝送され、コンピュータシステ
ムから成るデータ処理部16に入力し、分光反射率や分
光透過率の測定値が表示装置やプリンターなどの出力装
置17に出力され、必要に応じて測定データはフロッピ
ーディスクなどの補助記録装置18に記録される。
【0006】通常、反射率と透過率は同時に測定できず
、図1の試料室7内で図2に示すような配置で試料20
の透過率を測定し、同じ試料を反射測定治具を用いて図
3の配置で参照用反射鏡19の反射率に対する試料20
の相対的反射率を測定する。図4は、試料室7内に別の
反射測定治具を設けて試料の反射率絶対値を測定するよ
うにしたVN法として知られている手法を示し、先ず試
料側光束5が第1反射鏡21に入射し、試料20は入射
光束から外しておき、参照用第1反射鏡22で反射した
光が第2反射鏡23の実線で示した位置で反射したのち
試料室7を出る。この21−22−23のV字形の光路
で測定される反射率を100%に較正しておいて、次に
試料20を試料台に置き、入射光束が参照用第2反射鏡
24と第2反射鏡23の点線位置で測定される逆N字形
の光路で得られる出力として反射率絶対値を得ようとす
るものである。
【0007】従来は、光学定数を求めるために、図5に
示すステップS1〜S8に従っている。膜厚dは触針式
膜厚計等により予め測定しておき、データ処理のための
入力データとして使用する。波長λにおける反射率Re
x(λ)及び透過率Tex(λ)が前記の(R,T)測
定法等で得られたら、コンピュータを用いてステップS
5に示す連立方程式を逆算して波長λにおける光学定数
がステップS6に示すように一般に多重根N1(λ)、
N2(λ)、……Nm(λ)として得られ、どの根もス
テップS5に示す連立方程式を満足する。
【0008】これら多重根の中から正しい解を判別する
ために、他に入射角を変えた測定や、Kramers−
Kronig解析、その他手間のかかる測定手段、解析
手段を併用する必要があった。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】前記多重根が出る原因
は、自然法則に根ざしたもので、(R,T)測定法を図
示した図6や(T,Rm)測定法を図示した図7に見ら
れるように、反射率の等高線(実線)と透過率の等高線
(点線)の交点として光学定数n−ikが求められるが
、このような交点は一般に2つ以上存在する。図6は、
膜厚dの薄膜を被覆した透明基板(屈折率ns =1.
5)への垂直入射光の透過率Tのn−k面上の等高線(
点線)と反射率Rの等高線(実線)を表し、Tの等高線
とRの等高線の交点(一般に複数)の座標で薄膜の光学
定数n−ikが与えられる。また、図7は、一部分に金
属薄膜を被覆した透明基板上に膜厚dの吸収膜を形成し
たものの透明部分の垂直入射光透過率Tのn−k面上の
等高線(点線)と金属薄膜部分の垂直入射光反射率Rm
の等高線(実線)を示し、吸収膜の光学定数(複素屈折
率)N=n−ikは、Tの等高線とRmの等高線の交点
(一般に複数)の座標で与えられる。尚、透明基板の屈
折率ns=1.5、金属薄膜部分の光学定数Nm=20
−i70、d/λ=0.1である。
【0010】従来は、これらの多重根の中から正しい解
を判別するために、手間の掛かる測定手段や解析手段を
併用する必要があり、正しい光学定数を求めるための自
動化が困難であった。また、(R,T)測定法や(T,
Rm)測定法で得られる光学定数は、膜厚に敏感で、精
度良く膜厚を測定しておかないと、得られる光学定数の
誤差が大きくなり、触針式膜厚計などの測定精度の限界
によって、光学定数を精度良く求めるのが困難であった
【0011】本発明は、多重根の中から正しい解を簡単
に判別すること及び膜厚が精度良く或いは全く測定され
ていなくても精度良く膜厚と光学定数を自動的に得るこ
との可能な光学定数と膜厚の測定方法を提案することを
目的とするものである。
【0012】更に本発明は、分光反射率と分光透過率を
同時に測定可能な分光測定装置を提供することをも目的
としている。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明では、分光反射率
及び分光透過率を2つ以上の波長について測定できる装
置と、その測定値に演算処理を施すためのコンピュータ
システムから成るデータ処理部を備えた装置を使用し、
先ず、求めようとする光学定数の波長λにおける分光反
射率及び分光透過率を測定し、次いで別波長λ´におけ
る分光反射率及び分光透過率を測定し、波長λにおける
分光反射率と分光透過率の測定値から逆算して得られる
光学定数の多重解の各々について、分散を無視して前記
別波長λ´における分光反射率及び分光透過率を計算し
、その分光反射率及び分光透過率の計算値と該別波長λ
´における分光反射率及び分光透過率の測定値とを比較
演算し、その計算値が波長λ´における前記測定値と最
も良く合う解を光学定数に採用することにより、上記の
目的を達成するようにしたもので、膜厚が精度良く測定
されていない場合や、全く測定されていない場合でも、
膜厚の範囲を推定し、その膜厚の範囲内で仮想的に膜厚
を変化させ、波長λ´における前記計算値の前記測定値
に対する誤差が最も小さくなる膜厚と光学定数を求め、
これを測定値とすることができる。
【0014】
【作用】従来の分光測定により光学定数を測定する(R
,T)測定法及び(T,Rm)測定法では、図5のステ
ップS5に示すような波長λにおける光学定数N(λ)
=n(λ)−ik(λ)を含む連立方程式を逆算して、
波長λにおける光学定数を得ようとするものであるが、
図5のステップS6に示すように、一般に多重根N1(
λ)、N2(λ)、……Nm(λ)が得られ、そのどの
解もステップS5に示す連立方程式を満足してしまう。 そのため、波長λにおける分光反射率及び分光透過率の
測定値が理論値と一致し、どの解が正しい値であるのか
判断に苦しむことになる。
【0015】本発明の方法では、光学定数N(λ)の分
散(即ち、波長依存性)をひとまず無視し、求めようと
している光学定数の波長λとは別の波長λ´(λ≠λ´
)における光学定数N(λ´)も波長λにおける光学定
数N(λ)と等しいと仮定して、それぞれの解について
波長λ´における分光反射率及び分光透過率を理論式に
基づいて計算し、その計算値を波長λ´における分光反
射率及び分光透過率の測定値と比較して見ると、その測
定値と合う解と合わない解が判別されるようになり、一
般に測定値と合う解が一つだけ得られる。尚、付け加え
ると、仮に、前記波長λ´における分光反射率及び分光
透過率の測定値を逆算してみても、波長λ´における光
学定数の多重解が得られ、そのいずれの解も波長λ´に
おける測定値であることを説明するので、問題の解決に
はならない。
【0016】前記波長λ´における計算値と測定値とを
比較演算するために、計算値の測定値に対する誤差を計
算すると、演算が簡単化され、この誤差が最小になる解
が正しい解に相当する。
【0017】膜厚が未知の場合、膜厚の範囲を推定し、
この膜厚の範囲内で仮想的に膜厚を変化させると、正し
い解については、前記誤差は正しい膜厚のところで極小
値を示すが、正しくない解については、誤差が大きい上
に極小値を示さないので、正しい膜厚と光学定数の判別
は容易である。
【0018】
【実施例】第1実施例図1に示す構成の分光反射率及び
分光透過率測定装置を使用し、その試料室7内を図2及
び図3の配置として分光反射率及び分光透過率の測定を
行なった。その測定の仕方は、基本的には従来と同様で
あり、図2の配置で試料20の透過率を測定し、次に試
料室7の中に反射測定治具を挿入し、図3の配置で試料
20の反射率を測定した。参照側光束6にはAl蒸着標
準反射鏡19が置かれ、試料20の反射率測定に先立っ
て、試料20の代わりにAl蒸着標準反射鏡19と同様
の反射鏡を一旦置き、反射率出力を100%に較正して
おく。従って、測定される試料20の反射率はAl蒸着
標準反射鏡19に対する相対的反射率である。試料20
の反射率絶対値Rは次式で与えられる。
【0019】R=RAl・RRここで、RAlはAl蒸
着標準反射鏡19の反射率絶対値、RRは試料20の相
対的反射率である。
【0020】分光反射率測定における光の入射角は、試
料20の基板の法線に対し5°であった。また、実際に
測定される分光反射率及び分光透過率測定値は、試料2
0の透明基板表面及び裏面による多重反射の効果を含ん
だものであるが、データ処理に際しては、多重反射の影
響を考慮した。
【0021】分光反射率及び分光透過率測定値は、図1
のデータ処理部16の中のコンピュータの主記憶装置や
補助記憶装置18に記録され、CRTやプリンター17
などの出力装置に測定波長と共に出力される。光学定数
や膜厚を求めるためのデータ処理は、主にデータの一括
入力及び一括出力で行なった。
【0022】(R,T)測定法で透明石英基板にクロム
酸化膜CrOxを蒸着した試料について分光測定を行な
い、第1表の結果を得た。膜厚dexp は触針式膜厚
計で測定して56nmであった。λは求めようとする光
学定数の波長、λ´は別波長である。
【0023】
【表1】
【0024】第1表の測定結果について、図8に示す手
順で波長λにおける光学定数を求めるデータ処理を実施
した。同図において、Rexp(λ)、Texp(λ)
は、波長λにおける分光反射率測定値、及び分光透過率
測定値、Rexp(λ´)、Texp(λ´)は波長λ
´における分光反射率測定値、及び分光透過率測定値で
ある。ステップS7に示す連立方程式左辺に現れるR(
N,dexp /λ)、T(N,dexp /λ)は、
それぞれ膜厚dexp 、波長λにおける光学定数N=
N(λ)=n(λ)−ik(λ)である単層膜の分光反
射率及び分光透過率の理論的表式であって、膜厚dex
p 、波長λの他に、空気或いは真空の屈折率n0=1
、透明基板屈折率ng 、金属基板屈折率N2 =N2
 (λ)=n2 (λ)−ik2 (λ)を含んでおり
、その理論的表式は、American  Insti
tuteof  Phisics  Handbook
  第3版  MacGrawHillBook  C
ompany  pp.6−118〜6−123(19
82)その他に与えられている。
【0025】図8のステップS7の詳細は、図9に示し
てあり、図9のステップS1で入力するn,kの範囲は
、例えば[nmin ,nmax ]=[0,4.0]
,[kmin ,kmax ]=[0,2.0],分割
数[MN,MK]=[80,40]である。
【0026】図8のステップS7を図9の手順で演算す
ると、図8のステップS8で示すように、多重根N1(
λ),N2(λ),…Nm(λ)を出力し、第1表の入
力データに対しては第2表に示すように波長λ=500
nmにおいて3つの多重根(m=3)を出力する。そし
て、これら多重根の各々について、ステップS10に示
すように、求めようとする光学定数N(λ)の波長λと
は別の波長λ´における分光反射率及び分光透過率R(
p) cal (λ´,dex),T(p) cal 
(λ´,dex)を分散を無視して計算する。更にステ
ップS11で前記計算値の測定値に対する誤差の目安と
なるメリット関数MF(p) (λ,dex)を計算す
る。計算結果は第2表に示す通りであって、誤差が最も
小さい解はp=2に対応する解N(p) =n(p) 
(λ)−ik(p) (λ)=2.677−0.666
iであって、この解は同表が示すように、誤差が最も小
さい解であると共に別波長λ´における分光反射率及び
分光透過率計算値が測定値と最も良く合う解となってい
る。
【0027】
【表2】
【0028】ここに示した内容の比較演算をステップS
12で行ない、その結果がステップS15に示すように
、正しい光学定数はN(λ)=N2(λ)=2.677
−0.666iの形で自動的に出力される。
【0029】第2実施例分光反射率及び分光透過率の測
定を図1乃至図3の構成・配置の測定装置で第1実施例
と同様に測定すると共に、試料室7内を図10の配置に
変更して測定を行なった。この図10の場合、第1反射
鏡21の前方に退去自在の第3反射鏡25を設けたこと
と、第2反射鏡23の後方に、これへ参照用第2反射鏡
24からの光を入射させないように退去自在の第4反射
鏡26を設けたことが図4の試料室7の構成と異なって
おり、光路から退去自在の第3、第4反射鏡25、26
として回転反射鏡を使用し、シャッターとしても使用で
きるようにした。
【0030】その具体的な分光測定手順を以下に述べる
【0031】(R,T)測定法及び(T,Rm)測定法
の測定手順は同じであるが、(T,Rm)測定法では試
料20を測定台に置く時に、試料20のAl蒸着薄膜部
分20aに反射鏡21からの光5aが入射し、該試料2
0の基板透明部分20bに退去自在の反射鏡25からの
光5bが入射するように配慮して置かれることが(R,
T)測定法の場合と異なる。(R,T)測定法の場合は
、試料20の金属薄膜部分で反射させないのでその配慮
の必要がない。
【0032】両測定法は、先ず、試料20の基板を透過
する光5bに対して較正を行なうために、第3反射鏡2
5を閉すなわち光路に進出させ、第4反射鏡26を開す
なわち光路から退去した状態にセットする。試料20は
測定台から外しておき、透過率出力を100%に較正し
たのち、試料20を測定台に載せ、分光透過率を測定す
る。
【0033】次に、反射する光5aに対しての較正を行
なうため、第3反射鏡25を開、第4反射鏡26を閉と
し、測定台には参照用第2反射鏡24と同じ標準のAl
蒸着反射鏡を置き、反射率を100%に較正する。そし
て、Al蒸着反射鏡の代わりに試料20をその膜面が入
射光に向くようにして測定台に載せ、分光反射率相対値
の測定を行なう。図10の配置では、入射角は試料20
の表面の垂線に対し12°である。
【0034】経時変化をしない試料20について、図1
0で分光測定を行なった結果は、入射角の違いを除くと
、図2、図3の配置による測定結果と同じであった。
【0035】この第2実施例のデータ入力は、図2、図
3の分光測定のときと同様に行なった。
【0036】この第2実施例を更に詳細に説明すると、
試料20として、透明石英基板の半分にAlを約100
nm蒸着したものを用意し、その上から全面にZnSを
単層で蒸着した。ZnSの膜厚は、反射率極値の波長か
ら、透明な光学膜に対する通常の方法で解析して264
nmであった。この構成の試料20を使用し、その基板
の透明部分で分光反射率と分光透過率を(R,T)測定
法で測定すると共に、基板の透明部分で分光透過率のみ
を測定し、Al蒸着部分で分光反射率を測定する(T,
Rm)測定法の測定を行なった。
【0037】(R,T)測定法の測定データを第3表に
、(T,Rm)測定法の測定データを第4表に示した。 これらの測定法のデータ処理は、図11の手順で行なっ
た。(T,Rm)測定法では、図11のステップS1や
S2に記したTexp(λ)やTexp(λ´)は、試
料20の基板の透明部分での分光透過率、Rexp(λ
)やRexp(λ´)は、試料20のAl蒸着部分での
反射率測定値を表わす。入力データである透明石英基板
の屈折率はng =1.47、Al蒸着膜の光学定数は
波長500nmでN2 =0.667−5.57iを用
いた。データ処理の手順は第1実施例とほぼ同じである
【0038】
【表3】
【0039】
【表4】
【0040】この第2実施例では、実際は膜厚が既知で
はあるが、未測定であると仮定してデータ処理を行なっ
た。また、図11のステップS6では、膜厚を(dmi
n ,dmax )=(0,300)nmであると推定
して入力した。ステップS7から先は、ステップS8で
示す前記膜厚の推定範囲内で変化させた膜厚dj につ
いて、第1実施例と同様のデータ処理を行なった。図1
1では、簡単化の為、別波長λ´は1波長だけとして示
したが、必要に応じて別波長λ´の数MWは2以上であ
っても差支えない。この第2実施例では、MW=2とし
たものである。
【0041】図11のステップS14のメリット関数の
計算は、複数の別波長λ´についての計算を行なうこと
になり、下記のメリット関数の平均値を誤差の目安とす
ることができる。尚、メリット関数は、以下および図面
においてMFと略記する。
【0042】
【数1】
【0043】膜厚を仮想的に変化させたデータ処理結果
の一部を(R,T)測定法については図14及び第5表
に、(T,Rm)測定法については図15及び第6表に
示した。図11のステップS15〜S18で、計算値と
測定値を比較演算した結果のステップS19における出
力は、(R,T)測定法では、第4表、p=2のd=2
64nm、N(λ)=n(2) (λ)−ik(2) 
(λ)=2.397−0.00270iで与えられ、(
T,Rm)測定法では、第5表、p=4,d=264n
m,N(λ)=n(4) (λ)−ik(4) (λ)
=2.394−0.00275iで与えられる。
【0044】
【表5】
【0045】
【表6】
【0046】膜厚は未知であると想定して膜厚の範囲を
推定し、この膜厚の範囲内で仮想的に膜厚を変化させて
得られた膜厚は、別の手法で得られた既知膜厚と一致し
た。また、得られたZnSの光学定数は、通常文献で知
られている値とほぼ一致する。
【0047】第3実施例分光透過率及び分光反射率を図
1〜図3の配置・構成を有する装置で第1実施例とほぼ
同じ方法で行なった。求めようとする光学定数の波長λ
は、200〜800nmであり、分光測定はこの波長の
範囲内で0.1nmの間隔で行なった。光学定数の測定
方法は、(R,T)測定法で、透明石英基板の上にIT
O膜(錫添加酸化インジュウム膜)を蒸着した試料につ
いて行なった。触針式膜厚計による膜厚測定値は、de
x=200〜220nmであった。分光測定の結果の一
部を図16と第7表に示した。また、この実施例におけ
るデータ処理の手順を示す流れ図を図12に示した。求
めようとする光学定数N(λ)の波長λ=λiに対して
別波長λ´としてλ´=λ´iを波長λiの近くに設定
した。
【0048】
【表7】
【0049】第7表は、λを10nmおきにとったとき
のλ´の設定の仕方を示す。別波長λ´の数としてMW
=4及び10としたときの設定例を同表に併記した。
【0050】図12のステップS3〜S6の内容は上記
の通りである。ステップS1の求めようとする光学定数
の波長数MLは60、ステップS7で入力する膜厚範囲
は、データ処理法チェックの目的で(dmin ,dm
ax )=(180,240)nmとし、膜厚分割数は
最初30程度とした。光学定数の範囲は、(nmin 
,nmax )=(1,3)、(kmin ,kmax
 )=(0,0.05),n及びkの分割数MN及びM
Kは40及び50とした。 波長の数MWは4とした。図9の流れ図で、計算に一番
時間を消費するのは、ステップS3であって、光学定数
の範囲内のメッシュ点上で分光反射率及び分光透過率を
計算する段階であるが、これらの理論式はE=d/λの
関数であるため、dとλが変わっても、d/λが同じな
らば、同図のステップS2が示すように、同じ(n,k
)に対しては計算を省略することができ、計算時間の節
約がはかれる。図12のステップS8はこの性質を利用
したもので、膜厚dと波長λを図13に示すように、d
=Eλ(E=一定)の関係を保ったまま膜厚と波長を変
化させたものである。この場合、波長を先に決めてもよ
いし、膜厚を先に決めてもよい。膜厚を先に決めた場合
は、波長は{λi }の不連続な値から外れる場合が出
てくるので、その場合の分光反射率及び分光透過率は不
連続な{λi }の値に対応する分光測定値から内挿す
る。
【0051】ステップS18で、誤差が極小になる解と
、膜厚から正しい膜厚dexp が求まり、E=d/λ
できまる1つの波長λ=dexp /Eにおける光学定
数も求まる。そのあとステップS19以後求めようとす
る光学定数N(λ)のすべての波長λについて膜厚dが
既知d=dexp となり、ステップS19〜21で正
しい光学定数N(λ)が求められる。ステップS20は
、第1実施例の図8のステップS6と同じである。デー
タ処理結果を図18に示す。これは(n,k)の波長依
存性を示す。
【0052】E=d/λ=0.450=一定として膜厚
と波長を変化させて光学定数と誤差MF/MWを計算し
た結果の一部を図17に示す。図17でp=2に対応す
る光学定数の解N(2) (λ)=n(2) (λ)−
ik(2) (λ)=1.956−0.0101i  
(λ=520.8nm)、d=218nmが誤差が最も
小さく、この膜厚が求める膜厚である。第8表には、膜
厚がd=218mnとして求まったあとの波長λ=55
0nmにおける光学定数の多重解の一部と、正しい解N
1(λ)=n(1) (λ)−ik(1) (λ)=1
.860−0.00936i  (λ=550nm)が
与えられている。誤差MF(λ)/MWは、分散の存在
から期待されるように、λ´の波長範囲が広い程大きく
なる傾向が見られる。
【0053】
【表8】
【0054】以上のように、本発明によれば、光学定数
の多重解の中から正しい解の判別と、膜厚の算出をでき
る。これを第1実施例の膜厚既知の場合について説明す
ると、求めようとする光学定数N(λ)の波長λにおけ
る分光反射率及び分光透過率の測定値から逆算すると、
光学定数の多重解(第2表では、p=1,2,3)に対
応する解N1(λ),N2(λ),N3(λ)が得られ
、同表の(  )内に示すように、これらの解は求めよ
うとする光学定数の波長λではいずれも測定値を説明し
てしまうことになる。ところが、これら多重解の各々に
ついて、分散を無視して別波長λ´における分光反射率
及び分光透過率を計算してみると、これら多重解の中で
、測定値を説明するのは一つだけであり、第2表ではp
=2の解だけである。この関係を図示したのが、第3実
施例の図16である。図16の波長λ=550nmにお
ける曲線1,2,3は、膜厚d=218nmとしたとき
の3つの多重解(第8表のp=1,2,3)にそれぞれ
対応しており、分散を無視して(即ち、N(p) (λ
´)=N(p) (λ)として)、10の別波長λ´に
ついて分光反射率及び分光透過率を計算したものを、測
定した分光カーブと比較したものである。正しくない解
も求めようとしている光学定数N(λ)の波長λでは測
定値を説明するが、別波長では著しく測定値から外れて
おり、その外れ方は正しい解p=1に対応する計算値1
の値と、実測値を示す分光曲線との差、即ち、分散の効
果をはるかにこえている。このことから、分散があって
も、正しい解をこの方法で判別できる。第8表から、別
波長の数を40とし、別波長をλ´=λ±200nmの
範囲まで拡げても、図18に示すように、この範囲内で
かなりのkについての分散があるにもかかわらず、まだ
十分に正しい解が判別できる。
【0055】また、膜厚が未知であっても、膜厚範囲を
推定して、膜厚を仮想的に変化させつつ誤差を計算する
ことにより、第2実施例の図14、第4表、図15が示
すように、最小の誤差を示す解は同時に膜厚に対しても
正しい膜厚で極小値を示すので、正しい膜厚は、最小の
誤差を示す解に着目すれば得られる。このことは、第3
実施例のd/λ=Eを一定に保ちつつ膜厚と波長を変化
させた場合のデータ処理結果(図17)についても見ら
れる。第3実施例ではE=d/λ=一定の条件で膜厚を
仮想的に変化させているので、第2実施例の波長を一定
として膜厚を変化させた図14、図15の場合に比べて
、計算時間が著しく短縮されている。
【0056】本実施例では、図9の流れ図のステップS
3において、データ処理の段階ではじめてE=d/λに
ついて反射率と透過率を計算したが、計算時間を短縮す
るために、あらかじめE=d/λのいろいろな値につい
てステップS3の計算をしておいて、計算結果をデータ
として補助記憶装置に記録しておき、データ処理の段階
で必要に応じてデータを読み出すようにしてもよい。ま
た、本実施例では、分光測定が終わってから一括入力、
一括処理、一括出力の形でデータ処理を行ったが、分光
測定を行いながら実時間で測定データを入力、データ処
理、及び演算結果を出力するようにしてもよい。更に、
本実施例では、図1〜図3、図10のような分光測定系
、データ処理系の構成で測定とデータ処理を行ったが、
その他の分光測定系とデータ処理系で構成してもよい。
【0057】
【発明の効果】以上のように本発明では、(R,T)測
定法や(T,Rm)測定法での測定から求めようとする
光学定数の波長における分光反射率及び分光透過率を逆
算して得られる光学定数の多重解の各々について、分散
を無視し且つ求めようとする光学定数の波長とは別の波
長についての分光反射率及び分光透過率を計算し、前記
別波長における分光測定値と比較演算し、誤差の最も小
さい解に着目してデータ処理を行うようにしたので、膜
厚が正確に分かっている場合には正しい解が直ちに得ら
れ、膜厚が未知の場合でも推定膜厚範囲内で膜厚を仮想
的に変化させることにより、正しい膜厚と光学定数が簡
単に求められ、通常の簡単な分光測定だけで正しい膜厚
や光学定数が自動的に測定することが可能になる効果が
ある。更に、広い波長範囲で分光測定を行ない、膜厚と
波長の比を一定に保ちつつ且つ膜厚を仮想的に変化させ
つつ前記誤差を計算すると、短時間で正しい膜厚と光学
定数が得られる効果があり、また、経時変化をする試料
については、図10に示すように第1、第2反射鏡の前
方と後方に第3、第4反射鏡を設けて試料の隣り合う測
定面の反射率と透過率を同時に測定することができ、(
R,T)測定法の他に(T,Rm)測定法での測定も簡
単に行なうことが可能になる等の効果がある。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施に使用した分光測定系とデータ処
理系の構成図
【図2】図1の試料室内の配置図
【図3】図1の試料室内の配置図
【図4】図1の試料室内の配置図
【図5】従来の光学定数を求めるための流れ図
【図6】
(R,T)測定法の説明図
【図7】(T,Rm)測定法の説明図
【図8】本発明の実施例を示す流れ図
【図9】本発明の実施例を示す流れ図
【図10】本発明の実施例を示す試料室内の配置図
【図
11】本発明の実施例を示す流れ図
【図12】本発明の
実施例を示す流れ図
【図13】本発明の方法の第3実施
例の説明図
【図14】本発明の方法の第2実施例の(R
,T)測定法に基づくデータ処理の結果を示すグラフ

図15】本発明の方法の第2実施例の(T,Rm)測定
法に基づくデータ処理の結果を示すグラフ
【図16】本
発明の方法の第3実施例の分光測定結果とデータ処理結
果を示すグラフ
【図17】本発明の方法の第3実施例のデータ処理結果
を示すグラフ
【図18】本発明の方法の第3実施例のデータ処理結果
を示すグラフ
【符号の説明】
5  試料側光束            6  参照
側光束            7  試料室20  
試料20a  蒸着薄膜部分      20b  基
板透明部分21  第1反射鏡          2
2  参照用第1反射鏡    23  第2反射鏡2
4  参照用第2反射鏡    25  第3反射鏡 
         26  第4反射鏡

Claims (5)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】分光反射率及び分光透過率を2つ以上の波
    長について測定できる装置と、その測定値に演算処理を
    施すためのコンピュータシステムから成るデータ処理部
    を備えた装置を使用し、求めようとする光学定数の波長
    における分光反射率及び分光透過率の測定値から逆算し
    て得られる光学定数の多重解の各々について、分散を無
    視して得られる別波長における分光反射率及び分光透過
    率の計算値と前記別波長における分光反射率及び分光透
    過率の測定値とを比較演算して、前記求めようとする光
    学定数の波長における分光反射率及び分光透過率の測定
    値と最も良く合う計算値に対応する解である光学定数を
    採用することを特徴とする光学定数及び膜厚の測定方法
  2. 【請求項2】前記比較演算の方法は、分散を無視して得
    られる別波長における分光反射率及び分光透過率の計算
    値と前記別波長における分光反射率及び分光透過率の測
    定値との誤差を算出する方法であることを特徴とする請
    求項1に記載の光学定数と膜厚の測定方法。
  3. 【請求項3】分光反射率と分光透過率とを波長の広い範
    囲で行ない、膜厚dと波長λを、その比E=d/λを一
    定に保ったまま変化させてデータ処理を行うことを特徴
    とする請求項1に記載の光学定数と膜厚の測定方法。
  4. 【請求項4】膜厚の範囲を推定し、この膜厚範囲内で仮
    想的に膜厚を変化させ、請求項2に於ける誤差が最も小
    さくなる膜厚と光学定数を求めることを特徴とする請求
    項2に記載の光学定数及び膜厚の測定方法。
  5. 【請求項5】分光測定装置の試料室内に、入射する光を
    第1反射鏡と参照用第1反射鏡と第2反射鏡で反射させ
    て該試料室から出射する光路を設け、該第1反射鏡と参
    照用第1反射鏡の間に用意される試料からの反射光を第
    2反射鏡へと反射させる参照用第2反射鏡を設けたもの
    に於いて、該第1反射鏡の前方に、該第1反射鏡へ入射
    する光路から退去自在の第3反射鏡を設けると共に、該
    参照用第2反射鏡からの反射光を第2反射鏡に入射させ
    ずに該試料室から出射させる第4反射鏡を設けたことを
    特徴とする光学定数及び膜厚の測定装置。
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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006504089A (ja) * 2002-10-28 2006-02-02 カール ツァイス イエナ ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング 光学結像システムにおける深度弁別改良のための方法
JP2006214778A (ja) * 2005-02-02 2006-08-17 National Institute Of Advanced Industrial & Technology ラングミュア・ブロジェット膜の膜厚と誘電率分散の同時決定方法および装置
JP2008051662A (ja) * 2006-08-24 2008-03-06 Tokyo Univ Of Agriculture & Technology 絶対反射率の測定方法及び測定装置
CN112595241A (zh) * 2020-11-03 2021-04-02 北京航天控制仪器研究所 一种原子气室内壁氢化铷抗弛豫膜层厚度的测量方法

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