JPH0430085B2 - - Google Patents
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- JPH0430085B2 JPH0430085B2 JP57228191A JP22819182A JPH0430085B2 JP H0430085 B2 JPH0430085 B2 JP H0430085B2 JP 57228191 A JP57228191 A JP 57228191A JP 22819182 A JP22819182 A JP 22819182A JP H0430085 B2 JPH0430085 B2 JP H0430085B2
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Classifications
-
- G—PHYSICS
- G11—INFORMATION STORAGE
- G11B—INFORMATION STORAGE BASED ON RELATIVE MOVEMENT BETWEEN RECORD CARRIER AND TRANSDUCER
- G11B5/00—Recording by magnetisation or demagnetisation of a record carrier; Reproducing by magnetic means; Record carriers therefor
- G11B5/62—Record carriers characterised by the selection of the material
- G11B5/72—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction
- G11B5/725—Protective coatings, e.g. anti-static or antifriction containing a lubricant, e.g. organic compounds
- G11B5/7253—Fluorocarbon lubricant
- G11B5/7257—Perfluoropolyether lubricant
Landscapes
- Lubricants (AREA)
- Magnetic Record Carriers (AREA)
- Manufacturing Of Magnetic Record Carriers (AREA)
Description
【発明の詳細な説明】
本発明は磁気記録媒体の潤滑層形成法に係わり
更に詳しくは金属薄膜型磁気記録媒体の潤滑層の
形成法に関する。
更に詳しくは金属薄膜型磁気記録媒体の潤滑層の
形成法に関する。
近年、情報処理分野で記録媒体の高記録密度化
が要求されている。高記録密度媒体としては、金
属薄膜を用いたものが優れている。特に最近金属
薄膜を用いた水直磁気記録方式が、その高記録密
度性のため注目されている。
が要求されている。高記録密度媒体としては、金
属薄膜を用いたものが優れている。特に最近金属
薄膜を用いた水直磁気記録方式が、その高記録密
度性のため注目されている。
しかし、このような金属薄幕を用いた記録媒体
は薄膜表面に何らかの処理をしない場合、録い再
ヘツドと直接膜表面が接触し、媒体及び録再ヘツ
ドにキズがはいつたり、摩耗したりして、寿命の
点で問題がある。
は薄膜表面に何らかの処理をしない場合、録い再
ヘツドと直接膜表面が接触し、媒体及び録再ヘツ
ドにキズがはいつたり、摩耗したりして、寿命の
点で問題がある。
このため色々な潤滑方法が今まで提案された。
これら提案された潤滑方法のうち特に重要なも
のは、フツ素系潤滑剤、パーフロロアルキルポリ
エーテル〔クライトツクス(デユポン社製)ホン
ブリン(モンテカチーニ,エデイソン社製)を〕
塗布する方法である。
のは、フツ素系潤滑剤、パーフロロアルキルポリ
エーテル〔クライトツクス(デユポン社製)ホン
ブリン(モンテカチーニ,エデイソン社製)を〕
塗布する方法である。
このフツ素系潤滑剤は摩擦係数を下げるものは
もち論のこと、化学的安定性、低揮発性、高い極
圧性能など優れた性質を有する。
もち論のこと、化学的安定性、低揮発性、高い極
圧性能など優れた性質を有する。
このような優れた特徴を有するため、この潤滑
剤をうまく塗布できれば、絶大なる効果が期待で
きる。
剤をうまく塗布できれば、絶大なる効果が期待で
きる。
しかし、従来行なわれていた溶剤による希釈液
を塗布、あるいは希釈液に浸漬後、乾燥するとい
う方法では均一な潤滑層を得ることはできなかつ
た。原因は、金属薄膜表面の酸化層による表面エ
ネルギーの低下、溶剤の濡れ性の悪さ及び溶剤の
潜熱に起因する水滴の凝結と考えられる。
を塗布、あるいは希釈液に浸漬後、乾燥するとい
う方法では均一な潤滑層を得ることはできなかつ
た。原因は、金属薄膜表面の酸化層による表面エ
ネルギーの低下、溶剤の濡れ性の悪さ及び溶剤の
潜熱に起因する水滴の凝結と考えられる。
又、パーフロロアルキルポリエーテルを単独で
塗布する方法も考えられた。しかし、この方法で
は潤滑層が厚くなり、粘性によつて逆に摩擦抵抗
が大きくなる欠点がある。
塗布する方法も考えられた。しかし、この方法で
は潤滑層が厚くなり、粘性によつて逆に摩擦抵抗
が大きくなる欠点がある。
このような欠点のない方法として我々はフツ素
アルコール(H(C2F4)nCH2OH:n=1〜4)
とパーフルオロアルキルエーテルを含有するフレ
オン溶液を塗布する方法を提案した。この方法に
よればフレオン溶媒が蒸発した後、非常に薄く、
切れ目のない潤滑層が得られる。そして、この方
法により潤滑層を形成した記録媒体を実際に駆動
したところ製品として充分な回転数が得られた このように、初期の駆動実験においては満足す
べき結果が得られた。しかし、この記録媒体を長
期間、放置した場合、潤滑層が切れ易くなり、表
面張力の関係で油滴になつてしまうことがあつ
た。
アルコール(H(C2F4)nCH2OH:n=1〜4)
とパーフルオロアルキルエーテルを含有するフレ
オン溶液を塗布する方法を提案した。この方法に
よればフレオン溶媒が蒸発した後、非常に薄く、
切れ目のない潤滑層が得られる。そして、この方
法により潤滑層を形成した記録媒体を実際に駆動
したところ製品として充分な回転数が得られた このように、初期の駆動実験においては満足す
べき結果が得られた。しかし、この記録媒体を長
期間、放置した場合、潤滑層が切れ易くなり、表
面張力の関係で油滴になつてしまうことがあつ
た。
本発明の目的はかかる欠点のない潤滑層の形成
法を提案することにある。
法を提案することにある。
フツ素アルコールとパーフルオロアルキルエー
テルを含有するフレオン溶液を塗布する方法によ
り得た潤滑層が最初良く、長期間放置すると膜に
むらがでてくるのは、最初フツ素アルコールが金
属膜表面に水酸基を向け、配向し、表面のフツ素
原子濃度が高くなり、この上にフツ素系潤滑剤が
付着し、均一な膜になるが、時間が経過するにし
たがい、フツ素アルコールが蒸発してしまい、潤
滑のぬれ性が悪くなり、き裂ができたり、油滴と
なるものと思われる。
テルを含有するフレオン溶液を塗布する方法によ
り得た潤滑層が最初良く、長期間放置すると膜に
むらがでてくるのは、最初フツ素アルコールが金
属膜表面に水酸基を向け、配向し、表面のフツ素
原子濃度が高くなり、この上にフツ素系潤滑剤が
付着し、均一な膜になるが、時間が経過するにし
たがい、フツ素アルコールが蒸発してしまい、潤
滑のぬれ性が悪くなり、き裂ができたり、油滴と
なるものと思われる。
我々はこのことから、フツ素アルコールに似て
いる化合物で、分子量の大きい化合物ならうまく
いくのではないかと考え、実験を重ねた結果、本
発明にたどりついた。
いる化合物で、分子量の大きい化合物ならうまく
いくのではないかと考え、実験を重ねた結果、本
発明にたどりついた。
実験の結果、フツ素アルコールの代替品として
は、少なくとも一般式が、 RfO(RO)n(C2H4O)oH ……(1) で表わされる化合物が適当であることがわかつ
た。(但し、(1)式中、Rfは炭素数が5〜13の含フ
ツ素アルキル基、Rは炭素数が3〜4のアルキレ
ン基で分子内に複数種のアルキレン基が含まれて
もよい。mは1〜50の整数、nはポリオキシエチ
レン鎖の分子量の20〜80%となる如き整数をそれ
ぞれ示す。) これらの化合物の特性ならびに合成法について
は公開特許公報(特開昭50−126586)に詳しく述
べられている。
は、少なくとも一般式が、 RfO(RO)n(C2H4O)oH ……(1) で表わされる化合物が適当であることがわかつ
た。(但し、(1)式中、Rfは炭素数が5〜13の含フ
ツ素アルキル基、Rは炭素数が3〜4のアルキレ
ン基で分子内に複数種のアルキレン基が含まれて
もよい。mは1〜50の整数、nはポリオキシエチ
レン鎖の分子量の20〜80%となる如き整数をそれ
ぞれ示す。) これらの化合物の特性ならびに合成法について
は公開特許公報(特開昭50−126586)に詳しく述
べられている。
この公報よりわかるようにこれらの化合物は界
面活性剤として非常に優れていることがわかる。
面活性剤として非常に優れていることがわかる。
又、一般式よりわかるように分子量が非常に大
きいので、フツ素アルコールに比べて揮発性が非
常に小さいことが予想できる。更に極性基の反対
側にフツ素原子を持つので、極性基の反対側フツ
素系潤滑剤に入り込み、極性基は金属薄膜に付着
し、その結果、潤滑剤のぬれ性が良くなることが
期待できる。実験の結果、予想通りの結果が得ら
れた。
きいので、フツ素アルコールに比べて揮発性が非
常に小さいことが予想できる。更に極性基の反対
側にフツ素原子を持つので、極性基の反対側フツ
素系潤滑剤に入り込み、極性基は金属薄膜に付着
し、その結果、潤滑剤のぬれ性が良くなることが
期待できる。実験の結果、予想通りの結果が得ら
れた。
次に本発明の概略を示す。まず適当なフレオン
溶液(例えば、トリクロロトリフロロエタン、テ
トラクロロジフロロエタン、トリクロロモノフロ
ロメタンなどがある)にフツ素系潤滑剤(例えば
KRYTOX143C,KRYTOX143AD,
KRYTOX143AX,KRYTOX143AB(以上デユ
ポン社製)、ホンブリン(モンテカテイーニ社
製)、ダイフロイル(ダイキン工業社製)などが
ある)と前述の界面活性を溶解した混合溶液を作
る。場合によつては、更にエタノール、アセトン
等の溶剤を加えても良い。
溶液(例えば、トリクロロトリフロロエタン、テ
トラクロロジフロロエタン、トリクロロモノフロ
ロメタンなどがある)にフツ素系潤滑剤(例えば
KRYTOX143C,KRYTOX143AD,
KRYTOX143AX,KRYTOX143AB(以上デユ
ポン社製)、ホンブリン(モンテカテイーニ社
製)、ダイフロイル(ダイキン工業社製)などが
ある)と前述の界面活性を溶解した混合溶液を作
る。場合によつては、更にエタノール、アセトン
等の溶剤を加えても良い。
続いて、この溶液に記録媒体を浸漬するか、あ
るいはスピンコーテイング、スプレーコーテイン
グ等により溶液を塗布する。塗布後、乾燥するこ
とにより、潤滑層を得ることができる。乾燥は自
然装置でもよく、あるいは乾燥器、ブロアー等を
用いても良い。
るいはスピンコーテイング、スプレーコーテイン
グ等により溶液を塗布する。塗布後、乾燥するこ
とにより、潤滑層を得ることができる。乾燥は自
然装置でもよく、あるいは乾燥器、ブロアー等を
用いても良い。
この方法によればぬれ性が良く、切れ目のでき
ない潤滑層を得ることができる他に、前述のよう
に溶液の組成を変化させることにより、任意の厚
さの潤滑幕を得ることができる。
ない潤滑層を得ることができる他に、前述のよう
に溶液の組成を変化させることにより、任意の厚
さの潤滑幕を得ることができる。
次に実施例により本発明を更に詳しく説明す
る。
る。
実施例 1
トリクロロトリフロロエタン(ダイキン工業社
製ダイフロン83)100mlに、KRYTOX143AC1ml
とCF2HC5F10CH2O(C3H6O)7(C2H4O)15H0.1ml
を溶解した。この溶液をシヤーレにとり、ポリエ
チレンテレフタレート基盤にco−cγをスパツタ
した記録媒体を浸漬して、引き上け、放置自然乾
燥した。このようにして潤滑層をつけた記録媒体
(イデイスク)を実際の装置にかけて、毎分300回
転の回転速度で連続運転したところ、100万回以
上の連続運転に耐えられることが確認できた。連
続運転後も潤滑層が切れるような現象はみられな
かつた。
製ダイフロン83)100mlに、KRYTOX143AC1ml
とCF2HC5F10CH2O(C3H6O)7(C2H4O)15H0.1ml
を溶解した。この溶液をシヤーレにとり、ポリエ
チレンテレフタレート基盤にco−cγをスパツタ
した記録媒体を浸漬して、引き上け、放置自然乾
燥した。このようにして潤滑層をつけた記録媒体
(イデイスク)を実際の装置にかけて、毎分300回
転の回転速度で連続運転したところ、100万回以
上の連続運転に耐えられることが確認できた。連
続運転後も潤滑層が切れるような現象はみられな
かつた。
又、フツ素アルコール等の低分子量の界面活性
剤を用いた場合、放置試験により、油膜がきれる
ような現象がみられたが、本発明で用いた界面活
性剤の場合は油膜がきれるような現象はみられな
かつた。
剤を用いた場合、放置試験により、油膜がきれる
ような現象がみられたが、本発明で用いた界面活
性剤の場合は油膜がきれるような現象はみられな
かつた。
以上が実施例であるが、この方法の応用例とし
て溶液(溶剤)の種類、組成、あるいは塗布方法
を変えても潤滑層を得ることができることは当業
者にとつて周知の事実である。
て溶液(溶剤)の種類、組成、あるいは塗布方法
を変えても潤滑層を得ることができることは当業
者にとつて周知の事実である。
以上の如く、本発明の磁気記録媒体の潤滑層形
成法は、金属薄膜型の磁気記録媒体に、少なくと
も一般式が、 RfO(RO)n(C2H4O)oH ……(1) で表わされる界面活性剤とパーフロロポリエー
テルを含有するフレオン溶液を塗布することを特
徴とする(但し、(1)式中、Rfは炭素数が5〜13
の含フツ素アルキル基、Rは炭素数が3〜4のア
ルキレン基、mは1〜50の整数、nはポリオキシ
エチレン鎖の分子量の20〜80%となる如き整数を
それぞれ示す。)から、以下のような効果を有す
る。
成法は、金属薄膜型の磁気記録媒体に、少なくと
も一般式が、 RfO(RO)n(C2H4O)oH ……(1) で表わされる界面活性剤とパーフロロポリエー
テルを含有するフレオン溶液を塗布することを特
徴とする(但し、(1)式中、Rfは炭素数が5〜13
の含フツ素アルキル基、Rは炭素数が3〜4のア
ルキレン基、mは1〜50の整数、nはポリオキシ
エチレン鎖の分子量の20〜80%となる如き整数を
それぞれ示す。)から、以下のような効果を有す
る。
(A) 再録ヘツドと磁気記録媒体が直接接触しない
ので、媒体及び録再ヘツドにキズがはいつた
り、摩耗したりすることがなく、寿命が長い。
ので、媒体及び録再ヘツドにキズがはいつた
り、摩耗したりすることがなく、寿命が長い。
(B) 均一で薄い潤滑層が得られ摩擦係数も小さ
い。
い。
(C) 種々の方法で種々の潤滑層を得ることができ
る。また、任意の厚みの潤滑層が得られる。
る。また、任意の厚みの潤滑層が得られる。
(D) 潤滑剤のぬれ性が良くなり、切れ目ができな
い潤滑剤が得られる。
い潤滑剤が得られる。
(E) 磁気記録媒体を長期間放置しても、潤滑剤の
切れはなく、表面張力の関係で油滴になること
もない。
切れはなく、表面張力の関係で油滴になること
もない。
(F) 前記したこれらの効果は、本発明を垂直磁気
記録媒体に適用すれば特に効果大きい。
記録媒体に適用すれば特に効果大きい。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1 金属薄膜型の磁気記録媒体に、少なくとも一
般式が、 RfO(RO)n(C2H4O)oH ……(1) で表わされる界面活性剤とパーフロロポリエー
テルを含有するフレオン溶液を塗布することを特
徴とする磁気記録媒体の潤滑層形成法。 (但し、(1)式中、Rfは炭素数が5〜13の含フツ
素アルキル基、Rは炭素数が3〜4のアルキレン
基、mは1〜50の整数、nはポリオキシエチレン
鎖の分子量の20〜80%となる如き整数をそれぞれ
示す。)
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57228191A JPS59116931A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | 磁気記録媒体の潤滑層形成法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP57228191A JPS59116931A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | 磁気記録媒体の潤滑層形成法 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS59116931A JPS59116931A (ja) | 1984-07-06 |
JPH0430085B2 true JPH0430085B2 (ja) | 1992-05-20 |
Family
ID=16872629
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP57228191A Granted JPS59116931A (ja) | 1982-12-23 | 1982-12-23 | 磁気記録媒体の潤滑層形成法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS59116931A (ja) |
Families Citing this family (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH0618080B2 (ja) * | 1984-10-19 | 1994-03-09 | 日本電気株式会社 | 磁気記憶体 |
JPS63281218A (ja) * | 1987-05-13 | 1988-11-17 | Hitachi Ltd | 磁気記録媒体 |
JPH07216375A (ja) * | 1993-02-24 | 1995-08-15 | Hitachi Maxell Ltd | 潤滑剤 |
-
1982
- 1982-12-23 JP JP57228191A patent/JPS59116931A/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS59116931A (ja) | 1984-07-06 |
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