JPH04295731A - 干渉計 - Google Patents

干渉計

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JPH04295731A
JPH04295731A JP3337058A JP33705891A JPH04295731A JP H04295731 A JPH04295731 A JP H04295731A JP 3337058 A JP3337058 A JP 3337058A JP 33705891 A JP33705891 A JP 33705891A JP H04295731 A JPH04295731 A JP H04295731A
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JP
Japan
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fixed mirror
mirror
interferometer
beam splitter
optical path
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Pending
Application number
JP3337058A
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English (en)
Inventor
Albert R J Bertram
アルベルト ラルフ ヨハン ベルトラム
Johannes W Coenders
ヨハネス ウィルヘルム コッデルス
Francis J Span
フランシスカス ヨハネス スパン
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Koninklijke Philips NV
Original Assignee
Philips Gloeilampenfabrieken NV
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Publication date
Application filed by Philips Gloeilampenfabrieken NV filed Critical Philips Gloeilampenfabrieken NV
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    • GPHYSICS
    • G02OPTICS
    • G02BOPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
    • G02B7/00Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements
    • G02B7/18Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors
    • G02B7/182Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors
    • G02B7/1822Mountings, adjusting means, or light-tight connections, for optical elements for prisms; for mirrors for mirrors comprising means for aligning the optical axis
    • G02B7/1824Manual alignment
    • G02B7/1825Manual alignment made by screws, e.g. for laser mirrors
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01JMEASUREMENT OF INTENSITY, VELOCITY, SPECTRAL CONTENT, POLARISATION, PHASE OR PULSE CHARACTERISTICS OF INFRARED, VISIBLE OR ULTRAVIOLET LIGHT; COLORIMETRY; RADIATION PYROMETRY
    • G01J3/00Spectrometry; Spectrophotometry; Monochromators; Measuring colours
    • G01J3/28Investigating the spectrum
    • G01J3/45Interferometric spectrometry
    • G01J3/453Interferometric spectrometry by correlation of the amplitudes
    • GPHYSICS
    • G12INSTRUMENT DETAILS
    • G12BCONSTRUCTIONAL DETAILS OF INSTRUMENTS, OR COMPARABLE DETAILS OF OTHER APPARATUS, NOT OTHERWISE PROVIDED FOR
    • G12B5/00Adjusting position or attitude, e.g. level, of instruments or other apparatus, or of parts thereof; Compensating for the effects of tilting or acceleration, e.g. for optical apparatus

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
  • General Physics & Mathematics (AREA)
  • Optics & Photonics (AREA)
  • Spectrometry And Color Measurement (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、入射放射線ビームを、
互いに個別の第1光路および第2光路に沿う2個のサブ
ビームに分離するビームスプリッタと、前記第1光路お
よび第2光路の終点をなし、前記サブビームを前記ビー
ムスプリッタに反射させて前記ビームスプリッタにより
前記サブビームを再結合させる第1固定ミラーおよび第
2固定ミラーと、前記第1光路および第2光路のうちの
少なくとも一方に設けた光路長変更手段とを具えた干渉
計に関するものである。
【0002】
【従来の技術】このような装置としては、ヨーロッパ特
許第171837号に記載のように、ビームスプリッタ
と、2個の固定ミラーと、回転自在のミラーセットとを
干渉計の基本構造としているものがある。この干渉計に
おいては、光路長の変更は比較的簡単に行っており、光
学的構成の構造を相対的に直線移動させている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】この解決法の欠点は、
上述のような光学素子が互いに正確に規定された位置に
取り付ける必要があり、これら位置は、比較的広く間隔
を空けられており、また異なる指向性を有している。
【0004】従って、本発明の目的はこの欠点を解決す
る干渉計を得るにある。
【0005】
【課題を解決するための手段】この目的を達成するため
、本発明干渉計は、前記第1光路における前記ビームス
プリッタに平行に配置して放射線を前記第1固定ミラー
に指向させる第3固定ミラーを設け、前記第1固定ミラ
ーを前記第2固定ミラーを含む平面と同一又はそれに平
行な平面上に配置したことを特徴とする。
【0006】このような干渉計は、電磁波スペクトルの
紫外線、可視光及び赤外線領域のいずれかに適用するの
に設計する。
【0007】光路長変更手段は、支持本体に取り付けた
2個の互いに平行に対向するミラーと、前記支持本体を
回転する回転手段とを有するものとして構成する。
【0008】この構成の光路長変更手段によれば、光学
的組立体の3個の個別のセットを有する干渉計の構造を
、各セット内に光学素子を互いに平行に配置することが
できるようにする。このことにより、干渉計の光学的構
成を簡単にし、光学素子を平行にすることができること
により、異なる指向性を有する光学素子に対して正確に
相対位置決めするよりも一層簡単にアラインメントの問
題を容易にすることができる。
【0009】本発明の好適な実施例においては、第1固
定ミラー、第2固定ミラー、第3固定ミラー、ビームス
プリッタ及び光路長変更手段をそれぞれ配置する取付ポ
イントを有する鋳造構体を設ける。
【0010】このことにより、構造を安定化ことができ
、また取付ポイントを正確に選択することによって干渉
計の構造を簡素化することができる。
【0011】更に、本発明の好適な実施例においては、
第1固定ミラー及び第2固定ミラーを、鋳造構体の単一
の機械加工した面に取り付ける。
【0012】この構成により、第1及び第2の固定ミラ
ーを互いに同一平面に正確に取り付けることができる。 即ち、単一の平面に平坦な表面を或る公差で機械加工す
るのは、個別に機械加工した表面のそれぞれに同一の平
行度を確実に持たせるよりも簡単であるためである。
【0013】更に、本発明の好適な実施例においては、
取り付けた光学構成部材の位置を調整する手段を設け、
この調整手段は、構成部材を取り付ける表面に近接して
形成した断面が減少していく孔と、この孔内に挿入する
ねじとを有するものとして構成する。
【0014】この構成により、光学素子の位置を極めて
微量例えば、ナノメータのオーダーで調整することがで
き、素子の極めて精密な位置決めが得られる。
【0015】更に、本発明の好適な実施例においては、
固定端部に近接する位置でミラーに圧着する少なくとも
1個のフィンガと、前記フィンガの遊端に近接して前記
フィンガを調整自在に偏倚させるねじ手段とを具えたミ
ラー取付手段を設ける。
【0016】このことにより、ねじの比較的大きな移動
に対してミラーの比較的小さい移動を与え、ミラーの精
密な位置決めが可能となる。フィンガがミラーに圧着す
る位置における移動よりもビーム転向比だけフィンガの
遊端の移動は大きい。
【0017】更に、本発明は、上述のパラグラフに説明
した干渉計を有するフーリエ変換分光計を提供する。
【0018】
【実施例】次に、図面につき本発明の好適な実施例を説
明する。
【0019】図1に示す装置は、放射線源2例えば、広
帯域赤外線源を有し、凹面ミラー6によりコリメートし
た赤外線ビーム4を発生する。鋳物構体8内で、ビーム
4をビームスプリッタ10により第1サブビーム12と
第2サブビーム14に分離する。サブビーム14は、ミ
ラー16により90°曲げ、第1固定ミラー18により
反射させ、折り曲げミラー16を経てビームスプリッタ
10に帰還させる。 サブビーム12は、第1ミラー22および第2ミラー2
4を有する回転自在の平行ミラー系20を経て反射され
、第2固定ミラー26により平行ミラー系20を経てビ
ームスプリッタ10に帰還する。サブビーム12のビー
ム経路の長さは、平行ミラー系20を回転させることに
より変更することができる。サブビーム12、14はビ
ームスプリッタ10において結合され、結合出力ビーム
25を形成する。結合ビームは、サンプル28に指向さ
れ、このサンプルの吸収スペクトルを測定する。サンプ
ル28を通過した後結合ビーム25は凹面ミラー30に
より検出器32上に集束させられる。
【0020】平行ミラー系はヨーロッパ特許第1718
37号に記載のモータ駆動により又はミラー系に直接連
結したモータ35により回転させ、より精度の高い移動
制御を行う。例えば、目に見えるヘリウム−ネオンレー
ザ52からの放射線の基準ビーム50を干渉計の光路に
通過させ、別個の検出器54に干渉フリンジを生ずるよ
うにする。この検出器の出力を波形整形回路56に供給
し、光路長が変化するときレーザ源の一つの波長の間隔
又はこの波長の分数又はこの波長の倍数で生ずるサンプ
リング瞬間信号を発生する。これらサンプリング信号に
より、検出器32の出力がサンプリングされてコンピュ
ータ58への入力を生ずる瞬間を制御し、このコンピュ
ータ58により既知のクーリー  ターキー  アルゴ
リズムに基づくプログラムを使用してビーム25のスペ
クトル60を計算する。このスペクトルをモニタ61に
表示する。更に、駆動モータ35をの速度を、サンプリ
ング瞬間信号に応答して制御回路62により制御し、サ
ンプリングの瞬間を一定に維持する。
【0021】使用にあたり、2個のサブビームの光路長
は、初期的に光路長変動の動作範囲の一方の端部で回転
ミラー系20により等しくしておく。このときゼロ次の
フリンジが検出器に入射される。次に、ミラーを回転さ
せて、所要のウェーブ数の解像度を生ずるのに必要な光
路長変化を生ぜしめる。より好適には、光路長を作動範
囲の中間で回転ミラー系により等しくしておき、次にミ
ラーを作動範囲全体にわたり駆動してダブルサイドの干
渉模様を生ずるようにし、このような干渉模様は位相誤
差を受けにくくすることが容易にできる。
【0022】図2には、固定ミラー16、18および2
6、ビームスプリッタ10、および回転ミラー系20を
取り付ける鋳造構体の斜視図を示す。
【0023】折り返しミラー16を、放射線ビームがミ
ラー16に達することができる開孔102の両側の2個
の面100,101 に取り付ける。ビームスプリッタ
10を開孔103 から鋳造構体8内に配置し、3個の
面104,105,120 に取り付ける。第1固定ミ
ラーと118を鋳造構体8の後面に開孔106 を覆う
ように取り付け、この開孔106 から放射線サブビー
ム14を受光する。同様に、第2固定ミラー26を鋳造
構体の後面に開孔107 を覆うよう取り付け、この開
孔から放射線サブビーム12を受光する。回転ミラー系
20を鋳造構体8内で、鋳造構体8の下側面に形成した
軸受と開孔108 の周りに鋳造構体8に連結したモー
タ35を担持するプレートとの間に取り付ける。鋳造構
体8は、右側を開放し、放射線源2からの放射線ビーム
4をビームスプリッタ10に指向させるようにし、また
開孔109 を設けて、再結合ビーム25がサンプルを
経て検出器32に指向することができるようにする。
【0024】図3は折り返しミラー16およびその取付
部の分解斜視図を示す。ミラー取付部は、本体130 
およびばね部材131 とにより構成する。本体130
 は、3個のフィンガ132,133,134 を有し
、これらフィンガにミラー16をばね部材131 によ
り押しつける。ばね部材131 には、3個の板ばね1
35,136,137 を設け、3個のねじ(このうち
2個のねじ138 、139 が見える)を使用して本
体130 にばね部材131 を組み合わせるときこれ
ら板ばねはミラー16に接触する。3個の調整ねじ14
0,141,142はフィンガ132,133,134
 の3個の端部の近傍に圧着し、ミラー位置の微調整を
行う。フィンガの固定端部の近傍でフィンガ132,1
33,134 に設けたパッドをミラーに圧着させ、ね
じ140,141,142 の比較的大きい移動により
ミラー位置の比較的小さい移動を生ずるようにする。本
体130 を3個のねじ143,144,145 によ
り鋳造構体8に取り付け、これらねじ143,144,
145 は本体130 の貫通孔146,147,14
8 に通過させ、また鋳造構体8の対応の孔149,1
50,151 ねじ付ける。
【0025】図4は第1固定ミラー18および第2固定
ミラー26のための取付手段の分解斜視図を示す。ミラ
ーは、それぞれ単一ばね部材160 により鋳造構体8
の後面の3個の機械加工したパッドに取り付ける。ばね
部材160 は、ミラー18を支持する第1の組の板ば
ね161,162,163 と、ミラー26を支持する
第2組の板ばね164,165,166とを有する。ば
ね部材160 は、鋳造構体8の後面にねじ167 お
よび2個の一体フックにより取り付ける。
【0026】図5は、ねじ170,171 により鋳造
構体の面104,105 に取り付けるビームスプリッ
タ10の斜視図を示し、これらねじはビームスプリッタ
10の貫通孔172,173 に通過させ、ばね突耳1
94 によりフェンス120 に衝合させる。図6は、
ビームスプリッタ10の分解斜視図を示し、このビーム
スプリッタは、ビームスプリッタプレート176 およ
び補償プレート177 を取り付ける本体175 を有
する。本体175 は、開孔178 を有し、この開孔
内に3個の位置決め突耳(このうち一つの突耳179 
のみが見えている)を120 °の角度毎に配置する。 ビームスプリッタプレート176 は本体175 の一
方の側にカラー180 により取り付け、このカラー1
80 の内側で、弾性手段181 によりビームスプリ
ッタプレート176 を突耳179 に押し付ける。補
償プレート177 を本体175 の他方の側にばね部
材182 により取り付け、このばね部材182 には
、3個の板ばね183,184,185 を設け、これ
ら板ばね183,184,185 を補償プレート17
7 に圧着させ、この補償プレート177 を突耳17
9 に押し付ける。この組立体を3個のピン186,1
87,188 および対応の自己ロックリング189,
190,191により互いに保持する。
【0027】図7には、回転自在のミラー組立体20の
分解斜視図を示す。この組立体は、本体200 を有し
、この本体200 に2個のミラー22、24を取り付
ける。ミラー24を3個の機械加工したパッド201,
202,203 に衝合させ、ばね部材204 により
取り付け、このばね部材204 を本体20の面205
,206 に4個のねじ207,208,209,21
0 により取り付ける。ばね部材204 には、3個の
板ばね211,212,213 を設け、これら板ばね
をミラー24の外面に圧着させ、ミラー24をパッド2
01,202,203 に押し付ける。ミラー22も同
様に、本体200 の他方の側に衝合させてばね部材2
14 により取り付ける。調整ねじ215 を本体20
0 に形成した部分的にねじ山を形成した孔216 に
挿入する。孔216 は、パッド201 に対応する機
械加工パッド217 に近接配置する。図8の(a)に
示すように、ねじ215 は孔216 のねじ部分の深
さまで挿入する。図8の(b)には、ねじ215が孔の
ねじ山のない部分まで押し込められ、この結果パッド2
17 の表面に膨らみ218 を生じ、ミラー位置の極
めて小さい調整が可能になる。この調整方法は、鋳造か
ら形成するよりも固体金属の加工材料から本体200 
を加工するのに使用する場合に好適である。これは、鋳
造が多孔質の構体となりがちであり、ねじを使用すると
、膨らみを生ずるよりも表面を破損する可能性があるた
めである。勿論、他の好適な調整手段を設け、ミラーを
精密に位置決めすることもできる。
【0028】図2〜図8には、図1に線図的に示した特
別な実施例の干渉計を説明した。種々の光学的構成部材
は、他の方法で鋳造構体8に取り付けることができるこ
と勿論である。更に、構成部材は鋳造構体のベースに取
り付け、例えば、このベースは、一体ピース又は多数の
ピースを互いに結合した固体から機械加工することがで
きる。
【0029】光路長変更手段は、上述の手段とは異なる
ものとすることができ、所要に応じ、双方の光路に設け
ることもできる。図1および図7に示す光路長変更手段
は、ミラーの外側に位置する軸線の周りに回転自在にす
ることができる。図8につき説明したミラー位置調整手
段は、テーパー付き孔にすることができる。原理的に必
要なことは、連続的であろうと、突然であろうと孔の断
面が或るポイントにおいて小さくなり、ねじの力により
膨らむことである。このミラー調整手段は、単独の調整
手段として又は上述の調整手段に付加したものとしてい
ずれかのミラー又はビームスプリッタの取付手段に組み
込むことができる。
【0030】上述したところは、本発明の好適な実施例
を説明したに過ぎず、請求の範囲において種々の変更を
加えることができること勿論である。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明によるフーリエ変換分光計および干渉計
の線図的説明図である。
【図2】図1の干渉計に使用する鋳造構体の斜視図であ
る。
【図3】図1の干渉計に使用する折り返しミラー組立体
の分解斜視図である。
【図4】図1の干渉計に第1固定ミラーおよび第2固定
ミラーを取り付ける取付構成の分解斜視図である。
【図5】図1の干渉計に使用するビームスプリッタの分
解斜視図である。
【図6】図5に示すビームスプリッタの分解斜視図であ
る。
【図7】図1の干渉計に使用する光路長変更手段の分解
斜視図である。
【図8】本発明による光学素子調整手段を示し、(a)
はねじを奥まで締め込まない状態、(b)はねじを奥ま
で過剰に締め込んだ状態の説明図である。
【符号の説明】
2  放射線源 4  赤外線ビーム 6  凹面ミラー 8  鋳物構体 10  ビームスプリッタ 12  第1サブビーム 14  第2サブビーム 16  ミラー 18  第1固定ミラー 20  平行ミラー系 22  第1ミラー 24  第2ミラー 25  結合出力ビーム 26  第2固定ミラー 28  サンプル 30  凹面ミラー 32  検出器 35  モータ 50  基準ビーム 52  ヘリウム−ネオンレーザ 54  検出器 56  波形整形回路 58  コンピュータ 60  スペクトル 61  モニタ 62  制御回路 130  本体 131  ばね部材 132,133,134  フィンガ 135,136,137  板ばね 140,141,142  調整ねじ 160  単一ばね部材 161,162,163,164,165,166  
板ばね170,171  ねじ 172,173  貫通孔 194  ばね突耳 176  ビームスプリッタプレート 177  補償プレート 179  突耳 180  カラー 181  弾性手段 182  ばね部材 189,190,191  自己ロックリング186,
187,188  ピン 201,202,203  パッド 204,214  ばね部材 207,208,209,210  ねじ211,21
2,213  板ばね 215  調整ねじ 216  孔 218  膨らみ

Claims (8)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】入射放射線ビームを、互いに個別の第1光
    路および第2光路に沿う2個のサブビームに分離するビ
    ームスプリッタと、前記第1光路および第2光路の終点
    をなし、前記サブビームを前記ビームスプリッタに反射
    させて前記ビームスプリッタにより前記サブビームを再
    結合させる第1固定ミラーおよび第2固定ミラーと、前
    記第1光路および第2光路のうちの少なくとも一方に設
    けた光路長変更手段とを具えた干渉計において、前記第
    1光路における前記ビームスプリッタに平行に配置して
    放射線を前記第1固定ミラーに指向させる第3固定ミラ
    ーを設け、前記第1固定ミラーを前記第2固定ミラーを
    含む平面と同一又はそれに平行な平面上に配置したこと
    を特徴とする干渉計。
  2. 【請求項2】光路長変更手段は、支持本体に取り付けた
    2個の互いに平行に対向するミラーと、前記支持本体を
    回転する回転手段とを有するものとして構成した請求項
    1記載の干渉計。
  3. 【請求項3】前記支持本体は前記互いに対向するミラー
    間を通過する軸線の周りに回転する構成とした請求項2
    記載の干渉計。
  4. 【請求項4】前記第1固定ミラー、前記第2固定ミラー
    、前記第3固定ミラー、前記ビームスプリッタ及び前記
    光路長変更手段をそれぞれ配置する取付ポイントを有す
    る鋳造構体を設けた請求項1乃至3のうちのいずれか一
    項に記載の干渉計。
  5. 【請求項5】前記第1固定ミラー及び前記第2固定ミラ
    ーを、前記鋳造構体の単一の機械加工した面に取り付け
    た請求項4記載の干渉計。
  6. 【請求項6】取り付けた光学構成部材の位置を調整する
    手段を設け、前記調整手段は、前記構成部材を取り付け
    る表面に近接して形成した断面が減少していく孔と、こ
    の孔内に挿入するねじとを有するものとして構成した請
    求項1乃至5のうちのいずれか一項に記載の干渉計。
  7. 【請求項7】固定端部に近接する位置でミラーに圧着す
    る少なくとも1個のフィンガと、前記フィンガの遊端に
    近接して前記フィンガを調整自在に偏倚させるねじ手段
    とを具えたミラー取付手段を設けた請求項1乃至6のう
    ちのいずれか一項に記載の干渉計。
  8. 【請求項8】請求項1乃至7のうちのいずれか一項に記
    載の干渉計設けたことを特徴とするフーリエ変換分光計
JP3337058A 1990-12-19 1991-12-19 干渉計 Pending JPH04295731A (ja)

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GB9027480:4 1990-12-19
GB909027480A GB9027480D0 (en) 1990-12-19 1990-12-19 Interferometer

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