JPH041456Y2 - - Google Patents
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- JPH041456Y2 JPH041456Y2 JP1984056401U JP5640184U JPH041456Y2 JP H041456 Y2 JPH041456 Y2 JP H041456Y2 JP 1984056401 U JP1984056401 U JP 1984056401U JP 5640184 U JP5640184 U JP 5640184U JP H041456 Y2 JPH041456 Y2 JP H041456Y2
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- 230000003287 optical effect Effects 0.000 claims description 11
- 238000006073 displacement reaction Methods 0.000 claims description 8
- 238000009434 installation Methods 0.000 claims description 5
- 230000001427 coherent effect Effects 0.000 claims description 4
- 239000000463 material Substances 0.000 claims description 2
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 12
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 7
- 239000002184 metal Substances 0.000 description 6
- 239000000428 dust Substances 0.000 description 3
- 230000010287 polarization Effects 0.000 description 3
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 3
- 230000003111 delayed effect Effects 0.000 description 2
- 230000005489 elastic deformation Effects 0.000 description 2
- 241000519695 Ilex integra Species 0.000 description 1
- 230000007547 defect Effects 0.000 description 1
- 230000002950 deficient Effects 0.000 description 1
- 230000001934 delay Effects 0.000 description 1
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 1
- 229910001026 inconel Inorganic materials 0.000 description 1
- 230000002452 interceptive effect Effects 0.000 description 1
- 238000000034 method Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Length Measuring Devices By Optical Means (AREA)
- Optical Transform (AREA)
Description
【考案の詳細な説明】
(考案の技術分野)
本考案は、反射形のスケールを用い、スケール
からの反射回折光の干渉光強度変化を計数してス
ケール移動量を測定する光学式スケール読取装置
に関するものである。更に詳しくは、本考案は、
出願人が先に、特願昭58−39951号で提案した装
置において、光学系の調整が容易に行なえるよう
にした光学式スケール読取装置に関するものであ
る。
からの反射回折光の干渉光強度変化を計数してス
ケール移動量を測定する光学式スケール読取装置
に関するものである。更に詳しくは、本考案は、
出願人が先に、特願昭58−39951号で提案した装
置において、光学系の調整が容易に行なえるよう
にした光学式スケール読取装置に関するものであ
る。
(考案の背景)
第1図は、特願昭58−39951号で示されている
装置の構成図である。図において、11は半導体
レーザ等を用いた可干渉性光源、22は該光源の
発射光を受ける集光レンズ、23は反射形スケー
ル、24,25はそれぞれスケール23の反射回
折光を受けるミラー、26はこれらミラーの反射
光を受ける第1のハーフミラー、27は該第1の
ハーフミラーの透過光を受けて混合干渉させる第
2のハーフミラー、28,29は該第2のハーフ
ミラーの位相の異なる回折光を受けて電気信号に
変換する受光素子、30,31はこれら受光素子
の出力を増幅する増幅器、32はこれら増幅器の
出力を受けて演算処理を施しスケール23の移動
距離を算出する信号処理回路、33は該信号処理
回路の出力を表示する表示部、34は第1のハー
フミラー26の反射光を受ける受光素子である。
このように構成された装置の動作を説明すれば、
以下のとおりである。
装置の構成図である。図において、11は半導体
レーザ等を用いた可干渉性光源、22は該光源の
発射光を受ける集光レンズ、23は反射形スケー
ル、24,25はそれぞれスケール23の反射回
折光を受けるミラー、26はこれらミラーの反射
光を受ける第1のハーフミラー、27は該第1の
ハーフミラーの透過光を受けて混合干渉させる第
2のハーフミラー、28,29は該第2のハーフ
ミラーの位相の異なる回折光を受けて電気信号に
変換する受光素子、30,31はこれら受光素子
の出力を増幅する増幅器、32はこれら増幅器の
出力を受けて演算処理を施しスケール23の移動
距離を算出する信号処理回路、33は該信号処理
回路の出力を表示する表示部、34は第1のハー
フミラー26の反射光を受ける受光素子である。
このように構成された装置の動作を説明すれば、
以下のとおりである。
半導体レーザ21の出力光はレンズ22によつ
て受光素子28,29に集光する角度(もしくは
平行光)になる。このとき、偏光面を図に示す向
きになるようにしておく。この光をスケール23
に投射する。スケールとしては例えば正確に溝を
一定間隔で刻まれた回折格子或いはホログラフイ
技術による回折格子等が使用される。従つて投射
された光は回折する。このときの回折角θはスケ
ールピツチd、半導体レーザ21の波長をλとす
ると次式が成立する。
て受光素子28,29に集光する角度(もしくは
平行光)になる。このとき、偏光面を図に示す向
きになるようにしておく。この光をスケール23
に投射する。スケールとしては例えば正確に溝を
一定間隔で刻まれた回折格子或いはホログラフイ
技術による回折格子等が使用される。従つて投射
された光は回折する。このときの回折角θはスケ
ールピツチd、半導体レーザ21の波長をλとす
ると次式が成立する。
sinθ=mλ/d(m;整数)
但し−90°≦θ≦90°、−1≦mλ/d≦+1ここ
で、たとえばλ=0.78μm、d=0.83μmとすると
m=0,±1となり θ=0° (m=0で0次回折光) θ=±70.0° (m=±1で±1次回折光) となる。±1次回折光はそれぞれミラー24,2
5で反射され、ハーフミラー26を通過した後第
2のハーフミラー27で混合し干渉させられる。
この干渉させられた光はそれぞれ受光素子28,
29で電気信号に変換される。このとき、干渉し
た光には90°の位相差を持たせなければならない。
以下にその方法を示す。第2図はハーフミラー2
7で干渉するときの様子を示す図である。図にお
いて、40はガラス、41は金属半透過面であ
る。一般に金属面での反射の際には位相が遅れガ
ラス面での反射および透過光は位相は遅れない。
同図において、−1次回折光のハーフミラー27
での反射による位相遅れをδr1、+1次回折光の反
射による位相遅れをδr2、該ハーフミラーのガラ
ス媒質中での位相遅れをそれぞれ図に示すように
δt1〜δt3とする。+1次光がハーフミラーで反射透
過して受光素子28,29の方向へ行く光を
P+1,Q+1、−1次光が同様に受光素子の方向へ行
く光をP-1,Q-1とする。これら4つの光束の位
相遅れはそれぞれ次のようになる。
で、たとえばλ=0.78μm、d=0.83μmとすると
m=0,±1となり θ=0° (m=0で0次回折光) θ=±70.0° (m=±1で±1次回折光) となる。±1次回折光はそれぞれミラー24,2
5で反射され、ハーフミラー26を通過した後第
2のハーフミラー27で混合し干渉させられる。
この干渉させられた光はそれぞれ受光素子28,
29で電気信号に変換される。このとき、干渉し
た光には90°の位相差を持たせなければならない。
以下にその方法を示す。第2図はハーフミラー2
7で干渉するときの様子を示す図である。図にお
いて、40はガラス、41は金属半透過面であ
る。一般に金属面での反射の際には位相が遅れガ
ラス面での反射および透過光は位相は遅れない。
同図において、−1次回折光のハーフミラー27
での反射による位相遅れをδr1、+1次回折光の反
射による位相遅れをδr2、該ハーフミラーのガラ
ス媒質中での位相遅れをそれぞれ図に示すように
δt1〜δt3とする。+1次光がハーフミラーで反射透
過して受光素子28,29の方向へ行く光を
P+1,Q+1、−1次光が同様に受光素子の方向へ行
く光をP-1,Q-1とする。これら4つの光束の位
相遅れはそれぞれ次のようになる。
P+1;δt1+δr2+δt2,P-1;δt3,
Q+1;δt1,Q-1;δr1
従つて、P+1とP-1の位相差Δ1、Q+1とQ-1の位
相差Δ2はそれぞれ次式で表される。
相差Δ2はそれぞれ次式で表される。
Δ1=δt1+δr2+δt2−δt3
Δ2=δt1−δr1
ここで、P+1とP-1の光路を一致させればδt2=
δt3となる。従つて次式が成立する。
δt3となる。従つて次式が成立する。
Δ1=δt1+δr2
さて、P+1とP-1およびQ+1とQ-1がそれぞれ干
渉し受光素子28,29に入射する。このとき受
光素子28,29の出力の位相差をαとすれば α=Δ1−Δ2 =δt1+δr2−δt1+δr1 =δr1+δr2 となる。従つて、受光素子28,29の位相差は
δr1およびδr2のみで決まり、ハーフミラー27の
ガラスの厚さには無関係である。金属面でのδr1,
δr2の値は、入射角φと入射光の偏光面の角度に
よつて決まる。δr1,δr2が最大になるのは偏光面
を第2図に示す向きにとつたときで、このときフ
レネルの公式および屈折の法則より次式が成立す
る。
渉し受光素子28,29に入射する。このとき受
光素子28,29の出力の位相差をαとすれば α=Δ1−Δ2 =δt1+δr2−δt1+δr1 =δr1+δr2 となる。従つて、受光素子28,29の位相差は
δr1およびδr2のみで決まり、ハーフミラー27の
ガラスの厚さには無関係である。金属面でのδr1,
δr2の値は、入射角φと入射光の偏光面の角度に
よつて決まる。δr1,δr2が最大になるのは偏光面
を第2図に示す向きにとつたときで、このときフ
レネルの公式および屈折の法則より次式が成立す
る。
Rp=tan(φ−χ)/tan(φ+χ)Ap
sinχ=sinφ/n(1+ik)
但し、
Rp;反射光複素振幅
Ap;入射光複素振幅
χ;複素屈折角
n;金属の屈折率
k;減衰定数
上式からχを消去すれば反射光の位相遅れδは次
式で示される。
式で示される。
δ=tan-1Rp/Ap=tan-1〔2nk tanφsinφ(ta
n2φ+1)/tan2φ{n2+(nk)2}sin2φ(tan2φ+
1)2〕 しかし、ハーフミラーの場合には金属面のほか
にガラス面の部分での反射があると考えられる。
ガラス面での反射はブリユータス角を境にして位
相が180°反転する。
n2φ+1)/tan2φ{n2+(nk)2}sin2φ(tan2φ+
1)2〕 しかし、ハーフミラーの場合には金属面のほか
にガラス面の部分での反射があると考えられる。
ガラス面での反射はブリユータス角を境にして位
相が180°反転する。
そこで、ハーフミラーの場合で、入射角φと受
光素子28,29間の位相差αの関係を実測する
と第3図に示すようなものとなり、金属面反射の
特性とガラス面反射の特性を併せもちインコネル
ハーフミラーの場合φ=約75°でα=90°となる。
図において、横軸は入射角φを、縦軸は受光素子
28,29間の位相3αをそれぞれ示している。
従つて、この出力によつてスケールの移動方向が
判別でき、正弦波の波の数を計数して移動量がわ
かる。出力は正確に90°位相差のある正弦波なの
でさらにアナログ的に補間して分解能1/100〜1/1
000μmの超高分解能が得られ、これを表示したり
或いは位置制御に使用したりすることができる。
この90°の位相差信号を処理する構成はその目的
によつて一般的な各種のものが考えられる。この
ような構成にした場合、スケールに投射される光
ビーム径は約4〜5mmで、スケールのピツチdを
0.8μmとすればこのビーム径の中に格子は5000本
程度ありこの全ての格子で1本の干渉縞を作るこ
とになる。従つて、スケールの格子欠陥や小さな
ピツチむら或いはスケールに付着したゴミや汚れ
の影響も非常に小さくできる。ところで、第1図
の第1のハーフミラー26と受光素子34は±1
次回折光の光パワーのモニタとして用いられるも
ので、受光素子28,29の出力正弦波のバイア
ス部分を除くための電圧をつくるものである。こ
のようにすれば、スケールの各場所で回折効率が
変動したり、ゴミや汚れで±1次回折光の強度が
変わつて受光素子28,29の出力が変化しても
正確な正弦波とすることができ正確にパルスに変
換することができる。しかし、スケールが均一で
移動に際し位置や角度の変化が小さいような場合
は特に無くてもよいのである。この装置の特長を
列挙すれば、以下のとおりである。
光素子28,29間の位相差αの関係を実測する
と第3図に示すようなものとなり、金属面反射の
特性とガラス面反射の特性を併せもちインコネル
ハーフミラーの場合φ=約75°でα=90°となる。
図において、横軸は入射角φを、縦軸は受光素子
28,29間の位相3αをそれぞれ示している。
従つて、この出力によつてスケールの移動方向が
判別でき、正弦波の波の数を計数して移動量がわ
かる。出力は正確に90°位相差のある正弦波なの
でさらにアナログ的に補間して分解能1/100〜1/1
000μmの超高分解能が得られ、これを表示したり
或いは位置制御に使用したりすることができる。
この90°の位相差信号を処理する構成はその目的
によつて一般的な各種のものが考えられる。この
ような構成にした場合、スケールに投射される光
ビーム径は約4〜5mmで、スケールのピツチdを
0.8μmとすればこのビーム径の中に格子は5000本
程度ありこの全ての格子で1本の干渉縞を作るこ
とになる。従つて、スケールの格子欠陥や小さな
ピツチむら或いはスケールに付着したゴミや汚れ
の影響も非常に小さくできる。ところで、第1図
の第1のハーフミラー26と受光素子34は±1
次回折光の光パワーのモニタとして用いられるも
ので、受光素子28,29の出力正弦波のバイア
ス部分を除くための電圧をつくるものである。こ
のようにすれば、スケールの各場所で回折効率が
変動したり、ゴミや汚れで±1次回折光の強度が
変わつて受光素子28,29の出力が変化しても
正確な正弦波とすることができ正確にパルスに変
換することができる。しかし、スケールが均一で
移動に際し位置や角度の変化が小さいような場合
は特に無くてもよいのである。この装置の特長を
列挙すれば、以下のとおりである。
(1) 100mm以上にわたつて、1/100〜1/1000μmの
超高分解能である。
超高分解能である。
(2) ハーフミラーの反射での位相遅れを利用し、
偏光板、1/4波長板を使用していないので構成
が簡単になる。
偏光板、1/4波長板を使用していないので構成
が簡単になる。
(3) スケールに投射する光束が太く、受光素子上
で空間フイルタ等を使用していないのでスケー
ル上のゴミや汚れの或いはスケールの欠陥ピツ
チむらの影響が少ない。
で空間フイルタ等を使用していないのでスケー
ル上のゴミや汚れの或いはスケールの欠陥ピツ
チむらの影響が少ない。
(4) スケールとヘツドの間隔の許容差が大きい。
(5) 反射形スケールを用いているのでスケールの
取付が簡単である。
取付が簡単である。
ところで、この様な構成の装置においては、ミ
ラー24,25からの2光束が第2のハーフミラ
ー27上で正確に交わるようにすること、2光束
が、第2のハーフミラー27において全面干渉す
ること、スケールを移動したとき受光素子28,
29から得られる信号の位相差が正確に90°にな
ること等を満足するように、各光学系、とりわ
け、第2のハーフミラーの設置位置や角度を調整
する必要がある。
ラー24,25からの2光束が第2のハーフミラ
ー27上で正確に交わるようにすること、2光束
が、第2のハーフミラー27において全面干渉す
ること、スケールを移動したとき受光素子28,
29から得られる信号の位相差が正確に90°にな
ること等を満足するように、各光学系、とりわ
け、第2のハーフミラーの設置位置や角度を調整
する必要がある。
(本考案の目的)
ここにおいて、本考案は、第2のハーフミラー
の設置位置や角度等を容易に調整することのでき
る光学式スケール読取装置を実現しようとするも
のである。
の設置位置や角度等を容易に調整することのでき
る光学式スケール読取装置を実現しようとするも
のである。
(本考案の概要)
本考案に係る装置は、可干渉性光源を反射形ス
ケールに照射し、反射回折光をハーフミラーで混
合干渉させるとともに、入射光を特定の入射角に
なるように構成してハーフミラーの両側に出射す
る干渉光同士の位相差を90°とし、該干渉光をそ
れぞれ受光素子で電気信号に変換した後演算処理
しスケールの移動を測定することができるように
した光学式スケール読取装置であつて、前記ハー
フミラーを弾性変形を利用したてこ式変位縮小機
構を有する部材に取付けるようにした点に特徴が
ある。
ケールに照射し、反射回折光をハーフミラーで混
合干渉させるとともに、入射光を特定の入射角に
なるように構成してハーフミラーの両側に出射す
る干渉光同士の位相差を90°とし、該干渉光をそ
れぞれ受光素子で電気信号に変換した後演算処理
しスケールの移動を測定することができるように
した光学式スケール読取装置であつて、前記ハー
フミラーを弾性変形を利用したてこ式変位縮小機
構を有する部材に取付けるようにした点に特徴が
ある。
(実施例)
第4図は、本考案に係る装置の構成図で、イは
正面図、ロは側面図である。これらの図におい
て、第1図装置における各部分と対応する部分に
は同一符号を付して示し、その説明は省略する。
正面図、ロは側面図である。これらの図におい
て、第1図装置における各部分と対応する部分に
は同一符号を付して示し、その説明は省略する。
第5図は、第4図において、ミラー24,25
が取付けられている部分を示す要部構成図で、イ
は側面図、ロは背面図である。この図において、
ミラー24,25は、円柱体をその軸に対して角
度θ1で切断した支持部材41上に取付けられてい
る。この支持部材41はバネ部42によつて円柱
状のネジ部材43に連結している。このネジ部材
43には、背面側よりネジ44,45が螺合して
おり、その先端部はバネ部42の両側空〓まで貫
通し、支持部材41を押圧している。
が取付けられている部分を示す要部構成図で、イ
は側面図、ロは背面図である。この図において、
ミラー24,25は、円柱体をその軸に対して角
度θ1で切断した支持部材41上に取付けられてい
る。この支持部材41はバネ部42によつて円柱
状のネジ部材43に連結している。このネジ部材
43には、背面側よりネジ44,45が螺合して
おり、その先端部はバネ部42の両側空〓まで貫
通し、支持部材41を押圧している。
よつて、ネジ44,45を回転することで、支
持部材41は、バネ部42を支点として傾き、従
つて支持部材41に取付けてあるミラー24,2
5のスケール面に対する角度を調整できるように
してある。
持部材41は、バネ部42を支点として傾き、従
つて支持部材41に取付けてあるミラー24,2
5のスケール面に対する角度を調整できるように
してある。
第6図は、第4図において、ハーフミラー27
が取付けられている部分を示す構成図で、イは正
面図、ロはイにおけるロ−ロ断面図、ハは上面図
である。
が取付けられている部分を示す構成図で、イは正
面図、ロはイにおけるロ−ロ断面図、ハは上面図
である。
ハーフミラー27は、弾性変形を利用したてこ
式変位縮小機構を有する支持部材51に取付けら
れている。すなわち、支持部材51は、支点52
によつて支持され、また、作用点53を介しては
り54に結合している。このはり54は、支点5
5を有している。支持部材51は、背面にハーフ
ミラ27と平行するように設けられている支点5
6によつても支えられている。57は第1の調整
ネジ、58はロツク用のネジで、いずれもはり5
4を押圧している。
式変位縮小機構を有する支持部材51に取付けら
れている。すなわち、支持部材51は、支点52
によつて支持され、また、作用点53を介しては
り54に結合している。このはり54は、支点5
5を有している。支持部材51は、背面にハーフ
ミラ27と平行するように設けられている支点5
6によつても支えられている。57は第1の調整
ネジ、58はロツク用のネジで、いずれもはり5
4を押圧している。
ここで、第1の調整ネジ57を回転させ、はり
54を押すと、はり54は支点55を中心として
矢印a1方向に回転し、作用点53にはてこの原理
によつてネジ57の変位量(押圧量)のl1/L1倍
(L1>l1)の微少変位量が与えられる。ただし、
L1は支点55と第1の調整ネジ57との距離で
あり、l1は支点55と作用点53との距離であ
る。作用点53に微少変位が与えられると、支持
部材51は、支点52を中心として矢印a2方向に
微少回転し、これによつてハーフミラー27の角
度を微少調整することができる。ハーフミラー2
7の最適な角度の調整は、例えば受光素子28又
は29にTVカメラを設置し、ハーフミラー27
から得られる干渉光を観測しながら、第1調整ネ
ジ57を回転して行なわれる。最適位置(角度)
となつたら、ロツクネジ58によつて、はり54
を固定する。
54を押すと、はり54は支点55を中心として
矢印a1方向に回転し、作用点53にはてこの原理
によつてネジ57の変位量(押圧量)のl1/L1倍
(L1>l1)の微少変位量が与えられる。ただし、
L1は支点55と第1の調整ネジ57との距離で
あり、l1は支点55と作用点53との距離であ
る。作用点53に微少変位が与えられると、支持
部材51は、支点52を中心として矢印a2方向に
微少回転し、これによつてハーフミラー27の角
度を微少調整することができる。ハーフミラー2
7の最適な角度の調整は、例えば受光素子28又
は29にTVカメラを設置し、ハーフミラー27
から得られる干渉光を観測しながら、第1調整ネ
ジ57を回転して行なわれる。最適位置(角度)
となつたら、ロツクネジ58によつて、はり54
を固定する。
61は支持部材51を押圧するピン62を有す
るはりで、支点63を介してネジ64によつて固
定されている。65は第2の調整ネジ、66はロ
ツクネジである。
るはりで、支点63を介してネジ64によつて固
定されている。65は第2の調整ネジ、66はロ
ツクネジである。
ここで、第2の調整ネジ65を回転させ、はり
61を押すと、はり61は支点63を中心として
矢印b1方向に回転し、作用点となるピン62は、
てこの原理によつて、ネジ65の変位量のl2/L2
倍(L2>l2)の微少変位量が与えられる。ただ
し、L2は支点63と第2の調整ネジ65との距
離であり、l2は支点63と作用点であるピン62
との距離である。ピン62が、支持部材51を押
圧すると、支持部材51は支点56を中心として
矢印b方向(紙面に向かう方向)に微少回転し、
これによつてハーフミラー27の角度、位置を微
少調整することができる。ハーフミラー27の角
度、位置が最適位置に調整されたら、ロツクネジ
66によつて、はり61を固定する。
61を押すと、はり61は支点63を中心として
矢印b1方向に回転し、作用点となるピン62は、
てこの原理によつて、ネジ65の変位量のl2/L2
倍(L2>l2)の微少変位量が与えられる。ただ
し、L2は支点63と第2の調整ネジ65との距
離であり、l2は支点63と作用点であるピン62
との距離である。ピン62が、支持部材51を押
圧すると、支持部材51は支点56を中心として
矢印b方向(紙面に向かう方向)に微少回転し、
これによつてハーフミラー27の角度、位置を微
少調整することができる。ハーフミラー27の角
度、位置が最適位置に調整されたら、ロツクネジ
66によつて、はり61を固定する。
この様な構成によれば、ハーフミラー27の設
置位置や角度を、容易に、かつ正確に微調整する
ことができる。
置位置や角度を、容易に、かつ正確に微調整する
ことができる。
第7図及び第8図は、ハーフミラー27の取付
部分の他の構成例を示す要部構成図である。
部分の他の構成例を示す要部構成図である。
第7図の実施例において、イは正面図、ロは平
面図である。この例では、支持部材51を2つの
支点52a,52bで第1のはり54に結合さ
せ、また第1のはり54を2つの支点59a,5
9bを介して第2のはり60a,60bに結合さ
せたものである。第2のはり60a,60bは、
支点60c,60dを有している。
面図である。この例では、支持部材51を2つの
支点52a,52bで第1のはり54に結合さ
せ、また第1のはり54を2つの支点59a,5
9bを介して第2のはり60a,60bに結合さ
せたものである。第2のはり60a,60bは、
支点60c,60dを有している。
58αは、ハーフミラー27を、第7図ハに示
すα方向に回転させ微調整する調整ネジ、58x
はx方向に位置調整する調整ネジ、70は支持部
材51の支点52a,52bの裏側に設けたザグ
リ穴で、調整ネジ65βを押圧することによつ
て、ハーフミラー27をβ方向に回転させ、微調
整する。
すα方向に回転させ微調整する調整ネジ、58x
はx方向に位置調整する調整ネジ、70は支持部
材51の支点52a,52bの裏側に設けたザグ
リ穴で、調整ネジ65βを押圧することによつ
て、ハーフミラー27をβ方向に回転させ、微調
整する。
第8図の実施例においては、支持部材51をひ
とつの支点52aを介してはり54に結合させ、
また、はり54は、支点53a,53bによつて
支持されるように構成したものである。第1の調
整ネジ58xは、はり54に係合しており、これ
を回転させて、ハーフミラー27をx方向に移動
させ微調整する。また、第2の調整ネジ58α
は、支持部材51に係合し、ハーフミラー27を
α方向に回転させ微調整する。第3の調整ネジβ
は、第7図と同様に構成されている支持部材51
を押圧することによつて、ハーフミラー27をβ
方向に回転させ微調整する。
とつの支点52aを介してはり54に結合させ、
また、はり54は、支点53a,53bによつて
支持されるように構成したものである。第1の調
整ネジ58xは、はり54に係合しており、これ
を回転させて、ハーフミラー27をx方向に移動
させ微調整する。また、第2の調整ネジ58α
は、支持部材51に係合し、ハーフミラー27を
α方向に回転させ微調整する。第3の調整ネジβ
は、第7図と同様に構成されている支持部材51
を押圧することによつて、ハーフミラー27をβ
方向に回転させ微調整する。
なお、上記の実施例において、ミラー24,2
5は第5図以外の他の構成の支持部材に取付ける
ようにしてもよい。
5は第5図以外の他の構成の支持部材に取付ける
ようにしてもよい。
(本考案の効果)
以上説明したように、本考案は、スケール面か
らの反射回析光を混合干渉させるハーフミラーの
取り付け部を、弾性変形可能の材料で構成すると
共に前記ハーフミラーが取付けられた支持部材
と、支点とこの支点から僅かな距離l1を隔てて設
けられ支持部材に作用する作用点部と支点から距
離l1より長い距離L1だけ離れた位置に設けられた
調整ネジとを有するはりとで構成したものであ
る。
らの反射回析光を混合干渉させるハーフミラーの
取り付け部を、弾性変形可能の材料で構成すると
共に前記ハーフミラーが取付けられた支持部材
と、支点とこの支点から僅かな距離l1を隔てて設
けられ支持部材に作用する作用点部と支点から距
離l1より長い距離L1だけ離れた位置に設けられた
調整ネジとを有するはりとで構成したものであ
る。
従つて、本考案によれば、ハーフミラーの設置
位置や角度(これらの位置や角度は周囲温度や湿
度の変化に対しても微妙に変化する)を調整ネジ
のピツチに比べて、より細かく容易に微調整する
ことができるようになり、光学式スケール読取装
置を実用化する上で大きく貢献している。
位置や角度(これらの位置や角度は周囲温度や湿
度の変化に対しても微妙に変化する)を調整ネジ
のピツチに比べて、より細かく容易に微調整する
ことができるようになり、光学式スケール読取装
置を実用化する上で大きく貢献している。
第1図は特願昭58−39951号で示されている装
置の構成図、第2図はハーフミラーで干渉すると
きの位相関係を示す図、第3図は入射角と受光素
子間の関係を示す図、第4図は本考案に係る装置
の構成図、第5図はミラーの取付部分の構成図、
第6図〜第8図はハーフミラーの取付部分の要部
構成図である。 21……可干渉性光源、23……反射スケー
ル、24,25……ミラー、26,27……ハー
フミラー、28,29……受光素子、51……支
持部材、54……はり、57,58……調整ネ
ジ。
置の構成図、第2図はハーフミラーで干渉すると
きの位相関係を示す図、第3図は入射角と受光素
子間の関係を示す図、第4図は本考案に係る装置
の構成図、第5図はミラーの取付部分の構成図、
第6図〜第8図はハーフミラーの取付部分の要部
構成図である。 21……可干渉性光源、23……反射スケー
ル、24,25……ミラー、26,27……ハー
フミラー、28,29……受光素子、51……支
持部材、54……はり、57,58……調整ネ
ジ。
Claims (1)
- 【実用新案登録請求の範囲】 可干渉光源からの可干渉光が照射される反射形
スケールと、この反射形スケールで回析された反
射回析光を混合干渉させ、出射する干渉光同士の
位相差が90°となるようにするためのハーフミラ
ーと、このハーフミラーから出射する干渉光をそ
れぞれ受光する受光素子と、この受光素子からの
信号を入力し所定の演算処理を行つて前記スケー
ルの移動量に関する信号を出力する信号処理手段
を具備した光学式スケール読取装置において、 前記ハーフミラーの取り付け部を、 弾性変形可能の材料で構成されると共に前記ハ
ーフミラーが取付けられた支持部材と、 支点とこの支点から僅かな距離l1を隔てて設け
られ前記支持部材に作用する作用点部と支点から
前記距離l1より長い距離L1だけ離れた位置に設け
られた調整ネジとを有するはりとで構成し、 前記調整ネジの回転によつて前記はりを支点を
中心として傾斜させると共に、それにともなつて
生ずる作用点部の変位を支持部材に作用させ、ハ
ーフミラーの設置位置あるいは角度を微調整する
ことを特徴とする光学式スケール読取装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5640184U JPS60169517U (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 光学式スケ−ル読取装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5640184U JPS60169517U (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 光学式スケ−ル読取装置 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPS60169517U JPS60169517U (ja) | 1985-11-11 |
JPH041456Y2 true JPH041456Y2 (ja) | 1992-01-20 |
Family
ID=30579958
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5640184U Granted JPS60169517U (ja) | 1984-04-17 | 1984-04-17 | 光学式スケ−ル読取装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPS60169517U (ja) |
Families Citing this family (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2013145863A (ja) * | 2011-11-29 | 2013-07-25 | Gigaphoton Inc | 2光束干渉装置および2光束干渉露光システム |
Family Cites Families (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS5781510U (ja) * | 1980-11-05 | 1982-05-20 |
-
1984
- 1984-04-17 JP JP5640184U patent/JPS60169517U/ja active Granted
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JPS60169517U (ja) | 1985-11-11 |
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