JPH04295649A - 磁界発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、光磁気記録媒体に対し
てレ−ザビ−ムを照射するとともに、反対側から磁界を
印加して光磁気的に情報の記録、消去を行う光磁気記録
装置などの磁界発生装置に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】この種の光磁気式記録装置において、情
報の記録、消去を行う場合、光学ヘッドを用いて半導体
レ−ザから出射したレ−ザビ−ムを、例えばディスク状
の光磁気媒体に対して照射するとともに、磁界発生装置
によって、その照射位置に対応して、上記光磁気記録媒
体に垂直方向からの外部変調磁界を印加している。上記
磁界発生装置は、例えば、特公昭６３−２１７５４８号
公報に開示されているように、スライダ−の基体１から
前方に延出したフェライトなどよりなる磁気コア２に、
線状のコイル３を捲回し、磁界発生部を構成している（
図２（ａ）および（ｂ）参照）。ここでは、記録媒体に
対向する浮上面５の前側にテ−パ部６を形成している。 そして、上記スライダ−自体は、弾性支持体（図示せず
）で支持され、上記記録媒体は、図中、Ｘ方向に走行し
、スライダ−浮上面とμｍオ−ダの間隙を保ち、浮上さ
れる。なお、上記基体１はフェライトなどで構成され、
磁気コアと一体的に形成される場合もあるが、上記磁気
コアとは別体で構成され、その材質も非磁性セラミック
などが用いられることもある。

【０００３】このような構成では、発生磁界の均一領域
が狭かったり、インダクタンスが大きく、高周波駆動に
不適当である。そこで、薄膜技術を駆使して、基体１上
に薄膜コイルを形成する方法も既に提唱されている。例
えば、特開平２−２３５２０４号公報には、図３に示す
ように、磁性基体１上に絶縁層８を介して薄膜コイル３
を形成し、その最内端をコンタクト部１１を介してリ−
ド１０に接続するとともに、上記薄膜コイル３の端子１
２を、ボンディングスペ−スをとるために、上記薄膜コ
イル３の位置より低い所で、上記基体１に形成したもの
が、開示されている。ここでも、薄膜コイル３の表面に
は、保護膜９が形成されており、また、上記端子１２の
位置に、弾性支持部材（図示せず）が接続される。そし
て、この基体３をスライダ−として使用する時、上記薄
膜コイル３のある領域が、浮上面５となる。

【０００４】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
構成の磁界発生装置では次のような欠点がある。 （１）　　浮上面が、１つの面で構成されているので、
浮上時の空気圧力分布は、記録媒体の走行方向に対して
直角の面において中心部が最大となるから、スライダ−
のロ−リングやピッチングが発生し易く、浮上走行が安
定しない。 （２）　　媒体の盤振れや装置の振動などの外乱に弱く
、記録媒体との間でクラッシュが発生し易い。 （３）　　コイル保護層が、ポリイミドなどの有機樹脂
であると、ゴミなどでクラッシュを生じ易い。 （４）　　上記基体の浮上面の陵部に、上記端子の引出
し部が露出しているので、エッジ部のクラッシュに対す
るスライダ−の保護が不充分となる。

【０００５】

【発明の目的】本発明は、上記事情に基いてなされたも
ので、記録媒体の走行時に、その走行方向の空気流を整
流する働きを、スライダ−の浮上面の形状で与え、安定
した浮上走行を行えるようにするとともに、低インダク
タンスで高周波駆動できる磁界発生装置を提供しようと
するものである。

【０００６】

【課題を解決するための手段】このため、本発明では、
記録媒体に対向した浮上面に位置して、スライダ−の基
体に、薄膜コイルを形成し、磁界発生部を構成している
磁界発生装置において、上記浮上面には、記録媒体の走
行方向に延びる凸部を並列配置し、少なくとも１つの凸
部には、上記薄膜コイルが位置され、その凸部に、酸化
物あるいは窒化物よりなる保護膜が平坦に被覆してある
。

【０００７】

【実施例】以下、本発明の一実施例を図１（ａ）および
図１（ｂ）を参照して具体的に説明する。ここでは、ス
ライダ−の基体１が軟磁性フェライトで構成されており
、その浮上面５には、記録媒体の走行方向に延びる溝条
７を挟んで、左右側に２つの凸部を並列配置しており、
少なくとも１つの凸部には、薄膜技術により、２層の絶
縁層８を介して薄膜コイル３が形成される。また、上記
絶縁層８間に位置して、リ−ド１０が形成され、上記薄
膜コイル３の最内周端に接続されている。上記リ−ド１
０および上記薄膜コイル３の最外周端から延びるリ−ド
部には、上記スライダ−の一側に形成されたバンク（こ
れは上記凸部より低く、傾斜面を介して上記凸部上面と
連続している）に設けられている端子１２が、電気的に
接続されており、そこに外部リ−ドがボンディング１３
してある。そして、上記凸部の上面には、酸化物あるい
は窒化物よりなる保護膜９が平坦に被覆してある。

【０００８】このようなスライダ−の基体１は、その基
端に位置して、弾性支持部材１４が接続してある。そし
て、記録媒体の走行時、その上面へスライダ−が押し付
けられる力と空気流による浮力とのバランスで、上記ス
ライダ−は、所要の浮上状態を得ている。

【０００９】次に、上記基体１に薄膜コイルなどを形成
するための製造手順を具体的に説明する。ここでは、基
体１として、Ｍｎ−Ｚｎフェライトなどの高周波損失の
少ない軟磁性材料が使用される。この基体の上面には、
上述のようなバンクが形成してあり、これを含む全ての
面に、先ず、ＳｉＯ２　、Ａｌ２　Ｏ３　などの絶縁材
による薄膜状の絶縁層８を形成する。次に、下部のリ−
ド１０となるＣｕなどの導電材料で、成膜する。そして
、上記リ−ド１０に見合うパタ−ンで、フォトリソグラ
フィ−により、成形する。このようにして絶縁層８を成
形した後、更に、これに重ねて、絶縁層８を形成し、そ
の上に、コイル内周のコンタクト部を開口し、次いで、
Ｃｕなどの材料で、薄膜コイル３を形成し、更に、端子
１２の部分を成膜する。なお、上記端子１２の部分は、
上記コイルと同時に形成しても良い。なお、２層目の絶
縁層８に対しては、平坦化がなされてもよい。

【００１０】次に、ＳｉＯ２　、Ａｌ２　Ｏ３　、Ｍｇ
Ｏ、ＺｒＯ２　、Ｙ２　Ｏ３　などの酸化物や、Ｓｉ３
　Ｎ４　、ＢＮ、ＡｌＮなどの窒化物を用いて、機械的
強度に優れた耐摩耗性の保護膜９を全面にわたって形成
する。なお、上記保護膜９は、１０μｍ以上に厚く形成
されるとよい。その後、機械加工により、上記基体１の
浮上面に溝条７を形成し、その左右に凸部を構成する。 更に、その基体１の浮上面に、ラッピングなどで、平坦
化を行い、テ−パ面６も形成する。最終的には、保護膜
の一部を除去して端子１２を露出する。

【００１１】このように構成することで、スライダ−は
、左右２個の凸部により、記録媒体上に支えられ、溝条
７の働きで、空気の流れを整え、ロ−リングやピッチン
グを少なくし、安定な浮上走行を可能にする。なお、上
記凸部の形状、溝条７の断面形状、幅、長さなどを適当
に選ぶことで、所望の浮上力を得ることができる。

【００１２】なお、浮上面からコイル面までの距離は、
記録媒体の記録面における磁界強度に与える影響が大き
いので、μｍオ−ダのコントロ−ルが必要である。この
場合、上記実施例では、スライダ−の一部が、コイルの
ための磁気ヨ−クを兼ねているので、組立誤差がなく、
しかも、スライド面（浮上面）が同一材料で構成されて
いるために、異種材料の場合のように段差を生じないか
ら、研磨時の精度も高く、信頼性の高い磁界発生装置を
実現できる。

【００１３】また、上記スライド面は、耐摩耗性の良い
材料が用いられることで、ゴミなどが原因となるクラシ
ュを避けることが出来る。特に、この実施例では、凸部
のエッジまで、保護膜が覆っているから、この点での信
頼性が高い。更に、スライダ−が一体構成なので、磁気
コアとスライダ−との複合構成の場合のように、接着ガ
ラスが浮上面に出てくることがないので、クラッシュの
回避に対する信頼性が高く、また、熱処理工程や、組立
工程が省けるのでコスト低減が図れる。

【００１４】なお、上記実施例では、薄膜コイルが１層
であるが、多層に構成して、コイルタ−ン数を増しても
良い。また、上記実施例では、溝条の加工に機械加工を
採用しているが、イオンビ−ムエッチングや、リアクテ
ィブイオンエッチングあるいはそれらのエッチバック平
坦化処理など、薄膜技術によって、ウェハ上で処理する
ことも可能である。これによって、更にコストダウンを
図ることができ、加工精度の向上も期待でき、浮上特性
の制御性も、向上できる。

【００１５】また、上記実施例ではスライダ−基体１に
Ｍｎ−Ｚｎフェライトが使用されたが、Ａｌ２　Ｏ３　
−ＴｉＣやＢａＴｉＯ３などの非磁性セラミックあるい
は結晶化ガラスなどの材料を用いて構成しても良い。こ
の場合、薄膜コイルに対応する磁気コアが無いので、発
生磁界は数１０％低下するが、インダクタンスが小さく
なると共に高周波損失も減少し、高周波駆動の面で、よ
りすぐれた性能を発揮できる。

【００１６】

【発明の効果】本発明は、以上詳述したように構成され
るので、浮上走行にさいして、安定性が向上し、浮上走
行の最適設計が可能となり、発生磁界強度のばら付きが
少なく、ゴミなどの原因によるクラッシュが避けられ、
また、複合型のスライダ−に比べて低コストで提供でき
、しかも、磁界発生が均一で、高周波駆動に適するなど
の効果を発揮できる。

【図面の簡単な説明】

【図１（ａ）】本発明の１実施例を示すスライダ−の斜
視図である。

【図１（ｂ）】上記実施例の端面図である。

【図２（ａ）】従来例のスライダ−の側面図である。

【図２（ｂ）】従来例のスライダ−の平面図である。

【図３（ａ）】別の従来例の平面図である。

【図３（ｂ）】上記従来例の端面図である。

【符号の説明】

１　　　　　　スライダ−の基体 ３　　　　　　薄膜コイル ５　　　　　　浮上面 ７　　　　　　溝条 ８　　　　　　絶縁層 ９　　　　　　保護膜 １０　　　　　　リ−ド １２　　　　　　端子 １３　　　　　　ボンディング

Claims (3)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　記録媒体に対向した浮上面に位置して
   、スライダ−の基体に、薄膜コイルを形成し、磁界発生
   部を構成している磁界発生装置において、上記浮上面に
   は、記録媒体の走行方向に延びる凸部を並列配置し、少
   なくとも１つの凸部には、上記薄膜コイルが位置され、
   その凸部に、酸化物あるいは窒化物よりなる保護膜が平
   坦に被覆してあることを特徴とする磁界発生装置。
2. 【請求項２】　　上記基体は軟磁性フェライトで一体に
   構成されていることを特徴とする請求項１に記載の磁界
   発生装置。
3. 【請求項３】　　上記基体は非磁性材料で一体に構成さ
   れていることを特徴とする請求項１に記載の磁界発生装
   置。