JPH04291684A - Thick line plotter - Google Patents

Thick line plotter

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JPH04291684A
JPH04291684A JP5658391A JP5658391A JPH04291684A JP H04291684 A JPH04291684 A JP H04291684A JP 5658391 A JP5658391 A JP 5658391A JP 5658391 A JP5658391 A JP 5658391A JP H04291684 A JPH04291684 A JP H04291684A
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JP
Japan
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plane
mask
thick line
word
point
Prior art date
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Pending
Application number
JP5658391A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takayuki Minemaru
貴行 峯丸
Mikio Fujiwara
藤原 美貴雄
Hisashi Takayama
久 高山
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP5658391A priority Critical patent/JPH04291684A/en
Publication of JPH04291684A publication Critical patent/JPH04291684A/en
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Abstract

PURPOSE:To speed up plotting by executing masking operation in a mask plane and writing data in an external memory in each word in the case of plotting a thick line. CONSTITUTION:An auxiliary control device 6 starts to form a signal for specifying a reference point for the plotting of a thick line based upon a control signal applied from a CPU 7. The formed signal is inputted to a mask operation control circuit 3. Receiving the signal, the circuit 3 controls masking operation on the mask plane 2. The mask plane 2 executes masking operation between the data of pen point pattern sent from a pen point plane 4 and data stored in itself and an output control part 5 executes masking operation between the masking operation result and the data of a specified address on a plotting plane 11 and outputs the result to a data bus 10 in each word.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、DTP,CG等におい
てコンピュータディスプレイ表示に用いられる太線描画
装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a thick line drawing device used for computer display display in DTP, CG, etc.

【0002】0002

【従来の技術】従来、ディスプレイ上に太線を描画する
方法としては、1点1画素の大きさからなる太線を書く
際の中心線(以下、ガイドラインと呼ぶ。)となる線分
とそれに平行な複数の線分を用いて、これらをフレーム
メモリ等の外部メモリで構成される描画平面に描画する
ことで太線を描画する、例えば特開昭62−16928
2号公報に記載される様な方法や、ガイドラインの各点
を、筆先パターンを保持している筆先平面内の基準点と
対応させてマスク演算を行ない、これを繰り返すことに
より描画平面に太線を描画するという方法があった。
[Prior Art] Conventionally, as a method for drawing thick lines on a display, a line segment that is the center line (hereinafter referred to as a guideline) when drawing a thick line with a size of one pixel per point, and a line segment parallel to the center line (hereinafter referred to as a guideline), For example, Japanese Patent Laid-Open No. 16928/1983 draws thick lines by using multiple line segments and drawing them on a drawing plane configured with an external memory such as a frame memory.
Using the method described in Publication No. 2, mask calculation is performed by making each point of the guideline correspond to the reference point in the brush tip plane that holds the brush tip pattern, and by repeating this process, thick lines can be drawn on the drawing plane. There was a way to do it by drawing.

【0003】図17は後者の方法で太線を描画する場合
の概略を示した図で、筆先パターン34の形状で、描画
平面35に対して基準点36に対応させてマスク演算を
施した例である(同図(a))。マスク演算は、斜線部
38〜42の順に施される(同図(b))。
FIG. 17 is a diagram schematically showing the case of drawing a thick line using the latter method, and is an example in which a mask operation is performed on a drawing plane 35 in correspondence with a reference point 36 in the shape of a brush tip pattern 34. ((a) in the same figure). The mask calculation is performed in the order of the shaded areas 38 to 42 ((b) in the same figure).

【0004】0004

【発明が解決しようとする課題】しかしながら前者の場
合には、線分を基準としているので、描画処理の高速性
があるが、自由曲線を太線とする場合に、滑らかさが得
られないと言う問題点があった。また、滑らかさを得る
ために線分を短くして行うことは可能であるが、この場
合は滑らかさに限界があり、また描画の高速性が損なわ
れる。
[Problem to be solved by the invention] However, in the former case, since the line segment is used as a reference, the drawing process is fast, but smoothness cannot be obtained when the free curve is made into a thick line. There was a problem. Furthermore, although it is possible to shorten the line segments in order to obtain smoothness, in this case there is a limit to the smoothness and the high speed of drawing is impaired.

【0005】後者の場合は、ガイドラインに沿ってマス
ク演算を繰り返すため、滑らかさの点では優れているが
、図17(b)に示す様に、注目点37は2回重複して
マスク演算が施されている。図17(a)では、筆先パ
ターン34として2画素×2画素のパターンを用いたた
め、重複回数が2回と少なかったが、数画素×数画素の
パターンを用いると同一点を画素単位で何回もマスク演
算することとなり、フレームメモリ等の外部メモリをア
クセスする回数が多くなるため、高速な描画処理をしに
くいと言う問題点があった。
In the latter case, the mask calculation is repeated according to the guideline, so it is superior in terms of smoothness, but as shown in FIG. It has been subjected. In FIG. 17(a), a 2 pixel x 2 pixel pattern was used as the brush tip pattern 34, so the number of overlaps was small at 2. However, if a several pixel x several pixel pattern is used, the same point can be repeated pixel by pixel. Also, mask calculations are required, which increases the number of times external memory such as frame memory is accessed, making it difficult to perform high-speed drawing processing.

【0006】本発明は上記問題点を除去し、自由曲線を
太線描画する場合でも滑らかさを維持し、かつ高速描画
の可能な太線描画装置を提供することを目的とする。
SUMMARY OF THE INVENTION It is an object of the present invention to provide a thick line drawing device that eliminates the above-mentioned problems, maintains smoothness even when drawing a free curve as a thick line, and is capable of drawing at high speed.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】本発明は、太線を描画す
る場合に、太線を描画する1点1画素の大きさからなる
ガイドラインの各点を、筆先パターンを保持している筆
先平面内の基準点と対応させてマスク演算を行ない、こ
れを繰り返すことにより太線を描画する際に、筆先平面
と描画平面を直接マスク演算する替わりに、Mワード×
(Nワード+2画素)の大きさを有するマスク平面と筆
先平面の間でマスク演算を行ない、演算結果をワード単
位で出力し、ワード単位で描画平面内の対応するアドレ
スのデータとのマスク演算を施し、その結果を描画平面
に描画する様にしたものである。
[Means for Solving the Problems] When drawing a thick line, the present invention allows each point of a guideline, which has a size of one pixel, to draw the thick line, to be placed within the brush tip plane holding the brush tip pattern. By performing mask calculation in correspondence with the reference point and repeating this process, when drawing a thick line, instead of directly masking the brush tip plane and drawing plane, M words x
A mask operation is performed between the mask plane having a size of (N words + 2 pixels) and the brush tip plane, the operation result is output in word units, and the mask operation with the data of the corresponding address in the drawing plane is performed in word units. The result is drawn on the drawing plane.

【0008】[0008]

【作用】本発明によれば、上記のように筆先平面とマス
ク平面のマスク演算をガイドラインに沿って実施するの
で、得られる太線は滑らかである。また、マスク平面か
ら出力される演算結果はマスク平面内で重複演算が施さ
れた結果であり、外部メモリで構成される描画平面に描
画する回数が減少する上に、描画平面に対するワード単
位のアクセスが可能であるので、太線の高速描画が可能
となり、マスク演算処理を高速に実施することができる
[Operation] According to the present invention, the mask calculation of the brush tip plane and the mask plane is performed along the guideline as described above, so that the obtained thick line is smooth. In addition, the calculation results output from the mask plane are the results of multiple operations performed within the mask plane, which reduces the number of times the drawing plane is composed of external memory, and also allows word-by-word access to the drawing plane. Therefore, thick lines can be drawn at high speed, and mask calculation processing can be performed at high speed.

【0009】[0009]

【実施例】図1に本発明の一実施例の太線描画装置の構
成図を示す。次に、本発明の一実施例の太線描画装置を
図面を用いて詳細に説明する。
DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS FIG. 1 shows a block diagram of a thick line drawing apparatus according to an embodiment of the present invention. Next, a thick line drawing apparatus according to an embodiment of the present invention will be explained in detail using the drawings.

【0010】太線描画装置1は、マスク演算を実施する
ための論理回路と演算結果を保持するレジスタ等で構成
されたマスク平面2と、マスク平面2でのマスク演算処
理を制御するマスク演算制御回路3と、筆先の形を保持
するRAMあるいはレジスタ等で構成された筆先平面4
と、1ワード単位でマスク演算結果を出力する出力制御
部5と、ガイドラインの各点の座標値を保持するメモリ
、ディジタル微分解析回路(DDA)等により構成され
、マスク演算制御回路3に太線を描く際の基準点を与え
る補助制御装置6で構成される。
The thick line drawing device 1 includes a mask plane 2 composed of a logic circuit for carrying out mask operations, a register for holding the operation results, etc., and a mask operation control circuit for controlling the mask operation processing on the mask plane 2. 3, and a brush tip plane 4 composed of RAM or registers that hold the shape of the brush tip.
, an output control unit 5 that outputs the mask calculation result in units of one word, a memory that holds the coordinate values of each point of the guideline, a digital differential analysis circuit (DDA), etc., and the thick line in the mask calculation control circuit 3 It is composed of an auxiliary control device 6 that provides a reference point when drawing.

【0011】CPU7は、制御信号バス8、アドレスバ
ス9、データバス10を通じて筆先平面4に筆先のパタ
ーンを書き込む処理を施したり、補助制御装置6に対し
て太線を描く場合の始点と終点を指示したり、太線描画
処理の開始を指示する。また、太線描画装置1から出力
されたデータは、外部のメモリ(ビデオRAM、フィー
ルドメモリ等)により構成される描画平面11に書き込
まれ、ディスプレイ12に表示される。
The CPU 7 performs a process of writing a brush tip pattern on the brush tip plane 4 through a control signal bus 8, an address bus 9, and a data bus 10, and instructs the auxiliary control device 6 about the start and end points when drawing a thick line. or instructs the start of thick line drawing processing. Further, data output from the thick line drawing device 1 is written on a drawing plane 11 constituted by an external memory (video RAM, field memory, etc.) and displayed on a display 12.

【0012】以下本実施例の装置の動作を説明する。ま
ず、CPU7により、筆先平面4に筆先のパターンを書
き込む処理、補助制御装置6に対して太線描画処理を施
す際の基準点の集合であるガイドラインの始点と終点を
指示する処理が施される。ついで、CPU7より処理開
始の信号が補助制御装置6に与えられ、太線描画装置1
において処理が開始される。
The operation of the apparatus of this embodiment will be explained below. First, the CPU 7 performs a process of writing a brush tip pattern on the brush tip plane 4 and a process of instructing the auxiliary control device 6 the starting point and ending point of a guideline, which is a set of reference points when performing thick line drawing processing. Next, a signal to start processing is given from the CPU 7 to the auxiliary control device 6, and the thick line drawing device 1
Processing starts at .

【0013】太線描画装置1では、CPU7より処理開
始の信号が補助制御装置6に与えられると、マスク平面
2内のデータは初期化され、筆先平面4の筆先パターン
とマスク演算が施され、その結果が保持される。
In the thick line drawing device 1, when a signal to start processing is given from the CPU 7 to the auxiliary control device 6, the data in the mask plane 2 is initialized, the brush tip pattern of the brush tip plane 4 is subjected to mask calculation, and the data is Results are retained.

【0014】次に、補助制御装置6よりマスク演算の際
の次の基準点を与える変位量信号が、マスク演算制御回
路3に与えられる。この変位量信号としては、ガイドラ
インが与えられた場合の始点とその次の点との変位量信
号、または太線の始点と終点及び曲線の種類が与えられ
た場合の、ディジタル微分回路から与えられる変位量信
号が用いられる。この変位量信号を受けてマスク演算制
御回路3から出力されるアドレス信号にしたがって、出
力制御部5に描画平面11内のデータが読み込まれる。 また、マスク演算制御回路3から与えられる制御信号に
従い、マスク平面2においてマスク平面2内に保持され
たデータと筆先平面4の筆先パターンとのマスク演算を
施し、マスク演算された結果と、出力制御部5に読み込
まれた描画平面11のデータとをマスク演算し、その結
果を描画平面11内の前記アドレス信号の示す位置に書
き込む。
Next, the auxiliary control device 6 supplies the mask calculation control circuit 3 with a displacement signal that provides the next reference point for mask calculation. This displacement signal can be a displacement signal between the starting point and the next point when a guideline is given, or a displacement signal given from a digital differentiation circuit when the starting point and end point of a thick line and the type of curve are given. A quantity signal is used. Data in the drawing plane 11 is read into the output control section 5 in accordance with an address signal outputted from the mask calculation control circuit 3 in response to this displacement amount signal. Also, according to the control signal given from the mask calculation control circuit 3, a mask calculation is performed on the mask plane 2 between the data held in the mask plane 2 and the brush tip pattern of the brush tip plane 4, and the result of the mask calculation and output control are performed. A mask operation is performed on the data of the drawing plane 11 read into the section 5, and the result is written in the position indicated by the address signal in the drawing plane 11.

【0015】上記の処理を始点から終点まで施し、マス
ク平面2において終点を基準点としたマスク演算を施し
た後、マスク平面2内の全てのデータとそれらに対応す
る描画平面11内のデータとを出力制御部5においてマ
スク演算を施し、演算結果を描画平面11に書き込むこ
とで太線描画処理が完了する。
After performing the above processing from the start point to the end point and performing a mask operation on the mask plane 2 using the end point as a reference point, all data in the mask plane 2 and their corresponding data in the drawing plane 11 are The output control unit 5 performs a mask calculation, and the calculation result is written on the drawing plane 11, thereby completing the thick line drawing process.

【0016】次に、マスク平面2でのマスク演算の様子
を詳しく説明する。図2は、本発明の太線描画装置のマ
スク平面2を示した図で、図中縦軸をY座標、横軸をX
座標とする。マスク平面2は1ワード×1ワードの大き
さの左マスク平面13と、中央マスク平面14と、右マ
スク平面15と、それぞれ3ワード×1画素の大きさの
上部スクロール平面16と、下部スクロール平面17と
1ワード×(1ワード+2画素)の補助平面18の6つ
の平面から構成されている。19は、中央マスク平面1
4の基準点M([n/2],[n/2])([]はガウ
ス記号を表す)である。
Next, the mask operation on the mask plane 2 will be explained in detail. FIG. 2 is a diagram showing the mask plane 2 of the thick line drawing device of the present invention, in which the vertical axis is the Y coordinate and the horizontal axis is the X coordinate.
Coordinates. The mask plane 2 includes a left mask plane 13 having a size of 1 word x 1 word, a center mask plane 14, a right mask plane 15, an upper scroll plane 16 and a lower scroll plane each having a size of 3 words x 1 pixel. 17 and an auxiliary plane 18 of 1 word x (1 word + 2 pixels). 19 is the central mask plane 1
4 reference point M ([n/2], [n/2]) ([ ] represents a Gauss symbol).

【0017】図3は、筆先パターン20を保持する1ワ
ード×1ワードの筆先平面4を示した図で、21は筆先
平面の基準点P([n/2],[n/2])である。
FIG. 3 is a diagram showing a 1 word x 1 word brush tip plane 4 that holds the brush tip pattern 20, and 21 is a reference point P ([n/2], [n/2]) of the brush tip plane. be.

【0018】つぎに図2と図3、本実施例の装置の動作
の様子を示した図4〜図16を用いて太線を描画する動
作について説明する。
Next, the operation of drawing a thick line will be explained using FIGS. 2 and 3 and FIGS. 4 to 16 showing the operation of the apparatus of this embodiment.

【0019】まず、CPU7から補助制御装置6に対し
て、ガイドラインの始点と終点が与えられる。次にCP
U7から与えられる太線描画処理の開始を指示する信号
により、マスク平面2はすべて空白状態にリセットされ
る。
First, the CPU 7 gives the auxiliary control device 6 the starting point and ending point of the guideline. Next, CP
The entire mask plane 2 is reset to a blank state by a signal given from U7 instructing the start of thick line drawing processing.

【0020】次にWワード×H行の大きさの描画平面1
1を図4に示すような1ワード×1行の大きさの短冊状
の部分に分割し、これらW×H×n個の短冊状部分をT
(s,t){0≦s≦(W−1),0≦t≦(H−1)
}で表した場合の、前記始点S0(X0 ,Y0)22
の含まれる短冊状部分T(s0,t0)23の代表点2
4(n・s0+[n/2],t0)に対して、図5に示
すようにマスク平面2内の基準点19を対応させる。こ
れにより描画平面11上の始点S022はマスク平面2
内の点S’0(X’0,Y’0)25に対応付けされる
。ついでマスク平面2内の点S’025と筆先パターン
20を保持する筆先平面4内の基準点P21を一致させ
てマスク平面2と筆先平面4のマスク演算を行なう。こ
れにより図6に示すような図形がマスク平面2に描かれ
る。
Next, draw a drawing plane 1 with a size of W words×H rows.
1 into strip-shaped parts each having a size of 1 word x 1 line as shown in Figure 4, and these W x H x n strip-shaped parts are divided into T
(s, t) {0≦s≦(W-1), 0≦t≦(H-1)
}, the starting point S0(X0,Y0)22
Representative point 2 of the strip-shaped portion T (s0, t0) 23 that includes
4(n·s0+[n/2], t0), the reference point 19 in the mask plane 2 is made to correspond to the reference point 19 as shown in FIG. As a result, the starting point S022 on the drawing plane 11 is set to the mask plane 2.
It is associated with point S'0 (X'0, Y'0) 25 within. Next, the point S'025 in the mask plane 2 and the reference point P21 in the brush tip plane 4 that holds the brush tip pattern 20 are made to coincide with each other, and mask calculations are performed on the mask plane 2 and the brush tip plane 4. As a result, a figure as shown in FIG. 6 is drawn on the mask plane 2.

【0021】次に、補助制御装置6から与えられる基準
点を指示する変位量信号(dX0,dY0)(始点S0
と次の基準点S1との変位量)の組み合わせに応じて、
マスク演算制御回路3より与えられる制御信号により、
マスク平面2内の基準点S’025と筆先平面4内の基
準点P21の対応関係を変化させて、マスク平面2と筆
先平面4のマスク演算を施す。
Next, displacement signals (dX0, dY0) indicating the reference point given from the auxiliary control device 6 (starting point S0
and the next reference point S1).
By the control signal given from the mask calculation control circuit 3,
The correspondence between the reference point S'025 in the mask plane 2 and the reference point P21 in the brush tip plane 4 is changed to perform mask calculations on the mask plane 2 and the brush tip plane 4.

【0022】以下、それぞれの場合に分けて動作を説明
する。また、初期状態(始点に対してマスク演算を施し
た状態)を図7に示す。
The operation will be explained below for each case. Further, FIG. 7 shows an initial state (a state in which a mask operation has been performed on the starting point).

【0023】i)変位量信号(dX0,dY0)=(±
1,0)の場合 点S’025のX座標値を±1した点(この場合はdX
=−1とする。)S’1(X’0−1,Y’0)26と
筆先平面4内の基準点P21とを対応させ、マスク平面
2においてマスク演算を行なう。その結果は図8となる
。図8で、斜線部分27が新たに描かれた部分である。 (以下の図でも斜線部分が新たに描かれた部分を示す。 )ii)変位量信号(dX0,dY0)=(0,±1)
の場合マスク平面1全体をY軸方向に1画素上方あるい
は下方スクロールする。つまりdY1=1ならば、下部
スクロール平面17に左マスク平面13、中央マスク平
面14、右マスク平面15の最下部の1ワード×1画素
の範囲のデータが送られ、上部スクロール平面16にあ
ったデータが左マスク平面13、中央マスク平面14、
右マスク平面15の最上部の1ワード×1画素の範囲に
送られる。また、上部スクロール平面16には空白が与
えられる。
i) Displacement signal (dX0, dY0) = (±
1,0) A point obtained by adding ±1 to the X coordinate value of point S'025 (in this case, dX
=-1. ) S'1 (X'0-1, Y'0) 26 is associated with the reference point P21 in the brush tip plane 4, and a mask calculation is performed on the mask plane 2. The result is shown in FIG. In FIG. 8, the shaded area 27 is the newly drawn area. (Also in the figure below, the shaded area indicates the newly drawn part.) ii) Displacement amount signal (dX0, dY0) = (0, ±1)
In this case, the entire mask plane 1 is scrolled one pixel upward or downward in the Y-axis direction. In other words, if dY1 = 1, the data in the 1 word x 1 pixel range at the bottom of the left mask plane 13, center mask plane 14, and right mask plane 15 is sent to the lower scroll plane 17, and the data that was in the upper scroll plane 16 is sent to the lower scroll plane 17. The data is left mask plane 13, center mask plane 14,
It is sent to a 1 word x 1 pixel area at the top of the right mask plane 15. Also, the upper scroll plane 16 is provided with blank space.

【0024】Y軸に添ったスクロールの後、dY1=−
1ならば上部スクロール平面16内の3ワードのデータ
が、dY1=1ならば下部スクロール平面17内の3ワ
ードのデータが、出力制御部5において描画平面11と
のマスク演算に用いられることになる。ただし、描画平
面11とのマスク演算の際に、各ワードのデータが全て
空白である場合は、そのワードのマスク演算はスキップ
される。
After scrolling along the Y axis, dY1=-
If dY1 = 1, the 3-word data in the upper scroll plane 16 will be used, and if dY1 = 1, the 3-word data in the lower scroll plane 17 will be used in the mask calculation with the drawing plane 11 in the output control unit 5. . However, when the data of each word is all blank during the mask calculation with the drawing plane 11, the mask calculation for that word is skipped.

【0025】また、描画平面11とのマスク演算の間に
点S’025のY座標値を±1した点S’1(X’0,
Y’0±1)26と筆先平面4内の基準点P21とを対
応させ、マスク平面2においてマスク演算を実施する。 この動作は、先に行なったスクロール動作により、見か
け上は点S’025と点S’126は一致する。dY1
=1の場合の演算結果を図9に示す。
Also, during the mask calculation with the drawing plane 11, the Y coordinate value of point S'025 is changed by ±1 to point S'1(X'0,
Y'0±1) 26 is associated with the reference point P21 in the brush tip plane 4, and a mask calculation is performed on the mask plane 2. In this operation, points S'025 and S'126 appear to coincide due to the previously performed scrolling operation. dY1
The calculation results in the case of =1 are shown in FIG.

【0026】iii)変位量信号(dX1,dY1)=
(±1,±1)の場合(正負は任意) まず、i)の場合と同様に点S’025のX座標値を±
1した点S’1(X’0±1,Y’0)26と筆先平面
4内の基準点P21とを対応させる。次いで、ii)の
場合と同様にY軸に添ってマスク平面2をスクロールさ
せ、出力制御部5において上部、下部いずれかのスクロ
ール平面に送られたデータと描画平面11の間でマスク
演算を施すと同時に、マスク平面2においてマスク平面
2と筆先平面4間のマスク演算を実行する。この場合の
演算結果を図10(dX1=−1,dY1=1の場合)
に示す。
iii) Displacement signal (dX1, dY1)=
(±1, ±1) (sign is arbitrary) First, as in case i), set the X coordinate value of point S'025 to ±
The point S'1 (X'0±1, Y'0) 26 made by 1 is made to correspond to the reference point P21 in the brush tip plane 4. Next, as in case ii), the mask plane 2 is scrolled along the Y axis, and the output control unit 5 performs a mask operation between the data sent to either the upper or lower scroll plane and the drawing plane 11. At the same time, a mask calculation between the mask plane 2 and the brush tip plane 4 is executed on the mask plane 2. Figure 10 shows the calculation results in this case (when dX1=-1, dY1=1)
Shown below.

【0027】以下、時系列信号として与えられる基準点
Siと次の基準点Si+1との変位量を与える(dXi
,dYi)信号に対して以上のような動作を繰り返し実
行する内に、図11に示す様に、筆先平面4とマスク平
面2とのマスク演算を施す場合の基準点S’i28が、
中央マスク平面14から左マスク平面13あるいは右マ
スク平面15に移動する場合が発生する。
Hereinafter, the amount of displacement between the reference point Si given as a time-series signal and the next reference point Si+1 will be given (dXi
, dYi), the reference point S'i28 when performing the mask calculation between the brush tip plane 4 and the mask plane 2 becomes as shown in FIG.
A case may occur in which the mask plane moves from the central mask plane 14 to the left mask plane 13 or to the right mask plane 15.

【0028】この場合について、筆先平面4とマスク平
面2とのマスク演算を施す場合の基準点S’i28が中
央マスク平面14から左マスク平面13に移動する場合
を例にとり説明する。
This case will be explained by taking as an example a case where the reference point S'i 28 when performing mask calculation between the brush tip plane 4 and the mask plane 2 moves from the center mask plane 14 to the left mask plane 13.

【0029】まず、右マスク平面15の全データを補助
平面18に、中央マスク平面14の全データを右マスク
平面15に、左マスク平面13の全データを中央マスク
平面14に転送する(図12参照)。
First, all data on the right mask plane 15 is transferred to the auxiliary plane 18, all data on the center mask plane 14 is transferred to the right mask plane 15, and all data on the left mask plane 13 is transferred to the center mask plane 14 (FIG. 12). reference).

【0030】次いで左マスク平面13の全データを初期
化する。この操作を実行することにより、マスク平面2
内のデータは1ワード分右シフトすることとなる。その
ため、図12に示す様に操作前の点S’i(0,[n/
2])28は点S”i+1(n−1,[n/2])29
に移動する。
Next, all data on the left mask plane 13 is initialized. By performing this operation, mask plane 2
The data within will be shifted to the right by one word. Therefore, as shown in FIG. 12, the point S'i(0, [n/
2]) 28 is the point S"i+1 (n-1, [n/2]) 29
Move to.

【0031】次に、前記したdYiの値についての処理
をマスク平面2と補助平面18に対して施し、dYi=
−1の場合は上部スクロール平面16と補助平面18の
最上部1ワード、dYi=1の場合は下部スクロール平
面17と補助平面18の最下部1ワードのデータを描画
平面11に対してマスク演算すると共に、点S”i+1
29から移動した点S’i+130(見かけ上の位置は
変わらない)と筆先平面4内の基準点P21を対応させ
、マスク演算を実施する(図13はdYi=0の場合)
。ただし、この一連の操作の間には補助平面18の上下
の1ワード×1画素の大きさの2つの部分を除いた部分
と描画平面11とのマスク演算は実施せず、補助平面1
8にデータが保持される。このデータの処理は、次に本
装置に与えられる時系列信号(dXi+1,dYi+1
)に依存する。
Next, the process for the value of dYi described above is applied to the mask plane 2 and the auxiliary plane 18, and dYi=
If dYi = 1, the data of the top one word of the upper scroll plane 16 and the auxiliary plane 18 is masked, and if dYi = 1, the data of the bottom one word of the bottom scroll plane 17 and the auxiliary plane 18 is masked to the drawing plane 11. and the point S”i+1
The point S'i+130 moved from 29 (apparent position remains unchanged) is associated with the reference point P21 in the brush tip plane 4, and a mask calculation is performed (FIG. 13 shows the case when dYi=0).
. However, during this series of operations, no mask calculation is performed between the drawing plane 11 and the portion of the auxiliary plane 18 excluding the two upper and lower portions of 1 word x 1 pixel.
Data is held at 8. The processing of this data is then performed using a time series signal (dXi+1, dYi+1) given to this device.
).

【0032】以下、それぞれの時系列信号(dXi+1
,dYi+1)についての処理について説明する。
[0032] Below, each time series signal (dXi+1
, dYi+1) will be explained.

【0033】 i)dXi+1=0の場合(dYi+1=±1)この場
合は、前記したdYi+1の値による処理を実施する。 また、補助平面18に対してスクロール操作を施し、補
助平面18の最上部あるいは最下部の1画素×1ワード
の部分にデータが存在する場合は、描画平面11に対し
てマスク演算を施す。ただし、この処理を施した後も、
これ以後の時系列信号のdXi+kが、0である限り、
補助平面18のデータを保存したまま処理を施して行く
。図14はdXi+1=0,dYi+1=1の場合を示
し、点S’i+130は点S’i+232に移動する。
i) Case of dXi+1=0 (dYi+1=±1) In this case, the processing based on the value of dYi+1 described above is performed. Further, a scroll operation is performed on the auxiliary plane 18, and if data exists in a 1 pixel x 1 word portion at the top or bottom of the auxiliary plane 18, a mask operation is performed on the drawing plane 11. However, even after this treatment,
As long as dXi+k of the time series signal after this is 0,
Processing continues while the data of the auxiliary plane 18 is saved. FIG. 14 shows a case where dXi+1=0 and dYi+1=1, and point S'i+130 moves to point S'i+232.

【0034】 ii)dXi+1=−1の場合(dYi+1=±1,0
)この場合は前記したdXi+1=−1,dYi+1の
値による処理を実施する(図15はdYi+1=0の場
合であり、点S’i+130は点S’i+232に移動
する)。この間に補助平面18のnワードのデータを描
画平面11に対してマスク演算し、補助平面18はその
データを全てマスク演算した後初期化される。
ii) When dXi+1=-1 (dYi+1=±1,0
) In this case, the above-described processing is performed using the values of dXi+1=-1 and dYi+1 (FIG. 15 shows the case where dYi+1=0, and point S'i+130 is moved to point S'i+232). During this time, the n-word data of the auxiliary plane 18 is subjected to a mask operation on the drawing plane 11, and the auxiliary plane 18 is initialized after performing the mask operation on all the data.

【0035】 iii)dXi+1=1の場合(dYi+1=±1,0
)この場合は、まず先程の右シフトの逆の操作を行なう
。 つまり、中央マスク平面14の全データを左マスク平面
13に、右マスク平面15の全データを中央マスク平面
14に、補助平面18の全データを右マスク平面15に
転送する。
iii) When dXi+1=1 (dYi+1=±1,0
) In this case, first perform the reverse operation of the right shift. That is, all data on the central mask plane 14 is transferred to the left mask plane 13, all data on the right mask plane 15 is transferred to the central mask plane 14, and all data on the auxiliary plane 18 is transferred to the right mask plane 15.

【0036】次いで補助平面18の全データを初期化す
る。この操作の後、前記したdYi+1の値による処理
を実施する。以上の操作を実施することにより、ワード
の境界において1ビットの進退があった場合でも効率的
に処理が実施可能となる。この場合の処理結果を図16
(dYi+1=0の場合)に示す。
Next, all data on the auxiliary plane 18 is initialized. After this operation, processing using the value of dYi+1 described above is performed. By performing the above operations, processing can be performed efficiently even when there is a 1-bit advance or retreat at a word boundary. Figure 16 shows the processing results in this case.
(When dYi+1=0).

【0037】以上、筆先平面4とマスク平面2とのマス
ク演算を施す場合の基準点S’i28が、中央マスク平
面14から左マスク平面13に移動する場合を例にとり
説明したが、筆先平面4とマスク平面2とのマスク演算
を施す場合の基準点S’i28が中央マスク平面14か
ら右マスク平面15に移動する場合は、右シフトと左シ
フト、dXi+1に関する処理では、−1と1の場合を
置き換えることで施されるので詳細な説明は割愛する。
The above description has been made using an example in which the reference point S'i 28 when performing mask calculation between the brush tip plane 4 and the mask plane 2 moves from the center mask plane 14 to the left mask plane 13. When the reference point S'i 28 is moved from the center mask plane 14 to the right mask plane 15 when performing a mask calculation between Since this is done by replacing , a detailed explanation will be omitted.

【0038】このようにしてガイドラインの終点まで太
線を描画し、終点に達した場合は、マスク平面内の全て
のデータを1画素づつ下方向にスクロールし、下部スク
ロール平面17にデータを送り、このデータを描画平面
11に対してマスク演算する。この処理は、縦方向n画
素長のデータが全てマスク演算されるまで実施され、太
線の描画が完了する。
In this way, a thick line is drawn to the end point of the guideline, and when the end point is reached, all the data in the mask plane is scrolled down one pixel at a time, the data is sent to the lower scroll plane 17, and this A mask operation is performed on the data on the drawing plane 11. This process is carried out until all the data of length n pixels in the vertical direction are subjected to the mask calculation, and the drawing of the thick line is completed.

【0039】なお、本発明の太線描画装置から出力され
るワード単位データに対して、カラーレジスタ等を参照
させることで、色付き太線を描画することも可能である
Note that it is also possible to draw a colored thick line by referring to a color register or the like with respect to the word unit data output from the thick line drawing device of the present invention.

【0040】また、筆先平面内に保持される筆先パター
ンを変化させることで様々な形状の太線を容易に描くこ
とも可能である。
Furthermore, by changing the brush tip pattern held within the brush tip plane, thick lines of various shapes can be easily drawn.

【0041】[0041]

【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
太線を描画する場合に、筆先平面とマスク平面のマスク
演算をガイドラインに沿って実施するので、滑らかな太
線を描くことが可能となり、また、マスク平面から出力
される演算結果はマスク平面内で重複演算が施された結
果であり、外部メモリで構成される描画平面に描画する
回数が減少する上に、演算結果をワード単位で出力する
ので、描画平面に対するワード単位のアクセスを実行す
ることで、マスク演算処理を高速に実施することが可能
となる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention,
When drawing thick lines, mask calculations are performed between the brush tip plane and the mask plane according to the guidelines, making it possible to draw smooth thick lines. Also, the calculation results output from the mask plane do not overlap within the mask plane. This is the result of the calculation, and in addition to reducing the number of times it is drawn on the drawing plane made up of external memory, the calculation result is output in units of words, so by accessing the drawing plane in units of words, It becomes possible to perform mask calculation processing at high speed.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の一実施例の太線描画装置の構成図であ
る。
FIG. 1 is a configuration diagram of a thick line drawing device according to an embodiment of the present invention.

【図2】同実施例におけるマスク平面の構成図である。FIG. 2 is a configuration diagram of a mask plane in the same embodiment.

【図3】同実施例における筆先平面の構成図である。FIG. 3 is a configuration diagram of a brush tip plane in the same embodiment.

【図4】太線描画を開始する際の描画平面の様子を示し
た図である。
FIG. 4 is a diagram showing the state of the drawing plane when thick line drawing is started.

【図5】太線描画を開始する際の描画平面とマスク平面
との対応付けの様子を示した図である。
FIG. 5 is a diagram showing how a drawing plane and a mask plane are associated when starting thick line drawing.

【図6】マスク平面と筆先平面の対応の様子を示した図
である。
FIG. 6 is a diagram showing the correspondence between a mask plane and a brush tip plane.

【図7】始点に対してマスク演算を行なった直後のマス
ク平面の様子を示した図である。
FIG. 7 is a diagram showing the appearance of a mask plane immediately after mask calculation is performed on a starting point.

【図8】(dX0,dY0)=(−1,0)の場合の処
理を施した後のマスク平面の様子を示した図である。
FIG. 8 is a diagram showing the state of the mask plane after processing in the case (dX0, dY0)=(-1, 0).

【図9】(dX0,dY0)=(0,1)の場合の処理
を施した後のマスク平面の様子を示した図である。
FIG. 9 is a diagram showing the state of the mask plane after processing in the case of (dX0, dY0)=(0, 1).

【図10】(dX0,dY0)=(−1,1)の場合の
処理を施した後のマスク平面の様子を示した図である。
FIG. 10 is a diagram showing the state of the mask plane after processing in the case (dX0, dY0)=(-1, 1).

【図11】基準点S’iが中央マスク平面より移動する
直前のマスク平面の様子を示した図である。
FIG. 11 is a diagram showing the state of the mask plane immediately before the reference point S'i moves from the central mask plane.

【図12】スクロール動作後のマスク平面の様子を示し
た図である。
FIG. 12 is a diagram showing the state of the mask plane after the scrolling operation.

【図13】スクロール動作後、筆先平面とマスク演算を
施した後のマスク平面の様子を示した図である。
FIG. 13 is a diagram showing the state of the brush tip plane after the scroll operation and the mask plane after performing the mask calculation.

【図14】(dXi+1,dYi+1)=(0,1)の
場合の処理を施した後のマスク平面の様子を示した図で
ある。
FIG. 14 is a diagram showing the state of the mask plane after processing when (dXi+1, dYi+1)=(0, 1).

【図15】(dXi+1,dYi+1)=(−1,0)
の場合の処理を施した後のマスク平面の様子を示した図
である。
[Figure 15] (dXi+1, dYi+1) = (-1, 0)
FIG. 3 is a diagram showing the state of the mask plane after processing in the case of .

【図16】(dXi+1,dYi+1)=(1,0)の
場合の処理を施した後のマスク平面の様子を示した図で
ある。
FIG. 16 is a diagram showing the state of the mask plane after processing when (dXi+1, dYi+1)=(1, 0).

【図17】従来例の方法で太線描画処理を施す場合の概
略を示した図である。
FIG. 17 is a diagram schematically showing a case where thick line drawing processing is performed using a conventional method.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1  太線描画装置 2  マスク平面 3  マスク演算制御回路 4  筆先平面 5  出力制御部 6  補助制御装置 11  描画平面 13  左マスク平面 14  中央マスク平面 15  右マスク平面 16  上部スクロール平面 17  下部スクロール平面 18  補助平面 1 Thick line drawing device 2 Mask plane 3 Mask calculation control circuit 4 Brush tip plane 5 Output control section 6 Auxiliary control device 11 Drawing plane 13 Left mask plane 14 Central mask plane 15 Right mask plane 16 Upper scroll plane 17 Lower scroll plane 18 Auxiliary plane

Claims (5)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  n画素を1ワード、1画素を1行とす
るWワード×H行の描画平面に太線を描画する場合に、
1点1画素の大きさからなる点の集合である太線を書く
際の中心線の各点を、筆先パターンを保持している筆先
平面内の基準点と対応させてマスク演算を行ない、これ
を繰り返すことにより太線を描画する際に、筆先平面と
描画平面を直接マスク演算する替わりに、Mワード×(
Nワード+2画素)の大きさを有するマスク平面と筆先
平面の間でマスク演算を行ない、演算結果をワード単位
で出力し、ワード単位で描画平面内の対応するアドレス
のデータとのマスク演算を施し、その結果を描画平面に
描画する太線描画装置。
[Claim 1] When drawing a thick line on a drawing plane of W words x H rows, where n pixels are one word and one pixel is one row,
When drawing a thick line, which is a set of points each having a size of one pixel, each point on the center line is associated with a reference point in the brush tip plane that holds the brush tip pattern, and a mask calculation is performed. When drawing thick lines by repeating, instead of directly masking the brush tip plane and drawing plane, M words x (
A mask operation is performed between a mask plane having a size of N words + 2 pixels) and a brush tip plane, the operation result is output in word units, and a mask operation is performed with the data of the corresponding address in the drawing plane in word units. , a thick line drawing device that draws the result on a drawing plane.
【請求項2】  太線を描く場合に、太線を書く際の中
心線の替わりに、太線の始点と終点、ディジタル微分解
析回路より与えられる変位量を用いて太線描画を行なう
請求項1記載の太線描画装置。
2. When drawing a thick line, the thick line is drawn using the start point and end point of the thick line and the displacement amount given by the digital differential analysis circuit instead of the center line used when drawing the thick line. drawing device.
【請求項3】  太線を書く際の中心線を構成する座標
点の集合が与えられ、その各点を基準として次々とマス
ク演算を施す場合に、現在の基準点と次に基準となる点
の間の座標値の変位量を送り、太線を描画する請求項1
記載の太線描画装置。
Claim 3: When a set of coordinate points constituting the center line for drawing a thick line is given, and mask operations are performed one after another using each point as a reference, the current reference point and the next reference point are Claim 1: A thick line is drawn by sending the displacement amount of coordinate values between the two.
The thick line drawing device described.
【請求項4】  描画平面とマスク平面のマスク演算を
ワード単位で行なう場合に、マスク演算を施すそれぞれ
のワードが空白である場合は、そのワードについての演
算をスキップし、つぎのワードの処理を行なう請求項1
記載の太線描画装置。
4. When performing mask operations on the drawing plane and the mask plane in units of words, if each word to be subjected to the mask operation is blank, the operation on that word is skipped and the next word is processed. Claim 1
The thick line drawing device described.
【請求項5】  横方向のワードの境界で1ビットの左
右移動の繰り返しがある場合に、一時的にデータを保持
する1ワード×(Nワード+2画素)の大きさの補助平
面を利用し、マスク演算回数を減少させることを特徴と
する請求項1記載の太線描画装置。
5. When there is repetition of horizontal movement of 1 bit at a horizontal word boundary, an auxiliary plane with a size of 1 word x (N words + 2 pixels) is used to temporarily hold data, 2. The thick line drawing device according to claim 1, wherein the number of mask calculations is reduced.
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Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07152362A (en) * 1993-11-26 1995-06-16 Nec Corp Dot display processor
EP1571181A2 (en) 2004-02-24 2005-09-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Inorganic fine particle dispersion and manufacturing method thereof as well as image-recording material
EP1612054A1 (en) 2004-07-02 2006-01-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Inkjet recording medium
EP2020304A1 (en) 2007-08-03 2009-02-04 FUJIFILM Corporation Ink jet recording medium
EP2055496A2 (en) 2007-11-01 2009-05-06 Fujifilm Corporation Inkjet recording material
WO2010013529A1 (en) 2008-07-30 2010-02-04 富士フイルム株式会社 Ink-jet recording method
WO2010013582A1 (en) 2008-07-30 2010-02-04 富士フイルム株式会社 Ink-jet recording method
EP2436740A1 (en) 2003-09-29 2012-04-04 Fujifilm Corporation Ink for inkjet printing, ink set for inkjet printing, inkjet recording material and producing method for inkjet recording material, and inkjet recording method

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07152362A (en) * 1993-11-26 1995-06-16 Nec Corp Dot display processor
EP2436740A1 (en) 2003-09-29 2012-04-04 Fujifilm Corporation Ink for inkjet printing, ink set for inkjet printing, inkjet recording material and producing method for inkjet recording material, and inkjet recording method
EP1571181A2 (en) 2004-02-24 2005-09-07 Fuji Photo Film Co., Ltd. Inorganic fine particle dispersion and manufacturing method thereof as well as image-recording material
EP2130876A1 (en) 2004-02-24 2009-12-09 FUJIFILM Corporation Inorganic fine particle dispersion and manufacturing method thereof as well as image-recording material
EP1612054A1 (en) 2004-07-02 2006-01-04 Fuji Photo Film Co., Ltd. Inkjet recording medium
EP2020304A1 (en) 2007-08-03 2009-02-04 FUJIFILM Corporation Ink jet recording medium
EP2055496A2 (en) 2007-11-01 2009-05-06 Fujifilm Corporation Inkjet recording material
WO2010013529A1 (en) 2008-07-30 2010-02-04 富士フイルム株式会社 Ink-jet recording method
WO2010013582A1 (en) 2008-07-30 2010-02-04 富士フイルム株式会社 Ink-jet recording method

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