JPH04286852A - 発光素子 - Google Patents

発光素子

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JPH04286852A
JPH04286852A JP5001791A JP5001791A JPH04286852A JP H04286852 A JPH04286852 A JP H04286852A JP 5001791 A JP5001791 A JP 5001791A JP 5001791 A JP5001791 A JP 5001791A JP H04286852 A JPH04286852 A JP H04286852A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
electron beam
beam source
phosphor layer
electrons
light
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP5001791A
Other languages
English (en)
Inventor
Hideyoshi Kimura
秀吉 木村
Jun Matsuura
松浦 潤
Yukihiro Kondo
近藤 行広
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Panasonic Electric Works Co Ltd
Original Assignee
Matsushita Electric Works Ltd
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Publication date
Application filed by Matsushita Electric Works Ltd filed Critical Matsushita Electric Works Ltd
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、電界放出型の電子線源
より放射された電子を蛍光体層に照射することによって
発光させるようにした発光素子に関するものである。
【0002】
【従来の技術】従来より、内部を真空にして密封したガ
ラス容器などの容器内に、電界放出型の電子線源を配設
するとともに、電子線源より放射される電子によって励
起されて発光する蛍光体層を電子線源の前方に配置した
構成の発光素子が提供されている。このような構成の発
光素子は、小型、低損失であるところから、表示素子と
しての利用が期待されている。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】ところで、電子線源の
放射面積は蛍光体層の面積よりも小さいのが普通であっ
て、電子線源から放射された電子は自然に拡散すること
によって、蛍光体層のほぼ全面に照射されるようになっ
ている。電子の拡散は自然に行われるものであるから、
蛍光体層において電子線源の正面に対応する部位には高
密度の電子が照射されて高い発光輝度が得られ、周辺部
分では照射される電子の密度が低くなって発光輝度も低
くなるものである。すなわち、電子線源に対する蛍光体
層の面積比が大きくなるほど発光輝度のむらが大きくな
るという問題が生じる。
【0004】また、発光輝度を高めるために、電子線源
から放射される電子の量を増加させると、蛍光体層の一
部分に集中的に高密度の電子が照射されることになり、
その部分の温度が上昇して発光効率が低下したり(いわ
ゆる温度消光)、蛍光体層の劣化をまねいたりするとい
う問題が生じる。これらの問題を回避するために、電子
線源が高い放射能力を有している場合であっても、蛍光
体層を保護するために電子の放射量の上限が規制される
ことになり、高い発光輝度を得ることができないという
問題を有している。
【0005】本発明は上記問題点の解決を目的とするも
のであり、電子線源の放射面積に対する蛍光体層の面積
比が大きくても、蛍光体層の全面に亙ってほぼ均一に電
子を照射できるようにし、電子線源からの電子の放射量
の上限を従来よりも高くして発光総量を増加させた発光
素子を提供しようとするものである。
【0006】
【課題を解決するための手段】本発明は、電界放出型の
電子線源と、電子線源の放射面積よりも大きな面積を有
し電子線源から放射された電子が照射されることにより
発光する蛍光体層と、少なくとも電子線源と蛍光体層と
の間の空間を真空に保つ容器とを具備した発光素子を前
提とするものである。
【0007】請求項1の発明では、上記目的を達成する
ために、電子線源と蛍光体層との間に、電子を蛍光体層
のほぼ全面に亙って均一に拡散させるように偏向する拡
散用の偏向電極を配置しているのである。請求項2の発
明では、電子線源と蛍光体層との間に、電子を蛍光体層
のほぼ全面に亙って均一に走査するように偏向する走査
用の偏向電極を配置しているのである。
【0008】請求項3の発明では、容器内の真空度を高
めるゲッタを偏向電極の表面に付着させているのである
【0009】
【作用】請求項1の構成によれば、電子線源から放射さ
れた電子を蛍光体層のほぼ全面に亙って均一に拡散させ
るように偏向する拡散用の偏向電極を設けているので、
電子が蛍光体層の一部分に集中的に照射されることがな
く、蛍光体層の局部的な温度上昇が防止でき、電子の放
射総量を従来よりも高くすることができるのである。そ
の結果、蛍光体層の発光により得られる発光総量も従来
より高めることができるのである。
【0010】請求項2の構成によれば、電子線源から放
射された電子を蛍光体層のほぼ全面に亙って均一に走査
するように偏向する走査用の偏向電極を設けているので
、請求項1の構成と同様に、電子が蛍光体層の一部分に
集中的に照射されることがなく、蛍光体層の発光総量を
従来よりも高めることができることになる。請求項3の
構成によれば、ゲッタを偏向電極の表面に付着させてい
るので、容器内の真空度を高くすることができるのであ
って、発光総量を高めるのはもちろんのこと、残留ガス
のイオンスパッタによる電子線源や蛍光体層の損傷を軽
減することができるのである。
【0011】
【実施例】(実施例1)本実施例では、図1に示すよう
に、電界放出型の電子線源1を設け、電子線源1の放射
面の前方に蛍光体層2を配置している。蛍光体層2は、
電子線源1の前方に配置された透明電極3の表面に被着
されるのが普通である。また、電子線源1と蛍光体層2
との間には、円筒状に形成され電子線源1から放射され
た電子が透過可能な偏向電極4が配置される。
【0012】電子線源1は、多数の透孔が穿設された平
板状のゲートと、ゲートの各透孔に対応する位置にそれ
ぞれ配置した錐状のエミッタとを有する。この電子線源
1は、ゲートとエミッタとの間に強い電界(たとえば、
108 V/m以上)を形成することによってエミッタ
から電子を放出させ、ゲートの透孔を通して取り出すも
のである。蛍光体層2は、低速電子線励起型の蛍光体よ
りなる。透明電極3は、ガラス板などに対してITO(
indium tinoxide)などの導電膜を被着
して形成される。 偏向電極4はステンレスよりなり、後述するように、所
定の電圧が印加されることによって、電子線源1から放
射された電子を蛍光体層2のほぼ全面に亙って均一に拡
散させるようになっている。電子線源1、蛍光体層2、
透明電極3、偏向電極4は、内部を真空にして密封した
ガラス容器等の容器(図示せず)内に収納される。また
、透明電極3としては容器の内周面に透明導電膜を形成
したものであってもよい。
【0013】電子線源1のゲート電極Gとエミッタ電極
Eとの間には、ゲート電極Gを正極とするように電子線
放射用の直流電源V1 が接続される。この直流電源V
1 によって、ゲートとエミッタとの間に上述した強い
電界を形成して電子を放出させるのである。また、電子
線源1のゲート電極Gと透明電極3との間には、透明電
極3を正極として加速用の直流電源V2 が接続され、
電子線源1から放射された電子が加速されて蛍光体層2
に照射されるようになっている。さらに、ゲート電極G
と偏向電極4との間には、偏向電極4を正極として拡散
用の直流電源V3 が接続され、偏向電極4を透過した
電子が拡散して蛍光体層2のほぼ全面に亙って均一に照
射されるようにしている(図中の矢印は電子の飛跡を示
す)。
【0014】上記構成において、電子線源1の放射面を
直径1mm、蛍光体層2を直径20mmの円形、偏向電
極4を内径10mm、長さ10mmの円筒とし、偏向電
極4の一方の端面は電子線源1の放射面と面一にし、偏
向電極4の他方の端面は蛍光体層2と5mm離して配置
し、直流電源V1 、V2 、V3 の電圧をそれぞれ
100V、300V、300Vに設定したところ、電界
放出による電子が発生し、約50μAのエミッション電
流が発生した。このとき、電子線源1からの電子が拡散
したことによって、直径12mm程度の高輝度部分が蛍
光体層2に生じた。また、偏向電極4に印加する電圧を
、ゲート電極Gに対して−100V〜+300Vの範囲
で変化させたところ、蛍光体層2の高輝度部分の直径は
1〜12mmの範囲で変化した。偏向電極4に印加する
電圧がゲート電極Gに対して負電圧となるようにした場
合、絶対値が100Vよりも大きくなると電子が蛍光体
層2に到達できなくなり、発光しなかった。
【0015】(実施例2)本実施例は、図2に示すよう
に、蛍光体層2および透明電極3を矩形状とし、偏向電
極4を各一対の平行な電極板4a、4bよりなる走査用
の偏向電極4としている点で実施例1とは異なっている
。すなわち、偏向電極4は、縦偏向用の互いに平行な一
対の電極板4aと、横偏向用の互いに平行な一対の電極
板4bとからなる。電子線源1のゲート電極Gとエミッ
タ電極Eとの間、およびゲート電極Gと透明電極3との
間には、実施例1と同じように、それぞれ直流電源V1
 、V2 を接続し、各電極板4a、4bにはそれぞれ
交番電源Va、Vbを接続する。この構成により、電子
線源1から放射された電子は蛍光体層2の上をほぼ全面
に亙って均一に走査されるのである。すなわち、蛍光体
層2の一部分に局部的に電子が集中して照射されること
がないのである。
【0016】たとえば、蛍光体層2として20mm四方
の正方形、電極板4a、4bを5mm四方の正方形とし
、各電極板4a、4bの間の距離を7mm、電極板4a
、4bの端面から蛍光体層2までの距離を5mmとして
、直流電源V1,V2 はそれぞれ100V、300V
とし、交番電源Va、Vbは、それぞれ60V−30H
z、60V−100Hz としたところ、蛍光体層2に
は縦横10mmの範囲で高輝度の発光部分が得られた。
【0017】(実施例3)本実施例では、図3に示すよ
うに、容器5の内周面にアルミニウムなどの薄膜によっ
て偏向電極4を形成した例を示す。すなわち、実施例1
では、偏向電極4を容器とは別途に構成していたが、本
実施例では、気相メッキ法(蒸着、スパッタリング等)
や無電解メッキ法によって容器5の内周面に導電性の薄
膜を形成し、この薄膜を偏向電極4として用いている。 他の構成は実施例1と同様であるから説明を省略する。
【0018】上記構成において、電子線源1の放射面を
直径1mm、蛍光体層2を直径12mmの円形、偏向電
極4を長さ10mmのアルミニウム蒸着膜、容器5を内
径14mmとし、偏向電極4の一方の端面は電子線源1
の放射面と面一にし、電子線源1の放射面と蛍光体層2
との距離は10mmに設定したものを構成した。この構
成のものにおいて、直流電源V1 、V2 、V3 の
電圧をそれぞれ100V、300V、100Vに設定し
たところ、電界放出による電子が発生し、約50μAの
エミッション電流が発生した。このとき、電子線源1か
らの電子が拡散したことによって、直径12mm程度の
高輝度部分が蛍光体層2に生じた。また、偏向電極4に
印加する電圧を、ゲート電極Gに対して−100V〜+
300Vの範囲で変化させたところ、蛍光体層2の高輝
度部分の直径は1〜12mmの範囲で変化した。
【0019】(実施例4)本実施例では、図4に示すよ
うに、容器5の周方向において2分割された一対の偏向
電極41 、42 を設け、各偏向電極41 、42 
に対応して一対の蛍光体層21 、22 を設けている
。偏向電極41 、42 は容器5の内周面に薄膜とし
て形成され、両偏向電極41 、42の間は若干離間し
ている。また、蛍光体層21 、22 は両偏向電極4
1 、42 の隙間に対応して離間している。各偏向電
極41 、42 と電子線源1のゲート電極Gとの間に
はそれぞれゲート電極Gを負極として偏向用の直流電源
V4 、V5 が接続される。他の構成は実施例3と同
様であるから説明を省略する。
【0020】上記構成において、電子線源1の放射面を
直径1mm、各蛍光体層21 、22 を直径12mm
の半円形、各偏向電極41、42 を長さ10mmのア
ルミニウム蒸着膜の半円筒、容器5を内径14mmとし
、偏向電極41 、42 の一方の端面は電子線源1の
放射面と面一にし、電子線源1の放射面と蛍光体層21
 、2 2 との距離は10mmに設定した。また、各
蛍光体層21 、22 は、それぞれ緑色、青色に発光
するものを用いた。この構成において、直流電源V1 
、V2 、V4 、V5 の電圧をそれぞれ100V、
300V、100V、0Vに設定したところ、電界放出
による電子が発生し、約50μAのエミッション電流が
発生した。このとき、電子線源1からの電子は偏向電極
41 の周囲に形成された電界によって蛍光体層21 
にのみ照射され、緑色に発光した。 また、直流電源V1 、V2 、V4、V5 の電圧を
それぞれ100V、300V、0V、100Vに設定し
たところ、電子線源1からの電子は偏向電極42 の周
囲に形成された電界によって蛍光体層22 にのみ照射
され、青色に発光した。
【0021】以上のように、電子線源1からの電子を拡
散させて局所的に集中させないようにし、しかも、直流
電源V4 、V5 の電圧を制御することによって可変
色にすることができるのである。 (実施例5)本実施例の基本構成は、図5に示すように
、実施例1と同様である。ところで、上記各実施例にお
いては、電子線源1から蛍光体層4に至る電子の飛翔経
路を真空に保つことが必須であり、電子線源1が残留ガ
スのイオンの衝突によって破損されないように、容器5
内部圧力を10−8Torr以下に保つことが必要であ
る。この目的を達成するために、本実施例では、偏向電
極4の表裏両面に、図6に示すように、ゲッタ6を被着
している。ゲッタ6としては、水素、酸素、窒素、一酸
化炭素などを吸着吸収する非蒸発型のものを用いている
(たとえば、Zr・Al)。
【0022】たとえば、電子線源1の放射面積を直径1
mm、偏向電極4を直径7mm、長さ2mmのNi−C
rよりなる円筒、ゲッタ6をZr・Alを母体とする合
金の粉体とし、電子線源1の放射面と偏向電極4の一端
縁との距離を2mmとする。この構成のものを作成する
際に、容器5の中に各部材を配置した後に、容器5を封
止する作業は真空槽の中で行った。容器5を封止した後
、電気炉内で400℃に加熱してゲッタ6を活性化した
。このようなゲッタ6を設けたことによって、容器5の
内部の真空度を保つことができ、寿命の向上につながる
のである。他の構成、動作は実施例1と同様であるから
説明を省略する。
【0023】(実施例6)本実施例の基本構成は、図7
に示すように、実施例3と同様である。偏向電極4は容
器5の内周面に薄膜として被着され、図8に示すように
、偏向電極4の表面にゲッタ6が被着されている。偏向
電極4の材料は、透明、非透明を問わず、また、蒸着の
ような気相メッキのほか、導電ペーストを塗布する方法
、無電解メッキ法、ゾルゲル法など、どのような方法で
形成してもよい。たとえば、偏向電極4としてNiを無
電解メッキ法によって容器5の内周面に形成する。無電
解メッキ法では、まず、容器5の内周面を粗面化した後
、不要部分にNiが付着しないようにレジストマスクを
被着し、次に、電解液中でメッキを施す。
【0024】ゲッタ6は、平均粒径が10μmであるZ
r・Alの微粒子をイソプロピルアルコール中に分散さ
せたものを、少量の結着剤とともに偏向電極4に電着す
ることによって形成する。その後、ベーキングを施して
ガス出しを行い、容器5を封止する。以上のようにして
形成した発光素子は、加熱すればゲッタ6が活性化して
容器5の内部の真空度が保たれるのである。他の構成、
動作は実施例3と同様であるから説明を省略する。
【0025】なお、上記各実施例では、偏向電極4を電
子の拡散や走査に用いた例を示したが、印加電圧を制御
することによって、発光面積の制御、発光輝度の制御な
ども行うことができるのはもちろんのことである。
【0026】
【発明の効果】上述のように、請求項1の構成によれば
、電子線源から放射された電子を蛍光体層のほぼ全面に
亙って均一に拡散させるように偏向する拡散用の偏向電
極を設けているので、電子が蛍光体層の一部分に集中的
に照射されることがなく、蛍光体層の局部的な温度上昇
が防止でき、電子の放射総量を従来よりも高くすること
ができるのである。その結果、蛍光体層の発光により得
られる発光総量も従来より高めることができるという利
点がある。
【0027】請求項2の構成によれば、電子線源から放
射された電子を蛍光体層のほぼ全面に亙って均一に走査
するように偏向する走査用の偏向電極を設けているので
、請求項1の構成と同様に、電子が蛍光体層の一部分に
集中的に照射されることがなく、蛍光体層の発光総量を
従来よりも高めることができるという効果を奏するので
ある。
【0028】請求項3の構成によれば、ゲッタを偏向電
極の表面に付着させているので、容器内の真空度を高く
することができるのであって、発光総量を従来よりも高
めることができるのはもちろんのこと、残留ガスのイオ
ンスパッタによる電子線源や蛍光体層の損傷を軽減する
ことができるという効果もある。
【図面の簡単な説明】
【図1】実施例1を示す要部斜視図である。
【図2】実施例2を示す要部斜視図である。
【図3】実施例3を示す斜視図である。
【図4】実施例4を示す斜視図である。
【図5】実施例5を示す斜視図である。
【図6】実施例5を示す要部の一部切欠斜視図である。
【図7】実施例6を示す断面図である。
【図8】実施例6を示す要部断面図である。
【符号の説明】
1  電子線源 2  蛍光体層 3  透明電極 4  偏向電極 5  容器 6  ゲッタ

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  電界放出型の電子線源と、電子線源の
    放射面積よりも大きな面積を有し電子線源から放射され
    た電子が照射されることにより発光する蛍光体層と、少
    なくとも電子線源と蛍光体層との間の空間を真空に保つ
    容器とを具備した発光素子において、電子線源と蛍光体
    層との間に、電子を蛍光体層のほぼ全面に亙って均一に
    拡散させるように偏向する拡散用の偏向電極を配置して
    成ることを特徴とする発光素子。
  2. 【請求項2】  電界放出型の電子線源と、電子線源の
    放射面積よりも大きな面積を有し電子線源から放射され
    た電子が照射されることにより発光する蛍光体層と、少
    なくとも電子線源と蛍光体層との間の空間を真空に保つ
    容器とを具備した発光素子において、電子線源と蛍光体
    層との間に、電子を蛍光体層のほぼ全面に亙って均一に
    走査するように偏向する走査用の偏向電極を配置して成
    ることを特徴とする発光素子。
  3. 【請求項3】  容器内の真空度を高めるゲッタを上記
    偏向電極の表面に付着させて成ることを特徴とする請求
    項1または請求項2に記載の発光素子。
JP5001791A 1991-03-15 1991-03-15 発光素子 Withdrawn JPH04286852A (ja)

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Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5965977A (en) * 1996-03-28 1999-10-12 Nec Corporation Apparatus and method for light emitting and cold cathode used therefor
JP2008059904A (ja) * 2006-08-31 2008-03-13 Dialight Japan Co Ltd フィールドエミッションランプ
JP2009016348A (ja) * 2007-06-29 2009-01-22 Kofukin Seimitsu Kogyo (Shenzhen) Yugenkoshi 電界放出表示装置に利用される画素管

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Effective date: 19980514