JPH04276691A - Manufacture of printed wiring board - Google Patents

Manufacture of printed wiring board

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JPH04276691A
JPH04276691A JP6263891A JP6263891A JPH04276691A JP H04276691 A JPH04276691 A JP H04276691A JP 6263891 A JP6263891 A JP 6263891A JP 6263891 A JP6263891 A JP 6263891A JP H04276691 A JPH04276691 A JP H04276691A
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JP
Japan
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etching
layer
pattern
resist
insulating
Prior art date
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Application number
JP6263891A
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Japanese (ja)
Inventor
Takeo Kawahara
武男 河原
Junichi Miyazaki
宮崎 準一
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Tokuyama Corp
Original Assignee
Tokuyama Corp
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Filing date
Publication date
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Priority to JP6263891A priority Critical patent/JPH04276691A/en
Publication of JPH04276691A publication Critical patent/JPH04276691A/en
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Abstract

PURPOSE:To obtain sufficient electric insulation by preliminarily curing postcrosslinking type etching resist to form an etching resistant pattern layer corresponding to a wiring pattern, and then forming an insulating layer without peeling an etching pattern. CONSTITUTION:A postcrosslinking type heat resistant resist is filled in a through hole of a laminated substrate, preliminarily cured, a resist is printed in a wiring pattern on the board by screen printing, and preliminarily cured to form an etching resistant pattern layer 2. Thereafter, the conductive layer 2 is etched by using ferric chloride solution to form a wiring pattern 2'. Then, insulation resist is screen printed on a part except the through hole 7 of the pattern 2', a soldering pad 7 and a ground circuit 6, and cured to form an insulating layer 3-b.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、絶縁性基板の表面に絶
縁層で覆われた配線パターンを形成したプリント配線板
の新規な製造方法に関する。詳しくは、配線パターン上
に信頼性の高い絶縁層を効率よく形成する方法である。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a novel method for manufacturing a printed wiring board in which a wiring pattern covered with an insulating layer is formed on the surface of an insulating substrate. Specifically, it is a method for efficiently forming a highly reliable insulating layer on a wiring pattern.

【0002】0002

【従来の技術】近年、デジタル機器用のプリント配線板
おいて、信号処理速度の高速化と共にプリント配線板よ
り発生するノイズレベルが増大している。これにともな
って電磁障害自主規制(VCCI)が強化され、配線パ
ターンを絶縁層を介して導電性銅ペーストで覆った電磁
波対策配線板が提唱されている。
2. Description of the Related Art In recent years, in printed wiring boards for digital equipment, the noise level generated by the printed wiring boards has increased as signal processing speeds have increased. Along with this, the Voluntary Regulation of Electromagnetic Interference (VCCI) has been strengthened, and an electromagnetic wave countermeasure wiring board in which the wiring pattern is covered with conductive copper paste via an insulating layer has been proposed.

【0003】上記電磁波対策配線板の代表的な構造を図
2に示す。即ち、電磁波対策基板は、配線パターン層2
を有する絶縁性基板1で、該配線パターン層2のアース
回路6と電気的に接続する導電性ペーストによって形成
される電磁シールド層4を絶縁層3を介して該配線パタ
ーン層2を覆うように形成して構成される。また、図に
おいて5はソルダーレジスト層である。
FIG. 2 shows a typical structure of the above electromagnetic wave countermeasure wiring board. That is, the electromagnetic wave countermeasure board has the wiring pattern layer 2
An electromagnetic shielding layer 4 formed of a conductive paste that is electrically connected to the ground circuit 6 of the wiring pattern layer 2 is formed so as to cover the wiring pattern layer 2 via the insulating layer 3. formed and composed. Further, in the figure, 5 is a solder resist layer.

【0004】従来かかる電磁波対策基板は、一般に、絶
縁性基板表面に導体層を形成して構成された積層基板の
該導体層にエッチングレジスト層を形成後、導体層をエ
ッチングして回路パターンを形成する工程、該エッチン
グレジストを剥離する工程、絶縁層を形成する工程、導
電性銅ペーストにより電磁波シールド層を形成する工程
及びソルダーレジスト層を形成する工程により製造され
ていた。
[0004] Conventionally, such electromagnetic wave countermeasure boards are generally constructed by forming an etching resist layer on the conductor layer of a laminated board that is constructed by forming a conductor layer on the surface of an insulating substrate, and then etching the conductor layer to form a circuit pattern. The manufacturing process includes a step of peeling off the etching resist, a step of forming an insulating layer, a step of forming an electromagnetic shield layer using conductive copper paste, and a step of forming a solder resist layer.

【0005】しかしながら、上記電磁波対策配線板の製
造においては、配線パターン層2と電磁シールド層4と
の間に設けられる絶縁層3の信頼性を上げるために、絶
縁層を厚くすることが必要とされ、該絶縁層を形成する
工程が複雑化するという問題を有していた。即ち、エッ
チングにより形成された配線パターン上に絶縁層を形成
する方法は、通常、生産性、パターン形成等が良好であ
るという理由により、スクリーン印刷法で行われている
が、スクリーン印刷法は、配線パターンを覆う1回の印
刷による絶縁層の形成厚みが薄いため、十分な電気絶縁
性を確保するには、スクリーン印刷工程と硬化工程とを
複数回繰返して行う必要があった。
However, in manufacturing the above-mentioned electromagnetic wave countermeasure wiring board, in order to increase the reliability of the insulating layer 3 provided between the wiring pattern layer 2 and the electromagnetic shielding layer 4, it is necessary to increase the thickness of the insulating layer. However, the process of forming the insulating layer becomes complicated. That is, the method of forming an insulating layer on a wiring pattern formed by etching is usually performed by screen printing because of its good productivity and pattern formation. Since the thickness of the insulating layer formed by one printing process covering the wiring pattern is small, it is necessary to repeat the screen printing process and the curing process multiple times in order to ensure sufficient electrical insulation.

【0006】[0006]

【発明が解決しようとする課題】本発明者らは、前記積
層基板をエッチングして形成された配線パターン上に信
頼性のある絶縁パターン層を効率よく形成する方法を確
立すべく検討を重ねた結果、積層基板をエッチングして
配線パターンを形成する際に、後架橋型のエッチングレ
ジストを予備硬化して配線パターンに対応する耐エッチ
ンパターン層を形成した後、エッチングを行い、該耐エ
ッチングパターンを剥離することなく、次いで絶縁層を
形成することにより、かかる課題を解決し得ることを見
いだし、本発明を完成するに至った。
[Problems to be Solved by the Invention] The present inventors have conducted repeated studies in order to establish a method for efficiently forming a reliable insulating pattern layer on the wiring pattern formed by etching the multilayer substrate. As a result, when etching a multilayer substrate to form a wiring pattern, the post-crosslinked etching resist is pre-cured to form an etching-resistant pattern layer corresponding to the wiring pattern, and then etching is performed to form the etching-resistant pattern. It has been discovered that this problem can be solved by subsequently forming an insulating layer without peeling, and the present invention has been completed.

【0007】[0007]

【課題を解決するための手段】即ち本発明は、(a)絶
縁性基板の表面に導体層を有する積層基板に、後架橋型
のエッチングレジストを予備硬化して目的とする配線パ
ターンに対応する耐エッチングパターン層を形成する耐
エッチングパターン形成工程、(b)該耐エッチングパ
ターンの形成により露出した導体層をエッチングする配
線パターン形成工程、(c)該配線パターンの露出が必
要な部分を除く積層基板面に、光硬化型の絶縁レジスト
の硬化層による絶縁パターンを形成させた後、露出して
いる耐エッチングパターン層を選択的に剥離する絶縁パ
ターン形成工程、及び(d)耐エッチングパターン層を
後架橋する工程よりなるプリント配線板の製造方法であ
る。
[Means for Solving the Problems] That is, the present invention provides (a) a layered substrate having a conductor layer on the surface of an insulating substrate, which is pre-cured with a post-crosslinked etching resist to form a desired wiring pattern; An etching-resistant pattern forming step of forming an etching-resistant pattern layer, (b) a wiring pattern forming step of etching the conductor layer exposed by the formation of the etching-resistant pattern, and (c) lamination except for the portions of the wiring pattern that need to be exposed. After forming an insulating pattern using a hardened layer of photocurable insulating resist on the substrate surface, an insulating pattern forming step of selectively peeling off the exposed etching-resistant pattern layer; and (d) removing the etching-resistant pattern layer. This is a method for manufacturing a printed wiring board, which includes a post-crosslinking step.

【0008】本発明において、積層基板を構成する絶縁
性基板は、公知の材質が特に制限なく使用される。例え
ば、エポキシ樹脂、フェノール樹脂、ビスマレイミド−
トリアジン樹脂、フッ素樹脂等の樹脂をガラスクロス等
のガラス補強材、リンター紙、クラフト紙等の紙補強材
に含浸した樹脂基板、ポリエステルフィルム、ポリイミ
ドフィルム、等のフィルム基板、表面を樹脂、ガラス等
の絶縁材料で被覆した金属基板、アルミナ、窒化アルミ
ニウム等のセラミック基板などが一般的である。また、
該絶縁性基板には、必要に応じてスルーホールが形成さ
れる。
In the present invention, the insulating substrate constituting the laminated substrate may be made of known materials without particular limitations. For example, epoxy resin, phenolic resin, bismaleimide
Resin substrates made by impregnating glass reinforcing materials such as glass cloth, paper reinforcing materials such as linter paper and kraft paper with resins such as triazine resin and fluororesin; film substrates such as polyester films and polyimide films; surfaces covered with resin, glass, etc. Commonly used are metal substrates coated with insulating materials, ceramic substrates made of alumina, aluminum nitride, etc. Also,
Through holes are formed in the insulating substrate as necessary.

【0009】また、本発明において、上記絶縁性基板表
面の導体層は、スルーホール内を含めた絶縁性基板の表
面に形成される。該導体層は、公知の材質が特に制限な
く使用される。一般に、銅、ニッケル、アルミニウム等
の金属が挙げられ、特に銅が好適である。かかる導体層
は一般に、絶縁性基板表面に銅箔を積層プレスする方法
、銅メッキを行う方法等によって製造されるのが一般的
である。
Further, in the present invention, the conductor layer on the surface of the insulating substrate is formed on the surface of the insulating substrate including the inside of the through hole. For the conductor layer, any known material may be used without particular limitation. Generally, metals such as copper, nickel, and aluminum are mentioned, and copper is particularly suitable. Such a conductor layer is generally manufactured by laminating and pressing a copper foil on the surface of an insulating substrate, by plating copper, or the like.

【0010】本発明の耐エッチングパターンの形成工程
において使用される後架橋型の耐熱性エッチングレジス
トは、予備硬化、即ち、三次元架橋が実質的に起こらな
い硬化が可能であり、予備硬化の時点で、エッチングレ
ジストとしての機能を有すると共に、架橋後に電気絶縁
性を有するものであれば、公知のレジスト材料が特に制
限なく使用される。例えば、エポキシ樹脂系硬化性組成
物、アクリル樹脂系硬化性組成物、エポキシ/アクリル
樹脂系硬化性組成物、ポリイミド樹脂系硬化性組成物、
ビスマレイミド−トリアジン樹脂系硬化性組成物等の組
成より、前記特性を満足するものを選択して使用すれば
良い。そのうち、アルカリ性水溶液で剥離可能なものは
、官能基としてカルボキシル基が導入されているものが
好適に使用される。
The post-crosslinked heat-resistant etching resist used in the process of forming the etching-resistant pattern of the present invention can be pre-cured, that is, cured without substantially three-dimensional cross-linking, and at the time of pre-curing. Any known resist material may be used without any particular restriction as long as it has the function of an etching resist and has electrical insulation properties after crosslinking. For example, epoxy resin-based curable compositions, acrylic resin-based curable compositions, epoxy/acrylic resin-based curable compositions, polyimide resin-based curable compositions,
From the composition of bismaleimide-triazine resin-based curable compositions, etc., one that satisfies the above characteristics may be selected and used. Among these, those that can be peeled off with an alkaline aqueous solution and have a carboxyl group introduced as a functional group are preferably used.

【0011】上記エッチングレジストの形態は、特に制
限されない。例えば、液状、ドライフィルム等が一般的
である。また、エッチングレジストの予備硬化を露光に
より行う場合、上記エッチングレジストは、ネガタイプ
及びポジタイプが特に制限なく使用される。かかるタイ
プは、公知の光硬化材を適宜選択することにより得るこ
とができる。
[0011] The form of the etching resist is not particularly limited. For example, liquid, dry film, etc. are common. Further, when preliminary curing of the etching resist is performed by exposure, negative type and positive type etching resists can be used without particular limitation. Such a type can be obtained by appropriately selecting a known photocurable material.

【0012】また、液状のエッチングレジストの場合、
予備硬化は、必要に応じてべたつきのない状態となるま
で溶剤等を除去、更に、剥離液による剥離に影響を与え
ない程度に硬化した後、予備硬化を行う方法が好適に採
用される。例えば、前記エポキシ/アクリル樹脂系硬化
性組成物を使用した場合には、溶剤を除去した後、アク
リル樹脂のみを硬化することにより予備硬化を行うこと
ができる。
[0012] In the case of liquid etching resist,
Preferably, the precuring is performed by removing the solvent and the like until the product becomes non-sticky, if necessary, and curing to an extent that does not affect peeling with a stripping solution, followed by precuring. For example, when the epoxy/acrylic resin-based curable composition is used, preliminary curing can be performed by curing only the acrylic resin after removing the solvent.

【0013】本発明において、配線パターンに対応する
耐エッチングパターン層の形成方法は、エッチングレジ
ストを使用した公知の方法が特に制限なく採用される。 例えば、液状のエッチングレジストを使用する場合は、
該液状エッチングレジストを用いてスクリーン印刷等に
より耐エッチングパターンを直接形成して予備硬化させ
る態様、液状エッチングレジストの層を形成し、耐エッ
チングパターンを形成するように予備硬化させた後、未
硬化部分の剥離(現像)する方法が一般的である。また
、ドライフィルムのエッチングレジストを使用する場合
は、該ドライフィルムを積層基板に積層した後、耐エッ
チングパターンを形成するように予備硬化、現像する方
法が一般的である。
In the present invention, as a method for forming an etching-resistant pattern layer corresponding to a wiring pattern, any known method using an etching resist may be employed without particular limitation. For example, when using liquid etching resist,
A mode in which an etching-resistant pattern is directly formed using the liquid etching resist by screen printing or the like and pre-cured, and a layer of the liquid etching resist is formed and pre-cured to form an etching-resistant pattern, and then the uncured portion is cured. A common method is to remove (develop) the image. Furthermore, when using a dry film etching resist, a common method is to laminate the dry film on a laminated substrate and then pre-cure and develop it to form an etching-resistant pattern.

【0014】本発明の配線パターン形成工程においては
、耐熱性エッチングパターン層が形成された積層基板の
該パターンで被覆されていない部分の導体層をエッチン
グし、配線パターンが形成される。上記導体層のエッチ
ング方法は、公知の方法が適宜採用される。例えば、導
体層が銅である場合、塩化第2鉄、塩化第2銅、過硫酸
塩類、過酸化水素/硫酸等の水溶液をエッチング液とし
て用いる方法が好適である。
In the wiring pattern forming step of the present invention, a wiring pattern is formed by etching the conductor layer in the portion of the multilayer substrate on which the heat-resistant etching pattern layer is formed, which is not covered with the pattern. As the etching method for the conductor layer, a known method may be employed as appropriate. For example, when the conductor layer is made of copper, it is preferable to use an aqueous solution of ferric chloride, cupric chloride, persulfates, hydrogen peroxide/sulfuric acid, or the like as an etching solution.

【0015】本発明において、上記の配線パターン形成
後、耐エッチングパターンを剥離することなく、該配線
パターンの露出が必要な部分を除く積層基板面に、光硬
化型の絶縁レジストの硬化層による絶縁パターンを形成
させることを特徴とする。即ち、かかる構成により、耐
エッチングパターン層を絶縁パターン層を形成する前の
絶縁層として利用することができる。このことは、第1
層の絶縁層となる耐エッチングパターン層が平滑な導体
層表面に形成されるため、形成される耐エッチングパタ
ーン層の厚みが均一で、且つ確実に配線パターン上に形
成することができる点で、パターン形成後に絶縁層を設
ける従来の方法に比べ、極めて信頼性の高い絶縁層を形
成することが可能となり、該層に積層する絶縁パターン
層の厚みを特に厚くすることなく、得られるプリント配
線板の信頼性を大幅に向上することができる。上記の耐
エッチングパターン層の形成にドライフィルムを使用す
ることは、該層を厚くすることが可能であるため特に好
ましい。
In the present invention, after the wiring pattern is formed, without peeling off the etching-resistant pattern, insulation is applied to the surface of the laminated substrate except for the portion where the wiring pattern needs to be exposed using a hardened layer of photocurable insulation resist. It is characterized by forming a pattern. That is, with this configuration, the etching-resistant pattern layer can be used as an insulating layer before forming the insulating pattern layer. This is the first
Since the etching-resistant pattern layer, which serves as an insulating layer, is formed on the smooth surface of the conductor layer, the thickness of the etching-resistant pattern layer is uniform, and it can be reliably formed on the wiring pattern. Compared to the conventional method of forming an insulating layer after pattern formation, it is now possible to form an extremely reliable insulating layer, and the resulting printed wiring board can be obtained without increasing the thickness of the insulating pattern layer laminated on top of the insulating layer. The reliability of the system can be significantly improved. It is particularly preferable to use a dry film to form the above-mentioned etching-resistant pattern layer, since this layer can be made thicker.

【0016】尚、本発明において、配線パターンの露出
の必要な部分としては、一般に、スルーホール、パッド
等の半田付け用導電部、アース回路部等が挙げられる。
In the present invention, the parts of the wiring pattern that need to be exposed generally include through holes, conductive parts for soldering such as pads, and ground circuit parts.

【0017】本発明に使用する光硬化型の絶縁レジスト
は、前記後架橋型のエッチングレジストの剥離液で剥離
されないものであり、かつ半田耐熱性、電気絶縁性を有
するものが、公知のレジスト材料から適宜選択される。 例えば、エポキシ樹脂系硬化性組成物、アクリル樹脂系
硬化性組成物、エポキシ/アクリル樹脂系硬化性組成物
、ポリイミド樹脂系硬化性組成物、ビスマレイミド−ト
リアジン樹脂系硬化性組成物等の公知の組成を有するも
のより、上記の特性を有するものを選択すれば良い。 上記絶縁レジストは、ネガタイプ及びポジタイプが特に
制限なく使用される。かかるタイプは、公知の光硬化材
を適宜選択することにより得ることができる。また、絶
縁レジストは塗布方法に応じて、液状、ドライフィルム
等の形態が選択される。
The photocurable insulating resist used in the present invention is a known resist material that is not removed by the post-crosslinked etching resist stripping solution and has soldering heat resistance and electrical insulation properties. Appropriately selected from. For example, known curable compositions include epoxy resin-based curable compositions, acrylic resin-based curable compositions, epoxy/acrylic resin-based curable compositions, polyimide resin-based curable compositions, and bismaleimide-triazine resin-based curable compositions. What is necessary is to select a material having the above characteristics rather than a material having the composition. As the above-mentioned insulating resist, negative type and positive type can be used without particular limitation. Such a type can be obtained by appropriately selecting a known photocurable material. Furthermore, the form of the insulating resist is selected depending on the coating method, such as a liquid form or a dry film form.

【0018】絶縁性レジストによる絶縁パターン層の形
成方法は、絶縁性レジストの形態、タイプ等に応じて、
公知の方法が特に制限なく採用される。
The method for forming an insulating pattern layer using an insulating resist depends on the form, type, etc. of the insulating resist.
Known methods can be employed without particular restriction.

【0019】上記絶縁性パターン層を形成後、該層より
露出する予備硬化した耐エッチングパターン層を剥離す
る。該剥離に使用する剥離液は、前記絶縁性レジストの
硬化体よりなる絶縁性パターン層を剥離せず、後架橋型
のエッチングレジストを予備硬化した耐エッチングパタ
ーン層を剥離可能な剥離液が公知の剥離液より適宜選択
して使用される。上記の剥離液としては、例えば、有機
溶剤、アルカリ性水溶液等の剥離液で剥離する方法が好
ましい。上記有機溶剤としては、1,1,1−トリクロ
ルメタン、塩化メチレン等の有機溶剤、また上記アルカ
リ性水溶液としてはNa2CO3、NaOH等の水溶液
が一般的に使用される。
After forming the insulating pattern layer, the precured etching-resistant pattern layer exposed from the insulating pattern layer is peeled off. The stripping solution used for the stripping is a known stripping solution that does not strip the insulating pattern layer made of the cured product of the insulating resist, but can strip the etching-resistant pattern layer obtained by pre-curing the post-crosslinked etching resist. An appropriate one is selected from stripping solutions and used. As the above-mentioned stripping solution, for example, a method of stripping using a stripping solution such as an organic solvent or an alkaline aqueous solution is preferable. As the organic solvent, an organic solvent such as 1,1,1-trichloromethane or methylene chloride is generally used, and as the alkaline aqueous solution, an aqueous solution such as Na2CO3 or NaOH is generally used.

【0020】本発明において、耐エッチングパターンの
露出部分を剥離後、予備硬化状態にある該層を構成する
硬化体を架橋させることが、長期間安定して絶縁信頼性
を向上させることができ好ましい。かかる架橋条件は、
エッチングレジストの3次元架橋がおこり、かつ硬化塗
膜が半田耐熱性、電気絶縁性を有する条件が適宜選択さ
れる。例えば、前記エポキシ/アクリル樹脂系硬化性組
成物を使用した場合には、140〜160℃の加熱によ
って架橋を行うことができる。
In the present invention, it is preferable to crosslink the cured material constituting the layer in a pre-cured state after peeling off the exposed portion of the etching-resistant pattern, as this can stably improve insulation reliability over a long period of time. . Such crosslinking conditions are:
Conditions are appropriately selected in which three-dimensional crosslinking of the etching resist occurs and the cured coating film has soldering heat resistance and electrical insulation properties. For example, when the epoxy/acrylic resin-based curable composition is used, crosslinking can be performed by heating at 140 to 160°C.

【0021】本発明において、耐エッチングパターン層
と絶縁パターン層の合計の厚みは特に制限されないが、
一般に30〜50μmが適当である。
In the present invention, the total thickness of the etching-resistant pattern layer and the insulating pattern layer is not particularly limited;
Generally, 30 to 50 μm is suitable.

【0022】本発明の方法によって得られる配線パター
ン層にこれを覆う絶縁パターン層を形成したプリント配
線板は、絶縁信頼性が長期間に亙って良好であるため、
例えば、その表面に導電性ペースト等の導電体よりなる
電磁シールド層を積層した場合、配線パターンの作動に
悪影響を与えることなく、そのシールド効果を得ること
ができる。
The printed wiring board obtained by the method of the present invention, in which an insulating pattern layer covering the wiring pattern layer is formed, has good insulation reliability over a long period of time.
For example, if an electromagnetic shielding layer made of a conductor such as a conductive paste is laminated on the surface, the shielding effect can be obtained without adversely affecting the operation of the wiring pattern.

【0023】上記電磁シールド層の形成方法は、公知の
方法が特に制限なく採用される。例えば、絶縁パターン
層より露出された配線パターン層のアース回路部と電気
的に接続するように、絶縁パターン層の表面に導電性ペ
ーストにより連続した導電層を形成する方法が一般的で
ある。かかる導電性ペーストとしては、公知の銅ペース
トが特に制限なく採用される。代表的な銅ペーストを例
示すれば、導電性成分としての銅粉、レゾール型フェノ
ール樹脂等のバインダー成分、並びに、オレイン酸等の
不飽和脂肪酸またはその塩等の還元剤を主な成分とする
導電性銅ペーストが挙げられる。また、本発明において
、導電性ペーストにより導電層を形成する方法は公知の
方法が特に制限なく採用される。一般には、スクリーン
印刷等の印刷による方法が好適である。
[0023] As a method for forming the electromagnetic shield layer, any known method may be used without any particular limitation. For example, a common method is to form a continuous conductive layer using a conductive paste on the surface of the insulating pattern layer so as to be electrically connected to the ground circuit portion of the wiring pattern layer exposed from the insulating pattern layer. As such a conductive paste, a known copper paste can be used without particular limitation. An example of a typical copper paste is a conductive paste whose main components are copper powder as a conductive component, a binder component such as a resol type phenolic resin, and a reducing agent such as an unsaturated fatty acid such as oleic acid or its salt. Examples include copper paste. Further, in the present invention, any known method can be used without particular limitation as a method for forming a conductive layer using a conductive paste. Generally, printing methods such as screen printing are suitable.

【0024】また、上記導電層の表面には、導電層を保
護するために、ソルダーレジスト層が形成される。かか
るソルダーレジスト層の形成には、硬化後に半田耐熱性
、電気絶縁性を有するものであれば、公知のレジスト材
料が特に制限なく使用される。例えば、エポキシ樹脂系
硬化性組成物、アクリル樹脂系硬化性組成物、エポキシ
/アクリル樹脂系硬化性組成物、ポリイミド樹脂系硬化
性組成物、ビスマレイミド−トリアジン樹脂系硬化性組
成物等の公知の組成を有する硬化性組成物が使用される
。上記ソルダーレジストは、ネガタイプ及びポジタイプ
が特に制限なく使用される。かかるタイプは、公知の光
硬化材を適宜選択することにより得ることができる。 また、ソルダーレジストは塗布方法に応じて、液状、ド
ライフィルム等の形態が選択される。
Furthermore, a solder resist layer is formed on the surface of the conductive layer to protect the conductive layer. For forming such a solder resist layer, any known resist material may be used without particular limitation as long as it has solder heat resistance and electrical insulation properties after curing. For example, known curable compositions include epoxy resin-based curable compositions, acrylic resin-based curable compositions, epoxy/acrylic resin-based curable compositions, polyimide resin-based curable compositions, and bismaleimide-triazine resin-based curable compositions. A curable composition having the composition is used. As the solder resist, negative type and positive type may be used without any particular restriction. Such a type can be obtained by appropriately selecting a known photocurable material. Further, the form of the solder resist is selected depending on the coating method, such as liquid or dry film.

【0025】ソルダーレジストによるソルダーレジスト
層の形成方法は、ソルダーレジストの形態、タイプ等に
応じて、公知の方法が特に制限なく採用される。
[0025] As a method for forming a solder resist layer using a solder resist, any known method may be employed without particular limitation, depending on the form, type, etc. of the solder resist.

【0026】[0026]

【効果】以上の説明より理解されるように、本発明によ
れば、配線パターンの形成に用いた配線パターン上に形
成された耐エッチングパターン層を剥離することなく絶
縁パターン層を形成することにより、該絶縁パターン層
の絶縁信頼性を長期間、良好に維持することが可能であ
る。しかも、従来の工程で必須であったエッチングレジ
ストによって形成された耐エッチングパターン層の剥離
が不要となると共に、絶縁レジストの塗布工程数が低減
されるため、目的とするプリント配線板の製造工程が大
幅に短縮される。
[Effect] As understood from the above explanation, according to the present invention, an insulating pattern layer is formed without peeling off the etching-resistant pattern layer formed on the wiring pattern used for forming the wiring pattern. , it is possible to maintain good insulation reliability of the insulating pattern layer for a long period of time. Moreover, it is no longer necessary to peel off the etching-resistant pattern layer formed by the etching resist, which was essential in the conventional process, and the number of insulation resist coating steps is reduced, so the manufacturing process of the intended printed wiring board can be simplified. will be significantly shortened.

【0027】[0027]

【実施例】以下、本発明をより具体的に説明するため、
実施例及び比較例を示すが本発明はこれらの実施例に限
定されるものではない。
[Example] In order to explain the present invention more specifically,
Although examples and comparative examples are shown, the present invention is not limited to these examples.

【0028】尚、実施例及び比較例における各種試験は
、下記の方法によって行った。 (1)スルーホール接続信頼性試験 電磁波対策配線板のスルーホール接続抵抗を初期及び−
40℃/30分←→125℃/30分の温度サイクルを
1000サイクル実施後に測定し、スルーホール接続抵
抗変化率を求めた。この操作を10枚のサンプルについ
てそれぞれ実施し、スルーホール接続抵抗変化率が10
%を越えないものの枚数を示した。
[0028] Various tests in Examples and Comparative Examples were conducted by the following methods. (1) Through-hole connection reliability test Through-hole connection resistance of electromagnetic wave countermeasure wiring board
After 1000 cycles of a temperature cycle of 40° C./30 minutes←→125° C./30 minutes, the through-hole connection resistance change rate was determined. This operation was performed for each of 10 samples, and the through-hole connection resistance change rate was 10.
The number of sheets not exceeding % is shown.

【0029】(2)電気絶縁性試験 電磁波対策配線板を40℃、95%の雰囲気で144時
間処理した後、配線パターンと導電性銅ペーストによる
導電層間に1kVの交流電圧を1分間印加した。この操
作を10枚のサンプルについてそれぞれ実施し、絶縁破
壊が生じないものの枚数で示した。
(2) Electrical Insulation Test After the electromagnetic wave countermeasure wiring board was treated in a 95% atmosphere at 40° C. for 144 hours, an AC voltage of 1 kV was applied for 1 minute between the wiring pattern and the conductive layer made of conductive copper paste. This operation was performed on each of 10 samples, and the number of samples without dielectric breakdown is shown.

【0030】(3)半田耐熱性試験 電磁波対策配線板を有機酸系フラックスに浸漬後、24
0〜260℃の半田槽に5秒間浸漬した。この操作を1
0枚のサンプルについて、それぞれ5回繰り返した後、
後架橋型の耐熱性エッチングレジスト層、光硬化型の絶
縁レジストによる被覆層等の絶縁層、導電性銅ペースト
による導電層、ソルダーレジスト層の膨れや剥がれを観
察し、膨れや剥がれのないものの枚数で示した。
(3) Solder heat resistance test After immersing the electromagnetic wave countermeasure wiring board in organic acid flux,
It was immersed in a solder bath at 0 to 260°C for 5 seconds. This operation 1
After repeating each 5 times for 0 samples,
Observe the blistering and peeling of post-crosslinked heat-resistant etching resist layers, insulating layers such as coating layers made of photocurable insulating resists, conductive layers made of conductive copper paste, and solder resist layers, and count the number of sheets without blistering or peeling. It was shown in

【0031】(4)放射ノイズの低減効果の測定電磁波
対策配線板の信号ラインから発生する電磁波の電界強度
をオープンサイト・3m法で測定した。放射ノイズの低
減効果は20〜1000MHzの周波数の範囲で、通常
の両面配線板の測定結果からの減衰を測定した。
(4) Measurement of radiation noise reduction effect The electric field strength of electromagnetic waves generated from the signal line of the electromagnetic wave countermeasure wiring board was measured using the open site 3m method. The radiation noise reduction effect was measured by measuring the attenuation from the measurement results of a normal double-sided wiring board in the frequency range of 20 to 1000 MHz.

【0032】実施例1 図1の工程に準じて、プリント配線板の製造を行った。 (a)絶縁性基板1として、ガラスエポキシ銅張り積層
板(「R−1700」:商品名、松下電工cm製)に導
通用のスルーホール7となる穴を形成したものを使用し
、該絶縁性基板に無電解メッキ及び電解メッキ処理を行
ないスルーホールを含む該基板表面に導体層2を形成し
て積層基板とした。該積層基板のスルーホール内に、後
架橋型の耐熱レジスト(「TGR−100」:商品名、
太陽インキ製造cm製)をロールコーターを用いて充填
し、1000mJ/cm2の露光量で予備硬化した後、
更にスクーリーン印刷で該基板上に該レジストを配線パ
ターンに印刷し、1000mJ/cm2の露光量で予備
硬化して耐エッチングパターン層2を形成した。
Example 1 A printed wiring board was manufactured according to the process shown in FIG. (a) As the insulating substrate 1, a glass epoxy copper-clad laminate (“R-1700”: product name, manufactured by Matsushita Electric Works cm) with holes formed as through holes 7 for conduction is used, and the insulating A conductor layer 2 was formed on the surface of the substrate including through-holes by electroless plating and electrolytic plating treatment to obtain a laminated substrate. A post-crosslinked heat-resistant resist (“TGR-100”: trade name,
After filling with Taiyo Ink Seisaku cm) using a roll coater and pre-curing with an exposure amount of 1000 mJ/cm2,
Further, the resist was printed in a wiring pattern on the substrate by screen printing, and precured with an exposure dose of 1000 mJ/cm2 to form an etching-resistant pattern layer 2.

【0033】(b)耐エッチングパターンを形成後、塩
化第2鉄溶液を用いて導電層2をエッチングして配線パ
ターン層2’を形成した。
(b) After forming the etching-resistant pattern, the conductive layer 2 was etched using a ferric chloride solution to form a wiring pattern layer 2'.

【0034】(c)続いて、該配線パターン層2’のス
ルーホール部分7、半田付け用パッド部分7、アース回
路部分6を除いた部分に、絶縁レジスト(「TS−60
N」:商品名、太陽インキ製造(株)製)をスクーリー
ン印刷し、1000mJ/cm2の露光量で硬化して絶
縁層3−bを形成した。
(c) Next, an insulating resist ("TS-60
N": trade name, manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) was screen printed and cured with an exposure dose of 1000 mJ/cm2 to form an insulating layer 3-b.

【0035】(d)次いで、剥離液として、1%Na2
CO3水溶液を用いて、該配線パターンのスルーホール
部分、半田付け用パッド部分、アース回路部分において
絶縁レジスト露出した上記予備硬化した耐エッチングレ
ジスト層を剥離した後、絶縁パターン層が積層された耐
エッチングパターン層3−aを160℃、30分で後硬
化させて本発明のプリント配線板を得た。
(d) Next, as a stripper, 1% Na2
After peeling off the pre-cured etching-resistant resist layer exposed in the through-hole portion, soldering pad portion, and ground circuit portion of the wiring pattern using a CO3 aqueous solution, the etching-resistant resist layer on which the insulating pattern layer is laminated is removed. The patterned layer 3-a was post-cured at 160° C. for 30 minutes to obtain a printed wiring board of the present invention.

【0036】(電磁波対策基板の作成)(e)次いで、
上記のプリント配線板の絶縁パターン層3b上に、導電
性銅ペースト(「NF−2000」:商品名、タツタ電
線(株)製)を該層を覆い、且つ配線パターンのアース
回路部分6と接続するように印刷して硬化させ導電層4
を形成した。
(Creation of electromagnetic wave countermeasure board) (e) Next,
A conductive copper paste ("NF-2000": trade name, manufactured by Tatsuta Electric Wire Co., Ltd.) is coated on the insulating pattern layer 3b of the above printed wiring board, and the layer is connected to the ground circuit portion 6 of the wiring pattern. Print and cure the conductive layer 4 to
was formed.

【0037】(f)更に、上記導電性銅ペーストによる
導電層4上にソルダーレジスト(「S−222」:商品
名、太陽インキ製造(株)製)をスクーリーン印刷によ
り塗布して硬化させ、ソルダーレジスト層5を形成した
。得られたプリント配線板を用いて得られた電磁波対策
配線板についてスルーホール信頼性試験、電気絶縁性試
験、半田耐熱性試験及び放射ノイズの低減試験の各種測
定及び試験を行った。結果を表1に示した。
(f) Furthermore, a solder resist ("S-222": trade name, manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) is applied by screen printing on the conductive layer 4 made of the conductive copper paste and cured. A resist layer 5 was formed. Various measurements and tests including a through-hole reliability test, an electrical insulation test, a soldering heat resistance test, and a radiation noise reduction test were performed on the electromagnetic wave countermeasure wiring board obtained using the obtained printed wiring board. The results are shown in Table 1.

【0038】実施例2 実施例1の工程(a)、(b)、(c)及び(d)を下
記の方式で行った以外は、同様な方法で、本発明のプリ
ント配線板を製造した後、電磁波対策配線板を得た。 (a)ガラスエポキシ銅張り積層板(「MCL−E−6
7」:商品名、日立化成工業(株)製)に導通用のスル
ーホールとなる穴を形成した後、無電解メッキ及び電解
メッキ処理を行ない導通用のスルーホールを有する積層
基板を作成した。上記積層基板のスルーホール内に、モ
ノマー状のレジストインキ(「バリューL1」:商品名
、デュポン・ジャパン(株)製)をロールコーターを用
いて充填した後、ドライフィルムフォトソルダーレジス
ト(「バリュー8220V」:商品名、デュポン・ジャ
パン(株)製)をラミネーターを用いて上記基板上に積
層した。続いて、配線パターンに対応するフォトマスク
を用いて、露光・現像して、耐エッチングパターン層を
形成した。
Example 2 A printed wiring board of the present invention was manufactured in the same manner as in Example 1, except that steps (a), (b), (c), and (d) were performed in the following manner. After that, we obtained an electromagnetic wave countermeasure wiring board. (a) Glass epoxy copper clad laminate (“MCL-E-6
7" (trade name, manufactured by Hitachi Chemical Co., Ltd.), holes were formed to serve as through holes for conduction, and then electroless plating and electrolytic plating were performed to create a laminated substrate having through holes for conduction. After filling the through holes of the above laminated board with a monomer resist ink ("Value L1", product name, manufactured by DuPont Japan Co., Ltd.) using a roll coater, a dry film photo solder resist ("Value 8220V") was filled using a roll coater. '': trade name, manufactured by DuPont Japan Co., Ltd.) was laminated on the above substrate using a laminator. Subsequently, exposure and development were performed using a photomask corresponding to the wiring pattern to form an etching-resistant pattern layer.

【0039】(b)耐エッチングパターンを形成後、塩
化第2鉄溶液を用いて導電層をエッチングして配線パタ
ーン層を形成した。
(b) After forming the etching-resistant pattern, the conductive layer was etched using a ferric chloride solution to form a wiring pattern layer.

【0040】(c)続いて、該配線パターン層のスルー
ホール部分、半田付け用パッド部分、アース回路部分を
除いた積層基板上に、絶縁レジスト(「TS−91E」
:商品名、太陽インキ製造(株)製)をスクーリーン印
刷で塗布し、600mJ/cm2の露光量で硬化して絶
縁パターン層を形成した。
(c) Next, an insulating resist ("TS-91E") is applied on the multilayer substrate excluding the through-hole portions, soldering pad portions, and ground circuit portions of the wiring pattern layer.
: trade name, Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) was applied by screen printing and cured with an exposure dose of 600 mJ/cm2 to form an insulating pattern layer.

【0041】(d)次いで、3%NaOH水溶液を用い
て、該配線パターンのスルーホール内のレジストインキ
、半田付け用パッド部分、アース回路部分のドライフィ
ルムフォトソルダーレジストを剥離した後、160℃6
0分で後硬化させてプリント配線板を得た。得られたプ
リント配線板を用いて得られた電磁波対策配線板につい
て、スルーホール信頼性試験、電気絶縁性試験、半田耐
熱性試験及び放射ノイズの低減試験の各種測定及び試験
を行った。結果を表1に示した。
(d) Next, use a 3% NaOH aqueous solution to peel off the resist ink in the through holes of the wiring pattern, the dry film photo solder resist on the soldering pad portions and the ground circuit portion, and then heat at 160° C.6.
After curing for 0 minutes, a printed wiring board was obtained. Various measurements and tests including a through-hole reliability test, an electrical insulation test, a soldering heat resistance test, and a radiation noise reduction test were performed on the electromagnetic wave countermeasure wiring board obtained using the obtained printed wiring board. The results are shown in Table 1.

【0042】実施例3 実施例1の工程(a)、(b)、(c)及び(d)を下
記の方式で行った以外は、同様な方式で電磁波対策配線
板を得た。 (a)ガラスエポキシ銅張り積層板(「CCL−E17
0」:商品名、三菱瓦斯化学(株)製)に導通用のスル
ーホールとなる穴を形成した後、無電解メッキ及び電解
メッキ処理を行ない導通用のスルーホールを有する積層
基板を作成した。該積層基板のスルーホール内及び表面
に、液状フォトレジスト(「DSR−2200」:商品
名、タムラ製作所(株)製)をロールコーターを用いて
塗布し、80℃15加熱して、べとつきがなくなるまで
硬化させた後、配線パターンに対応するフォトマスクを
用いて予備硬化し、未硬化部分を剥離し(現像し)、耐
エッチングパターン層を形成した。
Example 3 An electromagnetic wave countermeasure wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that steps (a), (b), (c) and (d) were carried out in the following manner. (a) Glass epoxy copper-clad laminate (“CCL-E17
0'': trade name, manufactured by Mitsubishi Gas Chemical Co., Ltd. After forming holes to serve as through holes for conduction, electroless plating and electrolytic plating were performed to create a laminated substrate having through holes for conduction. A liquid photoresist ("DSR-2200", trade name, manufactured by Tamura Seisakusho Co., Ltd.) is applied to the inside and surface of the through-holes of the laminated substrate using a roll coater, and heated at 80°C for 15 minutes to eliminate stickiness. After curing to 100%, pre-curing was performed using a photomask corresponding to the wiring pattern, and uncured portions were peeled off (developed) to form an etching-resistant pattern layer.

【0043】(b)耐エッチングパターンを形成後、塩
化第2鉄溶液を用いて導電層をエッチングして配線パタ
ーン層を形成した。
(b) After forming the etching-resistant pattern, the conductive layer was etched using a ferric chloride solution to form a wiring pattern layer.

【0044】(c)続いて、該配線パターンのスルーホ
ール部分、半田付け用パッド部分、アース回路部分を除
いた部分に、絶縁レジスト(「TS−90E」:商品名
、太陽インキ製造(株)製)をスクーリーン印刷で塗布
し、700mJ/cm2の露光量で硬化させ、絶縁パタ
ーン層を形成した。
(c) Next, insulating resist ("TS-90E": trade name, Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) is applied to the wiring pattern except for the through-holes, soldering pads, and ground circuits. Co., Ltd.) was applied by screen printing and cured with an exposure dose of 700 mJ/cm2 to form an insulating pattern layer.

【0045】(d)次いで、5%NaOH水溶液を用い
て、該配線パターン層のスルーホール内のレジストイン
キ、半田付け用パッド部分、アース回路部分の液状フォ
トレジストの予備硬化層を剥離した後、150℃、40
分で後硬化させた。得られたプリント配線板を用いて得
られた電磁波対策配線板について、スルーホール信頼性
試験、電気絶縁性試験、半田耐熱性試験及び放射ノイズ
の低減試験の各種測定及び試験を行った。結果を表1に
示した。
(d) Next, using a 5% NaOH aqueous solution, the resist ink in the through holes of the wiring pattern layer, the pre-cured layer of liquid photoresist in the soldering pad area and the ground circuit area are peeled off. 150℃, 40
Post-cured in minutes. Various measurements and tests including a through-hole reliability test, an electrical insulation test, a soldering heat resistance test, and a radiation noise reduction test were performed on the electromagnetic wave countermeasure wiring board obtained using the obtained printed wiring board. The results are shown in Table 1.

【0046】比較例1 実施例1の工程(a)、(b)、(c)を下記の方式で
行った以外は、同様な方式で電磁波対策配線板を得た。 (a)ガラスエポキシ銅張り積層板(「R−1700」
:商品名、松下電工(株)製)に導通用のスルーホール
となる穴を形成した後、無電解メッキ及び電解メッキ処
理を行ない導通用のスルーホールを有する基板を作成し
た。続いて、穴埋めインキ(「HC−25W」:商品名
、サンワ化学工業(株)製)をロールコーターを用いて
該基板のスルーホール内に充填し、80℃、15分で硬
化した。続いて、ドライフィルムフォトレジスト(「V
ANX440」:商品名、富士ハント(株)製)をラミ
ネーターを用いて該基板上に塗布し、マスクを用いて8
0mJ/cm2光量で露光した。続いて、塩化第2鉄溶
液を用いてエッチングし配線パターンを形成した。
Comparative Example 1 An electromagnetic wave countermeasure wiring board was obtained in the same manner as in Example 1 except that steps (a), (b), and (c) were carried out in the following manner. (a) Glass epoxy copper clad laminate (“R-1700”)
: (trade name, manufactured by Matsushita Electric Works Co., Ltd.)) after forming holes to serve as through holes for conduction, electroless plating and electrolytic plating were performed to create a substrate having through holes for conduction. Subsequently, hole-filling ink ("HC-25W", trade name, manufactured by Sanwa Kagaku Kogyo Co., Ltd.) was filled into the through holes of the substrate using a roll coater, and cured at 80° C. for 15 minutes. Next, dry film photoresist (“V
"ANX440": Product name, manufactured by Fuji Hunt Co., Ltd.) was applied onto the substrate using a laminator, and 8
Exposure was performed at a light intensity of 0 mJ/cm2. Subsequently, a wiring pattern was formed by etching using a ferric chloride solution.

【0047】(b)次いで、5%NaOH水溶液を用い
て、該配線パターン上の穴埋めインキおよびドライフィ
ルムフォトレジストを剥離した。
(b) Next, the hole-filling ink and dry film photoresist on the wiring pattern were peeled off using a 5% NaOH aqueous solution.

【0048】(c)続いて、該配線パターンのスルーホ
ール、半田付け用パッド、アース回路を除いた形態で、
絶縁レジスト(「TS−60N」:商品名、太陽インキ
製造(株)製)をスクーリーン印刷で該基板上に塗布し
、1000mJ/cm2の露光量で硬化を行い、この操
作を2度繰り返した後、150℃30分で熱硬化を行っ
た。得られたプリント配線板を用いて得られた電磁波対
策配線板について、スルーホール信頼性試験、電気絶縁
性試験、半田耐熱性試験及び放射ノイズの低減試験の各
種測定及び試験を行った。結果を表1に示した。
(c) Next, the wiring pattern with the through holes, soldering pads, and ground circuits removed,
An insulating resist ("TS-60N": trade name, manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) was applied onto the substrate by screen printing, and cured with an exposure dose of 1000 mJ/cm2, and after repeating this operation twice. , heat curing was performed at 150° C. for 30 minutes. Various measurements and tests including a through-hole reliability test, an electrical insulation test, a soldering heat resistance test, and a radiation noise reduction test were performed on the electromagnetic wave countermeasure wiring board obtained using the obtained printed wiring board. The results are shown in Table 1.

【0049】比較例2 比較例1の工程(c)を下記の方式で行った以外は、同
様な方式で電磁波対策配線板を得た。
Comparative Example 2 An electromagnetic wave countermeasure wiring board was obtained in the same manner as in Comparative Example 1, except that step (c) was carried out in the following manner.

【0050】(c)続いて、該配線パターンのスルーホ
ール、半田付け用パッド、アース回路を除いた形態で、
絶縁レジスト(「TS−60N」:商品名、太陽インキ
製造(株)製)をスクーリーン印刷で該基板上に1回塗
布して1000mJ/cm2の露光量で硬化し、その後
150℃30分で熱硬化を行った。得られたプリント配
線板を用いて得られた電磁波対策配線板について、スル
ーホール信頼性試験、電気絶縁性試験、半田耐熱性試験
及び放射ノイズの低減試験の各種測定及び試験を行った
。結果を表1に示した。
(c) Next, the wiring pattern with the through holes, soldering pads, and ground circuits removed,
An insulating resist ("TS-60N", trade name, manufactured by Taiyo Ink Manufacturing Co., Ltd.) was coated once on the substrate by screen printing, cured with an exposure dose of 1000 mJ/cm2, and then heated at 150°C for 30 minutes. Curing was performed. Various measurements and tests including a through-hole reliability test, an electrical insulation test, a soldering heat resistance test, and a radiation noise reduction test were performed on the electromagnetic wave countermeasure wiring board obtained using the obtained printed wiring board. The results are shown in Table 1.

【0051】[0051]

【表1】[Table 1]

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明の製造方法の工程を示す図[Figure 1] Diagram showing the steps of the manufacturing method of the present invention

【図2】電磁
波対策基板の代表的な態様を示す断面図
[Figure 2] Cross-sectional view showing a typical aspect of the electromagnetic wave countermeasure board

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1      絶縁性基板 2、2’配線パターン層 3      絶縁層 3a    耐エッチングパターン層 3b    絶縁層 4      電磁シールド層 5      ソルダーレジスト層 6      アース回路部分 7      半田付け用パッド部分 8      スルーホール部分 1 Insulating substrate 2, 2' wiring pattern layer 3 Insulating layer 3a Etching-resistant pattern layer 3b Insulating layer 4 Electromagnetic shielding layer 5 Solder resist layer 6        Earth circuit part 7 Soldering pad part 8 Through hole part

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】(a)絶縁性基板の表面に導体層を有する
積層基板に、後架橋型のエッチングレジストを予備硬化
して目的とする配線パターンに対応する耐エッチングパ
ターン層を形成する耐エッチングパターン形成工程、(
b)該耐エッチングパターンの形成により露出した導体
層をエッチングする配線パターン形成工程、(c)該配
線パターンの露出が必要な部分を除く積層基板面に、光
硬化型の絶縁レジストの硬化層による絶縁パターンを形
成させた後、露出している耐エッチングパターン層を選
択的に剥離する絶縁パターン形成工程、及び(d)耐エ
ッチングパターン層を後架橋する工程よりなるプリント
配線板の製造方法。
Claim 1: (a) An etching-resistant method in which an etching-resistant pattern layer corresponding to a desired wiring pattern is formed by pre-curing a post-crosslinked etching resist on a laminated substrate having a conductor layer on the surface of an insulating substrate. Pattern formation process (
b) a wiring pattern forming step of etching the conductor layer exposed by the formation of the etching-resistant pattern; (c) forming a hardened layer of photocurable insulating resist on the surface of the laminated substrate excluding the portions where the wiring pattern needs to be exposed; A method for producing a printed wiring board, which comprises an insulating pattern forming step of selectively peeling off the exposed etching-resistant pattern layer after forming the insulating pattern, and (d) a step of post-crosslinking the etching-resistant pattern layer.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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JP2006140430A (en) * 2004-10-12 2006-06-01 Shin Etsu Polymer Co Ltd Conduction noise suppressor and electronic component with conduction noise suppressor

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