JPH04273983A - バッチ式焼成炉 - Google Patents
バッチ式焼成炉Info
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- JPH04273983A JPH04273983A JP5941991A JP5941991A JPH04273983A JP H04273983 A JPH04273983 A JP H04273983A JP 5941991 A JP5941991 A JP 5941991A JP 5941991 A JP5941991 A JP 5941991A JP H04273983 A JPH04273983 A JP H04273983A
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- furnace
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- firing
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Links
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- 238000010304 firing Methods 0.000 claims description 62
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Landscapes
- Vertical, Hearth, Or Arc Furnaces (AREA)
- Furnace Charging Or Discharging (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【０００１】
【産業上の利用分野】本発明は、例えばセラミックスや
金属等の被焼成物を所定のヒートプロファイルに沿って
昇温，冷却するようにしたバッチ式焼成炉に関し、特に
少量多品種生産を行う場合の、製造コストを低減できる
とともに、生産性を向上できるようにした構造に関する
。
金属等の被焼成物を所定のヒートプロファイルに沿って
昇温，冷却するようにしたバッチ式焼成炉に関し、特に
少量多品種生産を行う場合の、製造コストを低減できる
とともに、生産性を向上できるようにした構造に関する
。
【０００２】
【従来の技術】一般に、被焼成物を予め設定されたヒー
トプロファイルに沿って昇温，冷却して加熱処理する場
合、従来、例えば図７に示すようなバッチ式焼成炉が使
用されている。この焼成炉１００は天井壁１０１ａ，及
び側壁１０１ｂからなる箱型の炉本体１０１の下面開口
に炉床１０２を昇降自在に配設し、該炉床１０２を駆動
モーターにより昇降軸１０２ａを介して上下方向に移動
させるよう構成されている。この炉床１０２の上面には
支持パイプ１０５で支持された複数の台板１０４が所定
間隔をあけて配設されており、該各台板１０４上には被
焼成物１０３が載置される。また、上記炉本体１０１内
の各被焼成物１０３の間には電熱ヒータ１０６が配列さ
れており、該各ヒータ１０６には熱電対１０７が配設さ
れている。さらに、上記炉本体１０１内の各被焼成物１
０３の上部には雰囲気ガス供給管１０８が挿入されてお
り、各被焼成物１０３の下部には雰囲気ガス排出管１０
９が挿入されている。なお、１１０は炉本体１０１の下
面開口と炉床１０２との隙間をシールするシール部材で
ある。このようなバッチ式焼成炉１００では、炉床１０
２を下降させて各台板１０４上に被焼成物１０３を載置
し、この炉床１０２を上昇させて炉本体１０１内に被焼
成物１０３を収容する。そして予め設定されたヒートプ
ロファイルに沿って、上記炉本体１０１内に雰囲気ガス
を供給、排出しつつ所定温度に昇温，保持し、この後冷
却して加熱処理を行う。
トプロファイルに沿って昇温，冷却して加熱処理する場
合、従来、例えば図７に示すようなバッチ式焼成炉が使
用されている。この焼成炉１００は天井壁１０１ａ，及
び側壁１０１ｂからなる箱型の炉本体１０１の下面開口
に炉床１０２を昇降自在に配設し、該炉床１０２を駆動
モーターにより昇降軸１０２ａを介して上下方向に移動
させるよう構成されている。この炉床１０２の上面には
支持パイプ１０５で支持された複数の台板１０４が所定
間隔をあけて配設されており、該各台板１０４上には被
焼成物１０３が載置される。また、上記炉本体１０１内
の各被焼成物１０３の間には電熱ヒータ１０６が配列さ
れており、該各ヒータ１０６には熱電対１０７が配設さ
れている。さらに、上記炉本体１０１内の各被焼成物１
０３の上部には雰囲気ガス供給管１０８が挿入されてお
り、各被焼成物１０３の下部には雰囲気ガス排出管１０
９が挿入されている。なお、１１０は炉本体１０１の下
面開口と炉床１０２との隙間をシールするシール部材で
ある。このようなバッチ式焼成炉１００では、炉床１０
２を下降させて各台板１０４上に被焼成物１０３を載置
し、この炉床１０２を上昇させて炉本体１０１内に被焼
成物１０３を収容する。そして予め設定されたヒートプ
ロファイルに沿って、上記炉本体１０１内に雰囲気ガス
を供給、排出しつつ所定温度に昇温，保持し、この後冷
却して加熱処理を行う。
【０００３】
【発明が解決しようとする課題】ところで、近年におい
ては少量多品種の被焼成物を加熱処理することが要請さ
れる場合がある。しかしながら上記従来の焼成炉で少量
の被焼成物を処理する場合、全ての電熱ヒータに通電し
て炉内全体を昇温しなければならないことから、必要以
上の電力が消費されることとなり、それだけ製造コスト
が上昇するという問題点がある。また従来の焼成炉では
、品種の異なる少量の被焼成物を加熱処理する場合、品
種ごとのヒートプロファイルにより繰り返し焼成炉を運
転しなければならないことから、生産性が低いという問
題がある。
ては少量多品種の被焼成物を加熱処理することが要請さ
れる場合がある。しかしながら上記従来の焼成炉で少量
の被焼成物を処理する場合、全ての電熱ヒータに通電し
て炉内全体を昇温しなければならないことから、必要以
上の電力が消費されることとなり、それだけ製造コスト
が上昇するという問題点がある。また従来の焼成炉では
、品種の異なる少量の被焼成物を加熱処理する場合、品
種ごとのヒートプロファイルにより繰り返し焼成炉を運
転しなければならないことから、生産性が低いという問
題がある。
【０００４】本発明は上記従来の技術の有する問題点に
鑑みてなされたもので、少量多品種の被焼成物を加熱処
理する場合の、省エネルギーを可能にして製造コストを
低減できるとともに、異なる品種でも同時に加熱処理し
て生産性を向上できるバッチ式焼成炉を提供することを
目的としている。
鑑みてなされたもので、少量多品種の被焼成物を加熱処
理する場合の、省エネルギーを可能にして製造コストを
低減できるとともに、異なる品種でも同時に加熱処理し
て生産性を向上できるバッチ式焼成炉を提供することを
目的としている。
【０００５】
【課題を解決するための手段】本発明に係るバッチ式焼
成炉は、焼成炉内に被焼成物が載置される複数の領域部
を形成するとともに、該各領域部に加熱手段を配設し、
上記焼成炉内に挿脱可能な断熱壁を配設し、該断熱壁に
より上記領域部を被焼成物の処理量，品種に応じて区分
けし、これにより独立した焼成室を形成するとともに、
該焼成室を上記処理量，品種に応じた独自のヒートプロ
ファイルに沿って昇温制御する昇温制御手段を設けたこ
とを特徴とする。ここで上記加熱手段には、電熱式ヒー
タ，直火式バーナ，あるいは輻射管式バーナ等が採用で
き、特に限定されるものではない。
成炉は、焼成炉内に被焼成物が載置される複数の領域部
を形成するとともに、該各領域部に加熱手段を配設し、
上記焼成炉内に挿脱可能な断熱壁を配設し、該断熱壁に
より上記領域部を被焼成物の処理量，品種に応じて区分
けし、これにより独立した焼成室を形成するとともに、
該焼成室を上記処理量，品種に応じた独自のヒートプロ
ファイルに沿って昇温制御する昇温制御手段を設けたこ
とを特徴とする。ここで上記加熱手段には、電熱式ヒー
タ，直火式バーナ，あるいは輻射管式バーナ等が採用で
き、特に限定されるものではない。
【０００６】
【作用】本発明のバッチ式焼成炉により少量の被焼成物
を加熱処理する場合は、該被焼成物の処理量に応じた領
域部を選定し、この領域部を断熱壁で他の領域部と区分
けすることによって独立した焼成室とし、この焼成室の
みを昇温制御する。また、品種の異なる少量の被焼成物
を加熱処理する場合は、各品種ごとに、かつ処理量に応
じた複数の領域部を選定し、各領域部を断熱壁で区分け
して品種ごとの焼成室を形成する。そして各品種に対応
したヒートプロファイルにより上記焼成室を昇温制御す
る。なお、通常の量産を行う場合は、断熱壁で区分けす
る必要はなく、全領域部に被焼成物を配置した状態で加
熱処理することとなる。このように本発明に係るバッチ
式焼成炉によれば、焼成炉内に形成された複数の領域部
に加熱手段を配設するとともに、上記焼成炉内に挿脱可
能な断熱壁を配設して領域部を区分けすることによって
独立した焼成室を形成し、該焼成室を独自のヒートプロ
ファイルに沿って昇温制御するようにしたので、上述の
ように少量の被焼成物を加熱する場合のエネルギーの消
費を抑制でき、この分だけ製造コストを低減できる。ま
た、品種の異なる被焼成物を一つの焼成炉で同時に加熱
処理することができ、この点からもコストを低減できる
とともに、生産性を向上できる。
を加熱処理する場合は、該被焼成物の処理量に応じた領
域部を選定し、この領域部を断熱壁で他の領域部と区分
けすることによって独立した焼成室とし、この焼成室の
みを昇温制御する。また、品種の異なる少量の被焼成物
を加熱処理する場合は、各品種ごとに、かつ処理量に応
じた複数の領域部を選定し、各領域部を断熱壁で区分け
して品種ごとの焼成室を形成する。そして各品種に対応
したヒートプロファイルにより上記焼成室を昇温制御す
る。なお、通常の量産を行う場合は、断熱壁で区分けす
る必要はなく、全領域部に被焼成物を配置した状態で加
熱処理することとなる。このように本発明に係るバッチ
式焼成炉によれば、焼成炉内に形成された複数の領域部
に加熱手段を配設するとともに、上記焼成炉内に挿脱可
能な断熱壁を配設して領域部を区分けすることによって
独立した焼成室を形成し、該焼成室を独自のヒートプロ
ファイルに沿って昇温制御するようにしたので、上述の
ように少量の被焼成物を加熱する場合のエネルギーの消
費を抑制でき、この分だけ製造コストを低減できる。ま
た、品種の異なる被焼成物を一つの焼成炉で同時に加熱
処理することができ、この点からもコストを低減できる
とともに、生産性を向上できる。
【０００７】
【実施例】以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説
明する。図１ないし図３は本発明の一実施例によるバッ
チ式焼成炉を説明するための図である。図において、１
は本実施例のバッチ式焼成炉であり、この焼成炉１は天
井壁２ａ，及び四側壁２ｂからなる箱型の炉本体２の下
面開口２ｃに炉床３を昇降自在に配設するとともに、該
焼成炉１に昇温制御手段２０を接続して構成されている
。上記炉床３の下面には一対の昇降軸４が固定されてお
り、該昇降軸４は駆動モータに接続されたギヤを正転、
逆転させることによって上下方向（図１の→印参照）に
進退するようなっている。また上記床壁３の下部外周に
は樋状の溝部５ａが配設されており、該溝部５ａ内には
水５ｂ，あるいは砂等のシール材が充填されている。ま
た上記炉本体２の下面開口２ｃの周縁部には上記溝部５
ａ内に位置するシール部材５ｃが配設されており、これ
により上記炉本体２と床壁３との隙間をシールしている
。
明する。図１ないし図３は本発明の一実施例によるバッ
チ式焼成炉を説明するための図である。図において、１
は本実施例のバッチ式焼成炉であり、この焼成炉１は天
井壁２ａ，及び四側壁２ｂからなる箱型の炉本体２の下
面開口２ｃに炉床３を昇降自在に配設するとともに、該
焼成炉１に昇温制御手段２０を接続して構成されている
。上記炉床３の下面には一対の昇降軸４が固定されてお
り、該昇降軸４は駆動モータに接続されたギヤを正転、
逆転させることによって上下方向（図１の→印参照）に
進退するようなっている。また上記床壁３の下部外周に
は樋状の溝部５ａが配設されており、該溝部５ａ内には
水５ｂ，あるいは砂等のシール材が充填されている。ま
た上記炉本体２の下面開口２ｃの周縁部には上記溝部５
ａ内に位置するシール部材５ｃが配設されており、これ
により上記炉本体２と床壁３との隙間をシールしている
。
【０００８】また、上記炉床３の上面には炉幅方向に所
定間隔をあけて５つの載置部３ａが突出形成されており
、この各載置部３ａの上面には上記炉床３内に埋設され
た支持パイプ６の上端部が突出している。上記各載置部
３ａの支持パイプ６の上面には台板７が着脱可能に配設
されており、該台板７上に被焼成物１０が搭載されるよ
うになっている。また上記炉本体２の各載置部３ａの上
部には雰囲気ガス供給管８が挿入されており、上記炉本
体２の各載置部３ａの下部には雰囲気ガス排出管９が挿
入されている。
定間隔をあけて５つの載置部３ａが突出形成されており
、この各載置部３ａの上面には上記炉床３内に埋設され
た支持パイプ６の上端部が突出している。上記各載置部
３ａの支持パイプ６の上面には台板７が着脱可能に配設
されており、該台板７上に被焼成物１０が搭載されるよ
うになっている。また上記炉本体２の各載置部３ａの上
部には雰囲気ガス供給管８が挿入されており、上記炉本
体２の各載置部３ａの下部には雰囲気ガス排出管９が挿
入されている。
【０００９】上記炉本体２内の炉幅方向両端部，及び上
記各載置部３ａの間には上下方向に並列された電熱ヒー
タＨ１〜Ｈ６がそれぞれ配設されており、各電熱ヒータ
Ｈ１〜Ｈ６近辺にはそのヒータに対応した炉内温度を検
出する熱電対１１が挿入されている。これにより上記焼
成炉１内には上記各載置部３ａと各電熱ヒータＨ１〜Ｈ
６とにより囲まれた部分に第１〜第５領域部ａ〜ｅが形
成されている。
記各載置部３ａの間には上下方向に並列された電熱ヒー
タＨ１〜Ｈ６がそれぞれ配設されており、各電熱ヒータ
Ｈ１〜Ｈ６近辺にはそのヒータに対応した炉内温度を検
出する熱電対１１が挿入されている。これにより上記焼
成炉１内には上記各載置部３ａと各電熱ヒータＨ１〜Ｈ
６とにより囲まれた部分に第１〜第５領域部ａ〜ｅが形
成されている。
【００１０】そして、上記第２，及び第４領域部ｂ，ｄ
内には断熱壁１２が挿脱可能に挿入されており、該断熱
壁１２の各側面は上記天井壁２ａ，前後側壁２ｂ，及び
載置部３ａに気密に当接している。また上記断熱壁１２
の上端面には上記雰囲気ガス供給管８を囲う凹部１２ａ
が形成されており、下端面には上記支持パイプ６の上端
部に係合する溝部１２ｂが形成されている。この各断熱
壁１２により上記焼成炉１内の第１，第３，及び第５領
域部ａ，ｃ，ｅは区分けされており、各領域部ａ，ｃ，
ｅにはそれぞれ品種の異なる被焼成物１０が配置されて
おり、これにより各被焼成物１０は独立した焼成室Ａ，
Ｃ，Ｅ内に収容されている。
内には断熱壁１２が挿脱可能に挿入されており、該断熱
壁１２の各側面は上記天井壁２ａ，前後側壁２ｂ，及び
載置部３ａに気密に当接している。また上記断熱壁１２
の上端面には上記雰囲気ガス供給管８を囲う凹部１２ａ
が形成されており、下端面には上記支持パイプ６の上端
部に係合する溝部１２ｂが形成されている。この各断熱
壁１２により上記焼成炉１内の第１，第３，及び第５領
域部ａ，ｃ，ｅは区分けされており、各領域部ａ，ｃ，
ｅにはそれぞれ品種の異なる被焼成物１０が配置されて
おり、これにより各被焼成物１０は独立した焼成室Ａ，
Ｃ，Ｅ内に収容されている。
【００１１】上記昇温制御手段２０は、図２に示すよう
に、３台の昇温プログラム設定器（ＤＰＣ）２１，２２
，２３と、各電熱ヒータＨ１〜Ｈ６をオン，オフ制御す
る温度調節器Ｔ１〜Ｔ６と、第１〜第５領域部ａ〜ｅに
雰囲気ガスを供給する電磁弁２４，２５，２６とから構
成されている。上記各設定器２１，２２，２３には、図
３に示すように、被焼成物１０の品種に応じて設定され
た独自のヒートプロファイルｘ，ｙ，ｚが入力されてい
るとともに、雰囲気ガス選定パターンが入力されている
。上記第１設定器２１は、上記ヒートプロファイルｘに
応じたリモート信号を各温度調節器Ｔ１〜Ｔ６に出力し
、第２設定器２２は上記プロファイルｙに応じたリモー
ト信号を温度調節器Ｔ２〜Ｔ６に出力し、さらに第３設
定器２３は上記プロファイルｚに応じたリモート信号を
温度調節器Ｔ５，Ｔ６に出力するよう構成されている。
に、３台の昇温プログラム設定器（ＤＰＣ）２１，２２
，２３と、各電熱ヒータＨ１〜Ｈ６をオン，オフ制御す
る温度調節器Ｔ１〜Ｔ６と、第１〜第５領域部ａ〜ｅに
雰囲気ガスを供給する電磁弁２４，２５，２６とから構
成されている。上記各設定器２１，２２，２３には、図
３に示すように、被焼成物１０の品種に応じて設定され
た独自のヒートプロファイルｘ，ｙ，ｚが入力されてい
るとともに、雰囲気ガス選定パターンが入力されている
。上記第１設定器２１は、上記ヒートプロファイルｘに
応じたリモート信号を各温度調節器Ｔ１〜Ｔ６に出力し
、第２設定器２２は上記プロファイルｙに応じたリモー
ト信号を温度調節器Ｔ２〜Ｔ６に出力し、さらに第３設
定器２３は上記プロファイルｚに応じたリモート信号を
温度調節器Ｔ５，Ｔ６に出力するよう構成されている。
【００１２】また、上記第１設定器２１は雰囲気ガス選
定パターンに応じてそれぞれＡｉｒ，Ｎ２ ，Ｏ２ 用
電磁弁２７を開閉制御するとともに、雰囲気ガス供給電
磁弁２４を開閉制御し、この雰囲気ガスを第１〜第５領
域部ａ〜ｅに供給する。上記第２設定器２２は各電磁弁
２８，及び供給電磁弁２５を開閉制御するとともに、雰
囲気ガスを第２〜第５領域部ｂ〜ｅに供給し、さらに第
３設定器２３は各電磁弁２９，及び供給電磁弁２６を開
閉制御するとともに、雰囲気ガスを第４，第５領域部ｄ
，ｅに供給するよう構成されている。
定パターンに応じてそれぞれＡｉｒ，Ｎ２ ，Ｏ２ 用
電磁弁２７を開閉制御するとともに、雰囲気ガス供給電
磁弁２４を開閉制御し、この雰囲気ガスを第１〜第５領
域部ａ〜ｅに供給する。上記第２設定器２２は各電磁弁
２８，及び供給電磁弁２５を開閉制御するとともに、雰
囲気ガスを第２〜第５領域部ｂ〜ｅに供給し、さらに第
３設定器２３は各電磁弁２９，及び供給電磁弁２６を開
閉制御するとともに、雰囲気ガスを第４，第５領域部ｄ
，ｅに供給するよう構成されている。
【００１３】さらに、上記各温度調節器Ｔ１〜Ｔ６は各
熱電対１１からの炉内検出温度を入力し、該検出温度が
上記各ヒートプロファイルｘ，ｙ，ｚに沿うよう各サイ
リスタＳ１〜Ｓ６を介して電熱ヒータＨ１〜Ｈ６をオン
オフ制御するよう構成されている。また上記各温度調節
器Ｔ２〜Ｔ６には上記各昇温プログラム設定器２１，２
２，２３からのリモート信号を切り換えるリレースイッ
チＲ１〜Ｒ５が接続されている。
熱電対１１からの炉内検出温度を入力し、該検出温度が
上記各ヒートプロファイルｘ，ｙ，ｚに沿うよう各サイ
リスタＳ１〜Ｓ６を介して電熱ヒータＨ１〜Ｈ６をオン
オフ制御するよう構成されている。また上記各温度調節
器Ｔ２〜Ｔ６には上記各昇温プログラム設定器２１，２
２，２３からのリモート信号を切り換えるリレースイッ
チＲ１〜Ｒ５が接続されている。
【００１４】次に本実施例の作用効果について説明する
。本実施例のバッチ式焼成炉１において、少量で、かつ
品種の異なる３つの被焼成物１０を同時に加熱処理する
場合は、図１に示すように、炉床３を下降させた状態で
第２、第４領域部ｂ，ｄの台板７を取り外し、載置部３
ａ上に断熱壁１２をこれの溝部１２ｂが支持パイプ６に
係合するよう嵌装させて位置決めする。また第１，第３
，第５領域部ａ，ｃ，ｅの台板７上にそれぞれ被焼成物
１０を載置する。そして駆動モータにより炉床３を上昇
させて被焼成物１０を炉本体２内に収容する。これによ
り被焼成物１０が収容された各領域部ａ，ｃ，ｅは独立
した焼成室Ａ，Ｃ，Ｅとなっている。この状態で昇温制
御手段２０をスタートさせる。すると、各昇温プログラ
ム設定器２１，２２，２３は各焼成室Ａ，Ｃ，Ｅにそれ
ぞれ選定された雰囲気ガスを供給しつつ、各焼成室Ａ，
Ｃ，Ｅをそれぞれヒートプロファイルｘ，ｙ，ｚに沿っ
て昇温保持し、しかる後、各焼成室Ａ，Ｃ，Ｅ内の温度
が９００ ℃に達したときモータを駆動させて炉床３を
下降させる。これにより３種類の被焼成物１０を１つの
焼成炉で同時に加熱処理できる。
。本実施例のバッチ式焼成炉１において、少量で、かつ
品種の異なる３つの被焼成物１０を同時に加熱処理する
場合は、図１に示すように、炉床３を下降させた状態で
第２、第４領域部ｂ，ｄの台板７を取り外し、載置部３
ａ上に断熱壁１２をこれの溝部１２ｂが支持パイプ６に
係合するよう嵌装させて位置決めする。また第１，第３
，第５領域部ａ，ｃ，ｅの台板７上にそれぞれ被焼成物
１０を載置する。そして駆動モータにより炉床３を上昇
させて被焼成物１０を炉本体２内に収容する。これによ
り被焼成物１０が収容された各領域部ａ，ｃ，ｅは独立
した焼成室Ａ，Ｃ，Ｅとなっている。この状態で昇温制
御手段２０をスタートさせる。すると、各昇温プログラ
ム設定器２１，２２，２３は各焼成室Ａ，Ｃ，Ｅにそれ
ぞれ選定された雰囲気ガスを供給しつつ、各焼成室Ａ，
Ｃ，Ｅをそれぞれヒートプロファイルｘ，ｙ，ｚに沿っ
て昇温保持し、しかる後、各焼成室Ａ，Ｃ，Ｅ内の温度
が９００ ℃に達したときモータを駆動させて炉床３を
下降させる。これにより３種類の被焼成物１０を１つの
焼成炉で同時に加熱処理できる。
【００１５】図４は、処理量及び品種の異なる被焼成物
１０を同時に加熱処理する場合を示す。この場合は、第
２領域部ｂの載置部３ａ上に断熱壁１２を嵌装させて位
置決めし、第１領域部ａに少量の被焼成物１０を載置す
るとともに、第３〜第５領域部ｃ〜ｅにそれぞれ被焼成
物１０を載置して焼成室Ａと焼成室Ｃ〜Ｅとに区分けす
る。そして昇温プログラム設定器２１，２２を作動する
ことにより、焼成室Ａはヒートプロファイルｘ，焼成室
Ｃ〜Ｅはヒートプロファイルｙに沿って昇温され、これ
により処理量及び品種の異なる２種類の被焼成物１０が
１つの焼成炉で同時に加熱処理できる。
１０を同時に加熱処理する場合を示す。この場合は、第
２領域部ｂの載置部３ａ上に断熱壁１２を嵌装させて位
置決めし、第１領域部ａに少量の被焼成物１０を載置す
るとともに、第３〜第５領域部ｃ〜ｅにそれぞれ被焼成
物１０を載置して焼成室Ａと焼成室Ｃ〜Ｅとに区分けす
る。そして昇温プログラム設定器２１，２２を作動する
ことにより、焼成室Ａはヒートプロファイルｘ，焼成室
Ｃ〜Ｅはヒートプロファイルｙに沿って昇温され、これ
により処理量及び品種の異なる２種類の被焼成物１０が
１つの焼成炉で同時に加熱処理できる。
【００１６】図５は、少量の被焼成物１０を加熱処理す
る場合を示す。この場合は、第３領域部ｃの載置部３ａ
上に断熱壁１２を嵌装させ、第１，第２領域部ａ，ｂを
焼成室Ａ，Ｂとして使用する。そしてこの場合の昇温プ
ログラム設定器２１は電熱ヒータＨ１〜Ｈ３のみ通電す
ることとなり、これにより省エネルギーで加熱処理され
ることとなる。
る場合を示す。この場合は、第３領域部ｃの載置部３ａ
上に断熱壁１２を嵌装させ、第１，第２領域部ａ，ｂを
焼成室Ａ，Ｂとして使用する。そしてこの場合の昇温プ
ログラム設定器２１は電熱ヒータＨ１〜Ｈ３のみ通電す
ることとなり、これにより省エネルギーで加熱処理され
ることとなる。
【００１７】このように本実施例によれば、焼成炉１内
に第１〜第５領域部ａ〜ｅを形成するとともに、該各領
域部ａ〜ｅに電熱ヒータＨ１〜Ｈ６を配設し、上記各領
域部ａ〜ｅに着脱自在に断熱壁１２を配設して任意の独
立した焼成室Ａ〜Ｅを形成し、かつ各焼成室Ａ〜Ｅを被
焼成物１０の品種に応じたヒートプロファイルｘ，ｙ，
ｚに沿って昇温制御するようにしたので、必要以上の電
力消費を回避でき、その分だけ製造コストを低減できる
。ちなみに、図５に示すように、２室の焼成室Ａ，Ｂを
使用し、かつ３回路の電熱ヒータＨ１〜Ｈ３で焼成した
場合は、従来の全ヒータに通電した場合に比べて電力使
用量を約４０％低減できる。また、品種の異なる被焼成
物１０を一つの焼成炉１で同時に加熱処理することがで
き、この点からもコストを低減できるとともに、生産性
を向上できる。
に第１〜第５領域部ａ〜ｅを形成するとともに、該各領
域部ａ〜ｅに電熱ヒータＨ１〜Ｈ６を配設し、上記各領
域部ａ〜ｅに着脱自在に断熱壁１２を配設して任意の独
立した焼成室Ａ〜Ｅを形成し、かつ各焼成室Ａ〜Ｅを被
焼成物１０の品種に応じたヒートプロファイルｘ，ｙ，
ｚに沿って昇温制御するようにしたので、必要以上の電
力消費を回避でき、その分だけ製造コストを低減できる
。ちなみに、図５に示すように、２室の焼成室Ａ，Ｂを
使用し、かつ３回路の電熱ヒータＨ１〜Ｈ３で焼成した
場合は、従来の全ヒータに通電した場合に比べて電力使
用量を約４０％低減できる。また、品種の異なる被焼成
物１０を一つの焼成炉１で同時に加熱処理することがで
き、この点からもコストを低減できるとともに、生産性
を向上できる。
【００１８】図６は、上記実施例の他の例を示し、これ
は各領域部ａ〜ｅに対応する炉床３部分を切り離して床
部３ｂを形成し、各床部３ｂに昇降軸４を接続すること
によって、各床部３ｂを独立して昇降できるように構成
した例である。このように構成した場合は、任意のタイ
ミングで各焼成室Ａ，Ｃ，Ｅを制御でき、連続操業が可
能となり、さらに生産性を向上できる。
は各領域部ａ〜ｅに対応する炉床３部分を切り離して床
部３ｂを形成し、各床部３ｂに昇降軸４を接続すること
によって、各床部３ｂを独立して昇降できるように構成
した例である。このように構成した場合は、任意のタイ
ミングで各焼成室Ａ，Ｃ，Ｅを制御でき、連続操業が可
能となり、さらに生産性を向上できる。
【００１９】
【発明の効果】以上のように本発明に係るバッチ式焼成
炉によれば、焼成炉内に形成された複数の領域部に加熱
手段を配設するとともに、上記焼成炉内に挿脱可能な断
熱壁を配設し、該断熱壁により上記領域部を区分けする
ことによって独立した焼成室を形成し、該焼成室を独自
のヒートプロファイルに沿って昇温制御するようにした
ので、少量多品種生産に対応する場合の、製造コストを
低減できるとともに、生産性を向上できる。
炉によれば、焼成炉内に形成された複数の領域部に加熱
手段を配設するとともに、上記焼成炉内に挿脱可能な断
熱壁を配設し、該断熱壁により上記領域部を区分けする
ことによって独立した焼成室を形成し、該焼成室を独自
のヒートプロファイルに沿って昇温制御するようにした
ので、少量多品種生産に対応する場合の、製造コストを
低減できるとともに、生産性を向上できる。
【図１】本発明の一実施例によるバッチ式焼成炉を説明
するための断面図である。
するための断面図である。
【図２】上記実施例の昇温制御手段を説明するための制
御系統図である。
御系統図である。
【図３】上記実施例の品種の異なる被焼成物に応じたヒ
ートプロファイルを示す特性図である。
ートプロファイルを示す特性図である。
【図４】上記実施例の焼成炉における処理量，品種が異
なる場合の使用例を示す断面図である。
なる場合の使用例を示す断面図である。
【図５】上記実施例の処理量が少ない場合の使用例を示
す断面図である。
す断面図である。
【図６】上記実施例のその他の例を示す断面図である。
【図７】従来の焼成炉を示す断面図である。
１ バッチ式焼成炉
１０ 被焼成物
１２ 断熱壁
２０ 昇温制御手段
Ｈ１〜Ｈ６ 電熱ヒータ（加熱手段）ａ〜ｅ 領域
部 Ａ〜Ｅ 焼成室 ｘ，ｙ，ｚ ヒートプロファイル
部 Ａ〜Ｅ 焼成室 ｘ，ｙ，ｚ ヒートプロファイル
Claims (1)
- 【請求項１】 焼成炉内に被焼成物が載置される複数
の領域部を形成するとともに、該各領域部に加熱手段を
配設し、上記焼成炉内に挿脱可能な断熱壁を配設し、該
断熱壁により上記領域部を被焼成物の処理量，品種に応
じて区分けし、これにより独立した焼成室を形成すると
ともに、該焼成室を上記処理量，品種に応じた独自のヒ
ートプロファイルに沿って昇温制御する昇温制御手段を
設けたことを特徴とするバッチ式焼成炉。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3059419A JP2985331B2 (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | バッチ式焼成炉 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP3059419A JP2985331B2 (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | バッチ式焼成炉 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04273983A true JPH04273983A (ja) | 1992-09-30 |
| JP2985331B2 JP2985331B2 (ja) | 1999-11-29 |
Family
ID=13112729
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP3059419A Expired - Fee Related JP2985331B2 (ja) | 1991-02-28 | 1991-02-28 | バッチ式焼成炉 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2985331B2 (ja) |
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2006275499A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-10-12 | Ngk Insulators Ltd | 連続式熱処理炉及び熱処理方法 |
| US7645136B2 (en) | 2004-10-04 | 2010-01-12 | Ngk Insulators, Ltd. | Continuous heat treatment furnace and heat treatment method |
| JP2011158201A (ja) * | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Takasago Ind Co Ltd | バッチ式熱処理炉 |
| JP2019509242A (ja) * | 2016-01-15 | 2019-04-04 | コーニング インコーポレイテッド | 差分温度勾配を有する窯炉焼成 |
Families Citing this family (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| FR3084737B1 (fr) * | 2018-07-31 | 2021-01-08 | Safran Ceram | Installation pour reactions chimiques en phase vapeur a chargement facilite |
-
1991
- 1991-02-28 JP JP3059419A patent/JP2985331B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US7645136B2 (en) | 2004-10-04 | 2010-01-12 | Ngk Insulators, Ltd. | Continuous heat treatment furnace and heat treatment method |
| JP2006275499A (ja) * | 2005-03-01 | 2006-10-12 | Ngk Insulators Ltd | 連続式熱処理炉及び熱処理方法 |
| JP2011158201A (ja) * | 2010-02-02 | 2011-08-18 | Takasago Ind Co Ltd | バッチ式熱処理炉 |
| JP2019509242A (ja) * | 2016-01-15 | 2019-04-04 | コーニング インコーポレイテッド | 差分温度勾配を有する窯炉焼成 |
| US11168941B2 (en) | 2016-01-15 | 2021-11-09 | Corning Incorporated | Kiln firing with differential temperature gradients |
| US11566843B2 (en) | 2016-01-15 | 2023-01-31 | Corning Incorporated | Klin firing with differential temperature gradients |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2985331B2 (ja) | 1999-11-29 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |