JPH0427179A - レーザ装置 - Google Patents
レーザ装置Info
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- JPH0427179A JPH0427179A JP13353290A JP13353290A JPH0427179A JP H0427179 A JPH0427179 A JP H0427179A JP 13353290 A JP13353290 A JP 13353290A JP 13353290 A JP13353290 A JP 13353290A JP H0427179 A JPH0427179 A JP H0427179A
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野〕
この発明は、加工用のエキシマレーザ装置等のレーザ装
置に関するものである。
置に関するものである。
近年、炭酸ガスレーザおよびエキシマレーザ等の大出力
のガスレーザが材料の加工用に盛んに利用されている。
のガスレーザが材料の加工用に盛んに利用されている。
二の中でもエキシマレーザは、他のレーザに比べて、短
波長領域で大きな出力を得ることができるため、微細加
工および外科手術等の分野における新しいレーザとして
期待されている。
波長領域で大きな出力を得ることができるため、微細加
工および外科手術等の分野における新しいレーザとして
期待されている。
エキシマレーザは、レーザ媒質として、クリプトン(K
r)、キセノン(Xe)などの希ガスと、フッX (F
)、塩素(Cffi)などのハロゲンガスを適宜混合し
たガス(以下ル−ザ媒質ガス」という、)を用い、この
レーザ媒質ガスを放電させることにより、波長193n
mから波長353nmの間で幾つかの共振線が得られ、
この共振線のうちから、加工目的に最適の波長の共振線
を選択することができる。
r)、キセノン(Xe)などの希ガスと、フッX (F
)、塩素(Cffi)などのハロゲンガスを適宜混合し
たガス(以下ル−ザ媒質ガス」という、)を用い、この
レーザ媒質ガスを放電させることにより、波長193n
mから波長353nmの間で幾つかの共振線が得られ、
この共振線のうちから、加工目的に最適の波長の共振線
を選択することができる。
このような加工用のレーザ装置において、大出力のレー
ザを連続的に安定して得るためには、常に新しいレーザ
媒質ガスを装置内の放電空間に供給することが不可欠の
技術となる。
ザを連続的に安定して得るためには、常に新しいレーザ
媒質ガスを装置内の放電空間に供給することが不可欠の
技術となる。
第4図は従来のレーザ装置の構成を示す概念図である。
第4図に示すように、ガス容器17は、レーザ発振管を
構成する圧力容器であり、このガス容器17内には、放
電電極2.ファン3および熱交換器4が設けられる。
構成する圧力容器であり、このガス容器17内には、放
電電極2.ファン3および熱交換器4が設けられる。
放電電極2は高圧電源6に接続され、また放電電極2の
両側には、全反射鏡10と半透過鏡11とが設置される
。この全反射鏡10と半透過鏡11とは、光共振器を構
成しており、また各々が、ガス容器17の窓の役割も果
たしている。
両側には、全反射鏡10と半透過鏡11とが設置される
。この全反射鏡10と半透過鏡11とは、光共振器を構
成しており、また各々が、ガス容器17の窓の役割も果
たしている。
ファン3は、ガス容器17を貫通する軸18により、ガ
ス容器17の外部に設置した電動機19に連結され、こ
の電動機19により回転する。
ス容器17の外部に設置した電動機19に連結され、こ
の電動機19により回転する。
また軸18が、ガス容器17を貫通する部分には、磁性
流体20が満たされており、この磁性流体20は、永久
磁石21で保持されている。この磁性流体20は、軸1
8が高速で回転しても、ガス容器17の外部にレーザ媒
質ガス12が漏れ出すことを防止している。
流体20が満たされており、この磁性流体20は、永久
磁石21で保持されている。この磁性流体20は、軸1
8が高速で回転しても、ガス容器17の外部にレーザ媒
質ガス12が漏れ出すことを防止している。
ガス容器17内には、レーザ媒質ガス12として、キセ
ノンまたはクリプトンなどの希ガスと、フッ素または塩
素などのハロゲンガスとの混合ガスおよびヘリウムなど
の希釈ガスが封入されている。
ノンまたはクリプトンなどの希ガスと、フッ素または塩
素などのハロゲンガスとの混合ガスおよびヘリウムなど
の希釈ガスが封入されている。
このように、構成された従来のレーザ装置の動作を以下
説明する。
説明する。
高圧電源6により高電圧が、ガス容器17内の放電電極
2に印加され、放電空間9のレーザ媒質ガスが放電する
ことにより、高エネルギー状態に励起され、いわゆる反
転分布を生じる。
2に印加され、放電空間9のレーザ媒質ガスが放電する
ことにより、高エネルギー状態に励起され、いわゆる反
転分布を生じる。
励起したレーザ媒質ガス12のエネルギーは、全反射鏡
10および半透過鏡11が構成する光共振器を往復反射
することにより、レーザビームとして、ガス容器17の
外部に出力される。
10および半透過鏡11が構成する光共振器を往復反射
することにより、レーザビームとして、ガス容器17の
外部に出力される。
このように高圧電源6を連続的に動作させ、レーザ媒質
ガス12を連続的に放電および励起させることにより、
持続的なレーザビームを得ることができ、材料の加工な
どの目的にレーザビームを利用することができる。
ガス12を連続的に放電および励起させることにより、
持続的なレーザビームを得ることができ、材料の加工な
どの目的にレーザビームを利用することができる。
しかし、レーザ媒質ガス12を連続して放電。
励起させると、レーザ発振にとって好ましくない反応生
成物も、放電空間2に蓄積される。このような反応生成
物は、レーザ発振の出力を低下させ、連続的なレーザビ
ームの利用の障害となる。
成物も、放電空間2に蓄積される。このような反応生成
物は、レーザ発振の出力を低下させ、連続的なレーザビ
ームの利用の障害となる。
そこで、従来のレーザ装置では、ガス容器17内に、フ
ァン3と熱交換器4とを設置し、ファン3を回転させる
ことにより、レーザ媒質ガス12を放電空間9→熱交換
器4→ファン3→放電空間9へと循環させ(矢印A)、
熱交換器4によりレーザ媒質ガス12を冷却することに
よって、レーザ発振の出力低下を防止している。すなわ
ち熱交換器4を通過したレーザ媒質ガス12は、はぼ放
電前の状態に戻り、この放電前の状態となったレーザ媒
質ガス12を再度放電させることにより、以前と同様の
出力を有するレーザ発振を維持できる。
ァン3と熱交換器4とを設置し、ファン3を回転させる
ことにより、レーザ媒質ガス12を放電空間9→熱交換
器4→ファン3→放電空間9へと循環させ(矢印A)、
熱交換器4によりレーザ媒質ガス12を冷却することに
よって、レーザ発振の出力低下を防止している。すなわ
ち熱交換器4を通過したレーザ媒質ガス12は、はぼ放
電前の状態に戻り、この放電前の状態となったレーザ媒
質ガス12を再度放電させることにより、以前と同様の
出力を有するレーザ発振を維持できる。
[発明が解決しよ・うとする課題]
しかしながら、このような従来のレーザ装置では、ガス
容器17内に設置されている磁性流体20永久磁石21
およびファン3と電動機19とを連結する軸が、レーザ
媒質ガス12を構成する反応性の強いハロゲンガスと反
応することにより、腐食劣化するという問題があった。
容器17内に設置されている磁性流体20永久磁石21
およびファン3と電動機19とを連結する軸が、レーザ
媒質ガス12を構成する反応性の強いハロゲンガスと反
応することにより、腐食劣化するという問題があった。
その結果、レーザ装置の長期にわたる運転中に、軸18
がガス容器17を貫通する部分から、ガス容器17内に
封入したレーザ媒質ガス12が漏れ出すという問題があ
った。
がガス容器17を貫通する部分から、ガス容器17内に
封入したレーザ媒質ガス12が漏れ出すという問題があ
った。
レーザ媒質ガス12は、人体に有害なハロゲンガスを含
有するため、エキシマレーザ等を広〈産業上の用途に利
用するためには、レーザ媒質ガス12の漏洩の防止は不
可欠である。
有するため、エキシマレーザ等を広〈産業上の用途に利
用するためには、レーザ媒質ガス12の漏洩の防止は不
可欠である。
この発明の目的は、上記問題点に鑑み、ガス容器の外部
へ、レーザ媒質であるガスの漏洩が生しることないレー
ザ装置を提供することである。
へ、レーザ媒質であるガスの漏洩が生しることないレー
ザ装置を提供することである。
この発明のレーザ装置は、ガス容器の内部にファンを駆
動する回転子を設け、この回転子に回転力を与える電気
巻線をガス容器の外部に設けたことを特徴とする。
動する回転子を設け、この回転子に回転力を与える電気
巻線をガス容器の外部に設けたことを特徴とする。
(作用〕
この発明の構成によれば、ガス容器の外部に設けた電気
巻線で発生させた磁界により、ガス容器内に設けた回転
子に誘導電流を誘起するとともに回転力を発生させ、回
転子を回転させることにより、ファンを回転させる。し
たがって、従来のようにファンと、電動機とを連結する
軸がガス容器を貫通することがなく、ガス容器は完全に
気密を保つことができる。さらに従来のように、ガス容
器を貫通したファンと電動機とを連結する軸を保持する
ための磁性流体および永久磁石等が不必要となる。
巻線で発生させた磁界により、ガス容器内に設けた回転
子に誘導電流を誘起するとともに回転力を発生させ、回
転子を回転させることにより、ファンを回転させる。し
たがって、従来のようにファンと、電動機とを連結する
軸がガス容器を貫通することがなく、ガス容器は完全に
気密を保つことができる。さらに従来のように、ガス容
器を貫通したファンと電動機とを連結する軸を保持する
ための磁性流体および永久磁石等が不必要となる。
この発明の一実施例を第1図ないし第3図に基づいて説
明する。
明する。
第1図はこの発明の一実施例のレーザ装置の構成を示す
概念図である。
概念図である。
第1図に示すように、レーザ装置は、レーザ発振管とな
るガス容器1の内部に、放tt極2.ファン3.熱交換
器4および回転子5を備え、またガス容器1の外部には
、放電電極2に接続した高圧電源6.!気巻線7および
この電気巻線7に接続した交流電源8とを備えたもので
ある。
るガス容器1の内部に、放tt極2.ファン3.熱交換
器4および回転子5を備え、またガス容器1の外部には
、放電電極2に接続した高圧電源6.!気巻線7および
この電気巻線7に接続した交流電源8とを備えたもので
ある。
放it極2間の空間は、放電領域9であり、この放電領
域90両側には、全反射鏡10および半透過鏡11を設
置する。この全反射R10と半透過鏡11とは光共振器
を構成し、また各々は、ガス容器1の芯の役割も果たす
。
域90両側には、全反射鏡10および半透過鏡11を設
置する。この全反射R10と半透過鏡11とは光共振器
を構成し、また各々は、ガス容器1の芯の役割も果たす
。
ファン3の一端には、回転子5を連結しでおり、この回
転子5を回転させることによりファン3を回転させる。
転子5を回転させることによりファン3を回転させる。
回転子5は、誘導電動機のかご形回転子と同一のもので
あり、また回転子5を包むように、ガス容器1の外部に
設置した電気巻線7は、誘導電動機の固定子巻線と同一
のものである。
あり、また回転子5を包むように、ガス容器1の外部に
設置した電気巻線7は、誘導電動機の固定子巻線と同一
のものである。
回転子5と電気巻線7との間のガス容器1の部分を薄い
ステンレス板で構成することにより、電気巻線7により
生じた磁界は、ガス容器1の内部の回転子5を貫通し、
またガス容器1は気密を保つ。
ステンレス板で構成することにより、電気巻線7により
生じた磁界は、ガス容器1の内部の回転子5を貫通し、
またガス容器1は気密を保つ。
またガス容器1の内部には、レーザ媒質のガス(以下「
レーザ媒質ガス12」という。)として、クリプトン、
フッ素および希釈ガスのヘリウムを全圧2気圧で封入し
た。
レーザ媒質ガス12」という。)として、クリプトン、
フッ素および希釈ガスのヘリウムを全圧2気圧で封入し
た。
このように構成したレーザ装置の動作を以下説明する。
高圧電源6により放itt極2に高電圧パルスを供給す
ることによって、ガス容器1の内部に封入したレーザ媒
質ガス12を放電させる。
ることによって、ガス容器1の内部に封入したレーザ媒
質ガス12を放電させる。
この放電により、レーザ媒質ガス12は、高エネルギー
状態に励起され、いわゆる反転分布の状態となる0反転
分布の状態となったレーザ媒質ガス12は、誘導放出に
より光の放射および増幅作用を起こす、そして放射光が
全反射鏡1oと半透過鏡11とから構成した光共振器を
往復反射することにより、強力なレーザビーム13をガ
ス容器1の外部に発振させることができる。
状態に励起され、いわゆる反転分布の状態となる0反転
分布の状態となったレーザ媒質ガス12は、誘導放出に
より光の放射および増幅作用を起こす、そして放射光が
全反射鏡1oと半透過鏡11とから構成した光共振器を
往復反射することにより、強力なレーザビーム13をガ
ス容器1の外部に発振させることができる。
このように高圧電源2の高圧パルスによりレーザ媒質ガ
ス12の放電動作を繰り返すことにより、持続的なレー
ザビーム13を得ることができ、このレーザビーム13
を利用することにより材料の加工などの目的を果たすこ
とができる。
ス12の放電動作を繰り返すことにより、持続的なレー
ザビーム13を得ることができ、このレーザビーム13
を利用することにより材料の加工などの目的を果たすこ
とができる。
一方、レーザ媒質ガス12を放電させ、励起させると、
レーザビーム13を構成する励起原子の他に、レーザ出
力に悪影響を与える反応生成物も生成される。この反応
生成物が、運転中のレーザ装置内に蓄積されると、最終
的には、レーザ出力を得ることができなくなる。
レーザビーム13を構成する励起原子の他に、レーザ出
力に悪影響を与える反応生成物も生成される。この反応
生成物が、運転中のレーザ装置内に蓄積されると、最終
的には、レーザ出力を得ることができなくなる。
そこでガス容器1の内に、ファン3と熱交換器4とを設
置することにより、レーザ出力に悪影響を与える反応生
成物を放iff領域9から除去する。
置することにより、レーザ出力に悪影響を与える反応生
成物を放iff領域9から除去する。
すなわち、ファン3を回転させることにより、放電領域
9→熱交換器4→フアン3→放電f+JI域9へとレー
ザ媒質ガス12を循環させ(矢印A)、放電領域9から
排出したレーザ媒質ガス12を熱交換器4で冷却するこ
とにより、反応生成物を解離した後、ファン3により、
再び新しいレーザ媒質ガス12として、放電領域9に供
給する。その結果、常に新しいレーザ媒質ガス12を放
電領域9番ご供給することができる。
9→熱交換器4→フアン3→放電f+JI域9へとレー
ザ媒質ガス12を循環させ(矢印A)、放電領域9から
排出したレーザ媒質ガス12を熱交換器4で冷却するこ
とにより、反応生成物を解離した後、ファン3により、
再び新しいレーザ媒質ガス12として、放電領域9に供
給する。その結果、常に新しいレーザ媒質ガス12を放
電領域9番ご供給することができる。
以下第2図および第3図に基づいて、ファン3を回転さ
せるための回転子5および電気巻線7について説明する
。
せるための回転子5および電気巻線7について説明する
。
第2図は第1図の回転子5を示す概念図、第3図は多相
交流を印加した時の回転子5の状態図である。
交流を印加した時の回転子5の状態図である。
第2図において、回転子5は、誘導電動機のかこ形回転
子と同一のものあり、耐腐食性に優れたアルミニウムで
構成した。
子と同一のものあり、耐腐食性に優れたアルミニウムで
構成した。
また第3図において、14は電気巻線7により生じた磁
界、15は磁界14により回転子7に誘起される誘導電
流を示す。
界、15は磁界14により回転子7に誘起される誘導電
流を示す。
また第1図に示す回転子5と電気巻線7との間のガス容
器1の部分は、薄いステンレス板1′で構成し、電気巻
線7により生じた磁界が、ガス容器1の内部の回転子5
を貫通するようにしである。
器1の部分は、薄いステンレス板1′で構成し、電気巻
線7により生じた磁界が、ガス容器1の内部の回転子5
を貫通するようにしである。
このような回転子5の動作を以下説明する。
交流電源8により電気巻線7に多相交流を印加すること
により生した磁界14は、回転子5を貫通し、矢印の方
向に回転する。この磁界14の回転により、回転子5に
誘導電流が誘起され、紙面(第3図)に対して垂直方向
に電流が流れる。この回転子5に流れた電流は、フレミ
ングの左手の法則に従い、磁界14の回転方向と同一方
向のトルク(矢印B)を発生させ、その結果、回転子5
は磁界の回転方向と同一方向に回転する。
により生した磁界14は、回転子5を貫通し、矢印の方
向に回転する。この磁界14の回転により、回転子5に
誘導電流が誘起され、紙面(第3図)に対して垂直方向
に電流が流れる。この回転子5に流れた電流は、フレミ
ングの左手の法則に従い、磁界14の回転方向と同一方
向のトルク(矢印B)を発生させ、その結果、回転子5
は磁界の回転方向と同一方向に回転する。
このように、ガス容器1の外部に設置した電気巻線7に
より発生させた磁界により、ガス容器1の内部に設置し
た回転子5に誘導電流を誘起させ、回転子5にトルクを
発生させ、回転子5を回転させることにより回転子5に
連結したファン3を回転させる。したがって、ファン3
と回転子5とを連結する軸16はガス容器1を貫通する
ことなく、ガス容器1は完全に気密を保つことでき、さ
らに従来のように、軸18を保持する磁性流体20およ
び永久磁石21も不必要となる。
より発生させた磁界により、ガス容器1の内部に設置し
た回転子5に誘導電流を誘起させ、回転子5にトルクを
発生させ、回転子5を回転させることにより回転子5に
連結したファン3を回転させる。したがって、ファン3
と回転子5とを連結する軸16はガス容器1を貫通する
ことなく、ガス容器1は完全に気密を保つことでき、さ
らに従来のように、軸18を保持する磁性流体20およ
び永久磁石21も不必要となる。
その結果、レーザ媒質ガス12の漏洩事故を完全になく
すことができる。また回転子5は耐腐食性に優れたアル
ミニウムにより構成し、さらにガス容器lの内部に磁性
流体および永久磁石が不必要となり、ガス容器1の内部
で腐食が発生することがないため、レーザ媒質ガス12
の寿命およびレーザ装置の寿命を向上させることができ
る。
すことができる。また回転子5は耐腐食性に優れたアル
ミニウムにより構成し、さらにガス容器lの内部に磁性
流体および永久磁石が不必要となり、ガス容器1の内部
で腐食が発生することがないため、レーザ媒質ガス12
の寿命およびレーザ装置の寿命を向上させることができ
る。
なおこの実施例においては、回転子5として、電動誘導
機のかご形回転子を用いたが、電気巻線7によるガス容
器1の外部からの磁界により、誘起される誘導電流によ
って回転力を発生する回転子であれば、その構造は特に
限定されない。またファン3と回転子5とは別体として
構成したが、一体化した構造としても良い。
機のかご形回転子を用いたが、電気巻線7によるガス容
器1の外部からの磁界により、誘起される誘導電流によ
って回転力を発生する回転子であれば、その構造は特に
限定されない。またファン3と回転子5とは別体として
構成したが、一体化した構造としても良い。
この発明のレーザ装置によれば、ガス容器の外部に設け
た電気巻線で発生させた磁界により、ガス容器内に設置
した回転子に誘導電流を誘起することによって、回転力
を発生させることによりファンを回転させる。したがっ
て、従来のように、ガス容器内のファンと、ガス容器外
の電動機とを連結する軸が、ガス容器を貫通することが
なく、ガス容器を完全に気密に保つことができる。さら
に従来のようなガス容器を貫通したファンと電動機とを
連結する軸を保持するための磁性流体および永久磁石等
が不必要となる。その結果、ガス容器からレーザ媒質で
あるガスが、漏洩する危険性を完全になくすことができ
、またガス容器内で腐食、劣化する磁性流体および永久
磁石が不必要となるため、レーザ装置の寿命を向上させ
ることができ、加工用などの産業上究めて有用である。
た電気巻線で発生させた磁界により、ガス容器内に設置
した回転子に誘導電流を誘起することによって、回転力
を発生させることによりファンを回転させる。したがっ
て、従来のように、ガス容器内のファンと、ガス容器外
の電動機とを連結する軸が、ガス容器を貫通することが
なく、ガス容器を完全に気密に保つことができる。さら
に従来のようなガス容器を貫通したファンと電動機とを
連結する軸を保持するための磁性流体および永久磁石等
が不必要となる。その結果、ガス容器からレーザ媒質で
あるガスが、漏洩する危険性を完全になくすことができ
、またガス容器内で腐食、劣化する磁性流体および永久
磁石が不必要となるため、レーザ装置の寿命を向上させ
ることができ、加工用などの産業上究めて有用である。
第1図はこの発明の一実施例のレーザ装置の構成を示す
概念図、第2図は第1図の回転子5を示す概念図、第3
図は多相交流を印加した時の回転子5の状態図、第4図
は従来のレーザ装置の構成を示す概念図である。 1・・・ガス容器、2・・・族1tt極、3・・・ファ
ン、4・・・熱交換器、5・・・回転子、7・・・電気
巻線l・・・ガス容= 7・・・電気巻線 第 図 第 図 U
概念図、第2図は第1図の回転子5を示す概念図、第3
図は多相交流を印加した時の回転子5の状態図、第4図
は従来のレーザ装置の構成を示す概念図である。 1・・・ガス容器、2・・・族1tt極、3・・・ファ
ン、4・・・熱交換器、5・・・回転子、7・・・電気
巻線l・・・ガス容= 7・・・電気巻線 第 図 第 図 U
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 ガス容器の内部に一対の放電電極と熱交換器とファンと
を収容し、このファンにより前記一対の放電電極と熱交
換器との間でガスを循環させるようにするとともに、 前記ガス容器の内部に前記ファンを駆動する回転子を設
け、この回転子に回転力を与える電気巻線を前記ガス容
器の外部に設けたことを特徴とするレーザ装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13353290A JPH0427179A (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | レーザ装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP13353290A JPH0427179A (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | レーザ装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0427179A true JPH0427179A (ja) | 1992-01-30 |
Family
ID=15107006
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP13353290A Pending JPH0427179A (ja) | 1990-05-22 | 1990-05-22 | レーザ装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0427179A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2001056121A1 (fr) * | 2000-01-28 | 2001-08-02 | Ebara Corporation | Laser excimere |
US6535539B1 (en) * | 1998-11-06 | 2003-03-18 | Komatsu Ltd. | Excimer laser device |
Citations (7)
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JPS571086B2 (ja) * | 1976-12-02 | 1982-01-09 | ||
JPS59200863A (ja) * | 1983-04-27 | 1984-11-14 | Hitachi Ltd | 回転導入駆動装置 |
JPS6141385B2 (ja) * | 1979-01-19 | 1986-09-13 | Hoshizaki Electric Co Ltd | |
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JPS6441287A (en) * | 1987-07-23 | 1989-02-13 | Supekutoraneteikusu Corp The | Gas bering for gas laser |
-
1990
- 1990-05-22 JP JP13353290A patent/JPH0427179A/ja active Pending
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