JPH0426795A - Continuous electroplating device - Google Patents

Continuous electroplating device

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JPH0426795A
JPH0426795A JP12819590A JP12819590A JPH0426795A JP H0426795 A JPH0426795 A JP H0426795A JP 12819590 A JP12819590 A JP 12819590A JP 12819590 A JP12819590 A JP 12819590A JP H0426795 A JPH0426795 A JP H0426795A
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strip
steel strip
electrode plate
nozzle
cushion nozzle
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Keiji Tanizaki
桂二 谷崎
Toshio Taguchi
田口 俊夫
Keiji Mizuta
桂司 水田
Nobuhiro Shibatomi
柴富 信博
Takayuki Kuwabara
桑原 隆幸
Takashi Shiobara
塩原 隆
Mitsuhiko Koyasu
子安 三彦
Noriyuki Kimiwada
君和田 宣之
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
Nippon Steel Corp
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Mitsubishi Heavy Industries Ltd
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Abstract

PURPOSE:To improve the C warpage straightening effect, to decrease the distance between electrode plates and to reduce the power cost by specifying the position of a cushion nozzle. CONSTITUTION:One cushion nozzle on the convex surface side of a steel strip is set at the surface position of one electrode plate. The other cushion nozzle is set at a position projecting from the setting surface of the electrode plate toward the strip side. Consequently, a plating soln. injected toward the convex surface of the strip is supplied between the strip and electrode plate, the pressure of the plating soln. is increased in a space to the right of the strip, and the C warpage is straightened and reduced. The distance x2 between the electrode plate surface and the concave surface side of the strip and the distance x1 between electrode plate surface and the convex surface side of the strip are almost equalized, and the C warpage amt. x0 of the strip is reduced.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は、例えば銅帯の連続電気メッキ装置に関する。[Detailed description of the invention] (Industrial application field) The present invention relates to a continuous electroplating apparatus for e.g. copper strips.

(従来の技術) 従来から用いられている連続メッキ装置を第3図を参照
しながら説明する。第3図は、従来の連続電気メッキ装
置の略式説明図であり、同図のAA線より左側は前記装
置の略式側面図を、右側は前記装置の略式継断面図をそ
れぞれ示しており、また左側はダウンパスを、右側はア
ップバスをそれぞれ示している。
(Prior Art) A conventionally used continuous plating apparatus will be explained with reference to FIG. FIG. 3 is a schematic explanatory diagram of a conventional continuous electroplating apparatus, in which the left side of the AA line in the figure shows a schematic side view of the apparatus, the right side shows a schematic cross-sectional view of the apparatus, and The left side shows the down pass, and the right side shows the up bus.

第3図において、1は電解槽であり、該電解槽1の中に
はメッキ液が満たされており、このメッキ液中に浸漬し
て相対面する電極板2.2が配設されている。また、電
解槽1の内部にはラバーロール3が設けられるとともに
、電解槽1の外部にはコンダククロール4.4が設けら
れている。これらのロールにより鋼ストリップ5が前記
相対面する電極板2の間へ案内されて連続的に供給され
るとともに、コンダククロール4により鋼ストリンプ5
に通電されるようになっている。そして、コンダククロ
ール4と前記電極板2との間Gこは電圧が印加されてお
り、鋼ストリップ5が電極板2の間を通る際にその表面
に電気メッキが施されるように構成されている。
In FIG. 3, reference numeral 1 denotes an electrolytic bath, and the electrolytic bath 1 is filled with a plating solution, and an electrode plate 2.2 immersed in the plating solution and facing each other is disposed. . Further, a rubber roll 3 is provided inside the electrolytic cell 1, and a conductor roll 4.4 is provided outside the electrolytic cell 1. These rolls guide and continuously feed the steel strip 5 between the opposing electrode plates 2, and the conductor crawler 4 feeds the steel strip 5 between the facing electrode plates 2.
It is designed to be energized. A voltage is applied between the conductor crawler 4 and the electrode plate 2, and when the steel strip 5 passes between the electrode plates 2, the surface thereof is electroplated. There is.

さらに、電極板2の」一端部には、電極板2と鋼ストリ
ップ5とで囲まれた流路内に、鋼ストリップ5の進行方
向と平行逆向きにメッキ液流を噴射するだめの供給ノズ
ル9.9が設置されている。
Further, at one end of the electrode plate 2, there is a supply nozzle for injecting a plating liquid flow in a direction parallel to and opposite to the traveling direction of the steel strip 5 into a flow path surrounded by the electrode plate 2 and the steel strip 5. 9.9 is installed.

また、電極板2の表面には鋼ストリップ5との接触を防
止するための接触防止板8が設けられている。以上が従
来の代表的な連続電気メッキ装置の構成である。
Further, a contact prevention plate 8 is provided on the surface of the electrode plate 2 to prevent contact with the steel strip 5. The above is the configuration of a typical conventional continuous electroplating apparatus.

さて、連続的に送給される前記鋼ストリップ5の両側に
配設された電極板2のそれぞれには、その厚さ方向にス
リンl−6が形成されている。電極板2の一部(クッシ
ョンノズル部)を拡大して示す略式断面図である第4図
を参照しながら、前記スワンl−6について説明する。
Now, on each of the electrode plates 2 disposed on both sides of the steel strip 5 that is continuously fed, a suline l-6 is formed in the thickness direction. The swan 1-6 will be described with reference to FIG. 4, which is a schematic cross-sectional view showing an enlarged portion of the electrode plate 2 (cushion nozzle portion).

第4図に示すように、スリット6は鋼ストリップ5の進
行方向について、逆の傾斜を交互に有して形成されてお
り、しかも第4図において鋼ストリンプ5に関して対称
に形成されている。また、互いに逆の傾斜を有する二つ
のスリンl−6を取り囲むヘッダ7が設けられており、
該ヘッダ7内にはメンキ液を供給する配管(図示してい
ない)が設けられている。そして、電解槽1内のメッキ
液を昇圧してこの配管に送給するポンプ(図示していな
い)が設けられている。すなわち、前記ポンプで7圧さ
れたメッキ液は前記配管を通ってヘッダ7内に供給され
、スリット6から鋼ストリンブ5の表面に噴射されるご
とになる。ずなわち、スリット6は、メッキ液を噴射す
るだめのクッションノズルとしての機能を有する。
As shown in FIG. 4, the slits 6 are formed with alternately opposite inclinations in the direction of travel of the steel strip 5, and are symmetrical with respect to the steel strip 5 in FIG. Further, a header 7 is provided which surrounds two slints l-6 having opposite inclinations to each other,
Inside the header 7, a pipe (not shown) is provided for supplying the coating solution. A pump (not shown) is provided that increases the pressure of the plating solution in the electrolytic cell 1 and supplies it to this pipe. That is, the plating solution pressurized by the pump is supplied into the header 7 through the pipe and is injected onto the surface of the steel string 5 from the slit 6. That is, the slit 6 functions as a cushion nozzle for spraying the plating solution.

他方、前記電極板2にはヘッダ7で囲まれてスリット6
の裏側にバイパス流路11が形成されており、スリット
6から噴射されたメッキ液のうち、電極板2の端から鋼
ヌトリップ5と平行逆向きに噴射された液流と反対向き
の液流はこのバイパス流路11を通って全ての液流と同
一方向に流れるように構成されている。
On the other hand, the electrode plate 2 has a slit 6 surrounded by a header 7.
A bypass flow path 11 is formed on the back side of the plating liquid, and among the plating liquid injected from the slit 6, the liquid flow in the opposite direction to the liquid flow injected from the end of the electrode plate 2 parallel to and opposite to the steel nut trip 5 is formed. It is configured to flow through this bypass channel 11 in the same direction as all liquid flows.

このようにして、スリット6がクッションノズルとして
作用することにより、鋼ストリップ5のパスラインを電
極板2の間のほぼ中央に位置−〇しめて電極板2の相互
間の距離を短縮できるために、稼働中の電力損失を低減
することができるよいう効果がある。
In this way, since the slit 6 acts as a cushion nozzle, the pass line of the steel strip 5 can be positioned approximately at the center between the electrode plates 2, and the distance between the electrode plates 2 can be shortened. A good effect is that power loss during operation can be reduced.

(発明が解決しようとする課題) このように、従来の連続電気メンキ装置にあっては、鋼
ストリップの幅方向に発生ずるC反りの矯正のためのク
ッションノズルは、ラバー11−ル3とコンダククロー
ル4との接線を直線で結んだ線をパスライン10として
等間隔で配置されている。
(Problems to be Solved by the Invention) As described above, in the conventional continuous electric polishing device, the cushion nozzle for correcting the C warp that occurs in the width direction of the steel strip has a structure in which the rubber 11-ru 3 and the conductor Pass lines 10 are formed by connecting tangents to the crawl 4 with straight lines and are arranged at equal intervals.

しかしながら、実際の鋼スI・リン15とクッションノ
ズルとの位置関係は、必ずしも鋼ストリンプ5がクッシ
ョンノズルに対して平行ではなかった。第5図は、第4
図の、l−A断面を示す略式説明図であり、図中符号は
第4図と同様である。この第5図に示すように、実際に
はC反りは完全には解消されないため、ス1−リップ凸
例の間隔(X、)が広く、ストリンブ凹側の間隔(X2
)が狭くなっていた。なお、第5図において、10は鋼
ストリップの本来の通過位置(パスライン)を示す。
However, the actual positional relationship between the steel strip 15 and the cushion nozzle is such that the steel strip 5 is not necessarily parallel to the cushion nozzle. Figure 5 shows the fourth
4 is a schematic explanatory diagram showing a cross section taken along line 1-A in the figure, and the reference numerals in the figure are the same as those in FIG. 4. FIG. As shown in FIG. 5, in reality, the C warp is not completely eliminated, so the gap between the slip 1 and the convex example (X,) is wide, and the gap on the concave side of the string (X2
) had become narrower. In addition, in FIG. 5, 10 indicates the original passing position (pass line) of the steel strip.

−船釣に、クッションノズルのC反り矯正効果を考慮し
た場合、C反り1(Xo)はクッションノズルと鋼スト
リップとが近い程その効果は大きいが、この第5図に示
すような状態では、C反り量が大き過ぎるためにC反り
矯正効果は十分には発揮されていないこととなる。した
がって、このようにC反りが存在するために、電極板間
距離の短縮を図ることは容易ではなかった。
- When considering the C warp correction effect of the cushion nozzle for boat fishing, the effect of C warp 1 (Xo) is greater as the cushion nozzle is closer to the steel strip, but in the state shown in Fig. 5, Since the amount of C warp is too large, the C warp correction effect is not fully exhibited. Therefore, due to the presence of C warpage, it has not been easy to reduce the distance between the electrode plates.

ここに、本発明の目的目゛、上記課題を解決すること、
具体的にはC反り矯正効果を向」二さセるごとにより、
電極板間距離の短縮、さらには電力コス1−の低減を図
ることが可能な、連続電気メッキ装置を提供することに
ある。
Herein, the purpose of the present invention is to solve the above problems.
Specifically, by increasing the C warp correction effect,
It is an object of the present invention to provide a continuous electroplating device capable of shortening the distance between electrode plates and further reducing power cost 1-.

(課題を解決するだめの手段) 本発明者らは、」−記課題を解決するため種々検言・1
を重ねた結果、C反りの発生している鋼ストラングの凸
側(第5図における鋼ストリップ5よりも右側)のクン
ジョンノズルのC反り矯正効果を向上さ已゛ることが重
要であることを知見した。
(Means for Solving the Problems) The present inventors have made various investigations/1 in order to solve the problems described in "-".
It is important to improve the C-warp correction effect of the Kunjong nozzle on the convex side of the steel strung (to the right of the steel strip 5 in Fig. 5) where C-warp has occurred as a result of repeated efforts. I found out.

このような知見に基づいてさらに検討を重ねた結果、前
記課題を解決するためには、クッションノズルの設置位
置を変更することが有効であることを知見して、本発明
を完成するに至った。
As a result of further studies based on such knowledge, it was found that changing the installation position of the cushion nozzle was effective in solving the above problem, and the present invention was completed. .

ここに、本発明の要旨とするところは、その間を鋼スト
リップが搬送される相対面する電極板と、前記電極板の
」二端部に設けられて該電極板の間へメッキ液を供給す
る供給ノズルと、前記電極板の鋼ストリップ進行方向の
途中に対向して設けられたクッションノズルとを有する
連続電気メッキ装置であって、進行する鋼ストリップの
平面と直交する長手方向断面において、一方のクッショ
ンノズルをその先端が一方の前記電極板の表面と同一面
上にくるように設置するとともに、他方のクッションノ
ズルはその先端が他方の前記電極板の表面の面よりも鋼
ストリップ側に突出した位置にくるように設置してなる
ことを特徴とする連続電気メッキ装置である。
Here, the gist of the present invention is to provide electrode plates facing each other, between which a steel strip is conveyed, and a supply nozzle provided at two ends of the electrode plates to supply a plating solution between the electrode plates. and a cushion nozzle provided oppositely in the middle of the electrode plate in the direction in which the steel strip advances, wherein one of the cushion nozzles is installed so that its tip is on the same plane as the surface of one of the electrode plates, and the other cushion nozzle is placed in a position where its tip protrudes further toward the steel strip side than the surface of the other electrode plate. This is a continuous electroplating device characterized by being installed in a continuous manner.

(作用) 以下、本発明を添付図面を参照しながら詳細に説明する
(Operation) Hereinafter, the present invention will be explained in detail with reference to the accompanying drawings.

第1図は、本発明にかかる連続電気メ・ツキ装置におい
て用いるクッションノズルの1例の構成を示す略式縦断
面図であり、第2図は、第1図のBB凹断面おける、ク
ッションノズルと鋼ストリップとの位置関係を示す略式
断面回である。なお、第1図および第2図における図中
符号は第3図ないし第4図で用いた符号と全く同様であ
る。
FIG. 1 is a schematic longitudinal cross-sectional view showing the configuration of an example of a cushion nozzle used in a continuous electric meshing device according to the present invention, and FIG. This is a schematic cross-sectional diagram showing the positional relationship with the steel strip. Note that the reference symbols in FIGS. 1 and 2 are exactly the same as those used in FIGS. 3 and 4.

本発明の要点は、第2図に示すように、C反りの解消の
ために、鋼ストリップ凸面側のクッションノズルを鋼ス
トリップ面に近づけて設置すること、ずなわら一方のク
ンジョンノズルを一方の電極板の設置面と面位置となる
ように設置するとともに、他方のクッションノズルを他
方の電極板の設置面よりも鋼ストリップ面に突出した位
置となるように設置することにある。
As shown in Fig. 2, the key points of the present invention are to install the cushion nozzle on the convex side of the steel strip close to the steel strip surface in order to eliminate C warping, and to install one cushion nozzle on the side of the steel strip close to the surface of the steel strip. The second cushion nozzle is installed so as to be flush with the installation surface of the other electrode plate, and the other cushion nozzle is installed so as to protrude into the steel strip surface from the installation surface of the other electrode plate.

したがって、鋼ストリップの凸面側に噴出されたメッキ
液が鋼ストリップと電極板との間に供給されて鋼ストリ
ップに対するメッキ液の圧力が鋼ストリップの右側の空
間においては高まり、C反りが矯正・低減されるため、
電極板面およびストリップ面側の間隔(X2)と電極板
面およびストリップ面側の間隔(Xl)とが路間等とな
り、さらに鋼ストリップのC反り量(XO)自体が減少
することとあいまって、C反り矯正効果が増加する。
Therefore, the plating solution sprayed onto the convex side of the steel strip is supplied between the steel strip and the electrode plate, and the pressure of the plating solution against the steel strip increases in the space on the right side of the steel strip, correcting and reducing C warpage. In order to be
The distance between the electrode plate surface and the strip surface side (X2) and the distance between the electrode plate surface and the strip surface side (Xl) become a gap, etc., and the amount of C warpage (XO) of the steel strip itself decreases. , C The warpage correction effect increases.

したがって、C反り量を従来のように多く見込んで電極
板間距離を設定する必要がなくなるために、C反り量の
見込み量を従来よりも低減することができ、電極板間距
離を従来よりも縮めることができる。
Therefore, it is no longer necessary to set the distance between the electrode plates by anticipating a large amount of C warpage as in the past, so the expected amount of C warp can be reduced compared to the past, and the distance between the electrode plates can be set more than before. Can be shortened.

なお、前述のように、鋼ストリップの凸面側のクッショ
ンノズルをストリップ面に近づけて設置する際の偏差量
は特に制限を要するものではないが、パスラインと電極
間の距離が10mmの時、安定通板の観点からは4mm
から6mm程度であることが望ましい。
As mentioned above, there is no particular restriction on the amount of deviation when installing the cushion nozzle on the convex side of the steel strip close to the strip surface, but when the distance between the pass line and the electrode is 10 mm, it is stable. From the point of view of threading, 4mm
It is desirable that the distance is about 6 mm.

なお、本発明にかかる連続電気メッキ装置にあっては、
このようなりッションノズルの構成以外は、第3図に示
すような従来の連続電気メッキ装置と同じものを用いれ
ばよい。
In addition, in the continuous electroplating apparatus according to the present invention,
Except for the structure of the lapping nozzle, the same as the conventional continuous electroplating apparatus shown in FIG. 3 may be used.

すなわち、本発明にかかる連続電気メッキ装置を使用す
るには、クッションノズル部のみを、以上詳述してきた
本発明において用いるノズルに交換して使用すればよい
ため、本発明の実現は極めて低コストであって、かつ容
易になし得る。
That is, in order to use the continuous electroplating apparatus according to the present invention, it is only necessary to replace only the cushion nozzle portion with the nozzle used in the present invention described in detail above, so the present invention can be realized at an extremely low cost. And it can be done easily.

さらに、本発明にかかる連続電気メ・ツキ装置の実施例
について説明する。
Furthermore, an embodiment of the continuous electric plating device according to the present invention will be described.

(実施例) 本実施例において用いた連続電気メッキ装置の全体の構
成は、第3図に示す従来法と路間しである。相違するの
は、クッションノズル部であり、クッションノズル部を
第1図により説明する。
(Example) The overall configuration of the continuous electroplating apparatus used in this example is the same as that of the conventional method shown in FIG. What is different is the cushion nozzle section, and the cushion nozzle section will be explained with reference to FIG.

第1図において、スリット6とへラダ7とで組み合わせ
たクッションノズルの配置は、鋼ス1−IJツブ5の凹
面側は電極板取付面と面位置とし、さらに凸面側の電極
面の面位置より鋼ストリップ側に6闘偏差した構造とし
た。
In Fig. 1, the arrangement of the cushion nozzle combined with the slit 6 and the spatula 7 is such that the concave side of the steel plate 1-IJ knob 5 is located at the electrode plate mounting surface, and the convex side is located at the electrode surface. The structure is deviated by 6 mm towards the steel strip side.

つまり、クッションノズルはパスラインに対して偏心し
た位置に取り付けたことになる。但し、両型極板2は、
パスラインに対し等間隔(10mm)で取り付けである
In other words, the cushion nozzle is installed at a position eccentric to the pass line. However, the bipolar plate 2 is
It is attached at equal intervals (10 mm) to the pass line.

このような構成の連続電気メッキ装置により、被処理体
である鋼ストリップの電気Znメッキを連続的に行い、
C反り矯正効果(第2図および第5図中の(Xo)およ
び使用した電力量を測定した。なお、前記X0は渦流距
離計により測定した。
With a continuous electroplating apparatus having such a configuration, electrolytic Zn plating is continuously performed on a steel strip, which is an object to be processed.
C-curvature correction effect ((Xo) in FIGS. 2 and 5) and the amount of electric power used were measured. Note that X0 was measured using an eddy current distance meter.

結果は、C反り矯正効果は5.5mmであり、電力量は
113 KWH/Tであった。
As a result, the C warp correction effect was 5.5 mm, and the electric power was 113 KWH/T.

これに対して、従来の構成(第3図および第4図に示す
構成)の連続電気メッキ装置により同様の電気亜鉛メッ
キを行った場合は、C反り矯正効果は2mmであり、電
力量は127 KIQII/Tであった。
On the other hand, when similar electrogalvanizing is performed using a continuous electroplating apparatus with a conventional configuration (configurations shown in Figures 3 and 4), the C warp correction effect is 2 mm, and the electric energy is 127 mm. It was KIQII/T.

以上から、本発明の効果は明らかである。From the above, the effects of the present invention are clear.

(発明の効果) 以上説明したように、本発明にかかる連続電気メッキ装
置を用いることにより、被処理材である鋼ストリップに
発生しているC反りを矯正する効果が向上し、電極間距
離の短縮ひいては電力コストの低減をさらに図ることが
できる。
(Effects of the Invention) As explained above, by using the continuous electroplating apparatus according to the present invention, the effect of correcting the C warp occurring in the steel strip that is the material to be processed is improved, and the distance between the electrodes is reduced. This allows further reduction in power cost.

さらに、従来の連続電気メッキ装置を本発明にかかる装
置へ改造・適用することも極めて容易である。
Furthermore, it is extremely easy to modify and apply a conventional continuous electroplating apparatus to the apparatus according to the present invention.

かかる効果を有する本発明の意義は極めて著しい。The significance of the present invention having such effects is extremely significant.

【図面の簡単な説明】 第1回は、本発明の1実施例に係る連続電気メッキ装置
において用いるクッションノズルを拡大して示す略式縦
断面図 第2図は、第1図のB−B断面を示す略式断面図; 第3図は、従来の連続電気メッキ装置の全体の構成を示
す略式部分縦断面図; 第4図は、従来の連続電気メッキ装置において用いるク
ッションノズルを示す略式断面図;および 第5図は、第4図のA 図である。 1:電解槽 3; ラバーロール 5:鋼ストリップ A断面を示す略式断面 2:電極 4:コンダククロール 6 ニ スリット 7 : ヘッダ 8 : 接触防止板 9 : 供給ノズル 10 : パスライン 11 : バイパス流路
[BRIEF DESCRIPTION OF THE DRAWINGS] Part 1 is a schematic longitudinal sectional view showing an enlarged view of a cushion nozzle used in a continuous electroplating apparatus according to an embodiment of the present invention. Fig. 2 is a cross section taken along line B-B in Fig. 1. FIG. 3 is a schematic partial vertical sectional view showing the overall configuration of a conventional continuous electroplating device; FIG. 4 is a schematic sectional view showing a cushion nozzle used in a conventional continuous electroplating device; and FIG. 5 is diagram A in FIG. 4. 1: Electrolytic cell 3; Rubber roll 5: Schematic cross section showing steel strip A cross section 2: Electrode 4: Conductor roll 6 Nislit 7: Header 8: Contact prevention plate 9: Supply nozzle 10: Pass line 11: Bypass channel

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  その間を鋼ストリップが搬送される相対面する電極板
と、前記電極板の上端部に設けられて該電極板の間へメ
ッキ液を供給する供給ノズルと、前記電極板の鋼ストリ
ップ進行方向の途中に対向して設けられたクッションノ
ズルとを有する連続電気メッキ装置であって、進行する
鋼ストリップの平面と直交する長手方向断面において、
一方のクッションノズルをその先端が一方の前記電極板
の表面と同一面上にくるように設置するとともに、他方
のクッションノズルはその先端が他方の前記電極板の表
面の面よりも鋼ストリップ側に突出した位置にくるよう
に設置してなることを特徴とする連続電気メッキ装置。
A supply nozzle provided at the upper end of the electrode plate to supply a plating solution between the electrode plates, and a supply nozzle facing opposite to each other between which the steel strip is conveyed; a continuous electroplating apparatus having a cushion nozzle provided with
One cushion nozzle is installed so that its tip is flush with the surface of one of the electrode plates, and the other cushion nozzle is installed so that its tip is closer to the steel strip than the surface of the other electrode plate. A continuous electroplating device characterized by being installed in a protruding position.
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