JPH04263446A - Tape carrier for tab - Google Patents
Tape carrier for tabInfo
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- JPH04263446A JPH04263446A JP4585491A JP4585491A JPH04263446A JP H04263446 A JPH04263446 A JP H04263446A JP 4585491 A JP4585491 A JP 4585491A JP 4585491 A JP4585491 A JP 4585491A JP H04263446 A JPH04263446 A JP H04263446A
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Landscapes
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Abstract
Description
【0001】0001
【産業上の利用分野】本発明は、IC,LSI等の半導
体素子の実装方法の1つであるTAB(TapeAut
omated Bonding )方式に使用されるT
AB用テープキャリアに関する。[Industrial Application Field] The present invention relates to TAB (Tape Out), which is one of the methods for mounting semiconductor elements such as ICs and LSIs.
T used for omated bonding) method
This invention relates to an AB tape carrier.
【0002】0002
【従来の技術】近年、半導体素子の実装技術の自動化及
び高速化を図るため、長尺状のテープキャリアにワイヤ
レスボンディングによりICやLSI等の半導体素子を
組み込んでゆくTAB(Tape Automated
Bonding )方式が採用されている。図2には
、従来のTAB用テープキャリアの構成が示されている
。TAB用テープキャリア10は、ポリイミド等からな
る絶縁性フィルムテープ12の上に銅箔等の金属箔を接
着し、フォトエッチングによって導体パターン14を形
成して成る。フィルムテープ12の中央には、IC,L
SI等の半導体素子(図示せず)を収容するためのデバ
イスホール16が形成され、幅方向両端部には一定ピッ
チで矩形のパーフォレーション18が連続的に形成され
ている。パーフォレーション18は、長尺状のテープキ
ャリア10を移送するとともに、フォトエッチング工程
におけるフォトマスク(図示せず)の位置合わせ及びそ
の後の半導体素子のボンディング工程等の際に位置合わ
せ用として使用される。位置合わせは、位置合わせ用の
ピン(図示せず)をパーフォレーション18に差し込む
ことによって機械的に行われる。[Prior Art] In recent years, in order to automate and speed up the mounting technology of semiconductor devices, TAB (Tape Automated
Bonding) method is adopted. FIG. 2 shows the configuration of a conventional TAB tape carrier. The TAB tape carrier 10 is made by bonding a metal foil such as copper foil onto an insulating film tape 12 made of polyimide or the like, and forming a conductor pattern 14 by photo-etching. In the center of the film tape 12, IC, L
A device hole 16 is formed to accommodate a semiconductor element (not shown) such as an SI, and rectangular perforations 18 are continuously formed at a constant pitch at both ends in the width direction. The perforations 18 are used for transporting the elongated tape carrier 10 and for positioning during a photomask (not shown) in a photoetching process and a subsequent semiconductor element bonding process. Alignment is performed mechanically by inserting alignment pins (not shown) into the perforations 18.
【0003】0003
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上記の
ようなTAB用テープキャリア10においては、両端に
パーフォレーション18が形成されているため、その分
導体パターン14の有効占有面積が縮小されてしまう。
例えば、35mm幅のテープキャリアを使用した場合に
は、パーフォレーション18の占有する幅は両側で10
mmとなり、導体パターンの有効占有面積が29%程度
縮小されてしまう。換言すると、同一面積の導体パター
ンを得ようとした場合に、TAB用テープキャリア自体
が大型化するとともに、コストアップにつながるという
不都合がある。また、位置合わせの精度が、パーフォレ
ーション18及び差し込まれるピンの加工精度に依存す
るため、位置合わせ精度を向上させることが困難であっ
た。However, in the TAB tape carrier 10 as described above, since the perforations 18 are formed at both ends, the effective area occupied by the conductor pattern 14 is reduced accordingly. For example, when using a tape carrier with a width of 35 mm, the width occupied by the perforations 18 is 10 mm on both sides.
mm, and the effective occupied area of the conductor pattern is reduced by about 29%. In other words, when trying to obtain a conductor pattern with the same area, the TAB tape carrier itself becomes larger and the cost increases. Furthermore, since the alignment accuracy depends on the processing accuracy of the perforations 18 and the inserted pins, it has been difficult to improve the alignment accuracy.
【0004】0004
【発明の目的】本発明はかかる点に鑑みてなされたもの
であり、導体パターンの有効占有面積が大きく、且つ精
度の高い位置合わせを行い得るTAB用テープキャリア
を提供することを目的とする。SUMMARY OF THE INVENTION The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and it is an object of the present invention to provide a tape carrier for TAB, which has a large effective area occupied by a conductor pattern and can perform highly accurate positioning.
【0005】[0005]
【課題を解決するための手段】本発明は上記目的を達成
するために、絶縁フィルムの一部に形成され、フォトマ
スクと光学的にアライメントされる第1のマークと、導
体パターンの一部として前記絶縁フィルム上に形成され
、エッチング加工後のボンディング工程等のアライメン
トの基準とされる第2のマークとを備えている。[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above object, the present invention provides a first mark formed on a part of an insulating film and optically aligned with a photomask, and a first mark formed as a part of a conductor pattern. A second mark is formed on the insulating film and serves as a reference for alignment in a bonding process after etching.
【0006】[0006]
【作用】上記のように構成された本発明のTAB用テー
プキャリアの製造工程においては、パターン露光を行う
場合には、絶縁フィルムに形成された第1のマークを光
学的にアライメントすることによって、当該絶縁フィル
ムとフォトマスクとの位置合わせを行い、IC,LIS
等の半導体素子をボンディングする場合には、第2のマ
ークを基準としてテープキャリアとの位置合わせを行う
構成であるため、従来テープキャリアの両端に形成され
ていたパーフォレーションを省略することができる。ま
た、位置合わせ精度は、基準となる第1及び第2のマー
クの位置精度によって決定され、従来のようにパーフォ
レーション等の機械的加工精度に依存することがなくな
る。[Operation] In the manufacturing process of the TAB tape carrier of the present invention configured as described above, when performing pattern exposure, by optically aligning the first mark formed on the insulating film, The insulating film and photomask are aligned, and the IC, LIS
When bonding semiconductor elements such as the above, the configuration is such that positioning with the tape carrier is performed using the second mark as a reference, so perforations that were conventionally formed at both ends of the tape carrier can be omitted. Furthermore, the alignment accuracy is determined by the positional accuracy of the first and second marks serving as references, and does not depend on the accuracy of mechanical processing such as perforations, as in the past.
【0007】[0007]
【実施例】以下、本発明の一実施例を添付図面を参照し
つつ詳細に説明する。図1には実施例に係るTAB用テ
ープキャリアの構成が示されている。TAB用テープキ
ャリア20の基本的構成は従来と同様であり、有機ポリ
イミド,ガラスエポキシ等からなる絶縁性のフィルムテ
ープ12の上に銅箔等の金属箔を接着し、フォトエッチ
ングによって導体パターン14を形成して成る。フィル
ムテープ12の中央には、IC,LSI等の半導体素子
(図示せず)を収容するためのデバイスホール16が形
成され、その上部にはフォトマスク(図示せず)の基準
となるアライメントホール22が形成されている。また
、導体パターン14の2ヵ所の対角位置には、半導体素
子をボンディングする際に基準とされるアライメントマ
ーク24,26が形成されている。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An embodiment of the present invention will be described in detail below with reference to the accompanying drawings. FIG. 1 shows the configuration of a TAB tape carrier according to an embodiment. The basic structure of the TAB tape carrier 20 is the same as the conventional one, and a metal foil such as copper foil is bonded onto an insulating film tape 12 made of organic polyimide, glass epoxy, etc., and a conductor pattern 14 is formed by photo-etching. formed and formed. A device hole 16 for accommodating a semiconductor element (not shown) such as an IC or LSI is formed in the center of the film tape 12, and an alignment hole 22 that serves as a reference for a photomask (not shown) is formed above the device hole 16. is formed. Furthermore, alignment marks 24 and 26 are formed at two diagonal positions of the conductor pattern 14 to serve as references when bonding semiconductor elements.
【0008】以上のように構成されたTAB用テープキ
ャリア20を製造する場合には、予め厚さ75μm,幅
35mmのフィルムテープ12の中央にパンチ加工によ
りデバイスホール16、その上部にアライメントホール
22をそれぞれ形成しておく。その後、フィルムテープ
12の表面に厚さ35μmの圧延銅箔を接着材により貼
付する。次に、予めアライメントマーク24,26に対
応する部分が抜き落とされたフォトマスクを、表面にレ
ジスト(図示せず)がコーティングされた圧延銅箔の上
にセットする。この際、フィルムテープ12の裏側から
アライメントホール22を光学的にアライメントするこ
とによって、フォトマスクとフィルムテープ12との相
対的な位置合わせを行う。これにより、±0.01mm
の範囲で高精度の位置合わせを行うことができる。その
後、周知のフォトエッチング加工により導体パターン1
4を形成することによって、TAB用テープキャリア2
0の製造が完了する。When manufacturing the TAB tape carrier 20 constructed as described above, a device hole 16 is punched in the center of the film tape 12 having a thickness of 75 μm and a width of 35 mm, and an alignment hole 22 is formed above the device hole 22 in advance. Form each. Thereafter, a rolled copper foil having a thickness of 35 μm is attached to the surface of the film tape 12 using an adhesive. Next, a photomask with portions corresponding to the alignment marks 24 and 26 cut out in advance is set on a rolled copper foil whose surface is coated with a resist (not shown). At this time, the relative positioning of the photomask and the film tape 12 is performed by optically aligning the alignment hole 22 from the back side of the film tape 12. As a result, ±0.01mm
High-precision alignment can be performed within the range of . After that, the conductor pattern 1 is formed by a well-known photo-etching process.
4, the TAB tape carrier 2
0 manufacturing is completed.
【0009】その後、半導体素子をデバイスホール18
に収容し、導体パターン14の一部として形成されたア
ライメントマーク24,26を基準として半導体素子を
ボンディングする。これにより、半導体素子と導体パタ
ーン14との位置精度の高いボンディングが達成され、
このためパターンピッチ0.08mm(導体幅40μm
,導体間隔40μm)のファインパターンTAB用テー
プキャリアの製造も可能となる。After that, the semiconductor element is inserted into the device hole 18.
The semiconductor elements are bonded using the alignment marks 24 and 26 formed as part of the conductor pattern 14 as a reference. Thereby, bonding with high positional accuracy between the semiconductor element and the conductor pattern 14 is achieved,
Therefore, the pattern pitch is 0.08 mm (conductor width 40 μm)
It is also possible to manufacture a tape carrier for fine pattern TAB with conductor spacing of 40 μm).
【0010】0010
【発明の効果】以上説明したように、本発明に係るTA
B用テープキャリアおいては、絶縁フィルムの一部に形
成され、フォトマスクと光学的にアライメントされる第
1のマークと、導体パターンの一部として絶縁フィルム
上に形成され、エッチング加工後のボンディング工程等
のアライメントの基準とされる第2のマークとを備えて
いるため、導体パターンの有効占有面積が拡大され、且
つフォトマスク等の位置合わせ精度が飛躍的に向上する
という効果がある。[Effects of the Invention] As explained above, the TA according to the present invention
In the tape carrier for B, a first mark is formed on a part of the insulating film and is optically aligned with the photomask, and a first mark is formed on the insulating film as a part of the conductor pattern and is used for bonding after etching. Since the second mark is provided as a reference for alignment of processes, etc., the effective occupied area of the conductor pattern is expanded, and the alignment accuracy of photomasks and the like is dramatically improved.
【図1】図1は、本発明の実施例の構成を示す平面図で
ある。FIG. 1 is a plan view showing the configuration of an embodiment of the present invention.
【図2】図2は、従来技術の構成を示す平面図である。FIG. 2 is a plan view showing the configuration of the prior art.
12 フィルムテープ
20 TAB用テープキャリア
14 導体パターン
22 アライメントホール
16 デバイスホール
24,26 アライメントマーク12 Film tape
20 TAB tape carrier 14 Conductor pattern
22 Alignment hole 16 Device hole
24, 26 Alignment mark
Claims (1)
グ加工により、絶縁フィルム上に所定形状の導体パター
ンを形成してなるTAB用テープキャリアにおいて、前
記絶縁フィルムの一部に形成され、前記フォトマスクと
光学的にアライメントされる第1のマークと、前記導体
パターンの一部として前記絶縁フィルム上に形成され、
前記エッチング加工後のボンディング工程等のアライメ
ントの基準とされる第2のマークとを備えたことを特徴
とするTAB用テープキャリア。1. A TAB tape carrier in which a conductive pattern of a predetermined shape is formed on an insulating film by photoetching using a photomask, the conductor pattern being formed on a part of the insulating film and having a conductive pattern with the photomask. a first mark that is aligned on the insulating film as part of the conductive pattern;
A TAB tape carrier comprising: a second mark used as a reference for alignment in a bonding process, etc. after the etching process.
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4585491A JPH04263446A (en) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | Tape carrier for tab |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP4585491A JPH04263446A (en) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | Tape carrier for tab |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04263446A true JPH04263446A (en) | 1992-09-18 |
Family
ID=12730798
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP4585491A Pending JPH04263446A (en) | 1991-02-18 | 1991-02-18 | Tape carrier for tab |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04263446A (en) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5949134A (en) * | 1997-02-17 | 1999-09-07 | Seiko Epson Corporation | Tape carrier and tape carrier device using the same |
-
1991
- 1991-02-18 JP JP4585491A patent/JPH04263446A/en active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5949134A (en) * | 1997-02-17 | 1999-09-07 | Seiko Epson Corporation | Tape carrier and tape carrier device using the same |
US6066888A (en) * | 1997-02-17 | 2000-05-23 | Seiko Epson Corporation | Tape carrier and tape carrier device using the same |
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