JPH04262678A - 固体撮像装置 - Google Patents

固体撮像装置

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Publication number
JPH04262678A
JPH04262678A JP3044259A JP4425991A JPH04262678A JP H04262678 A JPH04262678 A JP H04262678A JP 3044259 A JP3044259 A JP 3044259A JP 4425991 A JP4425991 A JP 4425991A JP H04262678 A JPH04262678 A JP H04262678A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
incident light
peak value
solid
substrate
substrate voltage
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP3044259A
Other languages
English (en)
Inventor
Shigeru Kimura
滋 木村
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd filed Critical NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Priority to JP3044259A priority Critical patent/JPH04262678A/ja
Publication of JPH04262678A publication Critical patent/JPH04262678A/ja
Pending legal-status Critical Current

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  • Solid State Image Pick-Up Elements (AREA)
  • Transforming Light Signals Into Electric Signals (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は、固体撮像装置に関し、
特にオーバーフロードレイン構造の固体撮像素子を用い
た固体撮像装置に関する。
【0002】
【従来の技術】ブルーミング抑制機構を有する固体撮像
素子として、強い入射光によって発生した過剰電荷を半
導体基板側に吸い取る縦型オーバーフロードレイン構造
のものが知られている。
【0003】図4に縦型オーバーフロードレイン構造の
セル断面図を示す。同図において、41はn型半導体基
板、42はpウェル、43はn型のフォトダイオード領
域、44は垂直CCDのn型電荷転送領域、45はフォ
トダイオード領域43および電荷転送領域44の周囲を
囲むp+ 型チャネルストップである。図4において、
フォトダイオード領域43と電荷転送領域44との間の
基板表面領域は電荷読み出しのための転送ゲート領域と
なされている。
【0004】次に、図4に示された撮像素子のブルーミ
ング抑制機構について説明する。図5は、フォトダイオ
ード領域43直下のpウェル42が完全に空乏化されて
いる時のフォトダイオード領域直下の電位分布およびセ
ルの横方向の電位分布を模式的に示したものである。フ
ォトダイオード領域43内およびその周囲で発生した信
号電荷はこのフォトダイオード領域の形成する電位井戸
内に蓄積される。この蓄積電荷が一定以上となると、そ
れ以上の電荷はフォトダイオード領域直下のpウェルが
形成している電位障壁を超えるようになり、それ以上の
過剰電荷はすべてn型半導体基板に流れ込むことになる
【0005】すなわち、基板電圧VSUB によって制
御されるpウェルの最低電位ψPBが電荷蓄積時におけ
る転送ゲート(TG)のチャネル電位ψTGM より常
に高くなるような関係:ψTGM <ψPBに基板電圧
VSUB を調整しておき、過剰電荷によるオーバーフ
ローブルーミングを抑制している。
【0006】
【発明が解決しようとする課題】従来の縦型オーバーフ
ロードレイン構造の素子を用いた固体撮像装置では、基
板電圧は、あるレベルの入射光量を想定しこのレベルを
超えた分の電荷を基板側へ引き抜くことのできる値に設
定されるのであるが、異常に強力な光が入射した場合に
も確実にブルーミングを抑止できるように、この値は高
めに設定される。この種固体撮像装置のダイナミックレ
ンジの決定要素の一つが上記基板電圧であるところ、通
常の撮像時においては上記基板電圧は不必要に高く設定
されていたので、通常時のダイナミックレンジが上記基
板電圧によって制限を受けることとなりその範囲が狭く
なされていた。
【0007】
【課題を解決するための手段】本発明の固体撮像装置は
、第1導電型半導体基板上に設けられた第2導電型ウェ
ルの表面領域内に複数の第1導電型のフォトダイオード
領域が形成されているオーバーフロードレイン構造の固
体撮像素子と、前記固体撮像素子の画素領域に入射する
入射光のピーク値を導出する手段と、前記入射光のピー
ク値に応じて前記半導体基板に印加される電圧を調整す
る基板電圧調整手段と、を具備するものである。また、
必要に応じてさらに前記入射光のピーク値に応じて映像
信号の白クリップレベルを調整するクリップ調整手段を
備えるように構成される。
【0008】すなわち、本発明の固体撮像装置において
は、平常時においては基板電圧は低く設定されており、
そして入射光のピーク値が高レベルとなった場合には基
板電圧が自動的に上昇するように構成されている。
【0009】
【実施例】次に、本発明の実施例について図面を参照し
て説明する。図1は本発明の一実施例を示すブロック図
である。同図に示されるように、固体撮像素子1の出力
する出力信号はローパスフィルタ2を通りコンパレータ
3に入力される。コンパレータ3は、あらかじめ一定値
に設定された基準信号と出力信号とを比較し基準値以上
の出力信号を検出する。
【0010】次に、積分回路4は、コンパレータからの
信号を取り込み、図2に示すように、有効画素領域A内
で積分を行ない、基準値以上となっている画素領域Bの
面積を検出する。これと並行して基板電流検出回路5は
半導体基板に流れ込む基板電流を検出する。
【0011】次に、マイクロプロセッサユニット( m
icro processor unit :以下、M
PUと記す)6は、積分回路4と基板電流検出回路5か
らの信号を取り込み、これら2種の信号から入射光のピ
ーク値を導出する。例えば、基準値以上となっている画
素領域の面積値が大きくても基板電流値が小さい場合は
標準光量の数十倍の光量の光が入射しており、また、上
記画素領域の面積値が小さく基板電流値は大きい場合は
標準光量の数百倍の光が入射しているというような判断
から入射光のピーク値を導出する。
【0012】次に、MPU6は、導出された入射光のピ
ーク値に関する情報を基板電圧調整回路7とクリップ調
整回路8に伝送する。基板電圧調整回路7とクリップ調
整回路8は、各々MPU6から送られた入射光のピーク
値に関する情報をもとに、基板電圧の調整と白のクリッ
プレベルの設定を行なう。
【0013】図3はこのときの光量−出力信号の状態を
示すニー(Knee)特性図である。通常時には基板電
圧は低く設定されている。この状態を■に示す。このと
きクリップレベルは高く設定されており、広いダイナミ
ックレンジが確保されている。この状態のとき、強い光
が入射すると基板電圧は高められる(図の■の状態)と
ともにクリップレベルが下げられる。この状態では十分
なブルーミング抑制機能が発揮される。本実施例により
、通常時での撮影において、ダイナミックレンジを1.
3倍程度拡げることができた。
【0014】本発明は、縦型オーバーフロードレイン構
造のデバイスを用いたもののみならず、横型オーバーフ
ロードレイン構造のデバイスを用いたものにも適用しう
るものである。また、ピーク値を求める方式は実施例に
限定されるものではなく、例えば、固体撮像素子の出力
する撮像信号から直接これを求めるようにすることがで
きる。さらに、調整回路7、8内に不感帯を設定し、入
力されたピーク値が一定範囲を超えた場合にのみ基板電
圧やクリップレベルを変更するようにしてもよい。
【0015】
【発明の効果】以上説明したように、本発明は入射光の
ピーク値に対応して基板電圧と白のクリップレベルを自
動的に調整するものであるので、本発明によれば、通常
の被写体の撮影時には広いダイナミックレンジを確保す
ることができるとともに強い光が入射した場合には十分
なブルーミング機能を発揮させることができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例を示すブロック図。
【図2】図1の実施例の動作説明図。
【図3】図1の実施例の動作説明図。
【図4】縦型オーバーフロードレイン構造の固体撮像素
子の断面図。
【図5】従来例の動作説明図。
【符号の説明】
1  固体撮像素子 2  ローパスフィルタ 3  コンパレータ 4  積分回路 5  基板電流検出回路 6  マイクロプロセッサユニット(MPU)7  基
板電圧調整回路 8  クリップ調整回路

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  第1導電型半導体基板上に設けられた
    第2導電型ウェルの表面領域内に複数の第1導電型のフ
    ォトダイオード領域が形成されているオーバーフロード
    レイン構造の固体撮像素子と、前記固体撮像素子の画素
    領域内に入射する入射光のピーク値を導出する手段と、
    前記入射光のピーク値に応じて前記半導体基板に印加さ
    れる電圧を調整する基板電圧調整手段と、を具備する固
    体撮像装置。
  2. 【請求項2】  第1導電型半導体基板上に設けられた
    第2導電型ウェルの表面領域内に複数の第1導電型のフ
    ォトダイオード領域が形成されているオーバーフロード
    レイン構造の固体撮像素子と、前記固体撮像素子の画素
    領域内に入射する入射光のピーク値を導出する手段と、
    前記入射光のピーク値に応じて前記半導体基板に印加さ
    れる電圧を調整する基板電圧調整手段と、前記入射光の
    ピーク値に応じて映像信号の白クリップレベルを調整す
    るクリップ調整手段と、を具備する固体撮像装置。
JP3044259A 1991-02-15 1991-02-15 固体撮像装置 Pending JPH04262678A (ja)

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JPH04262678A true JPH04262678A (ja) 1992-09-18

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JP (1) JPH04262678A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2001057417A (ja) * 1999-08-17 2001-02-27 Nikon Corp 撮像装置およびこの撮像装置を備えた電子カメラ
WO2002003711A1 (en) 2000-06-29 2002-01-10 Koninklijke Philips Electronics N.V. Color image pickup device
US6888573B2 (en) * 2002-10-31 2005-05-03 Motorola, Inc. Digital pixel sensor with anti-blooming control

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JP4590659B2 (ja) * 1999-08-17 2010-12-01 株式会社ニコン 撮像装置およびこの撮像装置を備えた電子カメラ
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