JPH0425189U - - Google Patents

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JPH0425189U
JPH0425189U JP6668990U JP6668990U JPH0425189U JP H0425189 U JPH0425189 U JP H0425189U JP 6668990 U JP6668990 U JP 6668990U JP 6668990 U JP6668990 U JP 6668990U JP H0425189 U JPH0425189 U JP H0425189U
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  • Gas-Filled Discharge Tubes (AREA)
  • Elimination Of Static Electricity (AREA)

Description

【図面の簡単な説明】
第１図、第２図は本考案の第１実施例を示す図
で、第１図は平面図、第２図は第１図の−線
断面図、第３図、第４図は第２実施例を示す図で
、第３図は放電回路図、第４図はパネルの縦断面
図、第５図、第６図は本考案の第３実施例を示す
図で、第５図は放電回路図、第６図はパネルの縦
断面図、第７図は本考案の第４実施例を示す縦断
面図、をそれぞれ示す。 １……誘電体基板、２……面状誘導電極、３…
…線状放電電極、５……誘電体層、１０……パネ
ル、２０……パネル、２２……コンデンサ、３０
……パネル。

Claims (1)

  1. 【実用新案登録請求の範囲】 (1) 誘導電極を埋設した誘電体基板と；該基板
    の表面に設けた放電電極と；該放電電極の一部分
    を覆つて非放電部を形成する誘電体層と；を備え
    たことを特徴とする電界装置。 (2) 誘電体層の厚さが、５０μｍ以上であるこ
    とを特徴とする請求項第１記載の電界装置。 (3) 誘電体基板を介して誘導電極と放電電極と
    を対向せしめたパネルと；該パネルに接続され、
    かつ、その静電容量が前記パネルより大きなダミ
    ー容量手段と；を備えたことを特徴とする電界装
    置。 (4) ダミー容量手段の静電容量が、パネルのそ
    れの１００倍以上であることを特徴とする請求項
    第３記載の電界装置。 (5) 誘電体基板に埋設された誘導電極と；該基
    板の表面に設けられた放電電極と；前記両電極間
    に介在する厚さ１mm以上の絶縁層と；を備えたこ
    とを特徴とする電界装置。
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH01152491U (ja) * 1988-04-14 1989-10-20

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JPH01152491U (ja) * 1988-04-14 1989-10-20

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