JPH04231421A - Production of lead frame material - Google Patents

Production of lead frame material

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JPH04231421A
JPH04231421A JP41528290A JP41528290A JPH04231421A JP H04231421 A JPH04231421 A JP H04231421A JP 41528290 A JP41528290 A JP 41528290A JP 41528290 A JP41528290 A JP 41528290A JP H04231421 A JPH04231421 A JP H04231421A
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JP
Japan
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lead frame
frame material
less
content
rolling
Prior art date
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Withdrawn
Application number
JP41528290A
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Japanese (ja)
Inventor
Masatoshi Eto
雅俊 衛藤
Norio Yuki
典夫 結城
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Eneos Corp
Original Assignee
Nippon Mining Co Ltd
Nikko Kyodo Co Ltd
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Filing date
Publication date
Application filed by Nippon Mining Co Ltd, Nikko Kyodo Co Ltd filed Critical Nippon Mining Co Ltd
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Publication of JPH04231421A publication Critical patent/JPH04231421A/en
Withdrawn legal-status Critical Current

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    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21BROLLING OF METAL
    • B21B3/00Rolling materials of special alloys so far as the composition of the alloy requires or permits special rolling methods or sequences ; Rolling of aluminium, copper, zinc or other non-ferrous metals
    • B21B3/02Rolling special iron alloys, e.g. stainless steel
    • BPERFORMING OPERATIONS; TRANSPORTING
    • B21MECHANICAL METAL-WORKING WITHOUT ESSENTIALLY REMOVING MATERIAL; PUNCHING METAL
    • B21BROLLING OF METAL
    • B21B1/00Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations
    • B21B1/22Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations for rolling plates, strips, bands or sheets of indefinite length
    • B21B2001/228Metal-rolling methods or mills for making semi-finished products of solid or profiled cross-section; Sequence of operations in milling trains; Layout of rolling-mill plant, e.g. grouping of stands; Succession of passes or of sectional pass alternations for rolling plates, strips, bands or sheets of indefinite length skin pass rolling or temper rolling

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  • Engineering & Computer Science (AREA)
  • Mechanical Engineering (AREA)
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  • Heat Treatment Of Sheet Steel (AREA)

Abstract

PURPOSE:To produce a high strength lead frame material excellent in etching characteristic, sealing characteristic, etc., by applying, after final cold rolling, stress relief heat treatment and skin pass rolling to an Fe-Ni-Cr alloy material having a specific composition. CONSTITUTION:After final annealing and final cold rolling are applied to a lead frame material composed of an Fe - 33-55wt.% Ni - 2-15wt.% Cr alloy, this material is subjected to stress relief heat treatment and further to skin pass rolling at <=5% draft. It is preferable that the above lead frame material has a composition containing, e.g. 0.001-0.15% Si, 0.1-1.0% Mn, 2-15% Cr, 33-55% Ni, 0.01-5.0% of one or more elements among Co, Mo, W, V, Nb, Ta, Ti, Zr, and Hf, <=0.015% C, <=0.01% P, <=0.005% S, <=0.010% O, and <=0.005% N. Further, it is preferable that, after the above material is rolled at 40-90% draft, final annealing is exerted under the conditions where a crystalline grain size of <=30mum is reached and also the draft at successive final cold rolling is regulated to 40-85%.

Description

【発明の詳細な説明】[Detailed description of the invention]

【0001】0001

【産業上の利用分野】本発明は、エッチング加工性、封
着性並びに成形加工性に優れ、かつ高強度を有するFe
−33〜55wt%Ni−2〜15wt%Cr系合金リ
ードフレーム材の製造方法に関するものである。
[Industrial Application Field] The present invention is directed to Fe, which has excellent etching processability, sealing property, and molding processability, and has high strength.
-33 to 55 wt% Ni-2 to 15 wt% Cr alloy lead frame material manufacturing method.

【0002】0002

【従来の技術】一般に、半導体機器類にあっては、使用
されるリード材の特性もその性能やコストに大きな影響
を及ぼすことが知られているが、従来、このような半導
体機器のリード材には、熱膨張係数が低く、かつ半導体
素子やセラミックスと比較的良好な接着性及び封着性を
示すFe−Ni系合金が好んで使用されてきた。
[Prior Art] In general, it is known that the characteristics of the lead material used in semiconductor devices have a large effect on their performance and cost. For this purpose, Fe--Ni alloys have been favorably used, which have a low coefficient of thermal expansion and exhibit relatively good adhesion and sealing properties with semiconductor elements and ceramics.

【0003】しかし、例えば、LSIをプラスチックパ
ッケージングするプロセスにおけるレジンモールド工程
後の冷却過程やプリント基板への実装時、更には使用環
境において温度サイクルを受けた時等では、レジンとリ
ード材との間に熱応力がかかるのを避けることが出来ず
、この応力が過大になった場合には、使用するリード材
が従来から用いられてきた実績のあるFe−Ni系合金
(例えば、42%Ni−Fe合金)製のものであったと
しても、パッケージにクラックが発生したりまた接着界
面が剥離したりして、パッケージの耐湿信頼性が低下す
るという問題を避けることは難しかった。この問題は、
モールドレジンとリード材との熱膨張係数差に起因した
もので、熱膨張係数差のために上記微小クラックや剥離
界面が生じると、これを通して外部から湿気が侵入し内
部の半導体素子などを損傷する恐れがあったわけである
。従って、LSIの耐湿信頼性を向上させるためには、
リードフレーム材として熱膨張係数がモールドレジンの
それにできるだけ近い化学組成のものを使用する必要が
あった。
However, for example, during the cooling process after the resin molding process in the plastic packaging process for LSIs, during mounting on printed circuit boards, and even when subjected to temperature cycles in the usage environment, the relationship between the resin and lead material may deteriorate. If thermal stress cannot be avoided and this stress becomes excessive, the lead material used may be a Fe-Ni alloy (e.g. 42% Ni -Fe alloy), it is difficult to avoid problems such as cracks occurring in the package or peeling of the adhesive interface, which deteriorates the moisture resistance reliability of the package. This problem,
This is caused by the difference in thermal expansion coefficient between the mold resin and the lead material. If the above-mentioned microcracks or peeling interface occur due to the difference in thermal expansion coefficient, moisture can enter from the outside through this and damage the internal semiconductor elements. There was fear. Therefore, in order to improve the moisture resistance reliability of LSI,
It was necessary to use a lead frame material with a chemical composition whose coefficient of thermal expansion was as close as possible to that of the mold resin.

【0004】そのため、最近、Niの他にCrをも主成
分とし、NiおよびCrの含有量を調整することにより
、熱膨張係数をモールドレジンの熱膨張係数に極力近づ
けたNi−Cr−Fe合金製のリードフレーム材も開発
され、その性能が注目されるようになってきている。
[0004] Therefore, recently, Ni-Cr-Fe alloys have been developed that contain Cr as a main component in addition to Ni, and have a coefficient of thermal expansion as close as possible to that of mold resin by adjusting the contents of Ni and Cr. Lead frame materials made from aluminum have also been developed, and their performance is attracting attention.

【0005】一方、最近、上記タイプのLSIにおいて
も高集積化が進められており、この傾向は使用するリー
ドフレームの多ピン化を推進する結果をもたらしている
が、リードフレームの多ピン化に対処するためにより強
度の高い素材を使用することが要求される。なぜなら、
リードフレームが多ピン化されると必然的にピン間隔が
狭くなり、ピン自体の幅も小さくなるが、それを実現す
るには精度が一段と高いエッチング加工あるいはプレス
加工を要することとなる上、ピン幅に比べて厚さが厚く
なるという事態を生じて加工がより一層難しくなる懸念
も生じる。そこで、これに対処すべく素材厚を薄くする
必要が出てくるが、薄板化するためには従来以上の強度
(リード変形に対する抵抗力)を持ったリードフレーム
材が要求されるわけである。
On the other hand, recently, the above-mentioned types of LSIs have been becoming more highly integrated, and this trend has resulted in the promotion of increasing the number of pins in the lead frames used. To cope with this, it is necessary to use stronger materials. because,
When a lead frame has a large number of pins, the pin spacing inevitably becomes narrower and the width of the pins themselves becomes smaller, but to achieve this, etching or press processing with even higher precision is required, and the pin spacing becomes narrower. There is also a concern that the thickness will become thicker than the width, making processing even more difficult. Therefore, in order to cope with this, it becomes necessary to reduce the material thickness, and in order to make the material thinner, a lead frame material with higher strength (resistance against lead deformation) than conventional ones is required.

【0006】また、特に多ピン、超多ピン用のリードフ
レーム材では、成形のための加工はエッチング加工が中
心となるため、エッチング加工性が優れていることも重
要な要求特性となってきた。ここで、Fe−Ni系合金
あるいはFe−Ni−Cr系合金製リードフレーム材の
エッチング加工工程は、一般に、脱脂したリードフレー
ム材の両面にフォトレジストを塗布し、パターンを焼き
付けて現像した後、塩化第2鉄を主成分とするエッチン
グ液でエッチング加工し、その後前記レジストを除去す
る工程から構成されているのが普通である。そして、こ
の際のエッチング性を決める要因としては、レジストの
密着性やエッチング速度等が挙げられるが、これらの中
でも素材のエッチング速度が最も重要な要因となってお
り、エッチング速度が速くなるにつれてリードフレーム
材に形成されるピン幅、ピン間隔の制御性が容易化する
ことから、エッチング速度によってエッチング加工性の
評価が概ね決定されてしまうと言っても過言ではない。 従って、半導体機器の集積度が上昇するに伴い、リード
フレーム材には優れた封着性や強度特性に加えて、より
速いエッチング速度特性(即ち良好なエッチング加工性
)も求められるようになってきたわけである。
[0006] In addition, especially for lead frame materials for high-pin count and extremely high-pin count, the processing for molding is mainly etching process, so excellent etching processability has also become an important required property. . Here, in the etching process of lead frame materials made of Fe-Ni alloy or Fe-Ni-Cr alloy, generally, photoresist is applied to both sides of the degreased lead frame material, and a pattern is baked and developed. It usually consists of a step of etching with an etching solution containing ferric chloride as a main component, and then removing the resist. Factors that determine the etching performance at this time include resist adhesion and etching speed, but among these, the etching speed of the material is the most important factor, and as the etching speed increases, the lead It is no exaggeration to say that the evaluation of etching workability is largely determined by the etching speed since the pin width and pin spacing formed on the frame material can be easily controlled. Therefore, as the degree of integration of semiconductor devices increases, lead frame materials are required to not only have excellent sealing properties and strength properties, but also faster etching speed properties (i.e., good etching processability). That's why.

【0007】しかしながら、未だ、エッチング加工性、
封着性、強度、更には成形加工性などのいずれをも十分
に満足した材料及び製造方法が見出されていなかったの
が実情であった。
However, etching processability,
The reality is that no material or manufacturing method has been found that fully satisfies all of the sealing properties, strength, and moldability.

【0008】こうした観点から、本出願人は先に、Fe
−Ni−Cr系合金リードフレーム材を製造する方法と
して、Si:0.001〜0.15wt%、Mn:0.
1〜1.0wt%、Cr:2〜15%およびNi:33
〜55%を基本成分として含有し、残部がFeおよび不
可避的不純物から成り、そしてC:0.015wt%以
下、P:0.01wt%以下、S:0.005wt%以
下、O:0.010wt%以下そしてN:0.005w
t%以下と規制した合金をリードフレーム素材とし、最
終焼鈍及び最終冷間圧延後、歪取り熱処理を行うに際し
て、最終焼鈍前に40〜90%の加工度で圧延を施し、
最終焼鈍を結晶粒径が30μm以下となる条件で実施し
、続く最終冷間圧延の加工度を40〜85%に調整する
ことをを特徴とする、エッチング加工性、成形加工性お
よび封着性に優れた高強度リードフレーム材の製造方法
を提唱し、多くの成果を納めてきた。
[0008] From this point of view, the present applicant first developed Fe
- As a method for manufacturing a Ni-Cr alloy lead frame material, Si: 0.001 to 0.15 wt%, Mn: 0.
1 to 1.0 wt%, Cr: 2 to 15% and Ni: 33
-55% as a basic component, the remainder consists of Fe and unavoidable impurities, and C: 0.015wt% or less, P: 0.01wt% or less, S: 0.005wt% or less, O: 0.010wt % or less and N: 0.005w
The lead frame material is made of an alloy regulated to be t% or less, and when performing strain relief heat treatment after final annealing and final cold rolling, rolling is performed at a working degree of 40 to 90% before final annealing,
Etching workability, molding workability, and sealing property characterized by carrying out final annealing under conditions such that the crystal grain size is 30 μm or less, and adjusting the workability of the subsequent final cold rolling to 40 to 85%. We have proposed a manufacturing method for superior high-strength lead frame materials, and have achieved many results.

【0009】[0009]

【発明が解決しようとする課題】その後、上記の要件に
おいて、今後の集積度の高い半導体機器への適用におい
ては、成形(曲げ)加工性を損なわずに一段の強度の向
上を計ることの重要性が更に認識されるようなった。
[Problem to be solved by the invention] In view of the above requirements, it is important to further improve the strength without impairing the forming (bending) workability in future application to highly integrated semiconductor devices. Gender has become more recognized.

【0010】このようなことから、本発明の課題は、優
れたエッチング加工性及び封着性及び成形加工性を有す
ると共に、一段と高い強度をも併せ持つところの、集積
度の高い半導体機器への適用を意図した場合でも十分な
性能が発揮されるFe−Ni−Cr系合金リードフレー
ム材の工業的量産方法を確立することである。
[0010] Therefore, an object of the present invention is to apply it to highly integrated semiconductor devices that have excellent etching processability, sealing property, and moldability as well as higher strength. The object of the present invention is to establish an industrial mass production method for Fe-Ni-Cr alloy lead frame materials that exhibit sufficient performance even when intended for

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明者らは、上記課題
を達成するべく、先に提唱したFe−Ni−Cr系合金
リードフレーム材製造方法において加工性を損なわずに
一段の強度の向上を計る方法について研究を重ねた。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above-mentioned problems, the present inventors have proposed a method for manufacturing Fe-Ni-Cr alloy lead frame materials that further improves the strength without impairing workability. We have conducted repeated research on how to measure this.

【0012】ここで、先の提唱方法における要点を整理
すると、 (a)リードフレーム材として比較的好ましいとされて
きたFe−Ni−Cr系合金において、そのC、Si、
S、P及びO含有量更にはN含有量をも特定の低い値に
制限した場合には、該合金のエッチング速度が顕著に改
善されるようになる。 (b)しかも、上記合金にCo,Mo,W、V等いくつ
かの選ばれた特定の元素の1種又は2種以上を所定の割
合で含有させた場合には、リードフレーム材としての諸
特性に格別な悪影響を及ぼすことなく材料の強度を効果
的に向上することができる上に、NiおよびCr含有量
の注意深い調整の下での上記特定元素の添加はその熱膨
張係数をモールドレジンのそれに近づけるのに極めて有
効な手段となる。 (c)また、上記合金材料においても、その結晶粒径が
強度および成形加工性に少なからぬ影響を及ぼすが、該
結晶粒径を特定値以下に抑える手立てを講じることによ
ってリードフレームの多ピン化にとって好ましい材料強
度の更なる向上が期待できる上、成形加工性も改善され
る。 (d)上記合金系において、結晶粒径の微細化を混粒に
することなく、安定的に製造するには、最終焼鈍前の圧
延加工度を特定の範囲に制御する必要がある。 (e)異方性を大きくすることなく強度の向上を図るに
は、最終冷間圧延の圧延加工度を特定の範囲に制御する
必要がある。
[0012] Here, the main points of the proposed method are as follows: (a) In the Fe-Ni-Cr alloy, which has been considered to be relatively preferable as a lead frame material, C, Si,
If the S, P and O contents, and also the N content, are limited to certain low values, the etching rate of the alloy will be significantly improved. (b) Moreover, when the above alloy contains one or more selected specific elements such as Co, Mo, W, and V in a predetermined ratio, various elements as a lead frame material can be used. Besides being able to effectively improve the strength of the material without any particular negative effect on its properties, the addition of the above-mentioned specific elements under careful control of the Ni and Cr contents increases its thermal expansion coefficient to that of the mold resin. This is an extremely effective means of approaching that goal. (c) Also, in the above alloy materials, the crystal grain size has a considerable effect on strength and formability, but by taking measures to suppress the crystal grain size to below a certain value, lead frames with a large number of pins can be created. Further improvement in material strength, which is favorable for materials, can be expected, and molding processability is also improved. (d) In the above-mentioned alloy system, in order to stably manufacture the crystal grain size without creating mixed grains, it is necessary to control the degree of rolling before final annealing within a specific range. (e) In order to improve the strength without increasing the anisotropy, it is necessary to control the degree of rolling in the final cold rolling within a specific range.

【0013】こうした手段および要件の下で、曲げ加工
性を損なわずに強度の向上を図るには、最終冷間圧延後
、歪取り熱処理を行い、この後更に5%以下のスキンパ
ス圧延を行うのが最も効果的であることが判明した。
Under these means and requirements, in order to improve the strength without impairing bending workability, strain relief heat treatment is performed after the final cold rolling, and then skin pass rolling of 5% or less is performed. was found to be the most effective.

【0014】こうして、Fe−Ni−Crを基本成分と
した合金におけるNi、C、SiおよびP等の含有量を
総合的に調整すると同時に、必要に応じてこれに特定合
金元素の添加を行い、更に最終焼鈍前の圧延加工度、最
終焼鈍時の結晶粒径、最終圧延の加工度を適正範囲に制
御し、歪取り熱処理後に5%以下のスキンパス圧延を行
うことによって、熱膨張係数、封着性、成形加工性など
の特性に優れ、しかも非常に良好なエッチング加工性を
も備えた高強度リードフレーム材を安定的に製造するこ
とが可能となったものである。
[0014] In this way, the content of Ni, C, Si, P, etc. in the alloy containing Fe-Ni-Cr as a basic component is comprehensively adjusted, and at the same time, specific alloying elements are added thereto as necessary. Furthermore, by controlling the rolling workability before final annealing, the grain size during final annealing, and the workability during final rolling within appropriate ranges, and performing skin pass rolling of 5% or less after strain relief heat treatment, the coefficient of thermal expansion and sealing can be improved. This makes it possible to stably produce a high-strength lead frame material that has excellent properties such as hardness and moldability, and also has very good etching processability.

【0015】本発明は、上記知見に基づいて完成された
ものであり、Fe−33〜55wt%Ni−2〜15%
Cr系合金リードフレーム材を製造するに際し、Fe−
33〜55wt%Ni−2〜15%Cr系合金リードフ
レーム素材を、最終焼鈍及び最終冷間圧延後、歪取り熱
処理を行い、この後更に5%以下のスキンパス圧延を行
うことを特徴とする、エッチング加工性、曲げ加工性お
よび封着性に優れた高強度リードフレーム材の製造方法
を提供するものである。
The present invention was completed based on the above findings, and includes Fe-33-55wt% Ni-2-15%
When manufacturing Cr-based alloy lead frame materials, Fe-
A 33-55 wt% Ni-2-15% Cr alloy lead frame material is subjected to strain relief heat treatment after final annealing and final cold rolling, and is then further subjected to skin pass rolling of 5% or less, The present invention provides a method for manufacturing a high-strength lead frame material with excellent etching workability, bending workability, and sealing performance.

【0016】本発明は、より特定的には、リードフレー
ム素材がSi:0.001〜0.15wt%、Mn:0
.1〜1.0wt%、Cr:2〜15%及びNi:33
〜55wtを含有し、あるいは更にCo、Mo、W、V
、Nb、Ta、Ti、ZrおよびHfの1種類以上を合
計で0.01〜5.0重量%および/あるいはCu、A
l、Be、MgおよびCaの1種類以上を合計で0.0
1〜5.0重量%含み、そしてC:0.015wt%以
下、P:0.01wt%以下、S:0.005wt%以
下、O:0.010wt%以下そしてN:0.005w
t%以下と規制した合金であり、そして最終焼鈍前に4
0〜90%、好ましくは50〜85%の加工度で圧延を
施し、最終焼鈍を結晶粒径が30μm以下、好ましくは
20μm以下となる条件で実施し、続く最終冷間圧延の
加工度を40〜85%、好ましくは50〜80%に調整
し、この後更に5%以下のスキンパス圧延を行うことを
特徴とする、エッチング加工性、曲げ加工性および封着
性に優れた高強度リードフレーム材の製造方法を提供す
るものである。
More specifically, in the present invention, the lead frame material contains Si: 0.001 to 0.15 wt% and Mn: 0.
.. 1 to 1.0 wt%, Cr: 2 to 15% and Ni: 33
~55wt, or further contains Co, Mo, W, V
, Nb, Ta, Ti, Zr and Hf in a total of 0.01 to 5.0% by weight and/or Cu, A
0.0 in total of one or more of l, Be, Mg and Ca
Contains 1 to 5.0 wt%, and C: 0.015 wt% or less, P: 0.01 wt% or less, S: 0.005 wt% or less, O: 0.010 wt% or less, and N: 0.005 w.
The alloy is regulated to be less than t%, and 4
Rolling is performed at a working degree of 0 to 90%, preferably 50 to 85%, final annealing is carried out under conditions such that the grain size becomes 30 μm or less, preferably 20 μm or less, and the subsequent final cold rolling is performed with a working degree of 40%. A high-strength lead frame material with excellent etching workability, bending workability, and sealing property, which is adjusted to ~85%, preferably 50 to 80%, and then subjected to skin pass rolling of 5% or less. The present invention provides a method for manufacturing.

【0017】なお、この場合、(a)C含有量を0.0
05%以下に規制すること、(b)Si含有量を0.0
01〜0.05%に調整すること、および(c)P含有
量を0.003%以下に規制することの条件を単独或い
は組み合わせて採用すると、得られるリードフレーム材
の成形加工性やエッチング加工性改善効果は一段と顕著
になり、多ピンリードフレーム材の製造にも一層十分対
応できるようになる。
[0017] In this case, (a) the C content is 0.0
(b) Si content should be regulated to 0.05% or less.
If the conditions of (c) regulating the P content to 0.01 to 0.05% and (c) regulating the P content to 0.003% or less are adopted alone or in combination, the moldability and etching processability of the resulting lead frame material will be improved. The effect of improving the properties becomes even more remarkable, and it becomes possible to more fully cope with the production of multi-pin lead frame materials.

【0018】[0018]

【作用】続いて、本発明において素材合金の成分組成、
最終焼鈍前における圧延の加工度、最終焼鈍時の結晶粒
径、並びに最終冷間圧延の加工度を前記の如くに数値限
定した理由を、その作用と共に説明する。
[Operation] Next, in the present invention, the composition of the material alloy,
The reason why the working degree of rolling before final annealing, the grain size at the time of final annealing, and the working degree of final cold rolling are numerically limited as described above will be explained together with their effects.

【0019】A)素材合金の成分組成A) Composition of material alloy

【0020】Ni:Niは、リードフレーム材の熱膨張
係数を決定するのに重要な成分であり、封着時や封着後
におけるパッケージとの熱膨張差を小さくして、優れた
封着性従って優れた耐湿信頼性を確保するためには、N
i含有量を33〜55%に調整する必要がある。従って
、Ni含有量は33〜55%と定めた。
Ni: Ni is an important component in determining the thermal expansion coefficient of the lead frame material, and it reduces the difference in thermal expansion with the package during and after sealing, resulting in excellent sealing properties. Therefore, in order to ensure excellent moisture resistance reliability, N
It is necessary to adjust the i content to 33-55%. Therefore, the Ni content was determined to be 33 to 55%.

【0021】Cr:Crもまた、リードフレーム材の熱
膨張係数を決定するのに重要な成分である。そして、封
着時や封着後におけるパッケージとの熱膨張差を小さく
して優れた封着性、耐湿信頼性を確保するためには、C
r含有量を2〜15%に調整する必要がある。従って、
Cr含有量は2〜15%と定めた。
Cr: Cr is also an important component in determining the coefficient of thermal expansion of the lead frame material. In order to reduce the difference in thermal expansion with the package during and after sealing and ensure excellent sealing performance and moisture resistance reliability, C
It is necessary to adjust the r content to 2-15%. Therefore,
The Cr content was determined to be 2 to 15%.

【0022】Si:Siは、脱酸剤として必要な元素で
あるが、一方でリードフレーム材のエッチング加工性に
大きな影響を及ぼす元素でもある。即ち、Si含有量が
増加すると、エッチング速度が遅くなってエッチング加
工性が悪化する。このため、良好なエッチング加工性を
確保するためにはSi含有量を0.15%以下に調整す
る必要がある。特に、多ピンタイプのリードフレーム材
の場合には一段と良好なエッチング加工性が要求される
ことから、Si含有量は0.05%以下にまで低減する
のが望ましい。ただ、Si含有量を0.001%未満の
領域まで低減すると脱酸効果が認められなくなってしま
う。従って、Si含有量は0.001〜0.15%と定
めたが、上述したように、Si含有量を0.001〜0
.05%に調整するのが望ましい。
Si: Si is an element necessary as a deoxidizing agent, but it is also an element that greatly affects the etching processability of lead frame materials. That is, as the Si content increases, the etching rate slows down and etching processability deteriorates. Therefore, in order to ensure good etching processability, it is necessary to adjust the Si content to 0.15% or less. In particular, in the case of a multi-pin type lead frame material, even better etching processability is required, so it is desirable to reduce the Si content to 0.05% or less. However, if the Si content is reduced to less than 0.001%, the deoxidizing effect will no longer be observed. Therefore, the Si content was set at 0.001 to 0.15%, but as mentioned above, the Si content was set at 0.001 to 0.00%.
.. It is desirable to adjust it to 0.05%.

【0023】Mn:Mnは、リードフレーム材の脱酸お
よび熱間加工性を確保するために添加される成分である
が、その含有量が0.1%未満では所望の脱酸効果が得
られないばかりか、熱間加工性にも劣るようになる。一
方、1.0%を超えて含有させると、リードフレーム材
の硬さが上昇し過ぎて加工性の悪化を招き、更には熱膨
張係数も大きくなってしまう。従って、Mn含有量は0
.1〜1.0%と定めた。
Mn: Mn is a component added to ensure deoxidation and hot workability of the lead frame material, but if its content is less than 0.1%, the desired deoxidation effect cannot be obtained. Not only is this not possible, but the hot workability is also inferior. On the other hand, if the content exceeds 1.0%, the hardness of the lead frame material will increase too much, resulting in deterioration of workability and furthermore, the coefficient of thermal expansion will increase. Therefore, the Mn content is 0
.. It was set at 1 to 1.0%.

【0024】C:リードフレーム材中のC含有量が0.
015%を超えると鉄炭化物の生成が起こり、これがリ
ードフレーム材のエッチング性を害する。従って、C含
有量の上限を0.015%と定めたが、固溶Cもエッチ
ング加工性に悪影響を与えることからC含有量は低いほ
ど良く、0.005%以下にまで抑制するのが望ましい
C: The C content in the lead frame material is 0.
If it exceeds 0.015%, iron carbides will be formed, which will impair the etchability of the lead frame material. Therefore, the upper limit of the C content was set at 0.015%, but since solid solution C also has a negative effect on etching processability, the lower the C content, the better, and it is desirable to suppress it to 0.005% or less. .

【0025】P:Pも、Siと同様、含有量が多くなる
とリードフレーム材のエッチング加工性に害を与える元
素である。そして、上記エッチング加工性への悪影響は
P含有量が0.01%を超えるとより顕在化することか
ら、P含有量は0.01%以下と定めた。しかし、P含
有量を0.003%以下にまで低減すると、エッチング
加工性改善効果が一層顕著となって多ピンタイプのリー
ドフレームへ適用する場合でも十分満足できる結果が安
定して確保できるようになることから、望ましくは0.
003%以下に調整するのがよい。
P: Similar to Si, P is an element that harms the etching processability of lead frame materials when its content increases. Since the adverse effect on the etching processability becomes more apparent when the P content exceeds 0.01%, the P content is set to be 0.01% or less. However, when the P content is reduced to 0.003% or less, the effect of improving etching processability becomes even more remarkable, making it possible to stably secure sufficiently satisfactory results even when applied to multi-pin type lead frames. Therefore, preferably 0.
It is preferable to adjust it to 0.003% or less.

【0026】S:S含有量が0.005%を超えるとリ
ードフレーム材中に硫化物系介在物が多くなり、エッチ
ング加工時の欠陥となってピン折れ等を引き起こすよう
になる。従って、S含有量は0.005%以下と限定し
た。
S: If the S content exceeds 0.005%, sulfide-based inclusions will increase in the lead frame material, causing defects during etching, such as pin breakage. Therefore, the S content was limited to 0.005% or less.

【0027】O:O含有量が0.010%を超えると、
リードフレーム材中に酸化物系介在物が多くなり、やは
りエッチング加工時の穿孔欠陥となってピン折れ等を引
き起こすようになることからO含有量を0.010%以
下と限定した。
[0027] O: When the O content exceeds 0.010%,
The O content was limited to 0.010% or less because oxide-based inclusions increase in the lead frame material, resulting in perforation defects during etching and causing pin breakage, etc.

【0028】N:N含有量が0.005%を超えた場合
もリードフレーム材のエッチング加工性が悪化すること
から、N含有量の上限を0.005%と定めた。
N: If the N content exceeds 0.005%, the etching processability of the lead frame material deteriorates, so the upper limit of the N content was set at 0.005%.

【0029】Co,Mo,W,V,Nb,Ta,Ti,
ZrおよびHf並びにCu,Al,Be,MgおよびC
a:これらの元素は何れもリードフレーム材の強度や熱
膨張係数を上昇させる作用を有しているため、材料強度
の向上、並びに熱膨張係数を上げてレジンモールドのそ
れに近づけることで、封着性をより改善する目的で必要
に応じ1種または2種以上が含有せしめられる。特に、
前者のグループであるCo,Mo,W,V,Nb,Ta
,Ti,ZrおよびHfは、炭化物を形成し、固溶炭素
を減少させるため、エッチング性改善の効果もあり、ま
た、炭化物の分散によって結晶粒が微細化するので、強
度上昇および曲げ性改善の効果をももたらす。しかし、
それらの含有量が合計で0.01%未満であると前記作
用による所望の効果が得られず、一方それらの合計の含
有量が5.0%を超えた場合には材料が硬くなり過ぎて
成形加工性の劣化を招くほか、適正な熱膨張係数の確保
も困難となることから、上記成分の含有量を合計量で0
.01〜5.0%と定めたものである。
Co, Mo, W, V, Nb, Ta, Ti,
Zr and Hf and Cu, Al, Be, Mg and C
a: All of these elements have the effect of increasing the strength and coefficient of thermal expansion of the lead frame material. For the purpose of further improving properties, one or more types may be contained as necessary. especially,
The former group Co, Mo, W, V, Nb, Ta
, Ti, Zr, and Hf form carbides and reduce solid solution carbon, which has the effect of improving etching properties.Also, dispersion of carbides makes crystal grains finer, which increases strength and improves bendability. It also has an effect. but,
If their total content is less than 0.01%, the desired effect of the above action cannot be obtained, while if their total content exceeds 5.0%, the material becomes too hard. In addition to causing deterioration in moldability, it is also difficult to ensure an appropriate coefficient of thermal expansion, so the total content of the above components should be reduced to 0.
.. It is set at 01 to 5.0%.

【0030】B)最終焼鈍前における圧延の加工度:最
終焼鈍前の圧延加工度は、リードフレーム材に所望強度
を確保する上で重要であるが、その加工度を特に40〜
90%に限定する理由は、圧延加工度が40%未満の場
合には最終焼鈍時に安定して所望の微細な結晶粒が得ら
れずに混粒となってしまい、逆に90%を超える圧延加
工度になると最終焼鈍時に立方体組織が発達し過ぎて異
常な組織となり、この結果、異方性が発達し、最終冷間
圧延および歪取り焼鈍を行っても所望する強度が得られ
なくなるからである。
B) Degree of rolling before final annealing: The degree of rolling before final annealing is important in ensuring the desired strength of the lead frame material.
The reason why it is limited to 90% is that if the degree of rolling is less than 40%, it will not be possible to stably obtain the desired fine grains during final annealing, resulting in mixed grains; This is because when the degree of deformation is reached, the cubic structure develops too much during final annealing, resulting in an abnormal structure, and as a result, anisotropy develops, making it impossible to obtain the desired strength even after final cold rolling and strain relief annealing. be.

【0031】C)最終焼鈍時の結晶粒径:最終焼鈍条件
もリードフレーム材に所望強度を確保する上で重要であ
り、またエッチング性やプレス加工性にも大きく影響す
る因子となるが、特に得られる結晶粒径が30μm以下
となる条件で最終焼鈍を実施する理由は、結晶粒径の微
細化が高強度化に大きく寄与する上、エッチング性やプ
レス加工性にも好結果が得られて高精度のフレームの実
現に有効であるのに対して、結晶粒径が30μmを超え
るとこれらの効果を確保することが出来なくなるためで
ある。なお、最終焼鈍時の結晶粒径の調整は、周知のよ
うに焼鈍温度および時間を調節することによって容易に
行うことが出来る。
C) Grain size during final annealing: The final annealing conditions are also important in ensuring the desired strength of the lead frame material, and are also factors that greatly affect etching and press workability. The reason why the final annealing is carried out under conditions such that the obtained crystal grain size is 30 μm or less is that the refinement of the crystal grain size greatly contributes to high strength, and good results are also obtained in etching property and press workability. This is because, while it is effective in realizing a highly accurate frame, if the crystal grain size exceeds 30 μm, these effects cannot be ensured. Note that the grain size during final annealing can be easily adjusted by adjusting the annealing temperature and time, as is well known.

【0032】D)最終冷間圧延の加工度:最終圧延での
加工度もリードフレーム材の強度に大きな影響を与える
が、該加工度を特に40〜85%と限定する理由は、圧
延加工度が40%未満の場合には強度改善に顕著な効果
が得られず、一方85%を超えると強度の異方性が顕著
となるためである。
D) Degree of work in final cold rolling: The degree of work in final rolling also has a great effect on the strength of the lead frame material, but the reason why the degree of work is particularly limited to 40 to 85% is that the degree of work in final cold rolling is If it is less than 40%, no remarkable effect on strength improvement will be obtained, whereas if it exceeds 85%, the anisotropy of strength will become noticeable.

【0033】E)歪取り熱処理:最終圧延後に適正な歪
取り熱処理を行うことによってKb値が向上し、その異
方性も飛躍的に改善されるとともに、曲げ加工性および
封着性が改善されるため、歪取り焼鈍を行う。例えば、
還元性雰囲気中での連続焼鈍炉において、炉温:500
℃〜900℃そして材料の炉内滞留時間:10秒間〜1
20秒間で熱処理することによって上記効果が得られる
E) Strain relief heat treatment: By performing appropriate strain relief heat treatment after final rolling, the Kb value is improved, the anisotropy is also dramatically improved, and the bending workability and sealing properties are improved. Therefore, strain relief annealing is performed. for example,
In a continuous annealing furnace in a reducing atmosphere, furnace temperature: 500
℃~900℃ and residence time of material in furnace: 10 seconds~1
The above effect can be obtained by heat treatment for 20 seconds.

【0034】F)スキンパス圧延:歪取り熱処理後に適
正な加工度でスキンパス圧延することによって、曲げ加
工性を損なわずに強度の向上を図ることが可能になる。 該加工度を特に5%以下と限定する理由は、該圧延加工
度が5%を超える場合には曲げ加工性が劣化する上、残
留応力が大きくなり、リードフレーム加工時に変形が生
じるためである。
F) Skin pass rolling: By performing skin pass rolling at an appropriate working degree after strain relief heat treatment, it is possible to improve the strength without impairing bending workability. The reason why the degree of rolling is particularly limited to 5% or less is that if the degree of rolling is more than 5%, the bending workability will deteriorate, residual stress will increase, and deformation will occur during lead frame processing. .

【0035】次いで、本発明の効果を実施例および比較
例により更に具体的に説明する。
Next, the effects of the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples.

【0036】[0036]

【実施例および比較例】まず、真空溶解・鋳造によって
表1および2に示される化学成分組成のFe−Ni−C
r系合金インゴットを得た後、これらに熱間圧延および
酸洗を施し、次に冷間圧延と焼鈍を繰り返して板厚:0
.125mmの冷延板(試料No.36のみ例外として
板厚は0.15mmとした)を製造し、最終冷間圧延後
に還元性雰囲気中で700℃、30秒間の歪取り熱処理
を行なった。なお、この時の「最終焼鈍前の冷間圧延の
加工度」、「最終焼鈍時の結晶粒径」、並びに「最終冷
間圧延の加工度」および「スキンパス圧延の加工度」は
、表3および4に示した通りであった。
[Examples and Comparative Examples] First, Fe-Ni-C with the chemical composition shown in Tables 1 and 2 was prepared by vacuum melting and casting.
After obtaining R-based alloy ingots, they are hot rolled and pickled, then cold rolled and annealed repeatedly to obtain a plate thickness of 0.
.. A 125 mm cold rolled plate (with the exception of sample No. 36, the plate thickness was 0.15 mm) was produced, and after the final cold rolling, it was subjected to strain relief heat treatment at 700° C. for 30 seconds in a reducing atmosphere. At this time, the "working degree of cold rolling before final annealing", "crystal grain size at final annealing", "working degree of final cold rolling" and "working degree of skin pass rolling" are shown in Table 3. and 4.

【0037】続いて、このようにして製造したFe−N
i−Cr系合金リードフレーム材について、「機械的特
性」、「エッチング性」、「曲げ加工性」および「封着
性」を調査し、その結果を表3および4に併せて示した
[0037] Next, the Fe-N produced in this way
Regarding the i-Cr alloy lead frame material, "mechanical properties", "etching properties", "bending properties", and "sealing properties" were investigated, and the results are also shown in Tables 3 and 4.

【0038】ここで、機械的性質については、曲げモー
メントに対する材料の強度をKb値(ばね限界値)でも
って評価した。Kb値の異方性は、試料の長手方向を圧
延方向に平行な方向および直角な方向にとり、直角方向
のKb値と平行方向のKb値との比によって異方性を示
すものである。即ち、Kb値の異方性=「直角方向のK
b値」/[平行方向のKb値」であり、この値が1に近
いほど、異方性が少ない。
As for the mechanical properties, the strength of the material against bending moment was evaluated using the Kb value (spring limit value). The anisotropy of the Kb value is expressed by the ratio of the Kb value in the perpendicular direction to the Kb value in the parallel direction when the longitudinal direction of the sample is parallel to and perpendicular to the rolling direction. In other words, the anisotropy of Kb value = “K in the perpendicular direction
b value/[Kb value in parallel direction], and the closer this value is to 1, the less anisotropy is.

【0039】エッチング性については、製造された前記
各冷延板を脱脂してからレジスト膜を塗布し、パターン
を焼き付けて現像した後、塩化第2鉄にて128ピンの
リードフレームをすべて同一条件下でエッチング加工し
たものにつき、アウターリードピン幅とそのばらつきを
測定して評価した。
Regarding etching properties, after degreasing each of the produced cold-rolled plates, applying a resist film, and baking and developing the pattern, all 128-pin lead frames were etched with ferric chloride under the same conditions. The outer lead pin width and its dispersion were measured and evaluated for the ones etched below.

【0040】曲げ加工性は、90度繰り返し曲げ試験を
行って評価した。
Bending workability was evaluated by conducting a 90 degree repeated bending test.

【0041】封着性の評価は、樹脂封着後に熱サイクル
を付与してクラックが生じるかどうかを調べることによ
って行った。
[0041] The sealing property was evaluated by applying a heat cycle after resin sealing and examining whether cracks were generated.

【0042】[0042]

【表1】[Table 1]

【0043】[0043]

【表2】[Table 2]

【0044】[0044]

【表3】[Table 3]

【0045】[0045]

【表4】[Table 4]

【0046】加工度5%のスキンパス圧延を行った本発
明例はすべて、曲げ加工性を損なわずにスキンパス圧延
を行わなかったものに比べてほぼ10%の強度の向上を
示した。
[0046] All the examples of the present invention in which skin pass rolling was performed at a workability of 5% showed an improvement in strength of approximately 10% compared to those in which skin pass rolling was not performed without impairing bending workability.

【0047】参考までに述べておくと、表に示される結
果から次の事項が明らかである。
For reference, the following points are clear from the results shown in the table.

【0048】本発明例No.1〜4に係わる材料は、比
較例No.22〜36に比べ、機械的性質、エッチング
性、曲げ加工性および封着性に優れている。その中でも
、本発明例No.1に係わるものは、C,Si,Pの各
含有量ともより好ましい範囲にコントロールされている
ため、本発明例No.2〜4に係わるものと比較しても
エッチング性が更に優れている。
Invention Example No. The materials related to Nos. 1 to 4 are Comparative Example No. Compared to Nos. 22 to 36, it has excellent mechanical properties, etching properties, bending properties, and sealing properties. Among them, the present invention example No. Inventive Example No. 1, the C, Si, and P contents are all controlled within a more preferable range. The etching properties are even better than those related to Nos. 2 to 4.

【0049】また、本発明例No.5〜21に係わるも
のは、Nb,Mo,Ti等を添加しているために強度が
一層向上している。
[0049] Furthermore, inventive example No. In the case of Nos. 5 to 21, the strength is further improved due to the addition of Nb, Mo, Ti, etc.

【0050】一方、比較例No.22に係わるものは、
最終焼鈍前圧延加工度が低すぎるためにその後の焼鈍に
よって小さい結晶粒径を実現することができず、Kb値
が低くなっている。
On the other hand, Comparative Example No. Regarding 22,
Since the degree of rolling before final annealing is too low, it is not possible to achieve a small grain size through subsequent annealing, resulting in a low Kb value.

【0051】逆に比較例No.23に係わるものは、最
終焼鈍前圧延加工度が大きすぎるためにその後の焼鈍に
より、立方体組織が発達してしまい、Kb値が低くなっ
ている。
On the contrary, Comparative Example No. In the case of No. 23, since the degree of rolling before final annealing was too large, a cubic structure developed during subsequent annealing, resulting in a low Kb value.

【0052】比較例No.24に係わるものは、最終圧
延加工度が小さすぎるためにKb値が低くなっている。
Comparative Example No. In the case of No. 24, the Kb value is low because the final rolling degree is too small.

【0053】比較例No.25に係わるものは、最終焼
鈍時の結晶粒径が大きかったためにKb値が低くなって
いる。
Comparative Example No. Regarding No. 25, the Kb value was low because the crystal grain size at the time of final annealing was large.

【0054】比較例No.26に係わるものは、最終圧
延加工度が大きすぎるために曲げ加工性が劣っている。
Comparative Example No. In the case of No. 26, the final rolling degree is too large and the bending workability is poor.

【0055】比較例No.27〜29に係わるものは、
C,SiおよびPの含有量が多いためにエッチング加工
性、曲げ加工性および封着性が劣るものとなっている。
Comparative Example No. Regarding items 27 to 29,
Since the content of C, Si, and P is large, the etching workability, bending workability, and sealing performance are poor.

【0056】比較例No.30〜33に係わるものは、
W,Mo,Co等の添加量が多すぎるために曲げ加工性
や封着性が劣る結果となっている。
Comparative Example No. Those related to 30-33 are:
Since the amounts of W, Mo, Co, etc. added are too large, the bending workability and sealing properties are poor.

【0057】比較例No.34に係わるものは、歪取り
熱処理後のスキンパス圧延の加工度が25%と大きかっ
たために、Kb値の異方性が大きく、曲げ加工性が劣っ
ている。
Comparative Example No. In the case of No. 34, since the degree of workability of the skin pass rolling after the strain relief heat treatment was as large as 25%, the anisotropy of the Kb value was large and the bending workability was poor.

【0058】なお、図1は、本発明例No.1と比較例
No.35および36に係わるものの「曲げモーメント
とへたり量との関係」を示したグラフである。ここで、
比較例No.35に係わるものは、板厚が0.125m
m、比較例No.36に係わるものは、板厚が0.15
mmであって、何れも従来の製造方法により作製したも
のである。この図1から、本発明で規定された通りの条
件で製造されたリードフレーム材は、その板厚を0.1
25mmに薄くしたとしても曲げモーメントに対するへ
たり量が少なく、変形に対する材料強度が強いことを確
認することが出来る。
Note that FIG. 1 shows the example No. 1 of the present invention. 1 and comparative example no. It is a graph showing the "relationship between the bending moment and the amount of settling" regarding No. 35 and No. 36. here,
Comparative example no. For those related to 35, the plate thickness is 0.125m.
m, Comparative Example No. For those related to 36, the plate thickness is 0.15
mm, and all were manufactured using conventional manufacturing methods. From FIG. 1, it can be seen that the lead frame material manufactured under the conditions specified in the present invention has a plate thickness of 0.1
It can be confirmed that even when the thickness is reduced to 25 mm, the amount of settling against bending moment is small, and the material strength against deformation is strong.

【0059】[0059]

【発明の効果】以上に説明した如く、本発明によれば、
Fe−Ni−Crを基本成分とした合金におけるN、C
、SiおよびP等の含有量を総合的に調整すると同時に
、必要に応じてこれに特定合金元素の添加を行い、更に
最終焼鈍前の圧延加工度、最終焼鈍時の結晶粒径、最終
圧延の加工度を適正範囲に制御し、歪取り熱処理後に5
%以下のスキンパス圧延を行う段階を採用することによ
って、熱膨張係数、封着性、成形加工性などの特性に優
れしかも非常に良好なエッチング加工性をも備えた高強
度リードフレーム材を安定的に製造することが可能とな
ったものであり、半導体機器の一層の高集積化を可能に
するなど、産業上極めて有効な効果がもたらされる。
[Effects of the Invention] As explained above, according to the present invention,
N, C in alloys with Fe-Ni-Cr as basic components
, Si, P, etc., and at the same time, add specific alloying elements as necessary. Furthermore, the degree of rolling before final annealing, the grain size at final annealing, and the final rolling 5 after controlling the processing degree within the appropriate range and heat treatment to remove distortion.
By adopting a skin pass rolling step of less than 30%, we can stably produce high-strength lead frame materials with excellent properties such as thermal expansion coefficient, sealing properties, and moldability, as well as very good etching processability. It has become possible to manufacture semiconductor devices in a number of steps, and has extremely effective industrial effects, such as enabling even higher integration of semiconductor devices.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

【図1】本発明例に係わる材料と比較例に係わる材料と
で曲げモーメントとへたり量との関係を対比したグラフ
である。
FIG. 1 is a graph comparing the relationship between the bending moment and the amount of set in a material according to an example of the present invention and a material according to a comparative example.

Claims (7)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】  Fe−33〜55wt%Ni−2〜1
5wt%Cr系合金リードフレーム材を製造するに際し
、Fe−33〜55wt%Ni−2〜15wt%Cr系
合金リードフレーム素材を最終焼鈍及び最終冷間圧延後
、歪取り熱処理を行い、この後更に5%以下のスキンパ
ス圧延を行うことを特徴とする、エッチング加工性、曲
げ加工性および封着性に優れた高強度リードフレーム材
の製造方法。
[Claim 1] Fe-33-55wt% Ni-2-1
When manufacturing the 5 wt% Cr alloy lead frame material, the Fe-33 to 55 wt% Ni-2 to 15 wt% Cr alloy lead frame material is subjected to final annealing and final cold rolling, then subjected to strain relief heat treatment, and then further processed. A method for producing a high-strength lead frame material having excellent etching workability, bending workability, and sealing property, the method comprising performing skin pass rolling of 5% or less.
【請求項2】  リードフレーム素材がSi:0.00
1〜0.15wt%、Mn:0.1〜1.0wt%、C
r:2〜15wt%及びNi:33〜55wtを含有し
、残部がFeおよび不可避的不純物から成り、そしてC
:0.015wt%以下、P:0.01wt%以下、S
:0.005wt%以下、O:0.010wt%以下そ
してN:0.005wt%以下と規制した合金であり、
そして最終焼鈍前に40〜90%の加工度で圧延を施し
、最終焼鈍を結晶粒径が30μm以下となる条件で実施
し、続く最終冷間圧延の加工度を40〜85%に調整し
たことを特徴とする請求項1のリードフレーム材の製造
方法。
[Claim 2] The lead frame material is Si: 0.00.
1 to 0.15 wt%, Mn: 0.1 to 1.0 wt%, C
r: 2 to 15 wt% and Ni: 33 to 55 wt%, the balance consists of Fe and unavoidable impurities, and C
: 0.015wt% or less, P: 0.01wt% or less, S
: 0.005 wt% or less, O: 0.010 wt% or less, and N: 0.005 wt% or less,
Then, before final annealing, rolling was performed at a working degree of 40 to 90%, final annealing was carried out under conditions such that the grain size was 30 μm or less, and the working degree of the subsequent final cold rolling was adjusted to 40 to 85%. The method for manufacturing a lead frame material according to claim 1, characterized in that:
【請求項3】  リードフレーム素材がSi:0.00
1〜0.15wt%、Mn:0.1〜1.0wt%、C
r:2〜15wt%及びNi:33〜55wtを含有し
、更にはCo、Mo、W、V、Nb、Ta、Ti、Zr
およびHfの1種類以上を合計で0.01〜5.0重量
%含み、そしてC:0.015wt%以下、P:0.0
1wt%以下、S:0.005wt%以下、O:0.0
10wt%以下そしてN:0.005wt%以下と規制
した合金であり、そして最終焼鈍前に40〜90%の加
工度で圧延を施し、最終焼鈍を結晶粒径が30μm以下
となる条件で実施し、続く最終冷間圧延の加工度を40
〜85%に調整したことを特徴とする請求項1のリード
フレーム材の製造方法。
[Claim 3] The lead frame material is Si: 0.00.
1 to 0.15 wt%, Mn: 0.1 to 1.0 wt%, C
Contains r: 2 to 15 wt% and Ni: 33 to 55 wt%, and further contains Co, Mo, W, V, Nb, Ta, Ti, Zr.
and Hf in a total of 0.01 to 5.0% by weight, and C: 0.015wt% or less, P: 0.0
1wt% or less, S: 0.005wt% or less, O: 0.0
The alloy is regulated to 10wt% or less and N: 0.005wt% or less, and is rolled with a workability of 40 to 90% before final annealing, and final annealing is carried out under conditions such that the grain size is 30μm or less. , the working degree of the subsequent final cold rolling was set to 40
2. The method for manufacturing a lead frame material according to claim 1, wherein the lead frame material is adjusted to 85%.
【請求項4】  リードフレーム素材が更にCu、Al
、Be、MgおよびCaの1種類以上を合計で0.01
〜5.0重量%含む請求項2あるいは3のリードフレー
ム材の製造方法。
[Claim 4] The lead frame material further includes Cu and Al.
, Be, Mg and Ca in total of 0.01
The method for producing a lead frame material according to claim 2 or 3, wherein the lead frame material contains 5.0% by weight.
【請求項5】  リードフレーム素材のC含有量が0.
005重量%以下である請求項2乃至4のいずれかのリ
ードフレーム材の製造方法。
5. C content of the lead frame material is 0.
5. The method for producing a lead frame material according to claim 2, wherein the lead frame material has a content of 0.005% by weight or less.
【請求項6】  リードフレーム素材のSi含有量が0
.001〜0.05重量%である請求項2乃至5のいず
れかのリードフレーム材の製造方法。
[Claim 6] The lead frame material has a Si content of 0.
.. 6. The method for manufacturing a lead frame material according to claim 2, wherein the content is 0.001 to 0.05% by weight.
【請求項7】  リードフレーム素材のP含有量が0.
003重量%以下である請求項2乃至6のいずれかのリ
ードフレーム材の製造方法。
Claim 7: The P content of the lead frame material is 0.
7. The method for producing a lead frame material according to claim 2, wherein the content is 0.003% by weight or less.
JP41528290A 1990-12-27 1990-12-27 Production of lead frame material Withdrawn JPH04231421A (en)

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2015079841A (en) * 2013-10-16 2015-04-23 古河電気工業株式会社 Lead frame base for optical semiconductor devices, lead frame for optical semiconductor devices and method for manufacturing lead frame for optical semiconductor devices

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