JPH04225842A - 排ガス脱硝用触媒の再生方法 - Google Patents

排ガス脱硝用触媒の再生方法

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JPH04225842A
JPH04225842A JP2414451A JP41445190A JPH04225842A JP H04225842 A JPH04225842 A JP H04225842A JP 2414451 A JP2414451 A JP 2414451A JP 41445190 A JP41445190 A JP 41445190A JP H04225842 A JPH04225842 A JP H04225842A
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JP
Japan
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catalyst
denitrification
solution
tank
exhaust gas
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JP2414451A
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Toshio Murakami
敏夫 村上
Hiroyuki Mitsumura
光村 博幸
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Mitsubishi Power Ltd
Original Assignee
Babcock Hitachi KK
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【産業上の利用分野】本発明は排ガス脱硝用触媒の再生
方法に係り、特に酸化触媒と組み合わせた排ガス脱硝用
触媒の再生方法に関する。
【0002】
【従来の技術】ボイラからの排ガスや、ガスタービンか
らの排ガスには、使用する燃料や燃焼装置の状態の良否
によって多少の変動はあるが、一酸化炭素(CO)など
の未燃燃料(以下、未燃分と略称する)とともに、NO
やNO2 などの窒素酸化物(以下、NOxという)が
存在する。これらの排ガス量は膨大なものであるので、
COやNOxをそのまま排出すれば大気を汚染し、公害
問題が生じる。
【0003】したがって、このような場合は、従来はC
Oなどの未燃分を燃焼させてCO2 などの完全燃焼ガ
スにするため、燃焼促進用の触媒(以下、燃焼触媒とい
う)を備えた酸化装置と、NOxを還元剤としてのアン
モニアにより脱硝触媒の存在下でN2 とH2 Oに還
元するための脱硝装置とを併置することが行われていた
【0004】図3は、このような排ガス処理装置の一例
を示す説明図である。図3において、排熱回収ボイラ(
以下、HRSGと略す)31の内部は、燃焼排ガス流3
2の上流側から順に、過熱器33、酸化装置41、アン
モニア(NH3 )注入装置35、蒸発器34、脱硝装
置36、蒸発器34、節炭器37、煙突38で構成され
ている。排ガスはまず酸化装置41により、排ガス中の
COがCO2 に酸化された後、アンモニア(NH3 
)注入装置35で注入されるアンモニア(NH3 )が
混合され、脱硝装置36を介して、NOxはN2 とH
2 Oに分解される。
【0005】酸化触媒としては、流れに平行な多数の溝
孔をハニカム状に形成した担体の表面に白金、ロジウム
、白金ロジウムなどの貴金属触媒をコーティングしたも
のが使われている。
【0006】また、脱硝触媒としては、チタン、バナジ
ウム、モリブデン、タングステン、鉄などの酸化物を1
種以上含む触媒組成物をハニカム状、あるいは板状に形
成したもの、またはハニカム、板状の担体にそれら触媒
組成物を含浸もしくは塗布して担持させたものが多く使
われている。
【0007】上記した排ガス処理装置においては、酸化
装置41を高温の排ガス上流側に、脱硝装置36を下流
側に配置している。これは高価な貴金属触媒を高温の上
流側に排ガス中に配置して活性を高くすれば、使用する
貴金属触媒量を節減できるためである。なお、酸化装置
で燃焼する排ガス中の未燃分によって排ガス温度が上昇
し、脱硝装置で処理される際の触媒活性が向上する効果
もある。
【0008】
【発明が解決しようとする課題】上記従来装置を長時間
運転すると、脱硝装置の性能が最初予測していた値より
もかなり急速に低下する現象が発生した。
【0009】この結果、法令で規定される排ガスNOx
総量を守ることができず、ボイラやガスタービンの出力
を下げて運転するとか、還元剤としてのアンモニア使用
量を増加して残留アンモニア量を多くしたり、さらには
脱硝触媒の交換を早期に行うなどの対策をとらざるを得
ず、根本的な解決は見出されていなかった。
【0010】
【課題を解決するための手段】本発明は、一酸化炭素な
どの未燃分および窒素酸化物を含む排ガスを貴金属触媒
およびアンモニアを還元剤とする脱硝触媒に順次接触さ
せて排ガスを浄化する際に、性能の低下した脱硝触媒に
脱硝触媒組成物の少なくとも一成分を含む溶液を塗布す
るか、または該溶液中に脱硝触媒を浸漬し、次いで風乾
または熱風乾燥することを特徴とする排ガス脱硝用触媒
の再生方法である。
【0011】従来装置を長時間運転すると、脱硝装置の
性能が予定以上に低下する原因について、発明者らが種
々の試験と検討を重ねた結果、酸化触媒として使用され
ている白金などの貴金属触媒が、温度変化を伴う負荷変
化などによりハニカム担体から剥がれたり、あるいは気
相化して下流に飛散して、脱硝装置の触媒上に付着する
ためであることが明らかになった。すなわち、脱硝触媒
上に白金等が付着すると、白金はNOxを還元するため
に脱硝装置にて使用するアンモニアを酸化してNOxと
する触媒としての作用をするため、脱硝装置の見かけ上
の性能が低下するのである。本発明は以上の知見に基づ
いてなされたもので、性能の低下した脱硝触媒に触媒組
成物の溶液、特にバナジウム化合物の溶液を塗布するか
、または該溶液中に脱硝触媒を浸漬した後、風乾または
熱風乾燥することを特徴とする。
【0012】以下、図面により発明の内容を具体的に説
明する。
【0013】
【実施例】図4は、本発明の一実施例を説明する図であ
り、COなどの未燃分とNOxをともに含有する排ガス
通路内には排ガス上流側に白金などの酸化触媒を有する
酸化装置53が設けられ、下流側には脱硝触媒を備えた
脱硝装置56が設けられている。脱硝装置56より上流
側の排ガス通路内にはアンモニア注入ノズル54が設け
られ、これにアンモニア供給管より必要量のアンモニア
が供給され、排ガスに混合される。52はメタバナジン
酸アンモニウム、硫酸バナジルまたはモリブデン酸アン
モニウムなどの触媒組成物溶液槽であり、圧縮空気供給
管からの圧縮空気と混合器51で混合され、脱硝装置5
6の上流に設置した噴霧ノズル55により噴霧される。 噴霧された触媒組成物は脱硝触媒表面に塗布され、触媒
上に付着していた白金などを被覆して酸化触媒機能を発
揮させないようにする。このようにして、脱硝触媒を初
期の性能に近く復元することができる。なお、図4にお
いて、噴霧ノズル55の代わりに例えば手動スプレーノ
ズルを使用することもできる。
【0014】触媒組成物溶液の塗布は、脱硝率を測定し
て初期値より、例えば3%程度低下したときに行うが、
脱硝触媒の表面に付着している白金などの量によって、
塗布する溶液の濃度および塗布量は左右されるが、例え
ば上記噴霧塗布を2〜3回繰返すことにより実施する。 なお、脱硝触媒上に付着した白金等は簡単には除去でき
ないが、本発明のように脱硝触媒組成物を塗布して被覆
することにより簡単に無害化することができる。
【0015】上記スプレー方式による塗布は、触媒を反
応器より取り出さずにすみ、また触媒組成物溶液の量が
最小ですむというメリットの反面、触媒全体に均一に溶
液をスプレーすることが非常に困難である。バナジウム
は重金属であり、スプレー作業そのものが、作業の安全
性を考慮した場合、微小ミストの飛散等の恐れがあるた
め、安全対策に多大の費用を要するという問題がある。
【0016】図5は、浸漬方式による脱硝触媒の再生方
法、すなわち性能の低下した脱硝触媒を脱硝触媒組成物
、例えばメタバナジン酸アンモニア溶液に浸漬して再生
処理する実施例を示したものである。図5において、溶
解タンク65にはメタバナジン酸アンモニア溶液64が
満たされ、これにクレーン63にワイヤロープ62を介
して懸架された脱硝触媒ユニット61が浸漬される。 溶液が充分触媒表面に行きわたった後、触媒ユニットが
引き上げられ、風乾または熱風乾燥される。
【0017】上記方法は、溶解槽を1槽のみ使用して再
生処理するものであるが、1つの溶解タンクのみで浸漬
作業を行うことは、作業中に溶液面が触媒内への溶液吸
収のために低下するため、溶液レベルを監視して補充す
る必要があり、また浸漬後の乾燥処理が不充分で、性能
が回復しない場合があることが判った。
【0018】本願の第2の発明は、請求項1記載の方法
において、脱硝触媒組成物の溶液槽を少なくとも2槽準
備し、その1槽内に脱硝触媒を収容し、他の1槽中で脱
硝触媒組成物を溶解させて溶液槽とし、これらの槽を連
結管で連結して前記脱硝触媒が収容された溶液槽に他の
溶液槽から前記溶液を送給し、所定レベルの液面を保持
することを特徴とする排ガス脱硝用触媒の再生方法であ
る。
【0019】
【作用】溶液槽の中に沈められた触媒は、その触媒細孔
の中に触媒組成物溶液を吸収するが、溶液槽には細孔容
積に比べて極めて多量の溶液が存在するため、ある程度
の大きさ以上の細孔には、殆ど完全に溶液が満たされる
ことになり、溶液をスプレーした時のように、スプレー
ガンに近い方はほぼ飽和状態まで吸収され、その反対側
は少ない、というような不均一さをなくすことができる
。またスプレーガンで微粒化されるのと異なり、静止し
た溶液槽の中に静かに沈め、また静かに引き上げるとい
う単純で静的な動作のみであるため、液滴の飛散等によ
る問題をほぼ完全に抑えることができ、安全対策上も好
ましい。
【0020】また、触媒細孔内への溶液の吸収のために
溶液槽の液レベルがあるレベル以下に低下した場合、触
媒組成物の溶液槽から溶液を補充することにより、常に
同じ状態で溶液を含浸させることができる。これらの操
作は、ポンプ、サイフォン等の公知の手段により行うこ
とができる。更に、浸漬時間を規定し、浸漬直後に風乾
または熱風乾燥による乾燥処理を施すことにより、細孔
内にバナジウム以外の水溶性の金属が閉塞してかえって
脱硝率を低下させるという問題を防止することができる
【0021】
【実施例】以下、脱硝触媒の溶液槽と、脱硝触媒組成物
(バナジウム化合物)の溶解槽を用いた本発明方法の一
実施例を以下に説明する。
【0022】図1(A)は、脱硝反応器1に充填された
触媒層2から、その構成要素である触媒ブロック3をク
レーン5等で抜き出す状態を示した説明図である。抜き
出された触媒ブロック3は、次いで図1(B)に示す再
生装置に移される。この再生装置は、触媒ブロック3が
収容されるバナジウム溶液槽8と、バナジウム溶解槽9
と、これらを連結する連結管11およびポンプ11Aと
から構成される。先ず触媒ブロック3は、ホイスト6等
でバナジウム溶液槽8内に搬入される。この中には、バ
ナジウム溶解槽9内で調製されたバナジウム溶液が満た
されている。バナジウム溶液は、溶解槽9内に、溶解助
剤としてのシュウ酸(COOH)2 ・2H2 Oを水
に溶解させたものを用意し、そこへメタバナジン酸アン
モニウムNH4 VO3 を溶解させて調整するか、ま
たは硫酸バナジルVOSO4 を水に溶解させたものを
用いる。溶液の濃度は、メタバナジン酸アンモニウムN
H4 VO3または硫酸バナジルVOSO4 の重量ベ
ースで0.1wt%から50wt%が好ましい。またこ
の溶液の調製に用いる水の温度は5〜90℃の範囲が適
当である。このように調製された溶液は、まずその1部
が溶解槽9から、溶液槽8へ連結管11およびポンプ1
1Aを介して移送される。
【0023】溶液の量は、触媒ブロック3か液面にかく
れるだけのレベルとし、溶液槽8内の液レベルが、触媒
細孔内への溶液の吸収により、このレベルより低下しそ
うになったら、再び溶解槽9より溶液を移送し、常に一
定の液レベルとなるようにする。
【0024】1個のブロックを浸漬させる時間は1回の
浸漬について3秒以上、30分以内とし、完了後はただ
ちに取出し、乾燥操作に入る。乾燥は、自然大気中また
は、送風機等による流通大気中での風乾を行う。乾燥完
了後、バナジウム含浸量を更に増やしたい場合は、再び
溶液槽8に浸漬させ、規定時間後取出して風乾させる。 乾燥完了後、触媒ブロック3は再び反応器1内部へ充填
する。なお、溶液槽8の大きさは、その中に同時に浸漬
する触媒ブロック3の数により決定され、また溶解槽9
の大きさは、溶解槽の容積と、触媒に吸収される溶液の
容積の和になることは当然である。
【0025】このような操作により、白金(Pt)およ
び白金属元素(Rh、Ru、Pd)が付着して、脱硝用
に注入される還元剤であるNH3 を酸化し、NOxに
してしまうためにみかけ上、脱硝性能が低下した脱硝触
媒も、その酸化性能が触媒組成物であるバナジウムによ
り抑えられるため、脱硝性能を回復することができる。
【0026】本実施例によれば、(1)含浸操作なので
、触媒層全体に均一にバナジウムを担持させることがで
きる、(2)静止液に浸漬させる操作なので、安全面で
の問題を最小にすることができる、(3)溶液槽内の液
レベルを一定に保つことができ、安定した、精度の高い
含浸操作が可能になる、(4)浸漬のしすぎや、乾燥不
良により、かえって脱硝性能の低下を招くことがないと
いう効果を有する。
【0027】次に図2は、本発明における乾燥方法とし
て、熱風乾燥法を採用した場合の一実施例を示す。図2
において、熱風乾燥炉21内部に触媒ブロック23を複
数個入れ、空気ファン22により送入された大気を電気
ヒーター25により加熱し、炉内へ送り、触媒ブロック
23を乾燥させた後、排気口24より排気するものであ
る。排気口には、排ガス吸収剤(含水フィルター等)を
設けることができる。この熱風乾燥法によれば乾燥時間
を短縮できる外、バナジウム以外の薬品(NH3 、C
O、SOxガス等)を、ガスタービン排ガス通気前に蒸
発させることができる。なお、排気口に排ガス吸収剤を
設ければ、NH3 ガス、SOxガスの低減も可能であ
る。
【0028】
【発明の効果】請求項1記載の発明によれば、白金(P
t)および白金属元素(Rh、Ru、Pd)が付着して
、脱硝用に注入される還元剤であるNH3 を酸化し、
NOxにしてしまうためにみかけ上、脱硝性能が低下し
た脱硝触媒も、その酸化性能がバナジウムにより抑えら
れるため、脱硝性能を回復することができる。このため
排ガス法規をクリヤーにするためにボイラやガスタービ
ンの負荷を落として運転したり、脱硝触媒の早期交換を
行う必要がなくなる。
【0029】請求項2記載の発明によれば、上記の効果
に加えて、(1)含浸操作なので、触媒層全体に均一に
触媒組成物を担持できる、(2)静止液に浸漬させる操
作なので、安全面での問題を最小にすることができる、
(3)溶液槽内の液レベルを一定に保つことができ、安
定した、精度の高い含浸操作を行うことができる、(4
)浸漬のしすぎや、乾燥不良により、かえって脱硝性能
の低下を招くことがなくなる効果が得られる。
【図面の簡単な説明】
【図1】(A)は、脱硝触媒装置の一例を示す説明図、
(B)は、請求項2記載の本発明方法の一実施例を示す
説明図。
【図2】本発明に用いる乾燥装置の一実施例を示す説明
図。
【図3】酸化触媒およびアンモニア還元触媒を用いた従
来の排ガス処理装置の一例を示す説明図。
【図4】請求項1記載の発明の実施例を示すもので、排
ガス煙道における触媒組成物溶液のスプレー塗布法を示
す説明図。
【図5】触媒ブロックを脱硝組成物溶液に浸漬する請求
項2記載の本発明の実施例を示す説明図。
【符号の説明】
1…脱硝反応器、2…触媒層、3…触媒ブロック、4…
吊り金具、5…クレーン、6…ホイスト、7…モノレー
ル、8…触媒組成物(バナジウム)溶液槽、9…触媒組
成物(バナジウム)溶解槽、10…攪拌器、11A…ポ
ンプ、12…薬品投入口、13…レベル計、21…熱風
乾燥炉、22…空気ファン、23…触媒ブロック、24
…排気口、25…電気ヒーター、31…排熱回収ボイラ
、32…排ガス流、33…過熱器、34…蒸発器、35
…アンモニア注入装置、36…脱硝装置、37…節炭器
、38…煙突、39…ガスタービン、40…蒸気タービ
ン、41…酸化装置(CO除去装置)、51…混合器、
52…触媒組成物(メタバナジン酸アンモニア)溶液、
53…酸化触媒層(CO酸化層)、54…NH3注入ノ
ズル、55…噴霧ノズル、56…脱硝触媒層、61…触
媒ユニット、62…ワイヤロープ、63…クレーン、6
4…触媒組成物(メタバナジン酸アンモニア)溶液、6
5…触媒組成物溶解層。

Claims (2)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】  一酸化炭素などの未燃分および窒素酸
    化物を含む排ガスを貴金属触媒およびアンモニアを還元
    剤とする脱硝触媒に順次接触させて排ガスを浄化する際
    に、性能の低下した脱硝触媒に脱硝触媒組成物の少なく
    とも一成分を含む溶液を塗布するか、または該溶液中に
    脱硝触媒を浸漬し、次いで風乾または熱風乾燥すること
    を特徴とする排ガス脱硝用触媒の再生方法。
  2. 【請求項2】  請求項1記載の方法において、脱硝触
    媒組成物の溶液槽を少なくとも2槽準備し、その1槽内
    に脱硝触媒を収容し、他の1槽中で脱硝触媒組成物を溶
    解させて溶液槽とし、これらの槽を連結管で連結して前
    記脱硝触媒が収容された溶液槽に他の溶液槽から前記溶
    液を送給し、所定レベルの液面を保持することを特徴と
    する排ガス脱硝用触媒の再生方法。
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