JPH042182B2 - - Google Patents

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JPH042182B2
JPH042182B2 JP59105761A JP10576184A JPH042182B2 JP H042182 B2 JPH042182 B2 JP H042182B2 JP 59105761 A JP59105761 A JP 59105761A JP 10576184 A JP10576184 A JP 10576184A JP H042182 B2 JPH042182 B2 JP H042182B2
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photographic film
photoresist
photo tool
roller
rails
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  • Manufacturing Of Printed Circuit Boards (AREA)
  • Exposure Of Semiconductors, Excluding Electron Or Ion Beam Exposure (AREA)
  • Exposure And Positioning Against Photoresist Photosensitive Materials (AREA)

Description

【発明の詳細な説明】 〔発明の技術分野〕 本発明は、エツチングレジスト、メツキレジス
トまたはソルダレジスト等に利用されるフオトレ
ジストを露光する時に使用する写真フイルムをフ
オトツールに装着する写真フイルムセツト装置に
関するものである。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Technical Field of the Invention] The present invention relates to a photographic film set device for mounting a photographic film on a photo tool to be used for exposing a photoresist used for etching resist, plating resist, solder resist, etc. It is related to.

〔発明の技術的背景とその問題点〕[Technical background of the invention and its problems]

例えば、液状フオトレジストを利用したプリン
ト基板製造法として、特開昭57−164595号公報に
示されるように、基板上にのフオトレジストを均
一厚に塗布し、次にこのフオトレジスト上に極わ
ずかな均一間隙を介してオフコンタクトで回路パ
ターンを有する写真フイルムを配置し、次にこの
写真フイルムに平行光線を当てて上記フオトレジ
ストを露光し、このフオトレジストを写真フイル
ムの回路パターンに応じて硬化させ、次に硬化し
なかつたフオトレジストを除去し、次に露出金属
をエツチングにより除去し、最後に硬化したフオ
トレジストを除去するものがある。
For example, as shown in Japanese Unexamined Patent Publication No. 164595/1983, a printed circuit board manufacturing method using liquid photoresist involves coating a substrate with a uniform thickness of photoresist, and then applying a very small amount of photoresist onto the photoresist. A photographic film having a circuit pattern is placed off-contact through a uniform gap, and then the photographic film is exposed to parallel light beams to expose the photoresist, and the photoresist is cured according to the circuit pattern of the photographic film. In some methods, the uncured photoresist is removed, the exposed metal is removed by etching, and finally the cured photoresist is removed.

このようなプリント基板製造法では、各工程の
装置をいかに使いやすくするかが問題となる。例
えば、上記写真フイルムはフオトツールの下面に
より平面状に吸着保持してフオトレジスト上に対
向させるが、このフオトツールの下面に写真フイ
ルムを装着する作業は人手によつて行なわれかつ
精度を要するため、フオトツールを作業者が最も
作業しやすい状態にして写真フイルムを装着する
必要がある。
In such a printed circuit board manufacturing method, the problem is how to make the equipment for each process easy to use. For example, the above-mentioned photographic film is suctioned and held in a flat shape by the underside of the phototool so as to face the photoresist, but the work of attaching the photographic film to the underside of the phototool is done manually and requires precision. , it is necessary for the operator to attach the photographic film to the photo tool in a state that is most convenient for the operator to work with.

〔発明の目的〕[Purpose of the invention]

本発明の目的は、このフオトツールの下面に写
真フイルムを装着する場合に、この装着作業が最
もしやすい姿勢にフオトツールを容易に反転でき
るようにすることにある。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to enable the photo tool to be easily turned over to a position that facilitates the mounting operation when a photographic film is to be mounted on the underside of the photo tool.

〔発明の概要〕[Summary of the invention]

本発明のフオトレジスト処理装置における写真
フイルムセツト装置は、基板に設けたフオトレジ
スト上に写真フイルムを配置し、この写真フイル
ムを経て上記フオトレジストを露光することによ
り、このフオトレジストを写真フイルムのパター
ンに応じて硬化させるフオトレジスト処理装置に
おいて、上記写真フイルムを装着する側から見て
左右両側に前後方向のレールを設け、この両側の
レールの後部に横軸を介してリンクの後部を回動
自在に軸着し、この両側のリンクの前部間に横軸
を介して写真フイルム保持用のフオトツールの比
較的前側部の左右側面を回動自在に軸着し、この
フオトツールの比較的後側部の左右側面に上記レ
ール上で転動するローラを軸着し、上記レールの
比較的前側部に上記ローラを係止するストツパを
設けた構成のもので、上記フオトツールの前部を
引上げると、このフオトツールは、リンクの回動
によつて上昇する前部横軸を中心に回転しながら
上昇し、同時にローラがレール上を移動し、この
ローラが前部横軸の下方にきたらフオトツールの
前部を後方に倒すと、フオトツールの下面が作業
者に対向するように斜め上側に反転した状態でロ
ーラがストツパにより係止される。
The photographic film set device in the photoresist processing apparatus of the present invention places a photographic film on a photoresist provided on a substrate, and exposes the photoresist through the photographic film, thereby transferring the photoresist into a pattern of the photographic film. In a photoresist processing device that hardens according to the conditions, rails are provided in the front and back directions on both the left and right sides when viewed from the side where the photographic film is mounted, and the rear part of the link is rotatable via a horizontal axis at the rear part of both rails. The left and right sides of the relatively front side of the photo tool for holding photographic film are rotatably attached via a horizontal shaft between the front parts of the links on both sides, and the relatively rear side of the photo tool is rotatably attached to the A roller that rolls on the rail is attached to the left and right sides of the side part, and a stopper that locks the roller is provided on the relatively front side of the rail, and the front part of the photo tool is pulled. When raised, this photo tool rises while rotating around the front horizontal axis that rises due to the rotation of the link, and at the same time the roller moves on the rail, and when this roller is below the front horizontal axis, When the front part of the photo tool is tilted backward, the roller is locked by the stopper with the lower surface of the photo tool inverted diagonally upward so as to face the operator.

〔発明の実施例〕[Embodiments of the invention]

以下、本発明を図面に示す実施例を参照して説
明する。
The present invention will be described below with reference to embodiments shown in the drawings.

第1図は、液状フオトレジスト処理装置の一部
を示し、多数積重ねられた基板1の中から1枚ず
つを図示しないトランスフアマシンによりコンベ
ヤ2上に供給し、静電除去装置3により静電気や
ゴミを除去した後に、この基板をローラコータ4
に送込み、ローラ5,6間に供給された液状フオ
トレジスト7を基板上の全面にわたつて均一な膜
厚に塗布する。この液状フオトレジスト7は、紫
外線硬化性液状樹脂組成物(UVインクなどとも
呼ばれる)であり、紫外線により感光して硬化す
る性質がある。次にこの基板を紫外線防止カバー
8を有するコンベヤ9を経て露光装置10に送込
む。
FIG. 1 shows a part of a liquid photoresist processing apparatus, in which a transfer machine (not shown) supplies one substrate from a large number of stacked substrates 1 onto a conveyor 2, and a static eliminator 3 removes static electricity. After removing dust, this substrate is transferred to roller coater 4.
The liquid photoresist 7 supplied between the rollers 5 and 6 is applied over the entire surface of the substrate to a uniform thickness. The liquid photoresist 7 is an ultraviolet curable liquid resin composition (also called UV ink), and has the property of being cured by being exposed to ultraviolet light. Next, this substrate is sent to an exposure device 10 via a conveyor 9 having an ultraviolet protection cover 8.

この露光装置10は、前露光装置11と、紫外
線照射装置12と、写真フイルムセツト装置13
と、その下側の定盤14と、上下動可能のコンベ
ヤ15とからなり、上記写真フイルムセツト装置
13により、上記定盤14上に搬入された基板1
の上面に塗布されている液状フオトレジスト上に
0.2〜0.5mm程の極わずかな全面均一の間隙を介し
てオフコンタクトで、回路パターンを有する写真
フイルム(ネガフイルム)を配置し、次にこの写
真フイルムに紫外線の平行光線を当てて上記液状
フオトレジストを感光し、この液状フオトレジス
トを写真フイルムの回路パターンに応じて硬化さ
せる。
This exposure device 10 includes a pre-exposure device 11, an ultraviolet irradiation device 12, and a photographic film set device 13.
, a surface plate 14 on the lower side thereof, and a conveyor 15 that is movable up and down.
on the liquid photoresist applied to the top surface of the
A photographic film (negative film) having a circuit pattern is placed in off-contact with an extremely small uniform gap of about 0.2 to 0.5 mm across the entire surface, and then parallel ultraviolet rays are applied to this photographic film to form the liquid photo film. The resist is exposed to light, and the liquid photoresist is hardened in accordance with the circuit pattern of the photographic film.

このようにして回路パターンを転写された基板
は、紫外線防止カバー17を有するコンベヤ18
を経て図示しない現象、水洗工程に送り、硬化し
なかつた液状フオトレジストを除去し、さらに乾
燥工程を経てUV硬化炉に送り、後露光により追
硬化を行ない、それからエツチング工程に送り、
露出金属をエツチングにより除去し、最後に硬化
したフオトレジストを除去する。
The board onto which the circuit pattern has been transferred in this manner is transferred to a conveyor 18 having an ultraviolet protection cover 17.
After that, the photoresist is sent to a water washing process to remove uncured liquid photoresist, and then sent to a UV curing oven through a drying process, where it is additionally cured by post-exposure, and then sent to an etching process.
The exposed metal is removed by etching and finally the hardened photoresist is removed.

前記写真フイルムセツト装置13は、第1図お
よび第2図に示すように、左右前後の4箇所に固
定した上下動ガイド21に上下動ベアリング22
を介してコ字形の外枠23を上下動自在に取付
け、この外枠23の左右部中央に内端を連結して
なる左右のチエン24を左右上部のスプロケツト
25に巻掛けるとともに、この左右のチエン24
の外端にバランスウエイト26を設け、そして上
記左右のスプロケツト25を、1台のブレーキ付
モータ27と連動ロツド28とによつて左右のウ
オーム減速機29およびギヤ30,31の噛合を
経て反対方向に回動し、これにより左右のチエン
24の内端を同時に上下動し、上記外枠23を上
下動する。
As shown in FIGS. 1 and 2, the photographic film setting device 13 includes vertical motion bearings 22 mounted on vertical motion guides 21 fixed at four locations on the left, right, front, and rear.
The U-shaped outer frame 23 is attached vertically movably through the outer frame 23, and the left and right chains 24, whose inner ends are connected to the center of the left and right parts of the outer frame 23, are wound around the left and right upper sprockets 25. chain 24
A balance weight 26 is provided at the outer end of the sprocket 25, and the left and right sprockets 25 are moved in opposite directions by a motor 27 with a brake and an interlocking rod 28 through engagement with the left and right worm reducers 29 and gears 30, 31. As a result, the inner ends of the left and right chains 24 are simultaneously moved up and down, and the outer frame 23 is moved up and down.

次に第3図および第4図に示すように、写真フ
イルムを装着する側から見て上記外枠23の左右
部内側に前後方向にスライドユニツト34を設け
る。このスライドユニツト34は、外枠23に固
定したガイドレールに対しスライドレールを摺動
自在に嵌合したもので、この左右両側のスライド
レールに前後方向の引出しレール35を取付け、
この両側の引出しレール35の後部に横軸36を
介してリンク37の後部を回動自在に軸着し、こ
の両側のリンク37の前部間に横軸38を介して
写真フイルム保持用のフオトツール39の比較的
前側部の左右側面を回動自在に軸着し、このフオ
トツール39の比較的後側部の左右側面に上記レ
ール35上で転動するローラ40を軸着し、上記
左右のレール35の比較的前側部に上記ローラ4
0を係止するストツパ41を設ける。なお上記フ
オトツール39の比較的前側部の左右側面にも上
記レール35で支持されるローラ42を軸着する
が、これはローラでなくてもよい。
Next, as shown in FIGS. 3 and 4, a slide unit 34 is provided in the front-rear direction inside the left and right portions of the outer frame 23 when viewed from the side where the photographic film is mounted. This slide unit 34 has a slide rail slidably fitted to a guide rail fixed to the outer frame 23, and drawer rails 35 in the front and back direction are attached to the slide rails on both the left and right sides.
A rear part of a link 37 is rotatably attached to the rear part of the drawer rails 35 on both sides via a horizontal shaft 36, and a photo film for holding photographic film is connected between the front parts of the links 37 on both sides via a horizontal shaft 38. The left and right side surfaces of the relatively front side of the photo tool 39 are rotatably attached, and rollers 40 rolling on the rails 35 are rotatably attached to the left and right side surfaces of the relatively rear side of the photo tool 39. The roller 4 is placed on the relatively front side of the rail 35.
A stopper 41 for locking the 0 is provided. Note that rollers 42 supported by the rails 35 are also pivotally attached to the left and right side surfaces of the relatively front portion of the photo tool 39, but these do not need to be rollers.

上記フオトツール39は、上記外枠23と一体
的に上下動されるとともに上記前部横軸38を中
心に反転される反転枠45と、この反転枠45の
下面の複数の安定支持位置に突設された係止ピン
46にL形板47を介し上下動自在に嵌合したガ
ラス枠48と、このガラス枠48に2本の位置決
めピン49によつて位置決めされるとともに多数
の係止爪50により一体に設けられたガラス板5
1との複数の部材から構成されている。上記ガラ
ス板51は、第5図に示すように下面に写真フイ
ルム(ネガフイルム)52を吸着する。
The photo tool 39 projects into an inversion frame 45 that is moved up and down integrally with the outer frame 23 and inverted around the front transverse axis 38, and at a plurality of stable support positions on the lower surface of the inversion frame 45. A glass frame 48 is fitted to a provided locking pin 46 via an L-shaped plate 47 so as to be vertically movable, and a large number of locking claws 50 are positioned on this glass frame 48 by two positioning pins 49. Glass plate 5 provided integrally with
It is composed of a plurality of members such as 1. As shown in FIG. 5, the glass plate 51 attracts a photographic film (negative film) 52 on its lower surface.

上記ガラス枠48は、その複数の安定支持位置
にそれぞれ高さ微調整体としてのマイクロメータ
ヘツド55を設けてなり、第5図に示すように、
この各々のマイクロメータヘツド55の可動軸部
56の下端を、前記基板1を位置決め載支する定
盤14の上面に当接させるようにする。
The glass frame 48 is provided with a micrometer head 55 as a height fine adjustment body at each of its plurality of stable support positions, as shown in FIG.
The lower end of the movable shaft portion 56 of each micrometer head 55 is brought into contact with the upper surface of the surface plate 14 on which the substrate 1 is positioned and supported.

したがつてモータ27の制御の困難性から反転
枠45が下降停止すべき位置より多少オーバーラ
ンしても、上記複数のマイクロメータヘツド55
がストツパとして定盤14の下面に当接して、ガ
ラス板51の全体を定盤上の所定の高さに位置決
めでき、これによりガラス板51の下面の写真フ
イルム52と基板1上に塗布された液状フオトレ
ジスト57との間の0.2〜0.5mm程のわずかな間隙
58を常に一定にかつ全面にわたつて均一間隔に
保持できる。
Therefore, even if the reversing frame 45 slightly overruns the position where it should descend and stop due to the difficulty in controlling the motor 27, the plurality of micrometer heads 55
comes into contact with the lower surface of the surface plate 14 as a stopper, and the entire glass plate 51 can be positioned at a predetermined height on the surface plate. A slight gap 58 of about 0.2 to 0.5 mm between the photoresist 57 and the liquid photoresist 57 can be kept constant and evenly spaced over the entire surface.

さらに第5図に示すように前記反転枠45の係
止ピン46とガラス枠48のL形板47との嵌合
部に水平方向にもわずかな間隙61を設けるとと
もに、第3図および第4図に示すように上記ガラ
ス枠48の下面に上記定盤14の2箇所の位置決
め部としての孔溝62と嵌合する2個の水平方向
位置決め部としてのピン63を突設する。そうし
て、上記定盤14の孔溝62にガラス枠48のピ
ン63のテーパ付ピン先を嵌合することにより、
定盤14に対するガラス枠48の水平方向の位置
決めが正確にできる。さらに上記定盤14に対し
基板1は、第1図に示す上下動コンベヤ15の下
降にともない、第3図に示す定盤上の2箇所の位
置決めピン64に嵌合して正確に位置決めされて
いるから、基板1に対するガラス枠48、ガラス
板51およびガラス板下面の写真フイルム52の
水平方向の位置決めも正確にできることになる。
Furthermore, as shown in FIG. 5, a slight gap 61 is provided in the horizontal direction at the fitting portion between the locking pin 46 of the reversing frame 45 and the L-shaped plate 47 of the glass frame 48. As shown in the figure, two pins 63 as horizontal positioning portions are protrudingly provided on the lower surface of the glass frame 48 to fit into hole grooves 62 as two positioning portions of the surface plate 14. Then, by fitting the tapered pin tip of the pin 63 of the glass frame 48 into the hole groove 62 of the surface plate 14,
The horizontal positioning of the glass frame 48 with respect to the surface plate 14 can be accurately performed. Furthermore, as the vertical conveyor 15 shown in FIG. 1 descends, the substrate 1 is accurately positioned with respect to the surface plate 14 by fitting into two positioning pins 64 on the surface plate shown in FIG. Therefore, the horizontal positioning of the glass frame 48, the glass plate 51, and the photographic film 52 on the lower surface of the glass plate with respect to the substrate 1 can be accurately performed.

上記ガラス板51は、第6図に示すように、下
面に無端状の凹溝65を設けてなり、この凹溝6
5の一部に穿設した吸気孔66に図示しないチユ
ーブを介し真空ポンプを接続する。そうして、上
記凹溝65の真空吸引作用によつて写真フイルム
52をガラス板51に密着保持する。
As shown in FIG. 6, the glass plate 51 is provided with an endless groove 65 on its lower surface.
A vacuum pump is connected to a suction hole 66 formed in a part of 5 through a tube (not shown). Then, the photographic film 52 is held in close contact with the glass plate 51 by the vacuum suction effect of the groove 65.

次に上記ガラス板51に写真フイルム52を装
着するときは、第3図に示すように反転枠45の
前部に設けた把手67を持つて手前に引寄せる
と、左右の引出しレール35およびその間のフオ
トツール39がスライドユニツト34の働きによ
つて外枠23から引出され、さらに上記把手67
を引上げると、リンク37が後部横軸36を中心
に上方に回動され、このリンク37の回動によつ
て上昇する前部横軸38を中心にフオトツール3
9が回転しながら上昇される。このとき同時に後
部のローラ40がレール35上を手前に移動され
る。そしてこのローラ40が前部横軸38の下方
にきたら上記把手67を後方に倒すと、第2図に
示すようにフオトツール39の下面すなわちガラ
ス板51の下面が作業者よりやや下側で作業者に
対向するように斜め上側に反転され、この状態で
ローラ40がストツパ41により係止される。こ
のようにガラス板51は、作業者がこのガラス板
51の下面に写真フイルム52を装着するのに最
も適した姿勢に反転され、しかもその操作は、把
手67を引寄せながら引上げ、やや後方に押すの
みの簡単なものであり、作業性がよい。
Next, when loading the photographic film 52 onto the glass plate 51, as shown in FIG. The photo tool 39 is pulled out from the outer frame 23 by the action of the slide unit 34, and the photo tool 39 is pulled out from the outer frame 23 by the action of the slide unit 34.
When the photo tool 3 is pulled up, the link 37 is rotated upward around the rear horizontal axis 36, and the photo tool 3 is rotated upward around the front horizontal axis 38, which is raised by the rotation of the link 37.
9 is raised while rotating. At the same time, the rear roller 40 is moved forward on the rail 35. When the roller 40 is below the front horizontal shaft 38, the handle 67 is tilted backward, and the lower surface of the photo tool 39, that is, the lower surface of the glass plate 51, is slightly lower than the operator, as shown in FIG. The roller 40 is turned diagonally upward so as to face the user, and in this state the roller 40 is stopped by a stopper 41. In this way, the glass plate 51 is inverted to the most suitable position for the operator to attach the photographic film 52 to the lower surface of the glass plate 51. Moreover, the operator can do this by pulling up the glass plate 51 while pulling the handle 67, and moving it slightly backward. It is easy to press and has good workability.

なお前記ガラス枠48の高さ微調整体としてマ
イクロメータのヘツド55を利用したから、フイ
ルム52と液状フオトレジスト57との間の間隙
の調整および変更が極めて容易に行なえる利点が
ある。
Since the micrometer head 55 is used as a height fine adjustment member for the glass frame 48, there is an advantage that the gap between the film 52 and the liquid photoresist 57 can be adjusted and changed very easily.

最後に、上記実施例はエツチングレジスト法に
ついて説明したが、本発明の写真フイルムセツト
装置は、メツキレジスト法またはソルダレジスト
法においても同様に利用できる。
Finally, although the above embodiments have been described with respect to the etching resist method, the photographic film setting apparatus of the present invention can be similarly utilized in the plating resist method or the solder resist method.

たとえばメツキレジスト法では、基板に液状フ
オトレジストを塗布し、この液状フオトレジスト
の上側に本装置により写真フイルムを配置し、こ
の写真フイルムを経て平行光線で液状フオトレジ
ストを露光し、硬化しなかつた液状フオトレジス
トを除去し、この液状フオトレジスト除去部分の
露出金属表面に金属メツキを行ない、次に硬化し
た液状フオトレジストを除去し、この硬化レジス
ト除去部分の露出金属を除去する。
For example, in the Metsuki resist method, a liquid photoresist is applied to a substrate, a photographic film is placed on top of the liquid photoresist using this device, and the liquid photoresist is exposed to parallel light through the photographic film, so that the liquid photoresist does not harden. The liquid photoresist is removed, the exposed metal surface of the portion from which the liquid photoresist has been removed is metal plated, the cured liquid photoresist is then removed, and the exposed metal of the portion from which the cured resist has been removed is removed.

さらにソルダレジスト法では、基板に液状フオ
トレジストを塗布し、この液状フオトレジストの
上側に本装置により写真フイルムを配置し、この
写真フイルムを経て平行光線で液状フオトレジス
トを露光し、硬化しなかつた液状フオトレジスト
を除去し、このレジスト除去部分の露出金属表面
にはんだを付着させる。
Furthermore, in the solder resist method, a liquid photoresist is applied to a substrate, a photographic film is placed on top of the liquid photoresist using this device, and the liquid photoresist is exposed to parallel light through the photographic film, so that the liquid photoresist does not harden. The liquid photoresist is removed and solder is applied to the exposed metal surface where the resist is removed.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

本発明によれば、写真フイルムを装着する側か
ら見て左右両側に前後方向のレールを設け、この
両側のレールの後部に横軸を介してリンクの後部
を回動自在に軸着し、この両側のリンクの前部間
に横軸を介して写真フイルム保持用のフオトツー
ルの比較的前側部の左右側面を回動自在に軸着
し、このフオトツールの比較的後側部の左右側面
に上記レール上で転動するローラを軸着し、上記
レールの比較的前側部に上記ローラを係止するス
トツパを設けたから、上記フオトツールの前部を
引上げると、このフオトツールは、リンクの回動
によつて上昇する前部横軸を中心に回転しながら
上昇し、同時にローラがレール上を移動し、この
ローラが前部横軸の下方にきたらフオトツールの
前部を後方に倒すと、フオトツールの下面が作業
者に対向するように斜め上側に反転した状態でロ
ーラがストツパにより係止され、したがつてこの
フオトツールの下面に写真フイルムを装着する作
業に最も適した姿勢にフオトツールを反転する一
連の操作が容易にできる。
According to the present invention, longitudinal rails are provided on both the left and right sides when viewed from the side on which the photographic film is mounted, and the rear part of the link is rotatably attached to the rear part of the rails on both sides via a horizontal shaft. The relatively front left and right sides of a photo tool for holding photographic film are rotatably attached via a horizontal shaft between the front parts of the links on both sides, and the right and left sides of the relatively rear side of the photo tool are rotatably attached to A roller rolling on the rail is pivoted, and a stopper for locking the roller is provided on the relatively front side of the rail, so when the front part of the photo tool is pulled up, the photo tool will be attached to the link. It rises while rotating around the front horizontal axis that rises by rotation, and at the same time the roller moves on the rail, and when this roller is below the front horizontal axis, tilt the front of the photo tool backwards. , the roller is locked by the stopper with the bottom surface of the photo tool turned diagonally upwards to face the operator, and the photo tool is placed in the most suitable position for loading photographic film onto the bottom surface of the photo tool. You can easily perform a series of operations to reverse the tool.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

図は本発明の写真フイルムセツト装置に係るも
のであり、第1図は液状フオトレジスト処理シス
テムの一部を示す正面図、第2図は第1図の−
線断面図、第3図は第2図の−線断面図、
第4図は第3図の−線断面図、第5図は第4
図の一部を拡大した断面図、第6図はそのガラス
板の斜視図である。 1…基板、35…レール、36…後部の横軸、
37…リンク、38…前部の横軸、39…フオト
ツール、40…ローラ、41…ストツパ、52…
写真フイルム、57…フオトレジスト。
The figures relate to the photographic filmset apparatus of the present invention, in which FIG. 1 is a front view showing a part of the liquid photoresist processing system, and FIG.
A line sectional view, Figure 3 is a - line sectional view of Figure 2,
Figure 4 is a sectional view taken along the - line in Figure 3, and Figure 5 is a cross-sectional view of Figure 4.
FIG. 6 is an enlarged sectional view of a part of the figure and a perspective view of the glass plate. 1... Board, 35... Rail, 36... Rear horizontal axis,
37... Link, 38... Front horizontal axis, 39... Photo tool, 40... Roller, 41... Stopper, 52...
Photographic film, 57...Photoresist.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1 基板に設けたフオトレジスト上に写真フイル
ムを配置し、この写真フイルムを経て上記フオト
レジストを露光することにより、このフオトレジ
ストを写真フイルムのパターンに応じて硬化させ
るフオトレジスト処理装置において、上記写真フ
イルムを装着する側から見て左右両側に前後方向
のレールを設け、この両側のレールの後部に横軸
を介してリンクの後部を回動自在に軸着し、この
両側のリンクの前部間に横軸を介して写真フイル
ム保持用のフオトツールの比較的前側部の左右側
面を回動自在に軸着し、このフオトツールの比較
的後側部の左右側面に上記レール上で転動するロ
ーラを軸着し、上記レールの比較的前側部に上記
ローラを係止するストツパを設けたことを特徴と
するフオトレジスト処理装置における写真フイル
ムセツト装置。 2 左右両側のレールを前方に引出し可能に設け
たことを特徴とする特許請求の範囲第1項記載の
フオトレジスト処理装置における写真フイルムセ
ツト装置。
[Claims] 1. A photoresist in which a photographic film is placed on a photoresist provided on a substrate, and the photoresist is cured according to the pattern of the photographic film by exposing the photoresist through the photographic film. In the processing device, front and rear rails are provided on both the left and right sides when viewed from the side where the photographic film is mounted, and the rear part of the link is rotatably attached to the rear part of the rails on both sides via a horizontal shaft. The left and right sides of the relatively front side of a photo tool for holding photographic film are rotatably attached via a horizontal shaft between the front parts of the links, and the 1. A photographic film set device for a photoresist processing apparatus, characterized in that a roller rolling on a rail is mounted on a shaft, and a stopper for locking the roller is provided at a relatively front side of the rail. 2. A photographic filmset device in a photoresist processing apparatus according to claim 1, wherein the rails on both the left and right sides are provided so as to be able to be pulled out forward.
JP59105761A 1984-05-25 1984-05-25 Photographic film set unit in photoressit processor Granted JPS60250690A (en)

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