JPH04216557A - シャドウマスクパターン描画装置における位置制御装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は、露光ヘッドと感光材を
相対移動させながら露光を繰り返すことによりシャドウ
マスク製造用のマスクパターン原板全体を露光する装置
に関し、特に、その露光ヘッドと感光材の相対位置を正
確に制御する装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、高解像度ＴＶやコンピュータグラ
フィック用表示用装置が開発される中、カラーブラウン
管用シャドウマスクは、大サイズ化と共に、高微細化、
高品位化の要求も益々強くなっている。

【０００３】ところで、シャドウマスクは、薄い鋼材に
レジストを塗布し、表裏をマスクパターン原板を用いて
パターニングし、表裏を同時又は片面ずつエッチングし
て形成するもので、そのマスクパターン原板の良し悪し
が最終製品であるシャドウマスクの品質に大きく影響す
る。したがって、表裏用のマスクパターン原板をいかに
高精度に作成するかが、シャドウマスクの品質を左右す
る。マスクパターン原板を高精度に作成する阻害因子と
して上げられるものにムラがある。このムラは、規則正
しく配列されるべき小孔パターンの位置精度の低下によ
って起きる。この位置精度の低下を抑えることが、ムラ
の少ないシャドウマスクを作成する上で不可欠になって
いる。

【０００４】ところで、従来のシャドウマスク製造用の
マスクパターン原板は、マスクパターン原板となる感光
材と露光ヘッドを相対的にＸ−Ｙ方向に歩進的に移動さ
せながら露光を繰り返すことにより全体のパターニング
を行っている。その装置の１例の要部斜視図を図２に示
す。すなわち、感光材Ｐは、Ｙ方向に移動制御されるス
テージ１の上にセットされる。一方、マスクの孔パター
ンを縮小レンズ３により縮小して感光材Ｐ上に投影露光
する露光ヘッド２は、図示していないＸ方向移動制御台
に取り付けられている。したがって、ステージ１と露光
ヘッド２をそれぞれＹ方向、Ｘ方向に正確に所定ピッチ
で歩進させながら露光を繰り返すことにより、マスクパ
ターン原板のパターニングが行なえる。このような正確
な歩進制御するために、露光ヘッド２には、Ｘ方向干渉
計７とＹ方向干渉計８とが取り付けられており、各干渉
計の一部を構成する移動鏡１１、１２が各干渉計に対向
してステージ１に取り付けられている。なお、露光ヘッ
ド２には、各干渉計に入出射する光を移動鏡１１、１２
に向けるための鏡９、１０も取り付けられている。そし
て、このような装置本体Ｂには、各干渉計共通で近接す
る２つの周波数ｆ１　、ｆ２　の光を同時に発振するの
レーザ光源４と、その光の一部をＹ方向干渉計８に向け
るために分割するビームスプリッター５と、残りの光を
Ｘ方向干渉計７に向ける鏡６と、各干渉計からのビート
光を受光して各方向への移動量を検知するためのＸ方向
検出器１３及びＹ方向検出器１４とが設けられている。 そして、各干渉計の光学的構成は図３に示すようになっ
ている。すなわち、干渉計７（８）は、偏光ビームスプ
リッター１５と、その上下の面に接着されたコーナキュ
ーブミラー１６、１７からなり、その入射側の面と反対
の面には、４分の１波長板１８が配置されている。レー
ザ光源４からの周波数ｆ１　の光は紙面に平行に偏光し
ており、周波数ｆ２　の光は紙面に垂直に偏光している
。この２つの光が偏光ビームスプリッター１５に入射し
、紙面に平行に偏光した周波数ｆ１　はスプリット面を
透過し、４分の１波長板１８で円偏光に変換され、移動
鏡１１（１２）に当たってドップラーシフトΔｆを受け
、再度４分の１波長板１８に入射し、ここで紙面に垂直
な偏光に変換され、今度はスプリット面で反射され、下
側のコーナキューブミラー１７に入射し、光路が多少ず
れて戻り、スプリット面で反射されて先の光路からずれ
た光路を経て４分の１波長板１８で円偏光に変換され、
移動鏡１１（１２）に再度当たってドップラーシフトΔ
ｆを受け、合計２Δｆのドップラーシフトとなって４分
の１波長板１８に入射し、ここで紙面に平行な偏光に変
換され、スプリット面を通過して出射する。一方、紙面
に垂直に偏光した周波数ｆ２　の光はスプリット面で反
射され、上側のコーナキューブミラー１６に入射し、光
路が多少ずれて戻り、スプリット面で再度反射されて、
２Δｆのドップラーシフトを受けた周波数ｆ１　の信号
と重ね合って出力する。したがって、露光ヘッド２に対
する感光材Ｐの相対移動量は、各方向について、移動鏡
１１、１２からの戻り光のドップラーシフト２Δｆを取
り出し（そのためには、例えば、周波数ｆ１　±２Δｆ
とｆ２　のビート信号周波数から周波数ｆ１　とｆ２　
のビート信号周波数を減算すればよい。）、例えばドッ
プラー周波数２Δｆの各周期毎にパルスを出すようにし
てこのパルス数を累計することにより、Δｆ＝２ｖｎｆ
／ｃ＝２ｖｎ／λ０　＝２ｖ／λの関係から、移動量ｄ
がｄ＝Ｎ×λ／４として求まる。ただし、ここで、ｖは
移動鏡１１、１２の速度、ｎは空気の屈折率、ｆはレー
ザ光の周波数、ｃは真空中の光速、λ０　は真空中の波
長、λは空気中の波長である。したがって、このような
パルスの数を計数することにより、ステージ１と露光ヘ
ッド２をそれぞれＹ方向、Ｘ方向に正確な所定ピッチで
歩進させながら露光を繰り返すことができ、正確なマス
クパターン原板のパターニングが行なえる。その他の装
置の例として、露光ヘッドがＸ−Ｙ方向に移動する場合
、感光材を載せたステージがＸ−Ｙ方向に移動する場合
も上記と同様である。

【０００５】ところで、シャドウマスクパターンのムラ
は、従来より、図２のようなシャドウマスクパターン描
画装置によるパターン描画時の小孔パターン配列ムラが
原因とされているが、その大半は、干渉計を用いた測長
系に使用するレーザ光の波長の不安定さによるものであ
る（上記ｄ＝Ｎ×λ／４の式より明らかなように、レー
ザ光の波長λが変化すると、同じ計数Ｎでも実際の移動
量ｄは異なったものとなってしまう。）。空気中の波長
λは、気圧、気温、湿度に応じて変化するため、レーザ
光の波長の不安定要因としては、レーザ光が通過する光
路の空気の１）気圧、２）気温、３）湿度があげられる
。電子ビーム描画装置では、レーザ光が通過する光路を
真空中に置くことで波長の不安定さから解放されるが、
装置が大きいシャドウマスクパターン描画装置では、装
置全体を高真空系に入れることがコスト的に不可能なた
め、レーザ光の光路の空気の１）気圧、２）気温、３）
湿度による波長変化をリアルタイムで補正する必要があ
る。そのための位置制御システムの例を図６と図７に示
す。

【０００６】図６の例においては、目標位置入力装置２
０から各回の露光毎に露光ヘッド２と感光材の相対的に
位置させるべき目標位置が入力される。実際には、予め
プログムされて順次入力されるものである。一方、図３
に示したような干渉計とそれから得られたドップラーシ
フトをパルス化して出力する回路とからなる干渉計測長
器２２からのパルス信号は、パルスカウンタ２３により
加減算される。上記したように、このパルスカウント値
は、露光ヘッド２と感光材の相対の移動量、すなわちＸ
−Ｙステージ系２１の位置を表す。ところで、シャドウ
マスクパターン描画装置が置かれた雰囲気の気圧を検出
する気圧計２４、気温を検出する温度計２５、湿度を検
出する湿度計２６が設けられており、これらの検出器か
らの検出信号は、レーザ波長算出装置２７に送られ、こ
こで予め記憶されたテーブルを参照にして、真空中の波
長λ０　を補正して得られるその状態の空気中の実際の
波長λが求められる（なお、気圧、気温、湿度と波長の
関係を表すオーエンズの式に従って波長を求めるように
してもよい。）。パルスカウンタ２３に累計されている
カウント値にレーザ波長算出装置２７から与えられる波
長λを掛算器２８により乗じて、Ｘ−Ｙステージ系２１
の現在位置が求められる（なお、ｎ分の１波長の移動毎
に１パルスを出す測長器を用いる場合には、λ／ｎを乗
じる。）。目標位置入力装置２０から入力された目標位
置と上記のように補正されて求められた現在位置との差
を、位置エラー算出のための減算器２９により求め、そ
の誤差信号をアンプ３０により増幅して、Ｙ−Ｘステー
ジ系２１をＸ、Ｙ方向へ移動させるサーボモータ３１に
加えることにより、露光ヘッド２と感光材の相対目標位
置、すなわち、測長系の波長変化による測定値のズレを
補正した目標位置へ正確に歩進移動させて露光を繰り返
すことができる。なお、制御の開始に当たっては、最初
に干渉計７、８の移動鏡１１、１２を原点（基準位置）
に戻し、その位置でリセット装置３２によりカウンタ２
３をゼロにリセットしてから、移動制御か開始される。 図７の例は、図６の制御系を変形して、割算器３３によ
り目標位置入力装置２０から入力された目標位置を、レ
ーザ波長算出装置２７出力された実際の波長λで割って
、目標位置を予め量子化しておいて、この量子化した目
標デジタル値とパルスカウンタ２３に累計されている現
在位置を表すデジタル値とを比較して誤差信号を発生さ
せるようにしたものであり、本質的に同様の作用をする
。

【０００７】

【発明か解決しようとする課題】しかしながら、図６、
図７の位置制御システムにより、露光ヘッドと感光材の
相対位置決め精度が雰囲気の状況に左右されないように
描画装置を構成しても、小孔パターン配列の位置精度低
下による不定期なムラの発生がみられる。その１例を図
８に示す。この例は、気温がほぼ一定で、気圧が変化す
る雰囲気（（ａ）参照）において、１日以上かけて１面
目と２面目のマスクパターン（（ｂ）参照）を連続して
描画した例である。２面目において、気圧が急激に変化
した時に、スジ状のムラが発生している。

【０００８】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、その目的は、露光ヘッドと感光材を歩進的
に相対移動させながら露光を繰り返すことによりシャド
ウマスク製造用のマスクパターン原板全体を露光するシ
ャドウマスクパターン描画装置において、干渉計からな
る露光ヘッド位置制御装置の気圧、気温、湿度の影響を
考慮した補正をして、不定期的なムラを除いた位置制御
装置を提供することである。

【０００９】

【課題を解決するための手段】本発明のシャドウマスク
パターン描画装置における位置制御装置は、マイケルソ
ン干渉計の移動鏡の原点からの移動量を干渉計からの干
渉縞ないしドップラーシフト周波数をカウンタでカウン
トすることにより制御して、シャドウマスクパターン描
画装置の露光ヘッドと感光材の相対位置を制御する装置
であって、移動鏡の原点をマイケルソン干渉計のビーム
スプリッターから離れた位置に設定し、移動鏡を原点に
移動してカウンタのカウント値をゼロにリセットし、そ
の後にカウンタのカウント値にその時の空気中の波長を
掛けて得られた値と移動鏡の目標位置の差に基づいて移
動鏡の位置をフィードバック制御する位置制御装置にお
いて、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウント値を
ゼロにリセットする時の空気中の波長を記憶する手段を
設け、ビームスプリッターと原点の間の距離をこの記憶
手段に記憶された波長で割った値を前記カウンタの値に
加算した後に、その時の空気中の波長を掛け、得られた
値からビームスプリッターと原点の間の距離を差し引き
、その値と移動鏡の目標位置の差に基づいて移動鏡の位
置をフィードバック制御することを特徴とするものであ
る。

【００１０】また、マイケルソン干渉計の移動鏡の原点
からの移動量を干渉計からの干渉縞ないしドップラーシ
フト周波数をカウンタでカウントすることにより制御し
て、シャドウマスクパターン描画装置の露光ヘッドと感
光材の相対位置を制御する装置であって、移動鏡の原点
をマイケルソン干渉計のビームスプリッターから離れた
位置に設定し、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウ
ント値をゼロにリセットし、その後にカウンタのカウン
ト値と移動鏡の目標位置をその時の空気中の波長で割っ
て得られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィード
バック制御する位置制御装置において、移動鏡を原点に
移動してカウンタのカウント値をゼロにリセットする時
の空気中の波長を記憶する手段を設け、移動鏡の目標位
置にビームスプリッターと原点の間の距離を加えてから
その時の空気中の波長で割るように構成し、この商と、
ビームスプリッターと原点の間の距離を前記記憶手段に
記憶された波長で割った値を前記カウンタの値に加算し
て得られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィード
バック制御するように変形することもできる。

【００１１】

【作用】本発明においては、移動鏡を原点に移動してカ
ウンタのカウント値をゼロにリセットする時の空気中の
波長を記憶する手段を設け、ビームスプリッターと原点
の間の距離をこの記憶手段に記憶された波長で割った値
を前記カウンタの値に加算した後に、その時の空気中の
波長を掛け、得られた値からビームスプリッターと原点
の間の距離を差し引き、その値と移動鏡の目標位置の差
に基づいて移動鏡の位置をフィードバック制御するよう
にしているので、ビームスプリッターと原点の間のデッ
トパスにおける空気の気圧、気温、湿度の変化に基づい
て波長が変化しても、この変化による位置ズレが補正さ
れ、シャドウマスクパターン描画装置の環境の気圧、気
温、湿度が変化しても、描画されたシャドウマスクには
不定期的なムラが発生することはない。

【００１２】

【実施例】〕例えば、図２に示したようなシャドウマス
クパターン描画装置において、例えば図３に示したよう
な光学系からなる干渉系を測長系に用いる場合、露光ヘ
ッド２の移動量は、移動鏡１１、１２の移動方向に選ん
だ測定開始点（原点）から測定される。その理由は、図
３に示したようなマイケルソン干渉計からなる測長系は
、相対移動距離を測定するものであるからである。この
測定開始点は、機械的な配置上、偏光ビームスプリッタ
ー１５から空気をはさんで測長方向にある程度離して設
けざるを得ない。このことは、移動鏡１１、１２を完全
に干渉計７、８に密着できないことからも理解できる。 そして、実際の露光ヘッドの位置制御に当たっては、こ
の測定開始点（原点）に露光ヘッドを戻して、図６、図
７に示すように、リセット装置３２により制御装置をリ
セットしてから、所望に目標位置へ移動制御を開始させ
る。

【００１３】ところで、種々検討の結果、上記したよう
なシャドウマスクパターンの不定期的なムラは、上記原
点と偏光ビームスプリッターの間の光路（以下、デッド
パスと言う。）の空気中における波長変化によって発生
することが分かった。この点をもう少し説明すると、こ
のデッドパスの距離は、具体的には、０．２〜０．３ｍ
ｍ程度あり、ピッチのエラーとしては、不定期的に０．
１μｍ程度発生する。すなわち、図６、図７に示した従
来の制御装置においては、図９に示したように、原点を
決めて、その点において制御装置をリセットし（図の（
ａ））、目標位置を入力して図６又は図７のサーボ系に
より位置制御して露光ヘッド２を移動しているが（図の
（ｂ））、原点と移動鏡１１（１２）の間の波長変化の
みを補正し、偏光ビームスプリッター７（８）と原点の
間のデッドパス中における波長変化は補正していない。 そのため、このデッドパスにおいて、波長が変化し、こ
れに基づいてパルスカウント数が変化するため、正確な
移動距離制御ができなくなり、上記したシャドウマスク
パターンの不定期的なムラが発生している。

【００１４】そこで、本発明の１実施例においては、こ
の部分で発生する波長変化を補正するために、図１に示
したような位置制御システムを採用している。すなわち
、目標位置入力装置２０から各回の露光毎に露光ヘッド
２を位置させるべき原点から測った目標位置が入力され
る（実際には、予めプログムされて順次入力されるもの
である。）。一方、図３に示したような干渉計とそれか
ら得られたドップラーシフト周波数をパルス化して出力
する回路とからなる干渉計測長器２２からのパルス信号
は、パルスカウンタ２３により加減算される。パルスカ
ウンタ２３は、露光開始時にＸ−Ｙステージ系２１を原
点に戻した時に、リセット装置３２によりゼロにリセッ
トされる。したがって、パルスカウンタ２３のパルスカ
ウント値は、露光ヘッド２の原点からの移動量、すなわ
ちＸ−Ｙステージ系２１の原点に対する相対位置を表す
。また、従来の装置（図６）と同様、シャドウマスクパ
ターン描画装置が置かれた雰囲気の気圧を検出する気圧
計２４、気温を検出する温度計２５、湿度を検出する湿
度計２６が設けられており、これらの検出器からの検出
信号は、レーザ波長算出装置２７に送られ、ここで予め
記憶されたテーブルを参照にして、真空中の波長λ０　
を補正して得られるその状態の空気中の実際の波長λが
求められる（なお、気圧、気温、湿度と波長の関係を表
すオーエンズの式（工藤恵栄著「分光学的性質を主とし
た基礎物性図表」共立出版（株）昭４７．５．１５発行
，第１３８頁）に従って波長を求めるようにしてもよい
。）。パルスカウンタ２３のリセット時の空気中の波長
λＳ　は、リセット装置３２からの信号に基づいて、レ
ーザ波長算出装置２７からレジスター３７に記憶される
。ところで、デットパス入力装置３４が設けられており
、ここからデットパスの長さが与えられる（実際には、
メモリーに記憶しておき、その記憶を呼び出すことによ
って与えられる。）。デットパス入力装置３４から出力
されたデットパスの長さは、割算器３５において、レジ
スター３７に記憶されている原点へのリセット時の波長
λＳ　により割られ、その商（デットパスのリセット時
の波長λＳ　で換算したデジタル値）は、加算器３６に
おいてパルスカウンタ２３のパルスカウント値に加えら
れる。そして、この加算値は、掛算器２８においてレー
ザ波長算出装置２４からのその時点での空気中の波長λ
を乗じることにより、実際のＸ−Ｙステージ系２１の現
在位置（偏光ビームスプリッターから測った位置）が求
められる。そして、減算器３８において、この位置の信
号からデットパス入力装置３４から出力されたデットパ
スの長さを減ずることにより、デットパス及び原点から
現在位置の間の両者での波長変化を補正して原点から測
定したＸ−Ｙステージ系２１の現在位置が得られる。目
標位置入力装置２０から入力された目標位置と上記のよ
うに補正されて求められた現在位置との差を、位置エラ
ー算出のための減算器２９により求め、その誤差信号を
アンプ３０により増幅して、Ｙ−Ｘステージ系２１をＸ
−Ｙ方向へ移動させるサーボモータ３１に加えることに
より、露光ヘッド２を目標位置、すなわち、測長系の全
ての空間での波長変化による測定値のズレを補正した目
標位置へ正確に歩進移動させて露光を繰り返すことがで
きる。

【００１５】以上の制御装置の作用を数式で説明すると
、目標位置入力装置から入力された目標位置をＡ、デッ
トパス入力装置３４から出力されるデットパスの長さを
Ｄとし、図１のフィードバック制御系が動作してＸ−Ｙ
ステージ系２１が正確に目標位置に達して静止している
とする。レジスター３７には、Ｘ−Ｙステージ系２１を
原点へ戻し、パルスカウンタ２３をゼロにリセットした
時の波長λＳ　が記憶されている。そして、掛算器２８
には、レーザ波長算出装置２７からその時点での空気中
の波長λが入力している。このような状態で、パルスカ
ウンタ２３には、（Ａ＋Ｄ）／λ−Ｄ／λＳ　個のパル
スがカウントされているはずである。割算器３５からは
、Ｄ／λＳ　のデジタル値が出力されるので、加算器３
６からは（Ａ＋Ｄ）／λのデジタル値が出力される。し
たがって、掛算器２８において、この値にλが掛けられ
るので、掛算器２８から出力される値は（Ａ＋Ｄ）、す
なわち、偏光ビームスプリッター１５から移動鏡１１（
１２）の間の距離である。この距離（Ａ＋Ｄ）から減算
器３８においてデットパスの長さＤを減ずることにより
、目標位置Ａが得られる。すなわち、波長がλＳ　から
λに変化しても、このような制御系を用いると、デット
パスでの波長変化も補正されて、正確に目標位置にフィ
ードバック制御することができる。このような、デット
パス入力装置３４、割算器３５、加算器３６、レジスタ
ー３７、減算器３８を設けない図６のような従来のもの
においては、同じ条件で、減算器３８から出力する値は
、Ａ−Ｄ×λ／λＳ　となり、Ｘ−Ｙステージ系２１が
正確に目標位置Ａに達しているにもかかわらず、フィー
ドバックループにより誤った位置に移動されることにな
る。したがって、以上のような本発明の位置制御装置に
よると、シャドウマスクパターン描画装置の環境の気圧
、気温、湿度が変化しても、描画されたシャドウマスク
には不定期的なムラが発生することはない。

【００１６】図１の制御装置の場合も、従来の図７のも
のと同様に変形して、図４に示すように、原点からの目
標位置とデットパスの長さを加算器３９により加えて得
た目標位置を、割算器３３でレーザ波長算出装置２７出
力された実際の波長λで割って目標位置を予め量子化し
ておいて、この量子化した目標デジタル値とパルスカウ
ンタ２３のパルスカウント値にデットパスのリセット時
の波長λＳ　で換算したデジタル値を加えた値、すなわ
ち、現在位置を表すデジタル値とを比較して誤差信号を
発生させるようにすることもできる。その作用は、本質
的に図１の場合と同様である。

【００１７】ところで、以上の図１、図４の実施例は、
図２に示したような描画装置全体を空気中に置き、ステ
ージ１及び露光ヘッド２の相対位置を制御して描画する
ものであるが、図５に模式図を示すように、ステージ１
、露光ヘッド２、移動鏡１１、１２のみを真空室４０内
に収容し、干渉計７、８を空気中に配置し、干渉計７、
８を通って移動鏡１１、１２に向かう光は真空室４０の
窓４１から導入するようにすることもできる。このよう
な場合、デットパスＤの中、ビームスプリッターと窓４
１の間Ｄ′においてのみ波長変化を受ける。このような
場合、図１、４において、デットパスの長さはＤでなく
このＤ′として制御するようにする。

【００１８】なお、以上の実施例において、Ｘ−Ｙステ
ージ系２１を原点に移動させて、パルスカウンタ２３を
リセットするリセット装置３２については手動の装置を
考えていたが、Ｘ−Ｙステージ系２１が所定の原点に達
したとき、これを自動的に検知してパルスカウンタ２３
のリセット端子に信号を送るものであれば、公知の機械
的、光学的、電気的、磁気的、光電的手段等の何れのも
のでも用いることができる。

【００１９】以上、本発明のシャドウマスクパターン描
画装置における露光ヘッド位置制御装置のいくつかの実
施例について説明してきたが、本発明はこれらの実施例
に限定されず、種々の変形が可能である。例えば、Ｘ−
Ｙステージ系２１を原点に移動したとき、パルスカウン
タ２３をリセットするのではなく、割算器３５から出力
する値をパルスカウンタ２３にプリセットするようにし
てもよい。また、本発明は、シャドウマスクパターン描
画装置以外にも、マイケルソン干渉計を用いて位置制御
するその他の描画装置、それ以外の装置にも適用するこ
とができる。

【００２０】

【発明の効果】以上説明したように、本発明のシャドウ
マスクパターン描画装置における位置制御装置によると
、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウント値をゼロ
にリセットする時の空気中の波長を記憶する手段を設け
、ビームスプリッターと原点の間の距離をこの記憶手段
に記憶された波長で割った値を前記カウンタの値に加算
した後に、その時の空気中の波長を掛け、得られた値か
らビームスプリッターと原点の間の距離を差し引き、そ
の値と移動鏡の目標位置の差に基づいて移動鏡の位置を
フィードバック制御するようにしているので、ビームス
プリッターと原点の間のデットパスにおける空気の気圧
、気温、湿度の変化に基づいて波長が変化しても、この
変化による位置ズレが補正され、シャドウマスクパター
ン描画装置の環境の気圧、気温、湿度が変化しても、描
画されたシャドウマスクには小孔パターン位置精度低下
による不定期的なムラが発生することはない。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の１実施例のシャドウマスクパターン描
画装置における位置制御装置の構成を説明するための図
である。

【図２】シャドウマスクパターン描画装置の要部斜視図
である。

【図３】マイケルソン干渉計の１例の光学的構成を示す
図である。

【図４】本発明の別の実施例の構成を説明するための図
である。

【図５】描画装置の一部が真空中にある場合の模式図で
ある。

【図６】従来の１例のシャドウマスクパターン描画装置
における露光ヘッド位置制御システムの構成を説明する
ための図である。

【図７】従来の別の例の構成を説明するための図である
。

【図８】シャドウマスクの描画条件とその際に発生した
ムラを示すための図である。

【図９】デットパスを説明するための図である。

【符号の説明】

Ｐ…感光材 １…ステージ ２…露光ヘッド ４…レーザ光源 ７、８…干渉計 １１、１２…移動鏡 １３、１４…検出器 １５…偏光ビームスプリッター ２０…目標位置入力装置 ２１…Ｘ−Ｙステージ系 ２２…干渉計測長器 ２３…パルスカウンタ ２４…気圧計 ２５…温度計 ２６…湿度計 ２７…レーザ波長算出装置 ２８…掛算器 ２９、３８…減算器 ３０…アンプ ３１…サーボモータ ３２…リセット装置 ３３、３５…割算器 ３４…デットパス入力装置 ３６、３９…加算器 ３７…レジスター ４０…真空室 ４１…窓

Claims (2)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】　　マイケルソン干渉計の移動鏡の原点か
   らの移動量を干渉計からの干渉縞ないしドップラーシフ
   ト周波数をカウンタでカウントすることにより制御して
   、シャドウマスクパターン描画装置の露光ヘッドと感光
   材の相対位置を制御する装置であって、移動鏡の原点を
   マイケルソン干渉計のビームスプリッターから離れた位
   置に設定し、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウン
   ト値をゼロにリセットし、その後にカウンタのカウント
   値にその時の空気中の波長を掛けて得られた値と移動鏡
   の目標位置の差に基づいて移動鏡の位置をフィードバッ
   ク制御する位置制御装置において、移動鏡を原点に移動
   してカウンタのカウント値をゼロにリセットする時の空
   気中の波長を記憶する手段を設け、ビームスプリッター
   と原点の間の距離をこの記憶手段に記憶された波長で割
   った値を前記カウンタの値に加算した後に、その時の空
   気中の波長を掛け、得られた値からビームスプリッター
   と原点の間の距離を差し引き、その値と移動鏡の目標位
   置の差に基づいて移動鏡の位置をフィードバック制御す
   ることを特徴とするシャドウマスクパターン描画装置に
   おける位置制御装置。
2. 【請求項２】　　マイケルソン干渉計の移動鏡の原点か
   らの移動量を干渉計からの干渉縞ないしドップラーシフ
   ト周波数をカウンタでカウントすることにより制御して
   、シャドウマスクパターン描画装置の露光ヘッドと感光
   材の相対位置を制御する装置であって、移動鏡の原点を
   マイケルソン干渉計のビームスプリッターから離れた位
   置に設定し、移動鏡を原点に移動してカウンタのカウン
   ト値をゼロにリセットし、その後にカウンタのカウント
   値と移動鏡の目標位置をその時の空気中の波長で割って
   得られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィードバ
   ック制御する位置制御装置において、移動鏡を原点に移
   動してカウンタのカウント値をゼロにリセットする時の
   空気中の波長を記憶する手段を設け、移動鏡の目標位置
   にビームスプリッターと原点の間の距離を加えてからそ
   の時の空気中の波長で割るように構成し、この商と、ビ
   ームスプリッターと原点の間の距離を前記記憶手段に記
   憶された波長で割った値を前記カウンタの値に加算して
   得られた値との差に基づいて移動鏡の位置をフィードバ
   ック制御することを特徴とするシャドウマスクパターン
   描画装置における位置制御装置。