JPH04213322A - 特別なふつ素含有ビスフエノール成分を含有する芳香族ポリカーボネート及びその製造方法 - Google Patents
特別なふつ素含有ビスフエノール成分を含有する芳香族ポリカーボネート及びその製造方法Info
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- C08G64/06—Aromatic polycarbonates not containing aliphatic unsaturation
- C08G64/08—Aromatic polycarbonates not containing aliphatic unsaturation containing atoms other than carbon, hydrogen or oxygen
-
- G—PHYSICS
- G02—OPTICS
- G02B—OPTICAL ELEMENTS, SYSTEMS OR APPARATUS
- G02B1/00—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements
- G02B1/04—Optical elements characterised by the material of which they are made; Optical coatings for optical elements made of organic materials, e.g. plastics
- G02B1/045—Light guides
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【0001】本発明は特殊なふっ素含有ビスフェノール
成分を含有する新規芳香族ポリカーボネート、その製造
と使用に関する。
成分を含有する新規芳香族ポリカーボネート、その製造
と使用に関する。
【0002】ビスフェノール成分として2,2−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロプロパンを含有するホモポリカーボネ
ート(クリストファー及びフォックス、ポリカーボネー
ト、ラインホルト出版、ニューヨーク、1962、16
3頁及びソ連特許第132,403号参照)及び相当す
るコポリカーボネート(ヨーロッパ特許公開第29,1
11号参照)は公知である。芳香族カーボネート構造単
位と脂肪族ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン
又はポリオレフィン構造単位から成るブロックコポリカ
ーボネートもまた公知である。芳香族カーボネート構造
単位はふっ素化ジフェノールアルカンから成ることがで
きる(ドイツ特許公告第1,162,559号参照)。 英国特許第1,141,716号はふっ素化ビスフェノ
ール成分を含有する芳香族ポリカーボネートを記してお
り、その中で、特に2,2−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−ヘキサフルオロプロパンをふっ素化ビスフェ
ノールとして挙げている。この種のポリカーボネートは
光学的分野における応用のためには高すぎる屈折率を有
していることが多い。
(4−ヒドロキシフェニル)−1,1,1,3,3,3
−ヘキサフルオロプロパンを含有するホモポリカーボネ
ート(クリストファー及びフォックス、ポリカーボネー
ト、ラインホルト出版、ニューヨーク、1962、16
3頁及びソ連特許第132,403号参照)及び相当す
るコポリカーボネート(ヨーロッパ特許公開第29,1
11号参照)は公知である。芳香族カーボネート構造単
位と脂肪族ポリエーテル、ポリエステル、ポリウレタン
又はポリオレフィン構造単位から成るブロックコポリカ
ーボネートもまた公知である。芳香族カーボネート構造
単位はふっ素化ジフェノールアルカンから成ることがで
きる(ドイツ特許公告第1,162,559号参照)。 英国特許第1,141,716号はふっ素化ビスフェノ
ール成分を含有する芳香族ポリカーボネートを記してお
り、その中で、特に2,2−ビス−(4−ヒドロキシフ
ェニル)−ヘキサフルオロプロパンをふっ素化ビスフェ
ノールとして挙げている。この種のポリカーボネートは
光学的分野における応用のためには高すぎる屈折率を有
していることが多い。
【0003】ここに、式(I)
【0004】
【化4】
【0005】式中でlは2〜600の整数を表わし、n
、o及びpは特定成分のモル数を表わし且つ下記条件:
、o及びpは特定成分のモル数を表わし且つ下記条件:
【0006】
【数5】n+o=p及び
【0007】
【数6】o:(n+o)=0.01〜1を満足し、mは
ゼロ又は1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、
それぞれ水素、C1〜C5−アルキル又はハロゲンを表
わし、Yは単結合、酸素、硫黄、SO2又はC1〜C8
−アルキレン、C2〜C8−アルキリデン、C3〜C1
2−シクロアルキレンアルキリデン、C7〜C18アラ
ルキレン又はC7〜C18−アラルキリデン基を表わし
、X1及びX2は、相互に無関係に、ふっ素又は塩素を
表わし、且つ R5〜R8は、相互に無関係に、それぞれ水素、C1〜
C5−アルキル、ベンジル、フェニル、C1〜C5−ア
ルコキシ、ベンジルオキシ、フェノキシ又はハロゲンを
表わす、を有する新規芳香族ポリカーボネートが見出さ
れた。
ゼロ又は1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、
それぞれ水素、C1〜C5−アルキル又はハロゲンを表
わし、Yは単結合、酸素、硫黄、SO2又はC1〜C8
−アルキレン、C2〜C8−アルキリデン、C3〜C1
2−シクロアルキレンアルキリデン、C7〜C18アラ
ルキレン又はC7〜C18−アラルキリデン基を表わし
、X1及びX2は、相互に無関係に、ふっ素又は塩素を
表わし、且つ R5〜R8は、相互に無関係に、それぞれ水素、C1〜
C5−アルキル、ベンジル、フェニル、C1〜C5−ア
ルコキシ、ベンジルオキシ、フェノキシ又はハロゲンを
表わす、を有する新規芳香族ポリカーボネートが見出さ
れた。
【0008】好適な式(I)の芳香族ポリカーボネート
は、式(I)中でlは4〜400の整数を表わし、n、
o及びpは下記条件
は、式(I)中でlは4〜400の整数を表わし、n、
o及びpは下記条件
【0009】
【数7】n+o=p
及び
【0010】
【数8】o:(n+o)=0.05〜1を満足し、mは
1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、それぞれ
水素、メチル、塩素又は臭素を表わし、Yは硫黄、SO
2又はC1〜C8−アルキレン、C2〜C8−アルキリ
デン、C5〜C6−シクロアルキレン、C5〜C6−シ
クロヘキシリデン、C7〜C15−アラルキレン又はC
7〜C15−アラルキリデン基を表わし、X1及びX2
は、ふっ素を表わし且つ R5〜R8は、相互に無関係に、水素、メチル、メトキ
シ、塩素又は臭素を表わすことを特徴とする。
1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、それぞれ
水素、メチル、塩素又は臭素を表わし、Yは硫黄、SO
2又はC1〜C8−アルキレン、C2〜C8−アルキリ
デン、C5〜C6−シクロアルキレン、C5〜C6−シ
クロヘキシリデン、C7〜C15−アラルキレン又はC
7〜C15−アラルキリデン基を表わし、X1及びX2
は、ふっ素を表わし且つ R5〜R8は、相互に無関係に、水素、メチル、メトキ
シ、塩素又は臭素を表わすことを特徴とする。
【0011】特に好適な式(I)の芳香族ポリカーボネ
ートは、式(I)中でlは24〜300の整数を表わし
、n、o及びpは下記の条件
ートは、式(I)中でlは24〜300の整数を表わし
、n、o及びpは下記の条件
【0012】
【数9】n+o=p
及び
【0013】
【数10】o:(n+o)=0.1〜1を満足し、mは
1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、水素又は
メチルを表わし、Yは硫黄、SO2又はC1〜C5−ア
ルキレン、C2〜C5−アルキリデン、シクロヘキシレ
ン、シクロヘキシリデン、C7〜C13−アラルキレン
又はC7〜C13−アラルキリデン基を表わし、X1及
びX2はふっ素を表わし且つ R5〜R8は相互に無関係に水素又はメチルを表わすこ
とを特徴とする。
1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、水素又は
メチルを表わし、Yは硫黄、SO2又はC1〜C5−ア
ルキレン、C2〜C5−アルキリデン、シクロヘキシレ
ン、シクロヘキシリデン、C7〜C13−アラルキレン
又はC7〜C13−アラルキリデン基を表わし、X1及
びX2はふっ素を表わし且つ R5〜R8は相互に無関係に水素又はメチルを表わすこ
とを特徴とする。
【0014】本発明によるポリカーボネートは、それが
複数のビスフェノールから成っている場合には、異なる
ビスフェノール単位をブロックの形態で又は統計的な分
布で含有することができる。
複数のビスフェノールから成っている場合には、異なる
ビスフェノール単位をブロックの形態で又は統計的な分
布で含有することができる。
【0015】本発明によるポリカーボネートの本質的な
特徴は、そのビスフェノール成分の少なくとも一部が1
,1−ビスヒドロキシフェニルヘキサフルオロジクロロ
シクロペンタン又は1,1−ビスヒドロキシフェニルヘ
プタフルオロモノクロロシクロペンタン又は1,1−ビ
スヒドロキシフェニルオクタフルオロシクロペンタンの
種類のビスフェノールに基づいていることである。
特徴は、そのビスフェノール成分の少なくとも一部が1
,1−ビスヒドロキシフェニルヘキサフルオロジクロロ
シクロペンタン又は1,1−ビスヒドロキシフェニルヘ
プタフルオロモノクロロシクロペンタン又は1,1−ビ
スヒドロキシフェニルオクタフルオロシクロペンタンの
種類のビスフェノールに基づいていることである。
【0016】本発明はさらにOモルの式(II)
【00
17】
17】
【化5】
【0018】式中で使用した記号は特許請求の範囲第1
項記載の意味を有する、のビスフェノールを、必要に応
じ、nモルの式(III)
項記載の意味を有する、のビスフェノールを、必要に応
じ、nモルの式(III)
【0019】
【化6】
【0020】式中で使用した記号は特許請求の範囲第1
項記載の意味を有する、のビスフェノールの添加と共に
、少なくともpモルのホスゲン、COBr2及び/又は
ビスクロロ炭酸エステルと、必要に応じ触媒、連鎖停止
剤及び/又は枝分れ剤の添加のもとで、反応させ且つそ
の際に条件
項記載の意味を有する、のビスフェノールの添加と共に
、少なくともpモルのホスゲン、COBr2及び/又は
ビスクロロ炭酸エステルと、必要に応じ触媒、連鎖停止
剤及び/又は枝分れ剤の添加のもとで、反応させ且つそ
の際に条件
【0021】
【数11】n+o>p
及び
【0022】
【数12】o:(n+o)=0.01〜1を保持するこ
とを特徴とする式(I)のポリカーボネートの製造方法
に関する。好適な式(II)のビスフェノールは、式(
II)中で使用した記号が式(I)において好適である
として記した意味を有しているものである。
とを特徴とする式(I)のポリカーボネートの製造方法
に関する。好適な式(II)のビスフェノールは、式(
II)中で使用した記号が式(I)において好適である
として記した意味を有しているものである。
【0023】特に好適な式(II)のビスフェノールは
1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−オクタフ
ルオロシクロペンタン及び1,1−ビス−(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)−オクタフルオロシ
クロペンタンである。
1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−オクタフ
ルオロシクロペンタン及び1,1−ビス−(3,5−ジ
メチル−4−ヒドロキシフェニル)−オクタフルオロシ
クロペンタンである。
【0024】式(II)のビスフェノールは式(IIa
)
)
【0025】
【化7】
【0026】式中でX1及びX2は相互に無関係にふっ
素又は塩素を表わす、のふっ素含有シクロペンタノンと
2倍のモル量の一つ以上の式
素又は塩素を表わす、のふっ素含有シクロペンタノンと
2倍のモル量の一つ以上の式
【0027】
【化8】
【0028】式中でR5及びR6は式(I)中に示した
意味を有する、のアリール化合物を、無水ふっ化水素酸
の存在で、反応させることによって取得することができ
る。
意味を有する、のアリール化合物を、無水ふっ化水素酸
の存在で、反応させることによって取得することができ
る。
【0029】式(II)のふっ素含有シクロペンタノン
は、たとえば、ジャーナルオブオルガニックケミストリ
ー、33、2693(1968)又は米国特許第3,1
29,248号、3,341,602号及び3,321
,515号に従って取得することができる。
は、たとえば、ジャーナルオブオルガニックケミストリ
ー、33、2693(1968)又は米国特許第3,1
29,248号、3,341,602号及び3,321
,515号に従って取得することができる。
【0030】式(II)のビスフェノール及びその製造
方法は、彼ら自身の別の特許明細書中に記されている。
方法は、彼ら自身の別の特許明細書中に記されている。
【0031】式(III)のビスフェノールは公知であ
る。例として以下のものを挙げることができる:ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−メタン、2,2−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、1,1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン、1,
1−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)−シクロヘキサン、1,1−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−ブタン、2,2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−ペンタン、3,3−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−ペンタン、2,2−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサン、3,3−ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサン、2,2−
ビス−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)
−プロパン、2,2−ビス−(3,5−ジブロモ−4−
ヒドロキシフェニル)−プロパン、ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−フェニルメタン、2,2−ビス−(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−プロパン
及び2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ジフ
ェニルメタン。
る。例として以下のものを挙げることができる:ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−メタン、2,2−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−プロパン、1,1−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−シクロヘキサン、1,
1−ビス−(4−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニ
ル)−シクロヘキサン、1,1−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−1−フェニルエタン、2,2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−ブタン、2,2−ビス−(
4−ヒドロキシフェニル)−ペンタン、3,3−ビス−
(4−ヒドロキシフェニル)−ペンタン、2,2−ビス
−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサン、3,3−ビ
ス−(4−ヒドロキシフェニル)−ヘキサン、2,2−
ビス−(3,5−ジクロロ−4−ヒドロキシフェニル)
−プロパン、2,2−ビス−(3,5−ジブロモ−4−
ヒドロキシフェニル)−プロパン、ビス−(4−ヒドロ
キシフェニル)−フェニルメタン、2,2−ビス−(4
−ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−プロパン
及び2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ジフ
ェニルメタン。
【0032】以下のものは特に好適な式(III)のビ
スフェノールである:2,2−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−プロパン、1,1−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−シクロヘキサン、2,2−ビス−(4−
ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−プロパン、
2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ジフェニ
ルメタン、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)スルフィ
ド及びビス−(4−ヒドロキシフェニル)スルホン。
スフェノールである:2,2−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−プロパン、1,1−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−シクロヘキサン、2,2−ビス−(4−
ヒドロキシ−3,5−ジメチルフェニル)−プロパン、
2,2−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−ジフェニ
ルメタン、ビス−(4−ヒドロキシフェニル)スルフィ
ド及びビス−(4−ヒドロキシフェニル)スルホン。
【0033】本発明の方法において、場合によっては使
用する、適当な触媒は、ポリカーボネートの製造におい
て一般的なもの、たとえば、第三アミン及び第四アンモ
ニウム塩である。触媒は、たとえば、式(II)及び(
III)のビスフェノールに対して、0.1〜10モル
%の割合で使用することができる。この割合は0.5〜
5モル%の範囲内であることが好ましい。
用する、適当な触媒は、ポリカーボネートの製造におい
て一般的なもの、たとえば、第三アミン及び第四アンモ
ニウム塩である。触媒は、たとえば、式(II)及び(
III)のビスフェノールに対して、0.1〜10モル
%の割合で使用することができる。この割合は0.5〜
5モル%の範囲内であることが好ましい。
【0034】場合によっては使用する、適当な連鎖停止
剤は、ポリカーボネートの製造において一般的なもの、
たとえば、フェノール、p−tert−ブチルフェノー
ル、p−クレゾール、p−クロロフェノール及びp−ブ
ロモフェノールのような、モノフェノールである。連鎖
停止剤は、たとえば、使用するビスフェノールに対して
、0.5〜8モル%、好ましくは2〜6モル%の割合で
使用することができる。
剤は、ポリカーボネートの製造において一般的なもの、
たとえば、フェノール、p−tert−ブチルフェノー
ル、p−クレゾール、p−クロロフェノール及びp−ブ
ロモフェノールのような、モノフェノールである。連鎖
停止剤は、たとえば、使用するビスフェノールに対して
、0.5〜8モル%、好ましくは2〜6モル%の割合で
使用することができる。
【0035】場合によっては使用する、適当な枝分れ剤
は、ポリカーボネートの製造において一般的なもの、た
とえば、トリフェノール及びテトラフェノール、且つま
たトリカルボン酸トリクロリド及びテトラカルボン酸テ
トラクロリドである。枝分れ剤は、たとえば、使用する
ビスフェノールに対して、0.05〜3.5モル%、好
ましくは0.1〜1.5モル%の割合で使用することが
できる。
は、ポリカーボネートの製造において一般的なもの、た
とえば、トリフェノール及びテトラフェノール、且つま
たトリカルボン酸トリクロリド及びテトラカルボン酸テ
トラクロリドである。枝分れ剤は、たとえば、使用する
ビスフェノールに対して、0.05〜3.5モル%、好
ましくは0.1〜1.5モル%の割合で使用することが
できる。
【0036】本発明による新規芳香族ポリカーボネート
の製造においては、ポリカーボネートの製造において一
般的な方法(たとえば、ウルマン、工業化学の百科事典
)、第4版、第19巻、55〜57頁参照)、たとえば
、相界面法、ピリジン法又はエステル交換法を用いるこ
とができる。
の製造においては、ポリカーボネートの製造において一
般的な方法(たとえば、ウルマン、工業化学の百科事典
)、第4版、第19巻、55〜57頁参照)、たとえば
、相界面法、ピリジン法又はエステル交換法を用いるこ
とができる。
【0037】好適な相界面法に従がう手順は、たとえば
、先ず式(II)及び、必要ならば、式(III)のビ
スフェノール又はビスフェノール類をアルカリ水溶液と
混合し、次いでポリカーボネートに対する溶剤を加えた
のち、撹拌と共に、たとえば、0〜100℃の温度にお
いて反応混合物のpHを10以上の値に保ちながら、ホ
スゲン、COBr2又はビスクロロ炭酸エステルを添加
し、且つ、必要ならば、有機相を洗浄したのち、生成し
たポリカーボネートを、有機相から沈殿させるか又は溶
剤を完全に又は部分的に蒸発又はストリッピングするこ
とによって、単離する。
、先ず式(II)及び、必要ならば、式(III)のビ
スフェノール又はビスフェノール類をアルカリ水溶液と
混合し、次いでポリカーボネートに対する溶剤を加えた
のち、撹拌と共に、たとえば、0〜100℃の温度にお
いて反応混合物のpHを10以上の値に保ちながら、ホ
スゲン、COBr2又はビスクロロ炭酸エステルを添加
し、且つ、必要ならば、有機相を洗浄したのち、生成し
たポリカーボネートを、有機相から沈殿させるか又は溶
剤を完全に又は部分的に蒸発又はストリッピングするこ
とによって、単離する。
【0038】アルカリ水溶液は、たとえば、アルカリ金
属水酸化物及び/又はアルカリ土類金属水酸化物を用い
て調製することができる。ポリカーボネートのための適
当な溶剤の例は、たとえば、塩化メチレン、クロロホル
ム、塩化エチレン及びクロロベンゼンのような塩素化炭
化水素、並びにそれらの混合物である。ホスゲンの使用
はCOBr2及びビスクロロ炭酸エステルの使用よりも
好適である。pHは、相当する過剰量、すなわち、ビス
フェノラートの生成のために理論的に必要とする量より
も多量のアルカリ水溶液を用いることによって、もっと
も簡単に10の値に保ことができる。
属水酸化物及び/又はアルカリ土類金属水酸化物を用い
て調製することができる。ポリカーボネートのための適
当な溶剤の例は、たとえば、塩化メチレン、クロロホル
ム、塩化エチレン及びクロロベンゼンのような塩素化炭
化水素、並びにそれらの混合物である。ホスゲンの使用
はCOBr2及びビスクロロ炭酸エステルの使用よりも
好適である。pHは、相当する過剰量、すなわち、ビス
フェノラートの生成のために理論的に必要とする量より
も多量のアルカリ水溶液を用いることによって、もっと
も簡単に10の値に保ことができる。
【0039】ピリジン法に従うプロセスは、たとえば、
式(II)及び、必要ならば、式(III)のビスフェ
ノール又はビスフェノール類を溶剤中に溶解し、理論的
に必要な量又は過剰の第三アミンを添加し、たとえば、
0〜50℃の温度において、撹拌と共に、この均一溶液
中にホスゲンを通じ、次いで生成した第三アミンの塩酸
塩を除去したのち、かくして得たポリカーボネートを、
沈殿させるか又は溶剤を部分的に又は完全に蒸発又はス
トリッピングすることによって、残留する有機相から単
離することにより行なうことができる。適当な溶剤は相
界面法においても用いることができるものである。第三
アミンとしてはピリジンを使用することが好ましいが、
その他の第三アミン、たとえば、N,N−ジメチルアニ
リン又はN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンをもち
用いることができる。
式(II)及び、必要ならば、式(III)のビスフェ
ノール又はビスフェノール類を溶剤中に溶解し、理論的
に必要な量又は過剰の第三アミンを添加し、たとえば、
0〜50℃の温度において、撹拌と共に、この均一溶液
中にホスゲンを通じ、次いで生成した第三アミンの塩酸
塩を除去したのち、かくして得たポリカーボネートを、
沈殿させるか又は溶剤を部分的に又は完全に蒸発又はス
トリッピングすることによって、残留する有機相から単
離することにより行なうことができる。適当な溶剤は相
界面法においても用いることができるものである。第三
アミンとしてはピリジンを使用することが好ましいが、
その他の第三アミン、たとえば、N,N−ジメチルアニ
リン又はN,N−ジメチルシクロヘキシルアミンをもち
用いることができる。
【0040】エステル交換法に従う手順は、たとえば、
式(II)及び、必要ならば、式(III)のビスフェ
ノール又はビスフェノール類を、炭酸ジアリール及びエ
ステル交換触媒と共に、オートクレーブ中で溶融し且つ
炭酸ジアリールから遊離したヒドロキシアリール化合物
を減圧下に高温で留去することによって、行なうことが
できる。使用する炭酸ジアリールは炭酸ジフェニルであ
ることが好ましく、のちにそれから遊離するフェノール
は、たとえば、0.5ミリバールまでの減圧下に300
℃に至るまでの温度で除去することができる。
式(II)及び、必要ならば、式(III)のビスフェ
ノール又はビスフェノール類を、炭酸ジアリール及びエ
ステル交換触媒と共に、オートクレーブ中で溶融し且つ
炭酸ジアリールから遊離したヒドロキシアリール化合物
を減圧下に高温で留去することによって、行なうことが
できる。使用する炭酸ジアリールは炭酸ジフェニルであ
ることが好ましく、のちにそれから遊離するフェノール
は、たとえば、0.5ミリバールまでの減圧下に300
℃に至るまでの温度で除去することができる。
【0041】本発明によるポリカーボネートは、たとえ
ば、塩化メチレン中の濃度5%の溶液について25℃に
おいて測定したηrelによって決定するときに500
〜250,000の平均分子量Mwを有することができ
る。Mwは1,000〜170,000であることが好
ましく、10,000〜80,000であることが特に
好ましい。
ば、塩化メチレン中の濃度5%の溶液について25℃に
おいて測定したηrelによって決定するときに500
〜250,000の平均分子量Mwを有することができ
る。Mwは1,000〜170,000であることが好
ましく、10,000〜80,000であることが特に
好ましい。
【0042】本発明による芳香族ポリカーボネートは、
驚くべきことに、低い屈折率と高いガラス転移点によっ
て特徴的であり、それが、本発明のポリカーボネートを
光学的分野における応用に対して特に適当なものとする
。本発明の芳香族ポリカーボネートの熱変形温度は、他
のポリカーボネート、たとえば、ビスフェノールAに基
づくものの場合とほぼ同様である。
驚くべきことに、低い屈折率と高いガラス転移点によっ
て特徴的であり、それが、本発明のポリカーボネートを
光学的分野における応用に対して特に適当なものとする
。本発明の芳香族ポリカーボネートの熱変形温度は、他
のポリカーボネート、たとえば、ビスフェノールAに基
づくものの場合とほぼ同様である。
【0043】それ故、本発明は光学的装置の製造、たと
えば、コンパクトディスク及び光導波路の製造における
式(I)の芳香族ポリカーボネートの使用に関するもの
である。本発明のポリカーボネートによる光導波路の製
造においては、特にクラッディングとして、ポリカーボ
ネートを使用することができ、その際、コア材料として
は公知のポリカーボネート(比較的高い屈折率を有して
いる)を使用することが可能である。
えば、コンパクトディスク及び光導波路の製造における
式(I)の芳香族ポリカーボネートの使用に関するもの
である。本発明のポリカーボネートによる光導波路の製
造においては、特にクラッディングとして、ポリカーボ
ネートを使用することができ、その際、コア材料として
は公知のポリカーボネート(比較的高い屈折率を有して
いる)を使用することが可能である。
【0044】本発明による芳香族ポリカーボネートは強
くはっ水性であり、それ故、低い吸水と高い寸法安定性
が重要である場合に、たとえば、自動車製造又はフィル
ムにおいても、有利に使用することができる。
くはっ水性であり、それ故、低い吸水と高い寸法安定性
が重要である場合に、たとえば、自動車製造又はフィル
ムにおいても、有利に使用することができる。
【0045】意図する用途に依存して、種々の添加剤を
本発明のポリカーボネートに添加することができる。た
とえば、不透明色の成形材料を取得するために顔料を添
加することができる。適当な顔料の例は二酸化チタン、
クロム黄クロム橙及びクロム緑である。油溶性染料をも
混合することができる。安定剤、たとえば、熱及び/又
は光の作用に対して有効なもの(たとえば、ヨーロッパ
特許公告第143,906号及びドイツ特許公開第2,
255,639号参照)及び/又は充填剤、たとえば、
ガラス繊維を添加することもできる。
本発明のポリカーボネートに添加することができる。た
とえば、不透明色の成形材料を取得するために顔料を添
加することができる。適当な顔料の例は二酸化チタン、
クロム黄クロム橙及びクロム緑である。油溶性染料をも
混合することができる。安定剤、たとえば、熱及び/又
は光の作用に対して有効なもの(たとえば、ヨーロッパ
特許公告第143,906号及びドイツ特許公開第2,
255,639号参照)及び/又は充填剤、たとえば、
ガラス繊維を添加することもできる。
【0046】本発明のポリカーボネートは、必要ならば
、他の熱可塑性プラスチック、たとえば、他のポリカー
ボネート又はABS重合体と混合することができる。
、他の熱可塑性プラスチック、たとえば、他のポリカー
ボネート又はABS重合体と混合することができる。
【0047】本発明の芳香族ポリカーボネート又はそれ
を含有する混合物は、他の熱可塑性プラスチックと共に
、成形製品及びフィルムを与えるための公知の方法で加
工することができる。
を含有する混合物は、他の熱可塑性プラスチックと共に
、成形製品及びフィルムを与えるための公知の方法で加
工することができる。
【0048】
【実施例】以下のそれぞれの場合に記した相対粘度ηr
elは、いずれも、100mlの塩化メチレン中の0.
5gの重合体の溶液について25℃において測定した。 同じく以下に記した溶融粘度ηmeltは300℃で測
定した。
elは、いずれも、100mlの塩化メチレン中の0.
5gの重合体の溶液について25℃において測定した。 同じく以下に記した溶融粘度ηmeltは300℃で測
定した。
【0049】
実施例1
還流凝縮器、撹拌機、温度計及び導入管を備えた1
lのガラスフラスコ中に最初に18℃において19.9
g(0.05モル)の1,1−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−オクタフルオロシクロペンタン(純度98
%)、10g(0.25モル)の水酸化ナトリウム、2
00mlの蒸留水及び200mlの塩化メチレンを入れ
、7.5g(0.075モル)のホスゲンを20分かけ
て通じた。次いで1モル%(ビスフェノールに対して)
のN−エチルピリジンを触媒として加え、20℃で1時
間の撹拌を続けた。次いで混合物をりん酸で酸性化し、
有期相を中性となるまで蒸留水で洗浄した。有期相を乾
燥したのち濃縮した(60℃、10ミリバールにおいて
12時間)。このようにして16.1gのポリカーボネ
ートを取得した。生成物は下記の特性値を有していた: ηrel=1.157 ηmelt=210Pa・s Tg=155.5℃ 屈折率ηD20=1.540 実施例2 手順は実施例1と同様であったが、99.9%の高
純度の1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−オ
クタフルオロシクロペンタンを使用した。ηrel=2
.335を有する14.7gのポリカーボネートを取得
した。
lのガラスフラスコ中に最初に18℃において19.9
g(0.05モル)の1,1−ビス−(4−ヒドロキシ
フェニル)−オクタフルオロシクロペンタン(純度98
%)、10g(0.25モル)の水酸化ナトリウム、2
00mlの蒸留水及び200mlの塩化メチレンを入れ
、7.5g(0.075モル)のホスゲンを20分かけ
て通じた。次いで1モル%(ビスフェノールに対して)
のN−エチルピリジンを触媒として加え、20℃で1時
間の撹拌を続けた。次いで混合物をりん酸で酸性化し、
有期相を中性となるまで蒸留水で洗浄した。有期相を乾
燥したのち濃縮した(60℃、10ミリバールにおいて
12時間)。このようにして16.1gのポリカーボネ
ートを取得した。生成物は下記の特性値を有していた: ηrel=1.157 ηmelt=210Pa・s Tg=155.5℃ 屈折率ηD20=1.540 実施例2 手順は実施例1と同様であったが、99.9%の高
純度の1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−オ
クタフルオロシクロペンタンを使用した。ηrel=2
.335を有する14.7gのポリカーボネートを取得
した。
【0050】
実施例3
実施例1におけると同様な手順に従ったが、19.
9g(0.05モル)の1,1−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−オクタフルオロシクロペンタン、11.
4g(0.05モル)の2,2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパン、20gの水酸化ナトリウム、
400mlの蒸留水、400mlの塩化メチレン、30
0mgのp−tert−ブチルフェノール、15g(0
.15モル)のホスゲン及び1モル%のN−エチルピペ
リジンを使用した。下記の特性値を有する27.5gの
ポリカーボネートを取得した。
9g(0.05モル)の1,1−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−オクタフルオロシクロペンタン、11.
4g(0.05モル)の2,2−ビス−(4−ヒドロキ
シフェニル)−プロパン、20gの水酸化ナトリウム、
400mlの蒸留水、400mlの塩化メチレン、30
0mgのp−tert−ブチルフェノール、15g(0
.15モル)のホスゲン及び1モル%のN−エチルピペ
リジンを使用した。下記の特性値を有する27.5gの
ポリカーボネートを取得した。
【0051】
ηrel=1.207
ηmelt=120Pa・s
Tg=151.5℃
屈折率ηD20=1.507
実施例4
実施例3におけると同様な手順に従ったが、連鎖停
止剤として450mgのp−tert−ブチルフェノー
ルを用いた。下記の特性値を有する33.4gのポリカ
ーボネートを取得した: ηrel=1.152 ηmelt=82.2Pa・s Tg=154℃ 屈折率ηD20=1.510。
止剤として450mgのp−tert−ブチルフェノー
ルを用いた。下記の特性値を有する33.4gのポリカ
ーボネートを取得した: ηrel=1.152 ηmelt=82.2Pa・s Tg=154℃ 屈折率ηD20=1.510。
【0052】
実施例5
1,1−ビス−(4−ヒドロキシフェニル)−オク
タフルオロシクロペンタンの製造(本発明によるもので
はない)。
タフルオロシクロペンタンの製造(本発明によるもので
はない)。
【0053】容量5lのV4A鋼製耐圧撹拌器中に5℃
において(氷冷)1700mlの無水ふっ化水素酸中の
684g(3.0モル)のオクタフルオロシクロペンタ
ノンを最初に入れた。次いで575g(6.1モル)の
フェノールを加え、反応物の温度を25〜40℃に上げ
、混合物を6時間撹拌した。次いでふっ化水素酸を10
0ミリバール以下で50℃において留去し、黄白色の残
留物(約1200g)を実質的に酸を含有しなくなるま
で水で洗浄した。乾燥後に、粗生成物は164〜167
℃の融点を有していた。
において(氷冷)1700mlの無水ふっ化水素酸中の
684g(3.0モル)のオクタフルオロシクロペンタ
ノンを最初に入れた。次いで575g(6.1モル)の
フェノールを加え、反応物の温度を25〜40℃に上げ
、混合物を6時間撹拌した。次いでふっ化水素酸を10
0ミリバール以下で50℃において留去し、黄白色の残
留物(約1200g)を実質的に酸を含有しなくなるま
で水で洗浄した。乾燥後に、粗生成物は164〜167
℃の融点を有していた。
【0054】乾燥物を2000mlの濃度5%の水酸化
ナトリウム水溶液中に溶解し、濃度10%の塩酸中で撹
拌することによって再沈殿させることにより、さらに精
製した。吸引濾過と乾燥後に、168〜170℃の融点
を有する1140g(2.86モル)の分析的に純粋な
物質を得た。再沈殿後の収率は、使用したオクタフルオ
ロシクロペンタノンに対して95.3%であった。
ナトリウム水溶液中に溶解し、濃度10%の塩酸中で撹
拌することによって再沈殿させることにより、さらに精
製した。吸引濾過と乾燥後に、168〜170℃の融点
を有する1140g(2.86モル)の分析的に純粋な
物質を得た。再沈殿後の収率は、使用したオクタフルオ
ロシクロペンタノンに対して95.3%であった。
【0055】本発明の主な特徴および態様を記すと次の
とおりである。
とおりである。
【0056】1.式(I)
【0057】
【化9】
【0058】式中で
lは2〜600の整数を表わし、n、o及びpは特定成
分のモル数を表わし且つ下記条件:
分のモル数を表わし且つ下記条件:
【0059】
【数13】n+o=p
及び
【0060】
【数14】o:(n+o)=0.01〜1を満足し、m
はゼロ又は1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に
、それぞれ水素、C1〜C5−アルキル又はハロゲンを
表わし、Yは単結合、酸素、硫黄、SO2又はC1〜C
8−アルキレン、C2〜C8−アルキリデン、C3〜C
12−シクロアルキレンアルキリデン、C7〜C18ア
ラルキレン又はC7〜C18−アラルキリデン基を表わ
し、X1及びX2は、相互に無関係に、ふっ素又は塩素
を表わし、且つ R5〜R8は、相互に無関係に、それぞれ水素、C1〜
C5−アルキル、ベンジル、フェニル、C1〜C5−ア
ルコキシ、ベンジルオキシ、フェノキシ又はハロゲンを
表わす、の芳香族ポリカーボネート。
はゼロ又は1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に
、それぞれ水素、C1〜C5−アルキル又はハロゲンを
表わし、Yは単結合、酸素、硫黄、SO2又はC1〜C
8−アルキレン、C2〜C8−アルキリデン、C3〜C
12−シクロアルキレンアルキリデン、C7〜C18ア
ラルキレン又はC7〜C18−アラルキリデン基を表わ
し、X1及びX2は、相互に無関係に、ふっ素又は塩素
を表わし、且つ R5〜R8は、相互に無関係に、それぞれ水素、C1〜
C5−アルキル、ベンジル、フェニル、C1〜C5−ア
ルコキシ、ベンジルオキシ、フェノキシ又はハロゲンを
表わす、の芳香族ポリカーボネート。
【0061】2.式(I)中において
lは4〜400の整数を表わし、n、o及びpは下記条
件
件
【0062】
【数15】n+o=p
及び
【0063】
【数16】o:(n+o)=0.05〜1を満足し、m
は1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、それぞ
れ水素、メチル、塩素又は臭素を表わし、Yは硫黄、S
O2又はC1〜C8−アルキレン、C2〜C8−アルキ
リデン、C5〜C6−シクロアルキレン、C5〜C6−
シクロヘキシリデン、C7〜C15−アラルキレン又は
C7〜C15−アラルキリデン基を表わし、X1及びX
2は、ふっ素を表わし且つR5〜R8は、相互に無関係
に、水素、メチル、メトキシ、塩素又は臭素を表わすこ
とを特徴とする上記第1項記載の芳香族ポリカーボネー
ト。
は1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、それぞ
れ水素、メチル、塩素又は臭素を表わし、Yは硫黄、S
O2又はC1〜C8−アルキレン、C2〜C8−アルキ
リデン、C5〜C6−シクロアルキレン、C5〜C6−
シクロヘキシリデン、C7〜C15−アラルキレン又は
C7〜C15−アラルキリデン基を表わし、X1及びX
2は、ふっ素を表わし且つR5〜R8は、相互に無関係
に、水素、メチル、メトキシ、塩素又は臭素を表わすこ
とを特徴とする上記第1項記載の芳香族ポリカーボネー
ト。
【0064】3.式(I)中においてlは24〜300
の整数を表わし、n、o及びpは下記の条件
の整数を表わし、n、o及びpは下記の条件
【0065
】
】
【数17】n+o=p及び
【0066】
【数18】o:(n+o)=0.1〜1を満足し、mは
1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、水素又は
メチルを表わし、Yは硫黄、SO2又はC1〜C5−ア
ルキレン、C2〜C5−アルキリデン、シクロヘキシレ
ン、シクロヘキシリデン、C7〜C13−アラルキレン
又はC7〜C13−アラルキリデン基を表わし、X1及
びX2はふっ素を表わし且つR5〜R8は相互に無関係
に水素又はメチルを表わすことを特徴とする上記第1項
記載の芳香族ポリカーボネート。
1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、水素又は
メチルを表わし、Yは硫黄、SO2又はC1〜C5−ア
ルキレン、C2〜C5−アルキリデン、シクロヘキシレ
ン、シクロヘキシリデン、C7〜C13−アラルキレン
又はC7〜C13−アラルキリデン基を表わし、X1及
びX2はふっ素を表わし且つR5〜R8は相互に無関係
に水素又はメチルを表わすことを特徴とする上記第1項
記載の芳香族ポリカーボネート。
【0067】4.Oモルの式(II)
【0068】
【化10】
【0069】式中で使用した記号は上記第1項記載の意
味を有する、のビスフェノールを、必要に応じ、nモル
の式(III)
味を有する、のビスフェノールを、必要に応じ、nモル
の式(III)
【0070】
【化11】
【0071】式中で使用した記号は上記の第1項記載の
意味を有する、のビスフェノールの添加と共に、少なく
ともpモルのホスゲン、COBr2及び/又はビスクロ
ロ炭酸エステルと、必要に応じ触媒、連鎖停止剤及び/
又は枝分れ剤の添加のもとで、反応させ且つその際に条
件
意味を有する、のビスフェノールの添加と共に、少なく
ともpモルのホスゲン、COBr2及び/又はビスクロ
ロ炭酸エステルと、必要に応じ触媒、連鎖停止剤及び/
又は枝分れ剤の添加のもとで、反応させ且つその際に条
件
【0072】
【数19】n+o>p
及び
【0073】
【数20】o:(n+o)=0.01〜1を保持するこ
とを特徴とする上記第1項記載のポリカーボネートの製
造方法。
とを特徴とする上記第1項記載のポリカーボネートの製
造方法。
【0074】5.第三アミン又は第四アンモニウム塩を
触媒として使用することを特徴とする上記第4項記載の
方法。
触媒として使用することを特徴とする上記第4項記載の
方法。
【0075】6.連鎖停止剤としてモノフェノールを使
用することを特徴とする上記第4項記載の方法。
用することを特徴とする上記第4項記載の方法。
【0076】7.枝分れ剤としてトリフェノール及びテ
トラフェノール又はトリカルボン酸クロリド及びテトラ
カルボン酸クロリドを使用することを特徴とする上記第
4項記載の方法。
トラフェノール又はトリカルボン酸クロリド及びテトラ
カルボン酸クロリドを使用することを特徴とする上記第
4項記載の方法。
【0077】8.式(II)及び、必要ならば、式(I
II)のビスフェノール又はビスフェノール類を先ずア
ルカリ水溶液と混合し、次いでポリカーボネートに対す
る溶剤を加え、次いで0〜100℃の温度で撹拌しなが
らホスゲン、COBr2又はビスクロロ炭酸エステルを
加え、その間は反応混合物のpHを10以上の値に保持
し、且つ必要ならば有機相の洗浄後に、生成したポリカ
ーボネートを、有機相からのその沈殿によって又は完全
に又は部分的に溶剤を蒸発又はストリッピングすること
によって、単離することを特徴とする、上記第4〜7項
のいずれかに記載の方法。
II)のビスフェノール又はビスフェノール類を先ずア
ルカリ水溶液と混合し、次いでポリカーボネートに対す
る溶剤を加え、次いで0〜100℃の温度で撹拌しなが
らホスゲン、COBr2又はビスクロロ炭酸エステルを
加え、その間は反応混合物のpHを10以上の値に保持
し、且つ必要ならば有機相の洗浄後に、生成したポリカ
ーボネートを、有機相からのその沈殿によって又は完全
に又は部分的に溶剤を蒸発又はストリッピングすること
によって、単離することを特徴とする、上記第4〜7項
のいずれかに記載の方法。
【0078】9.光学装置の製造における上記第1項記
載のポリカーボネートの使用。
載のポリカーボネートの使用。
【0079】10.上記第1項記載のポリカーボネート
及びその他の熱可塑性プラスチックを含有する混合物。
及びその他の熱可塑性プラスチックを含有する混合物。
Claims (2)
- 【請求項1】 式(I) 【化1】 式中でlは2〜600の整数を表わし、n、o及びpは
特定成分のモル数を表わし且つ下記条件:【数1】n+
o=p 及び 【数2】o:(n+o)=0.01〜1を満足し、mは
ゼロ又は1を表わし、R1〜R4は、相互に無関係に、
それぞれ水素、C1〜C5−アルキル又はハロゲンを表
わし、Yは単結合、酸素、硫黄、SO2又はC1〜C8
−アルキレン、C2〜C8−アルキリデン、C3〜C1
2−シクロアルキレンアルキリデン、C7〜C18アラ
ルキレン又はC7〜C18−アラルキリデン基を表わし
、X1及びX2は、相互に無関係に、ふっ素又は塩素を
表わし、且つ R5〜R8は、相互に無関係に、それぞれ水素、C1〜
C5−アルキル、ベンジル、フェニル、C1〜C5−ア
ルコキシ、ベンジルオキシ、フェノキシ又はハロゲンを
表わす、の芳香族ポリカーボネート。 - 【請求項2】 Oモルの式(II) 【化2】 式中で使用した記号は特許請求の範囲第1項記載の意味
を有する、のビスフェノールを、必要に応じ、nモルの
式(III) 【化3】 式中で使用した記号は特許請求の範囲第1項記載の意味
を有する、のビスフェノールの添加と共に、少なくとも
pモルのホスゲン、COBr2及び/又はビスクロロ炭
酸エステルと、必要に応じ触媒、連鎖停止剤及び/又は
枝分れ剤の添加のもとで、反応させ且つその際に条件【
数3】n+o>p 及び 【数4】o:(n+o)=0.01〜1を保持すること
を特徴とする特許請求の範囲第1項記載のポリカーボネ
ートの製造方法。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
DE4001933A DE4001933A1 (de) | 1990-01-24 | 1990-01-24 | Aromatische polycarbonate mit einer speziellen fluorhaltigen bisphenolkomponente, deren herstellung und verwendung |
DE4001933.0 | 1990-01-24 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04213322A true JPH04213322A (ja) | 1992-08-04 |
Family
ID=6398631
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP3016887A Pending JPH04213322A (ja) | 1990-01-24 | 1991-01-18 | 特別なふつ素含有ビスフエノール成分を含有する芳香族ポリカーボネート及びその製造方法 |
Country Status (4)
Country | Link |
---|---|
US (1) | US5155205A (ja) |
EP (1) | EP0443133A3 (ja) |
JP (1) | JPH04213322A (ja) |
DE (1) | DE4001933A1 (ja) |
Families Citing this family (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
DE10063296A1 (de) * | 2000-12-19 | 2002-06-20 | Bayer Ag | Verfahren zur Herstellung von Kohlensäurediarylester |
WO2016137445A1 (en) | 2015-02-24 | 2016-09-01 | South Dakota Board Of Regents | Polycarbonates having superior dielectric properties suitable for energy dense capacitors |
Family Cites Families (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
SU132403A1 (ru) * | 1959-12-03 | 1960-11-30 | Н.П. Гамбарян | Способ получени термически стабильных фторсодержащих ароматических сложных полиэфиров и поликарбонатов |
US4346211A (en) * | 1979-10-22 | 1982-08-24 | Mobay Chemical Corporation | Copolycarbonates prepared with 2,2'-bis(p-hydroxyphenyl) 1,1,1,3,3,3-hexafluoropropane |
US4379910A (en) * | 1980-12-31 | 1983-04-12 | General Electric Co. | Flame retardant aromatic polycarbonate compositions made from fluorinated diphenols |
JPS62215959A (ja) * | 1986-03-18 | 1987-09-22 | Canon Inc | 電子写真感光体 |
JP2593347B2 (ja) * | 1988-09-30 | 1997-03-26 | コニカ株式会社 | 感光体 |
-
1990
- 1990-01-24 DE DE4001933A patent/DE4001933A1/de not_active Withdrawn
- 1990-12-12 EP EP19900123882 patent/EP0443133A3/de not_active Withdrawn
-
1991
- 1991-01-15 US US07/641,235 patent/US5155205A/en not_active Expired - Fee Related
- 1991-01-18 JP JP3016887A patent/JPH04213322A/ja active Pending
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
EP0443133A3 (en) | 1993-03-10 |
US5155205A (en) | 1992-10-13 |
EP0443133A2 (de) | 1991-08-28 |
DE4001933A1 (de) | 1991-07-25 |
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