JPH04201181A - 研磨用フェルト - Google Patents
研磨用フェルトInfo
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- JPH04201181A JPH04201181A JP2330062A JP33006290A JPH04201181A JP H04201181 A JPH04201181 A JP H04201181A JP 2330062 A JP2330062 A JP 2330062A JP 33006290 A JP33006290 A JP 33006290A JP H04201181 A JPH04201181 A JP H04201181A
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- 238000005498 polishing Methods 0.000 title abstract description 51
- 229920005989 resin Polymers 0.000 claims abstract description 36
- 239000011347 resin Substances 0.000 claims abstract description 36
- 239000000835 fiber Substances 0.000 claims abstract description 33
- 229920002803 thermoplastic polyurethane Polymers 0.000 claims abstract description 14
- 238000002788 crimping Methods 0.000 abstract description 3
- 238000006757 chemical reactions by type Methods 0.000 abstract 2
- 238000005470 impregnation Methods 0.000 description 9
- XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N water Substances O XLYOFNOQVPJJNP-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 9
- 235000012431 wafers Nutrition 0.000 description 7
- XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N Silicon Chemical compound [Si] XUIMIQQOPSSXEZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 6
- 238000004080 punching Methods 0.000 description 6
- 229910052710 silicon Inorganic materials 0.000 description 6
- 239000010703 silicon Substances 0.000 description 6
- 239000006061 abrasive grain Substances 0.000 description 5
- 230000000052 comparative effect Effects 0.000 description 5
- 239000012948 isocyanate Substances 0.000 description 5
- 150000002513 isocyanates Chemical class 0.000 description 5
- 230000005012 migration Effects 0.000 description 5
- 238000013508 migration Methods 0.000 description 5
- 239000002002 slurry Substances 0.000 description 5
- 229920000554 ionomer Polymers 0.000 description 4
- 239000002131 composite material Substances 0.000 description 3
- 239000011521 glass Substances 0.000 description 3
- -1 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 229920000139 polyethylene terephthalate Polymers 0.000 description 3
- 239000005020 polyethylene terephthalate Substances 0.000 description 3
- 239000002981 blocking agent Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 2
- 230000007423 decrease Effects 0.000 description 2
- 230000000694 effects Effects 0.000 description 2
- 230000008020 evaporation Effects 0.000 description 2
- 238000001704 evaporation Methods 0.000 description 2
- 230000014759 maintenance of location Effects 0.000 description 2
- 230000008018 melting Effects 0.000 description 2
- 238000002844 melting Methods 0.000 description 2
- 229920000642 polymer Polymers 0.000 description 2
- 230000000087 stabilizing effect Effects 0.000 description 2
- JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N AsGa Chemical compound [As]#[Ga] JBRZTFJDHDCESZ-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M Bisulfite Chemical compound OS([O-])=O LSNNMFCWUKXFEE-UHFFFAOYSA-M 0.000 description 1
- 229910001218 Gallium arsenide Inorganic materials 0.000 description 1
- PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N aluminium oxide Inorganic materials [O-2].[O-2].[O-2].[Al+3].[Al+3] PNEYBMLMFCGWSK-UHFFFAOYSA-N 0.000 description 1
- 239000003795 chemical substances by application Substances 0.000 description 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
- 238000010494 dissociation reaction Methods 0.000 description 1
- 230000005593 dissociations Effects 0.000 description 1
- 238000009826 distribution Methods 0.000 description 1
- 238000001035 drying Methods 0.000 description 1
- 229920001971 elastomer Polymers 0.000 description 1
- 238000002474 experimental method Methods 0.000 description 1
- 239000005357 flat glass Substances 0.000 description 1
- 239000013305 flexible fiber Substances 0.000 description 1
- 230000003780 keratinization Effects 0.000 description 1
- 238000010030 laminating Methods 0.000 description 1
- 239000000203 mixture Substances 0.000 description 1
- 229920000728 polyester Polymers 0.000 description 1
- 238000006116 polymerization reaction Methods 0.000 description 1
- 239000007787 solid Substances 0.000 description 1
- 238000003892 spreading Methods 0.000 description 1
- 229920001169 thermoplastic Polymers 0.000 description 1
- 229920005992 thermoplastic resin Polymers 0.000 description 1
- 239000004416 thermosoftening plastic Substances 0.000 description 1
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明はブラウン管のパネルフェイス、平板ガラス、
レンズ、シリコンウェハ、ガリウム・ヒ素ウェハなどの
研磨に用いて好適な研磨用フェルトに関するものである
。
レンズ、シリコンウェハ、ガリウム・ヒ素ウェハなどの
研磨に用いて好適な研磨用フェルトに関するものである
。
一般に、この種の研磨用フェルトは、第8図示の如くフ
ェルト本体lO1は鋸歯形やスパイラル形等のクリンプ
を有しているポリエステルなどの熱可塑性繊維(ステー
プル)S2からなるウェブを多数層積層し、ニードルパ
ンチングによリ一体化してなる。102はニードルパン
チング族である。ここに鋸歯形やスパイラル形等のクリ
ンプを有しているステープルを使用するのは、研磨速度
を高め、被研磨面の表面品位を向上させるなどのためで
ある。
ェルト本体lO1は鋸歯形やスパイラル形等のクリンプ
を有しているポリエステルなどの熱可塑性繊維(ステー
プル)S2からなるウェブを多数層積層し、ニードルパ
ンチングによリ一体化してなる。102はニードルパン
チング族である。ここに鋸歯形やスパイラル形等のクリ
ンプを有しているステープルを使用するのは、研磨速度
を高め、被研磨面の表面品位を向上させるなどのためで
ある。
しかしながら、上記ステープルの鋸歯形やスパイラル形
等のクリンプは、カード(開繊機)などで開繊するとき
に伸ばされ、しかも、クリンプに復元力がないか小さい
ために、第9図及び第10図に示す如く、方向性を持っ
た二次元的な広がりのステープルが厚さ方向に積層され
たようなバットとなり、従って、ニードルパンチング族
102によってもそれ程立体的に広がりを持つバットに
は変化していなかった。換言すれば、フェルト本体を構
成するステープルが被研磨面と平行となる上にクリンプ
がないので、クッション性が劣り、被研磨面への形状フ
ィツトの適応性が低いものであった。
等のクリンプは、カード(開繊機)などで開繊するとき
に伸ばされ、しかも、クリンプに復元力がないか小さい
ために、第9図及び第10図に示す如く、方向性を持っ
た二次元的な広がりのステープルが厚さ方向に積層され
たようなバットとなり、従って、ニードルパンチング族
102によってもそれ程立体的に広がりを持つバットに
は変化していなかった。換言すれば、フェルト本体を構
成するステープルが被研磨面と平行となる上にクリンプ
がないので、クッション性が劣り、被研磨面への形状フ
ィツトの適応性が低いものであった。
また、第11図のような初期状態にある研磨面の表面の
ステープルS2及びクッション体形成樹脂103が、研
磨時の摩擦熱によって第12図の如(、軟化し、角質化
し易いために、砥粒保持流動能力が低下し、研磨速度が
低くなるとともに砥粒を噛み込んで被研磨面を傷付けて
しまう虞れがあった・ この発明は上記の点に鑑み、その欠点とするところを解
消するためのもので、クッション性及び被研磨面へのフ
ィツト性が良好で、研磨面のステープルが角質化せず、
被研磨面の研磨量が高く、高品位な被研磨面が得られる
研磨用フェルトを提供することを目的としている。
ステープルS2及びクッション体形成樹脂103が、研
磨時の摩擦熱によって第12図の如(、軟化し、角質化
し易いために、砥粒保持流動能力が低下し、研磨速度が
低くなるとともに砥粒を噛み込んで被研磨面を傷付けて
しまう虞れがあった・ この発明は上記の点に鑑み、その欠点とするところを解
消するためのもので、クッション性及び被研磨面へのフ
ィツト性が良好で、研磨面のステープルが角質化せず、
被研磨面の研磨量が高く、高品位な被研磨面が得られる
研磨用フェルトを提供することを目的としている。
上記目的を達成するため、この発明は潜在捲縮性を有し
、かつ摩耗し易い繊維を主体とするフェルト本体に、熱
反応型ウレタン樹脂を含むクッション体形成樹脂を含浸
させてなる。即ち、研磨熱で溶融した樹脂が膜化し難い
、厚手のクッション性のあるフェルトが実現でき、しか
も、研磨面を構成する繊維は被研磨面との摩擦によって
適度に摩耗して次々と新しい繊維を露出するとともに、
新たに露出した繊維は研磨時の温熱で即座に捲縮し、高
研磨性を長期にわたり持続できるものである。
、かつ摩耗し易い繊維を主体とするフェルト本体に、熱
反応型ウレタン樹脂を含むクッション体形成樹脂を含浸
させてなる。即ち、研磨熱で溶融した樹脂が膜化し難い
、厚手のクッション性のあるフェルトが実現でき、しか
も、研磨面を構成する繊維は被研磨面との摩擦によって
適度に摩耗して次々と新しい繊維を露出するとともに、
新たに露出した繊維は研磨時の温熱で即座に捲縮し、高
研磨性を長期にわたり持続できるものである。
以下、この発明を添付の図面に基づいて説明する。
第1図は本願フェルトの略示的断面図、第2図は拡大断
面図、第3図は第2図の一部を更に拡大した断面図、第
4図は研磨面の初期状態を示す拡大図である。
面図、第3図は第2図の一部を更に拡大した断面図、第
4図は研磨面の初期状態を示す拡大図である。
図において、1はフェルト本体で、該フェルト本体1は
潜在捲縮性を有し、かつ、摩耗し易い繊維(ステープル
)SIを主体とするウェブを多数層積層し、ニードルパ
ンチングにより一体化してなる。
潜在捲縮性を有し、かつ、摩耗し易い繊維(ステープル
)SIを主体とするウェブを多数層積層し、ニードルパ
ンチングにより一体化してなる。
2はニードルパンチング痕で、フェルト本体1の厚み方
向に形成されている。
向に形成されている。
前記ステープルS1は乾熱では140°C以上、温熱(
湯)では80°C以上に加熱させると、著しく捲縮(4
0〜70個/ず勺を発現させるものであり、第1図の如
くフェルト本体lの表面(研磨面)に露出しているステ
ープルSIは上記熱によりカールlaする。この場合、
フェルト本体1の内部にあるステープルは表面に比べて
自由度が低いので表面程ではないが、カールla’する
(第2図参照)。従って、そのカール分だけフェルト本
体1は厚み方向、面積方向共に収縮することとなる。
湯)では80°C以上に加熱させると、著しく捲縮(4
0〜70個/ず勺を発現させるものであり、第1図の如
くフェルト本体lの表面(研磨面)に露出しているステ
ープルSIは上記熱によりカールlaする。この場合、
フェルト本体1の内部にあるステープルは表面に比べて
自由度が低いので表面程ではないが、カールla’する
(第2図参照)。従って、そのカール分だけフェルト本
体1は厚み方向、面積方向共に収縮することとなる。
前記ステープルSIとして具体的には、例えばポリエチ
レンテレフタレート重合体と、5−ナトリウムスルホイ
ソフタル酸を共重合したポリエチレンテレフタレートよ
りなるそれぞれの繊維をサイドバイサイドに接合化した
複合繊維、又は、ポリエチレンテレフタレート重合体で
紡糸し、その重合度の高いものと、低いものをサイドバ
イサイドに接合化した複合繊維などがある。
レンテレフタレート重合体と、5−ナトリウムスルホイ
ソフタル酸を共重合したポリエチレンテレフタレートよ
りなるそれぞれの繊維をサイドバイサイドに接合化した
複合繊維、又は、ポリエチレンテレフタレート重合体で
紡糸し、その重合度の高いものと、低いものをサイドバ
イサイドに接合化した複合繊維などがある。
これらの複合繊維は接合化した両成分の熱収縮の差を利
用して多くの捲縮を発現できるようにしたものである。
用して多くの捲縮を発現できるようにしたものである。
また、摩耗し易いステープルS、として、2〜4デニー
ルの太さのものが用いられる。この太さのステープルを
フェルト主体1として構成することにより研磨時の摩擦
により、後記する含浸樹脂の摩耗と共に適度に摩耗し、
次々と新しいステープルを露出させるから、目詰まりが
生じ難(、フェルト本体の厚み方向が有効に利用できる
ものである。従って、高研磨性を長期にわたって持続で
きることとなる。
ルの太さのものが用いられる。この太さのステープルを
フェルト主体1として構成することにより研磨時の摩擦
により、後記する含浸樹脂の摩耗と共に適度に摩耗し、
次々と新しいステープルを露出させるから、目詰まりが
生じ難(、フェルト本体の厚み方向が有効に利用できる
ものである。従って、高研磨性を長期にわたって持続で
きることとなる。
前記フェルト本体lは前記ステープルS1だけで構成す
ることもあるが、フェルト本体1の構造をしっかりさせ
るために、低融点成分含有繊維を30%を限度として混
合することもある。
ることもあるが、フェルト本体1の構造をしっかりさせ
るために、低融点成分含有繊維を30%を限度として混
合することもある。
3はクッション体形成樹脂で、該クッション体形成樹脂
3は、前記ステープルS1を包囲するクッション領域を
形成して砥粒保持流動能力を高めるためのものである。
3は、前記ステープルS1を包囲するクッション領域を
形成して砥粒保持流動能力を高めるためのものである。
前記クッション体形成樹脂3には、100°C以下でブ
ロック剤が解離する水系の熱反応型ウレタン樹脂(ブロ
ンク化イソシアふ一ト)が含まれている。この1ブロン
ク剤」としては解離温度−約50°Cの重亜硫酸塩を使
用している。
ロック剤が解離する水系の熱反応型ウレタン樹脂(ブロ
ンク化イソシアふ一ト)が含まれている。この1ブロン
ク剤」としては解離温度−約50°Cの重亜硫酸塩を使
用している。
前記クッション体形成樹脂3はステーブルS。
に対し、重量比で10〜60%を含浸、固化してなり、
フェルト本体1に適度な柔軟性を付与するようになって
いる。
フェルト本体1に適度な柔軟性を付与するようになって
いる。
前記熱反応型ウレタン樹脂(ブロック化イソシアネート
)以外のクッション体形成樹脂3の成分としては、アイ
オノマー系のウレタン樹脂やカルボキシル変成SBRな
どに代表される水系の熱可塑性樹脂が用いられる。
)以外のクッション体形成樹脂3の成分としては、アイ
オノマー系のウレタン樹脂やカルボキシル変成SBRな
どに代表される水系の熱可塑性樹脂が用いられる。
前記熱反応型ウレタン樹脂を含むクッション体形成樹脂
3は、フェルト本体1に含浸された後、反応硬化時にお
ける水分の蒸発の途中で厚さ方向に均一性のある樹脂分
布をなしてステーブルの周囲を覆い、しかも、ステーブ
ルとステーブルとの接触部分を第3図示の如(付着する
から、フェルト本体1はステーブル自身の三次元変形(
捲縮)によるクッションだけでなく、そのステーブル同
士の接触点の接合による適度な空間とクッション性が発
現するようになり、潰れ難い研磨用フェルト(本願品)
として実現される。第4図は本願品の研磨面の初期状態
を示すものである。この状態は研磨時の摩擦熱による軟
化や角質化がないために寿命が尽きるまで持続される。
3は、フェルト本体1に含浸された後、反応硬化時にお
ける水分の蒸発の途中で厚さ方向に均一性のある樹脂分
布をなしてステーブルの周囲を覆い、しかも、ステーブ
ルとステーブルとの接触部分を第3図示の如(付着する
から、フェルト本体1はステーブル自身の三次元変形(
捲縮)によるクッションだけでなく、そのステーブル同
士の接触点の接合による適度な空間とクッション性が発
現するようになり、潰れ難い研磨用フェルト(本願品)
として実現される。第4図は本願品の研磨面の初期状態
を示すものである。この状態は研磨時の摩擦熱による軟
化や角質化がないために寿命が尽きるまで持続される。
また、前述の如くクッション体形成樹脂3に熱反応型ウ
レタン樹脂を混入したのは、乾燥時の熱によってブロッ
ク剤が解離して三次元網目構造体となり、該樹脂3がフ
ェルト本体の表面に移動する現象(マイグレーション)
を起き難くするためである。
レタン樹脂を混入したのは、乾燥時の熱によってブロッ
ク剤が解離して三次元網目構造体となり、該樹脂3がフ
ェルト本体の表面に移動する現象(マイグレーション)
を起き難くするためである。
前記クッション体形成樹脂3に混入するブロック化イソ
シアネートの混合割合についてはマイグレーションとの
関係により決定される。
シアネートの混合割合についてはマイグレーションとの
関係により決定される。
次表は、クッション体形成樹脂3に混入する熱反応型ウ
レタン樹脂の混合割合の異なる四種類の製品(ア)〜(
1)について、フェルト本体の厚さ(1)とマイグレー
ションとの関係を示したものである。
レタン樹脂の混合割合の異なる四種類の製品(ア)〜(
1)について、フェルト本体の厚さ(1)とマイグレー
ションとの関係を示したものである。
表1
上記表1より、熱反応型樹脂の比率を30%以上にすれ
ばマイグレーションは著しく発生しにくくなることが判
る。
ばマイグレーションは著しく発生しにくくなることが判
る。
ちなみに、単なる一般の水系樹脂をクッション体形成樹
脂3に混入した場合は、クッション体形成樹脂3をフェ
ルト本体1に含浸させた後、反応硬化時に水分蒸発と共
にマイグレーションを起こすことから不都合である。
脂3に混入した場合は、クッション体形成樹脂3をフェ
ルト本体1に含浸させた後、反応硬化時に水分蒸発と共
にマイグレーションを起こすことから不都合である。
第5図は前述の如く潜在捲縮性を有し、かつ摩耗し易い
ステーブルS、を主体とするフェルト本体1に、熱反応
型ウレタン樹脂を含むクッション体形成樹脂3を含浸さ
せてなる本願品を、ドラム方式の研磨装置11のトラム
体12の外面に適用した例を示している。該研磨装置1
1のドラム体I2は空気を充填したゴムチューブよりな
り、その弾性を利用して本願品(研磨フェルト)を被研
磨面であるガラス面13に密着し回転させ、砥粒スラリ
ー14を補給しつつ、被研磨面を左右方向へ移動させた
り、回転させることにより研磨を行うように構成してい
る。
ステーブルS、を主体とするフェルト本体1に、熱反応
型ウレタン樹脂を含むクッション体形成樹脂3を含浸さ
せてなる本願品を、ドラム方式の研磨装置11のトラム
体12の外面に適用した例を示している。該研磨装置1
1のドラム体I2は空気を充填したゴムチューブよりな
り、その弾性を利用して本願品(研磨フェルト)を被研
磨面であるガラス面13に密着し回転させ、砥粒スラリ
ー14を補給しつつ、被研磨面を左右方向へ移動させた
り、回転させることにより研磨を行うように構成してい
る。
第6図は前記本願品をディスク方式の研磨装置15の回
転ディスク16の下面に適用した例を示している。該回
転ディスク16は一定の圧力で本願品を被研磨面である
ガラス面13に密着させつつ回転できるようになってい
る。その回転中心軸16aは中空になり、砥粒スラリー
14の補給路になっている。被研磨面13とディスク1
6とは互いに逆方向に回転し、研磨速度を高め得るよう
にしている。
転ディスク16の下面に適用した例を示している。該回
転ディスク16は一定の圧力で本願品を被研磨面である
ガラス面13に密着させつつ回転できるようになってい
る。その回転中心軸16aは中空になり、砥粒スラリー
14の補給路になっている。被研磨面13とディスク1
6とは互いに逆方向に回転し、研磨速度を高め得るよう
にしている。
第7図は前記本願品をシリコンウェハ用研磨装置17の
回転テーブル18上に適用した例を示し′ている。この
装置は回転テーブル18の上面に対向し、該回転テーブ
ル18の回転とともに、連れまわりする複数個の小回転
体19の下面に設置したシリコンウェハ20を、砥粒ス
ラリー14を補給しつつ研磨できるようにしたものであ
る。
回転テーブル18上に適用した例を示し′ている。この
装置は回転テーブル18の上面に対向し、該回転テーブ
ル18の回転とともに、連れまわりする複数個の小回転
体19の下面に設置したシリコンウェハ20を、砥粒ス
ラリー14を補給しつつ研磨できるようにしたものであ
る。
(実験例1)
次に、下記製品1〜7を、第6図に示すディスク方式の
研磨装置に適用し、砥粒スラリーを補給しつつ、150
X150 wa角のガラス研磨を、0.3 kg/c
ill (圧力)にて行い、研磨量、寿命(時間と原因
)、被研磨面の表面品位を調べた処、表2の結果を得た
。
研磨装置に適用し、砥粒スラリーを補給しつつ、150
X150 wa角のガラス研磨を、0.3 kg/c
ill (圧力)にて行い、研磨量、寿命(時間と原因
)、被研磨面の表面品位を調べた処、表2の結果を得た
。
製品1(本願界):潜在捲縮性繊維 (2,5’X51
)〔ユニチカC−81)からなる8mm厚のフェルト本
体(密度0.22)に、ブロック化イソシアネート(第
1工業製薬E−37)を40%含むアイオノマー系水系
ウレタン樹脂(大日本インキHW312 )を含浸(含
浸後の密度0.42)させてなる。
)〔ユニチカC−81)からなる8mm厚のフェルト本
体(密度0.22)に、ブロック化イソシアネート(第
1工業製薬E−37)を40%含むアイオノマー系水系
ウレタン樹脂(大日本インキHW312 )を含浸(含
浸後の密度0.42)させてなる。
製品2(本願界):製品1と同じ潜在捲縮性繊維85%
と、低融点成分含有ステーブル(2’ X51)〔ユニ
チカメルティ]15%とを混合した8ffII11厚の
フェルト本体(密度0.23)に、製品1と同じ樹脂を
含浸(含浸後の密度0.43)させてなる。
と、低融点成分含有ステーブル(2’ X51)〔ユニ
チカメルティ]15%とを混合した8ffII11厚の
フェルト本体(密度0.23)に、製品1と同じ樹脂を
含浸(含浸後の密度0.43)させてなる。
製品3(本願界):製品1と同し潜在捲縮性繊維からな
る8IIII11厚のフェルト本体(密度0.34)に
、製品1と同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.51)さ
せてなる。
る8IIII11厚のフェルト本体(密度0.34)に
、製品1と同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.51)さ
せてなる。
製品4(本願界):製品1と同じ潜在捲縮性繊維85%
と、製品2と同じ低融点成分含有ステーブル15%とを
混合した8IIII11厚のフェルト本体(密度0.3
5)に、製品1と同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.5
2)させてなる。
と、製品2と同じ低融点成分含有ステーブル15%とを
混合した8IIII11厚のフェルト本体(密度0.3
5)に、製品1と同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.5
2)させてなる。
製品5(比較品):従来ステープル(2,5’X51)
からなる8IIII11厚のフェルト本体く密度0.2
8)に、製品1と同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.4
5 )させてなる。
からなる8IIII11厚のフェルト本体く密度0.2
8)に、製品1と同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.4
5 )させてなる。
製品6(比較品):従来ステープル(2,5’X51)
からなる8mm厚のフェルト本体(密度0.34)に、
製品1と同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.51)させ
てなる。
からなる8mm厚のフェルト本体(密度0.34)に、
製品1と同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.51)させ
てなる。
製品7(比較品):従来ステープル(6’ X64 )
からなる8mm厚のフェルト本体(密度0.34)に、
製品lと同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.51)させ
てなる。
からなる8mm厚のフェルト本体(密度0.34)に、
製品lと同じ樹脂を含浸(含浸後の密度0.51)させ
てなる。
上記表2から、
■ 潜在捲縮性を有し、かつ摩耗し易い繊維を主体とす
る製品1〜4(本願界)は、従来ステープルからなる製
品5〜7(比較品)に比して研磨性が格段に向上してい
ることが判る。これは研磨面を構成する繊維が、被研磨
面との摩擦によって適度に摩耗して次々と新しい繊維を
露出し、しかも新たに露出した繊維は研磨熱で即座に捲
縮するから、被研磨面に対する密着性が向上し、研磨効
率を増大させるためである。
る製品1〜4(本願界)は、従来ステープルからなる製
品5〜7(比較品)に比して研磨性が格段に向上してい
ることが判る。これは研磨面を構成する繊維が、被研磨
面との摩擦によって適度に摩耗して次々と新しい繊維を
露出し、しかも新たに露出した繊維は研磨熱で即座に捲
縮するから、被研磨面に対する密着性が向上し、研磨効
率を増大させるためである。
■ 製品1〜4の本願界は、比較品に比して耐久性の高
いことが判る。これは研磨熱で軟化した樹脂の角質化が
なく、フェルトが摩耗による寿命になるまで使用できる
ことからである。
いことが判る。これは研磨熱で軟化した樹脂の角質化が
なく、フェルトが摩耗による寿命になるまで使用できる
ことからである。
■ 製品1〜4の本願界は、比較品に比して被研磨面の
表面品位に優れることが判る。これは本願界の研磨面が
上述の如く常に新しく、常に捲縮した状態にあるためで
ある。
表面品位に優れることが判る。これは本願界の研磨面が
上述の如く常に新しく、常に捲縮した状態にあるためで
ある。
なお、従来ステープルからなる製品5と製品6(比較品
)は、偏平化と表面の角質化のため、研磨効率が悪く、
優良な被研磨面の品位が得られない。
)は、偏平化と表面の角質化のため、研磨効率が悪く、
優良な被研磨面の品位が得られない。
製品7(比較品)は構成ステープルが太すぎて摩耗せず
、表面の軟化、角質化のため、研磨用フェルトとして使
用不能である。
、表面の軟化、角質化のため、研磨用フェルトとして使
用不能である。
〔実験例2〕
製品A(本願孔) :WI存在捲縮繊維(2,5’
X51)〔ユニチカC−81)のみからなる1、5mm
厚のフェルト本体(密度0.28 )に、ブロック化イ
ソシアネート (第1工業製薬E−37’) を40%
含むアイオノマー系水系ウレタン樹脂(大日本インキ■
HW312 )を含浸(含浸後の密度0.61 )させ
てなる。
X51)〔ユニチカC−81)のみからなる1、5mm
厚のフェルト本体(密度0.28 )に、ブロック化イ
ソシアネート (第1工業製薬E−37’) を40%
含むアイオノマー系水系ウレタン樹脂(大日本インキ■
HW312 )を含浸(含浸後の密度0.61 )させ
てなる。
製品B(比較孔):従来ステープル(2,5’ x51
)からなる1、5−厚のフェルト本体(密度0.29)
に、前記製品Aと同様のアイオノマー系水系ウレタン樹
脂を含浸(含浸後の密度0.60 )させてなる。
)からなる1、5−厚のフェルト本体(密度0.29)
に、前記製品Aと同様のアイオノマー系水系ウレタン樹
脂を含浸(含浸後の密度0.60 )させてなる。
上記製品AとBを第6図に示すシリコンウェハ用研磨装
置に適用し、砥粒スラリー(スノーテンクスC,PHI
Iに調整)を補給しながら回転ディスク上のシリコンウ
ェハ研磨を0.3 kg/c+fl (圧力)にて行い
、研磨速度に対する寿命及び被研磨面の表面品位を調べ
た処、表3の結果を得た。
置に適用し、砥粒スラリー(スノーテンクスC,PHI
Iに調整)を補給しながら回転ディスク上のシリコンウ
ェハ研磨を0.3 kg/c+fl (圧力)にて行い
、研磨速度に対する寿命及び被研磨面の表面品位を調べ
た処、表3の結果を得た。
表3
易い繊維を主体とする製品A(本願孔)は、従来ステー
ブルからなる製品B(比較孔)に比し、研磨速度と寿命
及び被研磨面の表面品位の何れも格段に優れていること
が判る。これは上述の如く本願孔の研磨面が、被研磨面
との摩擦によって適度に摩耗して次々と新しい繊維を露
出し、しかも、新たに露出した繊維は研磨熱で即座に捲
縮するから、被研磨面に対する密着性が向上するためで
ある。
ブルからなる製品B(比較孔)に比し、研磨速度と寿命
及び被研磨面の表面品位の何れも格段に優れていること
が判る。これは上述の如く本願孔の研磨面が、被研磨面
との摩擦によって適度に摩耗して次々と新しい繊維を露
出し、しかも、新たに露出した繊維は研磨熱で即座に捲
縮するから、被研磨面に対する密着性が向上するためで
ある。
なお、クッション体形成樹脂3には必要に応じて予め砥
粒(アルミナ、A 1203系、SiO□系、SiC系
等)を、微量〜100%(対樹脂固型分比)混入させれ
ば、研磨時のクッション体形成樹脂3の摩耗に応し、随
時、研磨面に混入砥粒が自然補給されるように構成する
ことも可能である。
粒(アルミナ、A 1203系、SiO□系、SiC系
等)を、微量〜100%(対樹脂固型分比)混入させれ
ば、研磨時のクッション体形成樹脂3の摩耗に応し、随
時、研磨面に混入砥粒が自然補給されるように構成する
ことも可能である。
(発明の効果〕
以上の如く、この発明の研磨用フェルトは、潜在捲縮性
を有し、かつ摩耗し易い繊維を主体とするフェルト本体
に、熱反応型ウレタン樹脂を含むクンジョン体形成樹脂
を含浸させてなるから、研磨熱で樹脂が溶融して膜化す
ることがなく、しかも、研磨面を構成する繊維は被研磨
面との摩擦によって適度に摩耗して次々と新しい繊維を
露出するとともに、新たに露出した繊維は研磨時の温熱
で即座に捲縮し、クッション性の向上、被研磨面へのフ
ィツト性、砥粒の保持及び流動性が良好であり、高研磨
性を長期にわたり持続できるものである。
を有し、かつ摩耗し易い繊維を主体とするフェルト本体
に、熱反応型ウレタン樹脂を含むクンジョン体形成樹脂
を含浸させてなるから、研磨熱で樹脂が溶融して膜化す
ることがなく、しかも、研磨面を構成する繊維は被研磨
面との摩擦によって適度に摩耗して次々と新しい繊維を
露出するとともに、新たに露出した繊維は研磨時の温熱
で即座に捲縮し、クッション性の向上、被研磨面へのフ
ィツト性、砥粒の保持及び流動性が良好であり、高研磨
性を長期にわたり持続できるものである。
従って、研磨効率、表面品位、耐久性のいずれにおいて
も飛躍的な改善が実現されるという優れた効果を奏する
ものである。
も飛躍的な改善が実現されるという優れた効果を奏する
ものである。
第1図は本願フェルトの略示的断面図、第2図は拡大断
面図、第3図は第2図の一部を更に拡大した断面図、第
4図は研磨面の初期状態を示す拡大図、第5図はドラム
方式の研磨装置の略示的断面図、第6図はディスク方式
の研磨装置の略示的断面図、第7図はシリコンウェハ用
研磨装置の略示的断面図、第8図は従来フェルトの略示
的断面図、第9図は同拡大断面図、第10図は第9図の
一部を更に拡大した断面図、第11図は研磨面の初期状
態を示す拡大図、第12図は研磨面の研磨後の状態を示
すを示す拡大図である。 1−フェルト本体 2−二−ドルパンチング痕 3−クッション体形成樹脂 S、−ステープル 1\ 第11!l 第2!!! 第3図 第41!! ス 第5yA 第 751! フ
面図、第3図は第2図の一部を更に拡大した断面図、第
4図は研磨面の初期状態を示す拡大図、第5図はドラム
方式の研磨装置の略示的断面図、第6図はディスク方式
の研磨装置の略示的断面図、第7図はシリコンウェハ用
研磨装置の略示的断面図、第8図は従来フェルトの略示
的断面図、第9図は同拡大断面図、第10図は第9図の
一部を更に拡大した断面図、第11図は研磨面の初期状
態を示す拡大図、第12図は研磨面の研磨後の状態を示
すを示す拡大図である。 1−フェルト本体 2−二−ドルパンチング痕 3−クッション体形成樹脂 S、−ステープル 1\ 第11!l 第2!!! 第3図 第41!! ス 第5yA 第 751! フ
Claims (1)
- 潜在捲縮性を有し、かつ摩耗し易い繊維を主体とする
フェルト本体に、熱反応型ウレタン樹脂を含むクッショ
ン体形成樹脂を含浸させたことを特徴とする研磨用フェ
ルト。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2330062A JPH04201181A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 研磨用フェルト |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2330062A JPH04201181A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 研磨用フェルト |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04201181A true JPH04201181A (ja) | 1992-07-22 |
Family
ID=18228358
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2330062A Pending JPH04201181A (ja) | 1990-11-30 | 1990-11-30 | 研磨用フェルト |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04201181A (ja) |
Cited By (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09155723A (ja) * | 1995-12-06 | 1997-06-17 | Nec Corp | 半導体基板研磨装置 |
WO1998039142A1 (en) * | 1997-03-07 | 1998-09-11 | Minnesota Mining And Manufacturing Company | Abrasive article for providing a clear surface finish on glass |
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JP2001513452A (ja) * | 1997-08-06 | 2001-09-04 | ローデル ホールディングス インコーポレイテッド | 連続的に変化し得る平坦化及び研磨パッドシステム |
JP2005059179A (ja) * | 2003-08-19 | 2005-03-10 | Japan Vilene Co Ltd | 精密研磨材 |
JP2009061584A (ja) * | 2007-08-16 | 2009-03-26 | Rohm & Haas Electronic Materials Cmp Holdings Inc | 濡れ制御を備えたケミカルメカニカル研磨パッド |
JP2012502483A (ja) * | 2008-09-04 | 2012-01-26 | イノパッド,インコーポレイテッド | 非捲縮繊維を含有する織物、及びその製造方法 |
-
1990
- 1990-11-30 JP JP2330062A patent/JPH04201181A/ja active Pending
Cited By (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPH09155723A (ja) * | 1995-12-06 | 1997-06-17 | Nec Corp | 半導体基板研磨装置 |
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JP2012502483A (ja) * | 2008-09-04 | 2012-01-26 | イノパッド,インコーポレイテッド | 非捲縮繊維を含有する織物、及びその製造方法 |
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