JPH04193944A - Disk film forming device - Google Patents

Disk film forming device

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Publication number
JPH04193944A
JPH04193944A JP32237490A JP32237490A JPH04193944A JP H04193944 A JPH04193944 A JP H04193944A JP 32237490 A JP32237490 A JP 32237490A JP 32237490 A JP32237490 A JP 32237490A JP H04193944 A JPH04193944 A JP H04193944A
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JP
Japan
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disk
film forming
chamber
chambers
disc
Prior art date
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Pending
Application number
JP32237490A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Makoto Sano
誠 佐野
Shinichi Kaneko
真一 金子
Fumihiko Sawase
澤瀬 文彦
Kazuhiro Ura
宇良 和浩
Eiji Kimura
木村 榮志
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Hitachi Ltd
Hitachi High Tech Corp
Original Assignee
Hitachi Ltd
Hitachi Electronics Engineering Co Ltd
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Publication date
Application filed by Hitachi Ltd, Hitachi Electronics Engineering Co Ltd filed Critical Hitachi Ltd
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Abstract

PURPOSE:To miniaturize and to make compact disk carrying path by carrying a disk along a carrying loop path while positioning the disk-sustaining means in respective working chambers by using a rotary index type carrying means and forming a film onto the inside and outside of the disk simultaneously. CONSTITUTION:The main body of the device 1 is constituted of a fixed housing 2 of almost circular shape and a hollow rotary carrying drum 3. The delivery of disk D is executed by the disk chacking unit 22 between a disk handling means 25 and a spindle 12 provided in a carrying in-and-out chamber 4a of the disk. Then, a drum 3 is rotated by about 60 deg. stepwise and the disk D is carried by passing along a path 5 through a heating chamber 4b, a primary ground layer forming chamber 4c, a secondary ground layer forming chamber 4d, a magnetic film forming chamber 4c and to a protective film forming chamber 4f successively, and after finishing all of these treatments, the treated disk D is taken out from the carrying-in and-out chamber 4a. By this method, reduction of vacuum zone space for the main body device 1 is attained.

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野1 本発明は、磁気ディスク、光ディスク等のように円環状
に形成した記憶媒体を構成するディスクの両面に、スパ
ッタリング等によって被膜を形成するディスク成膜装置
に関するものである。
Detailed Description of the Invention [Industrial Application Field 1] The present invention relates to a disk manufacturing method in which a coating is formed by sputtering or the like on both sides of a disk constituting a storage medium formed in an annular shape such as a magnetic disk or an optical disk. The present invention relates to a membrane device.

[従来の技術1 例えば、スパッタリングによって磁気ディスクの両面に
磁気磁性膜を形成する成膜方式は、従来から広く用いら
れている。この成膜方式は、スパッタリング源としての
ターゲット部材から分子をはじき出して、これに相対す
るアルミニウム基板等からなるディスクの表面に付着さ
せるものである。ここで、このディスクには被膜が複数
層積層されるのか一般的である。例えば、下地膜として
クロームをスパッタリングし、このクローム下地膜上に
コバルト等の磁性膜を積層し、さらにこの磁性膜上にカ
ーボン等の保護膜を形成するというように、3層乃至そ
れ以上の被膜を形成させる。
[Prior Art 1] For example, a film forming method in which a magnetic film is formed on both sides of a magnetic disk by sputtering has been widely used. In this film-forming method, molecules are ejected from a target member serving as a sputtering source and attached to the surface of an opposing disk made of an aluminum substrate or the like. Here, this disk generally has a plurality of layers laminated thereon. For example, three or more layers are formed by sputtering chrome as a base film, laminating a magnetic film such as cobalt on this chrome base film, and then forming a protective film such as carbon on top of this magnetic film. to form.

以上のことから、スパッタリング成膜装置としては、少
なくとも下地膜形成工程、磁性膜形成工程及び保護膜形
成工程を要し、しかもこれらスパッタリング成膜は、デ
ィスクを加熱状態にして行われるものであるから、加熱
工程も必要である。
From the above, a sputtering film forming apparatus requires at least a base film forming process, a magnetic film forming process, and a protective film forming process, and these sputtering film forming processes are performed with the disk in a heated state. , a heating step is also required.

また、下地膜は磁性膜や保護膜と比較して、かなり厚膜
にしなければならないことから、この下地膜形成は2段
階で行うようにするのか一般的である。従って、この種
の成膜装置にあっては、ディスク搬入ステーションと、
ディスク搬出ステーションとを有し、ディスク搬入ステ
ーションから搬出ステーションに至るまでの間に、加熱
工程、第1下地膜形成工程、第2下地膜形成工程、1i
fi性膜形成工程及び保護膜形成工程の各工程を順次縁
るようにしている。
Furthermore, since the base film must be considerably thicker than the magnetic film or the protective film, the base film is generally formed in two steps. Therefore, in this type of film forming apparatus, a disk loading station,
A heating process, a first base film forming process, a second base film forming process, 1i
The steps of forming a fi-sensitive film and forming a protective film are sequentially arranged.

[発明が解決しようとする課題1 ところで、前述したスパッタリングによる成膜処理は真
空状態で、しかもアルゴンガス等のように不活性ガス雰
囲気下で行われるものである。このだめに、前述した各
工程及び工程間の移行部は外部と隔離した真空領域下に
置かなければならないことになる。しかも、成膜処理中
においては、ディスクの表面やコーティングされるスパ
ッタ粒子が汚染されたり、また異物が付着しないように
保持しなければならず、従って塵埃等の異物の発生や雰
囲気汚染を極度に嫌うものである。
[Problem to be Solved by the Invention 1] Incidentally, the above-described film forming process by sputtering is performed in a vacuum state and in an inert gas atmosphere such as argon gas. To this end, each of the above-mentioned processes and the transition between the processes must be placed under a vacuum area isolated from the outside. Moreover, during the film forming process, the surface of the disk and the sputtered particles to be coated must be protected from contamination or adhesion of foreign matter, thus minimizing the generation of foreign matter such as dust and atmospheric contamination. It's something I hate.

このために、ディスクを前述した各工程間を搬送する手
段としては、モータ等の駆動手段のように、塵埃発生源
となるようなものをこの真空領域内に配設することはで
きない。また、ディスクの搬送を行う機構として、他の
部材と摺動するもの、特に摺動抵抗の大きいものは避け
なければならず、また摺動を円滑にするためのグリース
等の潤滑剤を用いることもできない。さらに、ディスク
を順次受渡すようにすると、その受渡時に脱落するおそ
れがあることから、これもあまり好ましくはない。この
ために、成膜装置におけるディスクの搬送機構には極め
て大きな制約がある。
For this reason, as a means for transporting the disk between the above-mentioned processes, it is not possible to dispose within this vacuum region a device that may become a source of dust, such as a driving means such as a motor. In addition, as a mechanism for transporting the disk, it is necessary to avoid mechanisms that slide with other members, especially those with large sliding resistance, and use lubricants such as grease to ensure smooth sliding. I can't do it either. Furthermore, if the disks are transferred one after another, there is a risk that the disks may fall off during the transfer, so this is also not very preferable. For this reason, there are extremely large restrictions on the disk transport mechanism in the film forming apparatus.

従来技術の成膜装置にあっては、これら各ステ−ション
を直線状に配列し、このラインに沿ってディスクを搬送
するように構成している。即ち、ディスクの外周部を係
合させる円弧状の溝を形設したディスクホルダを設け、
このディスクホルダを搬送用治具に装架して、該搬送用
治具を直線状に設けた搬送経路に沿って移動させるよう
にしている。そして、この搬送用治具に対する駆動力と
しては、多数の搬送用治具を並べて、後方から押動する
ことにより、順送りにスライド搬送する方式を用いるも
のが実用化されている。
In the conventional film forming apparatus, these stations are arranged in a straight line and the disks are transported along this line. That is, a disc holder is provided with an arcuate groove that engages the outer circumference of the disc,
This disk holder is mounted on a transport jig, and the transport jig is moved along a linear transport path. As the driving force for this conveying jig, a system has been put into practical use in which a large number of conveying jigs are lined up and pushed from behind to sequentially slide and convey them.

また、複数のディスクを保持する手段を備えた搬送バー
と、固定的に設置した複数個のディスク受部材とを用い
、この搬送バーを移動させることによって、ディスクを
ピッチ送りするようにしたものも知られている。
There is also a system that uses a transport bar equipped with a means for holding a plurality of discs and a plurality of fixedly installed disc receiving members, and moves the transport bar to feed the discs in pitch. Are known.

然るに、前述したスライド搬送方式によれば、正確にデ
ィスクを搬送するためには、搬送用治具をガイドする機
構を設けなければならない。しかも、このガイド機構と
しては、ディスクを安定した状態で搬送しなければなら
ないことから、その移動時に姿勢バランスを良好に保つ
必要かある。
However, according to the slide transport method described above, in order to accurately transport the disk, a mechanism must be provided to guide the transport jig. Furthermore, since this guide mechanism must transport the disk in a stable state, it is necessary to maintain good posture balance during movement.

従って、搬送用治具とガイド機構との間の摺接面積をあ
る程度大きくしなければならず、しかも、この間の摺動
を円滑にするために潤滑剤を供給することかできないの
で、後方から押動すること:二より搬送用治具を順送り
したときには、両者の摺動摩擦による摩耗粉が発生する
おそれか高くなるという欠点がある。
Therefore, it is necessary to increase the sliding contact area between the transport jig and the guide mechanism to some extent, and since it is not possible to supply lubricant to smooth the sliding between them, it is necessary to Moving: When the conveyance jig is forwarded sequentially from the second side, there is a drawback that there is a high possibility that abrasion powder will be generated due to the sliding friction between the two.

また、ディスクホルダにディスクを搭載した搬送用治具
は、当該のディスクの成膜処理か終了して、このディス
クを外部に搬出した後には、これを再び搬入ステーショ
ンに帰還させて、次に成膜処理を行うディスクを搭載し
てその処理を行うように循環されなければならない。こ
のために、各工程のうち、最終工程である保護膜形成工
程の出口部分に帰還経路を設け、成膜の全工程が終了し
た後のディスクは、この帰還経路を通って搬入ステーシ
ョンに近接した位置に配設される搬出ステーションに移
行されるようにしている。しかも、ディスクの成膜処理
を連続的に行うには、この帰還経路は、ディスクの成膜
処理を行う経路とは別の経路、例えば、ディスク成膜処
理経路の上方または後方に設け、この保護膜形成工程を
出たディスクはエレベータ機構等により持ち上げられて
、帰還経路に移行させ、また帰還経路の終点位置でそれ
を搬出ステーションの位置まで下降させたり、横送りし
たりしなければならないことになる。従って、このディ
スクの搬送機構が極めて複雑かつ大型化するという欠点
もある。
In addition, after the transport jig with the disk mounted on the disk holder finishes the film forming process on the disk and transports the disk outside, it is returned to the loading station again and the next step is performed. It must be circulated to carry out the membrane treatment by mounting a disk on it. For this purpose, a return path is provided at the exit of the protective film forming process, which is the final process, and the disks are brought close to the loading station through this return path after all film formation processes are completed. It is designed to be transferred to an unloading station located at a certain location. Moreover, in order to perform the disk film formation process continuously, this return path is provided on a separate path from the path that performs the disk film formation process, for example, above or behind the disk film formation process path to protect the film. After leaving the film forming process, the disk must be lifted up by an elevator mechanism or the like and transferred to the return path, and at the end of the return path it must be lowered to the unloading station or transported sideways. Become. Therefore, there is also the disadvantage that the disk transport mechanism is extremely complicated and large.

一方、ピッチ送り方式にあっては、ディスクが工程間を
移行する際には、必ずディスクの受け渡しが必要となり
、その間でディスクが脱落するおそれがある。特に、搬
送バー及びそれに装着したディスク保持手段や、固定的
に設置されているディスク受部材は加熱領域下に位置し
ていることがら、それらが熱変形して、ディスクの脱落
の危険性はさらに大きいものとなる。しかも、これら搬
送バー及びディスク受部材を配設し、また搬送バーの搬
送スペースを確保しなければならないことから、さらに
この搬送バーによるディスクの搬送は直線的なものとな
り、ディスクを反転させて帰還させる必要があることか
ら、成膜装置、特にその真空頭載が少なからず大型にな
るという問題点がある。
On the other hand, in the pitch feeding method, when the disk is transferred between processes, it is necessary to transfer the disk, and there is a risk that the disk may fall off during this period. In particular, since the transport bar, the disk holding means attached to it, and the fixedly installed disk support member are located under the heating area, there is an increased risk that they will be thermally deformed and the disks will fall off. It becomes something big. Moreover, since these transport bars and disk receiving members are arranged, and a transport space for the transport bar must be secured, the transport of the discs by this transport bar is linear, and the discs must be reversed and returned. As a result, there is a problem in that the film forming apparatus, especially its vacuum head, becomes quite large.

要するに、真空雰囲気下で、塵埃等の異物の発生や雰囲
気汚染を極度に嫌う状態で処理を行わなければならない
ディスク成膜装置は、搬送機構の簡略化、小型化に対す
る要請は著しく大きいものであるか、往来技術のものに
あっては、このような要請に対して、十分に満足出来る
ものではなかった。
In short, there is a significant need to simplify and downsize the transport mechanism for disk film forming equipment, which must perform processing in a vacuum atmosphere, with the generation of foreign matter such as dust, and atmospheric contamination extremely averse. However, conventional technology has not been able to fully satisfy such requests.

本発明は斜上の点に鑑みてなされたものであって、その
目的とするところは、ディスクの成膜処理を行うために
設けられる各工程にディスクを搬送する機構を著しく簡
略化、小型化することかできるようにしたディスク成膜
装置を提供することにある。
The present invention has been made in view of the above-mentioned problems, and its purpose is to significantly simplify and downsize the mechanism for transporting the disk to each process provided for film-forming the disk. The object of the present invention is to provide a disk film forming apparatus that can perform the following operations.

[課題を解決するための手段] 前述した目的を達成するために、本発明は、複数の作業
チャンバと、該各作業チャンバ間を連通させる通路とか
らなる水平円TM状のディスク搬送ループ経路を形成す
る固定壁部と、前記固定壁部と共に真空領域を形成する
可動壁を有するロータリインデックス式搬送手段と、前
記可動壁部に取り付けられて、真空領域内に位置し、被
加工ディスクを保持して前記各作業チャンバにおいてデ
ィスクに所定の処理、加工を行う複数のディスク保持手
段とを有し、前記ロータリインデックス式搬送手段によ
り前記ディスク保持手段を前記各作業チャンバに位置決
めしなから前記ディスク搬送ループ経路に沿って搬送す
ることにより、前記ディスクの表裏両面を成膜する構成
としたことをその特徴とするものである。
[Means for Solving the Problems] In order to achieve the above-mentioned object, the present invention provides a horizontal circular TM-shaped disk transport loop path consisting of a plurality of work chambers and passages that communicate between the work chambers. a rotary indexing type conveying means having a fixed wall forming a fixed wall and a movable wall forming a vacuum region together with the fixed wall; and a rotary index conveying means that is attached to the movable wall and located in the vacuum region and holds a disk to be processed. and a plurality of disk holding means for performing predetermined processing and machining on the disk in each of the working chambers, and the disk holding means is positioned in each of the working chambers by the rotary index type conveying means, and then the disk conveying loop The feature is that a film is formed on both the front and back surfaces of the disk by transporting the disk along a path.

より具体的には、少なくともディスクの受け渡しを行う
それぞれ別個または単一のチャンバと、ディスクの加熱
チャンバ及びそれぞれ被膜形成部材を配設した複数の被
膜形成チャンバからなる複数の作業チャンバを所定角度
毎に配設すると共に、該各作業チャンバ間を円弧状に形
成した連絡通路で連通させることにより水平円環状のデ
ィスク搬送ループ経路を形成すると共に、水平回転筒体
の外周壁を臨ませることによって真空領域を形成し、こ
の真空領域内には、前記各作業チャンバの位置と対応す
る角度毎に支持軸を前記水平回転筒体の外周壁から真空
領域内に向けて延在するように設け、該各支持軸にディ
スクを保持するディスク保持手段を設ける構成としたこ
とを特徴とするものである。
More specifically, at least a plurality of work chambers each consisting of a separate or single chamber for transferring the disk, a disk heating chamber, and a plurality of film forming chambers each provided with a film forming member are arranged at predetermined angles. At the same time, a horizontal annular disk transport loop path is formed by communicating between the respective work chambers through communication passages formed in an arc shape, and a vacuum area is formed by facing the outer circumferential wall of the horizontally rotating cylindrical body. In this vacuum region, support shafts are provided extending from the outer circumferential wall of the horizontal rotating cylinder toward the inside of the vacuum region at angles corresponding to the positions of the respective work chambers, The present invention is characterized in that a disk holding means for holding the disk is provided on the support shaft.

また、水平円環状に形成したディスク搬送ループ通路の
上部位置に、少なくともディスクの搬入搬出を行うそれ
ぞれ別個または単一のチャンバと、ディスクの加熱チャ
ンバ及び複数の被膜形成チャンバからなる複数の作業チ
ャンバを所定角度毎に配設し、これら各作業チャンバと
前記通路との間を、少なくともディスクが挿通可能な連
通口を介して連通させてなる真空領域を形成し、前記通
路には、ロータリインデックス式の回転部材の外周壁を
臨ませて設け、該外周壁に前記各作業チャンバの位置に
対応する角度毎に支持アームを前記通路内に臨むように
延在させて設け、該各支持アームにはディスク保持手段
を前記通路内と前記各作業チャンバとの間に昇降可能に
装着する構成としたことを特徴とするものでもある。
In addition, a plurality of work chambers each consisting of at least a separate or single chamber for loading and unloading the disk, a disk heating chamber, and a plurality of film forming chambers are installed at the upper position of the disk transport loop path formed in a horizontal annular shape. A vacuum area is formed by communicating between each of the working chambers and the passage through communication ports through which at least a disk can be inserted. An outer circumferential wall of the rotating member is provided facing the outer circumferential wall, and support arms are provided on the outer circumferential wall to extend into the passageway at angles corresponding to the positions of the respective work chambers, and each support arm is provided with a disk. The present invention is also characterized in that the holding means is installed between the passageway and each of the working chambers so as to be movable up and down.

[作用1 このように、真空領域を水平円環状のディスク搬送ルー
プ経路により形成することによって、ディスクを保持す
るディスク保持手段は、まずディスク搬入チャンバにお
いて、ディスクを受け取ってディスク搬送ループ経路に
沿ってインデックス搬送される間に、各作業チャンバに
おいてそれぞれの処理が行われる。そして、最終の作業
チャンバにおける処理が終了した後、次のインデックス
動作が行われたときに、この処理が終了したディスクが
ディスク保持手段から取り出され、その位置で(ディス
ク搬入・搬出を単一のチャンバで行うように構成した場
合)または次のインデックス動作が行われたときに(ク
リーニングチャンバ等を備える場合には、さらにその次
のインデックス動作時)に処理すべきディスクを受け取
ることができる。従って、ディスクを帰還させるための
経路や、ディスクの搬送方向を反転させるための機構等
を設ける必要がなくなり、ディスク搬送経路を極めて小
型化、コンパクト化することができる。
[Operation 1] As described above, by forming the vacuum region by the horizontal annular disk transport loop path, the disk holding means for holding the disk first receives the disk in the disk loading chamber and moves it along the disk transport loop path. During the index transport, respective processing is performed in each work chamber. After the processing in the final working chamber is completed, when the next indexing operation is performed, the processed disk is taken out from the disk holding means, and at that position (the disk loading/unloading is carried out in a single The disk to be processed can be received when the next indexing operation is performed (if a cleaning chamber or the like is provided, then at the next indexing operation). Therefore, there is no need to provide a path for returning the disk, a mechanism for reversing the direction of disk transport, etc., and the disk transport path can be made extremely small and compact.

しかも、インデックス機構を備えたロータリ式の搬送手
段を水平方向に回転させることにより、ディスクを各作
業チャンバに順次搬送するように構成しているので、真
空領域内にはディスク保持手段と、このディスク保持手
段を搬送手段に連結する部材のみを配置すればよい。こ
のために、真空領域の省スペース化を図ることができ、
装置全体の小型化、コンパクト化が可能となる。また、
このように真空領域を小さくできることは、その真空化
及び圧力の維持が容易になる。そして、この真空領域内
で摺動する部分は可動壁のみであることから、該真空領
域内に塵埃が発生したり、雰囲気汚染が生じるおそれは
極めて少な(なる。この結果、成膜処理の品質が向上す
る。
Moreover, by horizontally rotating a rotary conveying means equipped with an indexing mechanism, the disks are sequentially conveyed to each work chamber, so that within the vacuum area there is a disk holding means and a disk holding means. It is sufficient to arrange only the members that connect the holding means to the conveying means. This makes it possible to save space in the vacuum area.
The entire device can be made smaller and more compact. Also,
The fact that the vacuum area can be made small in this way makes it easier to create a vacuum and maintain the pressure. Since the only part that slides within this vacuum area is the movable wall, there is extremely little risk of dust generation or atmospheric contamination within the vacuum area. will improve.

さらに、作業中においては、ディスクは常時ディスク保
持手段に保持された状態となっており、作業中において
受け渡しを行う必要かないことから、該ディスクを極め
て安定した状態に保持することかでき、作業中において
ディスクが脱落するおそれは極めて少ない。従って、作
業チャンバ間の移行を高速で行うことができるようにな
り、全体として処理効率が向上する。
Furthermore, during work, the disc is always held in the disc holding means, and there is no need to transfer it during work, so it is possible to hold the disc in an extremely stable state, and it is There is very little risk that the disc will fall off. Therefore, transitions between work chambers can be performed at high speed, improving overall processing efficiency.

ここで、ディスク保持手段としては、ディスクの外周を
支承する円弧状のディスク係合溝を備えたディスクホル
ダのように着脱が容易なものを用いることができるのは
当然として、作業途中で受け渡しする必要がないことか
ら、ディスクの内周をクランプするディスククランプ手
段や、ディスクの外周をチャックするチャック手段等に
より構成することもできる。そして、ディスククランプ
手段を用いた場合には、それにクランプさせたディスク
を回転させながら、作業を行うことができるようになる
。また、大径のディスクを処理する場合には、ディスク
をチャックさせるよう(こ構成することにより、このデ
ィスクを極めて安定した状態で保持することができるよ
うになる。
Here, as the disk holding means, it is possible to use a disk holder that is easy to attach and detach, such as a disk holder equipped with an arc-shaped disk engagement groove that supports the outer periphery of the disk, Since this is not necessary, it is also possible to use a disk clamp means for clamping the inner circumference of the disk, a chuck means for chucking the outer circumference of the disk, or the like. When a disk clamping means is used, the work can be carried out while rotating the disk clamped by the disk clamping means. Furthermore, when processing a large-diameter disk, the disk can be chucked (by this configuration, the disk can be held in an extremely stable state).

而して、スパッタリングにより成膜を行う場合において
は、作業チャンバは、ディスク搬入・搬出チャンバと、
ディスク加熱チャンバと、そtlそれ被膜形成部材を配
設した複数の被膜形成チャンバ、例えば1または2つの
下地膜形成チャンバと、磁性膜形成チャンバと、保護膜
形成チャンバとで構成することかできる。または、ディ
スク搬入チャンバと、ディスク加熱チャンバと、それぞ
れ被膜形成部材を配設した複数の被膜形成チャンバと、
ディスク搬出チャンバと、ディスク保持部材のクリーニ
ングチャンバとから構成することもできる。そして、被
膜形成チャンバとしては、必要に応じて、適宜設定され
るものであり、このためには、チャンバ数を増減しなけ
ればならなくなる。然るに、前述したチャンバ数の増減
は、ロータリインデックス式搬送手段によるインデック
スすべき位置の数を増減することにより容易に対処する
ことができる。
When forming a film by sputtering, the work chamber includes a disk loading/unloading chamber,
It can be constructed of a disk heating chamber and a plurality of film forming chambers in which film forming members are arranged, for example, one or two base film forming chambers, a magnetic film forming chamber, and a protective film forming chamber. Alternatively, a disc loading chamber, a disc heating chamber, and a plurality of film forming chambers each provided with a film forming member;
It can also be composed of a disc ejection chamber and a cleaning chamber for the disc holding member. The film forming chambers are appropriately set as necessary, and for this purpose the number of chambers must be increased or decreased. However, the above-mentioned increase or decrease in the number of chambers can be easily dealt with by increasing or decreasing the number of positions to be indexed by the rotary index type conveyance means.

[実施例1 以下、本発明の実施例を図面に基づいて詳細に説明する
[Embodiment 1] Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail based on the drawings.

まず、第1図乃至第9図に本発明の第1の実施例を示す
First, a first embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1 to 9.

本実施例においては、ディスクの両面にスパッタリング
による被膜を形成するための装置として構成したものが
示されている。
In this embodiment, an apparatus configured as an apparatus for forming a coating by sputtering on both sides of a disk is shown.

第1図及び第2図に、スパッタリング成膜装置の全体構
成を示す。図中において、■は装置本体であって、この
装置本体1は略円環状に形成した固定ハウジング2と、
該固定ハウジング2の内側に設けた中空のロータリ搬送
ドラム3とから構成される。
1 and 2 show the overall configuration of a sputtering film forming apparatus. In the figure, ■ is an apparatus main body, and this apparatus main body 1 includes a fixed housing 2 formed in a substantially annular shape,
It consists of a hollow rotary conveyance drum 3 provided inside the fixed housing 2.

固定ハウジング2には6個のチャンバ4a〜4fと、相
隣接するチャンバ同士を連通させる円弧状の通路5とが
形設されている。6個のチャンバ4a〜4fのうち、第
1のチャンバ4aはディスクDを成膜装置内に搬入した
り、該成膜装置から搬出したりするためのディスク搬入
・搬出チャンバとなっている。また、第2のチャンバ4
bはディスクDを加熱する加熱チャンバで、第3のチャ
ンバ4c及び第4のチャンバ4dはそれぞれ下地膜を形
成する第1層、第2層下地膜形成チャンバ、第5のチャ
ンバ4eは磁性膜形成チャンバであり、さらに第6のチ
ャンバ4fは保護膜形成チャンバとなっている。
The fixed housing 2 is formed with six chambers 4a to 4f and an arcuate passage 5 that communicates the adjacent chambers with each other. Among the six chambers 4a to 4f, the first chamber 4a serves as a disk loading/unloading chamber for loading and unloading the disk D into and out of the film forming apparatus. In addition, the second chamber 4
b is a heating chamber for heating the disk D; a third chamber 4c and a fourth chamber 4d are chambers for forming a first layer and a second layer base film forming a base film, respectively; and a fifth chamber 4e is for forming a magnetic film. The sixth chamber 4f is a protective film forming chamber.

これら各チャンバ4a〜4fは、それぞれ60°の位相
関係をもって同一円周上に配設されている。さらに、デ
ィスク搬入・搬出チャンバ4aの外側には、ディスク受
渡チャンバ6が設けられるようになっている。
These chambers 4a to 4f are arranged on the same circumference with a phase relationship of 60 degrees. Further, a disk transfer chamber 6 is provided outside the disk loading/unloading chamber 4a.

前述した各チャンバ4a〜4f及び通路5はその上下及
び外周側部分が壁面により区画形成されているか、内周
側は開口している。そして、この開口部分にはロータリ
搬送ドラム3の外周面か接合され、これによって、チャ
ンバ4a〜4f及び通路5は密閉された円環状の真空領
域が形成される。従って、この搬送ドラム3は該真空領
域を区画形成する可動隔壁となっている。
Each of the chambers 4a to 4f and the passage 5 described above are defined by walls at their upper, lower, and outer circumferential portions, or are open at their inner circumferential sides. The outer circumferential surface of the rotary conveyance drum 3 is joined to this opening, thereby forming a sealed annular vacuum area in the chambers 4a to 4f and the passage 5. Therefore, this conveyance drum 3 serves as a movable partition wall that defines the vacuum area.

ロータリ搬送トラム3の内側には、該搬送ドラム3の回
転駆動機構7が装着されている。この回転駆動機構7は
、固定部材8内に装着したモータ7a及び減速機7bを
有し、減速機7bの出力軸は固定部材8から上方に突出
せしめられて、その先端部には駆動ギア7Cが連結され
ており、該駆動ギア7Cはロータリ搬送トラム3の内面
に固設したリングギア3aに噛合している。従って、こ
のモータ7aから減速機7bを介して回転筒体3が60
°毎にインデックス回転させることができるようになっ
ている。そして、このロークリ搬送ドラム3と固定ハウ
ジング2との接合部分には、該ロータリ搬送トラム3の
回転を円滑に行わせるため;二軸受9か° 介装される
と共(二真空領域内を密閉するシール部材10か適宜の
箇所に装着されている。
A rotation drive mechanism 7 for the transport drum 3 is mounted inside the rotary transport tram 3 . This rotary drive mechanism 7 has a motor 7a and a reducer 7b mounted in a fixed member 8, and the output shaft of the reducer 7b is made to protrude upward from the fixed member 8, and a drive gear 7C is attached to the tip thereof. The drive gear 7C meshes with a ring gear 3a fixed to the inner surface of the rotary transport tram 3. Therefore, the rotary cylinder 3 is connected to the motor 7a via the reducer 7b.
The index can be rotated in degrees. In order to ensure smooth rotation of the rotary transport drum 3, two bearings 9 are interposed at the joint between the rotary transport drum 3 and the fixed housing 2. A sealing member 10 is attached to an appropriate location.

ロータリ搬送ドラム3には、それぞれ60°の位相間隔
で6個のディスク保持手段11が設けられている。この
ディスク保持手段11はスピンドル12を有し、該スピ
ンドル12には、ディスククランパ13が係脱可能に装
着されるようになっている。ここで、ディスククランパ
13は、第3図から明らかなように、先端部にディスク
Dの内径部分をクランプする一対のクランプ部片13a
、13aを有し、該クランプ部片13a、13aは相互
に嵌合させることによって、連結されるようになってい
る。そして、このクランプ部片13a、13aには同一
形状の嵌入突起13b、 13bが突設されており、こ
の嵌入突起13bをスピンドル12に設けた嵌入孔12
a(第6図参照)に嵌入させて、両者を嵌入突起13b
側に設けた係合凹溝14aと嵌入孔12a側に設けた弾
性リング14bとからなるスナップアクション機構14
によって連結状態に保持することかできるようになって
いる。また、スピンドル12はロータリ搬送トラム3に
装着され、内部に軸受を設けた取付ハウジング15に回
転自在に挿嵌されている。
The rotary conveyance drum 3 is provided with six disk holding means 11, each with a phase interval of 60°. This disk holding means 11 has a spindle 12, and a disk clamper 13 is detachably attached to the spindle 12. Here, as is clear from FIG. 3, the disc clamper 13 has a pair of clamp pieces 13a that clamp the inner diameter portion of the disc D at the tip end thereof.
, 13a, and the clamp pieces 13a, 13a are connected by fitting each other. Fitting protrusions 13b, 13b of the same shape are protruded from the clamp pieces 13a, 13a, and these fitting protrusions 13b are inserted into the fitting hole 12 provided in the spindle 12.
a (see Fig. 6), and connect both to the fitting protrusion 13b.
A snap action mechanism 14 consisting of an engagement groove 14a provided on the side and an elastic ring 14b provided on the insertion hole 12a side.
It is now possible to maintain the connected state by Further, the spindle 12 is attached to the rotary conveyance tram 3, and is rotatably inserted into a mounting housing 15 provided with a bearing inside.

スピンドル12には、この取付ハウジング15内におい
て、磁気カップリング部12bか連設されている。また
、ロータリ搬送ドラム3の内部に設けた固定部材8上に
は、その被膜形成チャンバ4c〜4fに対面する位置に
それぞれ駆動モータ16が設けられており、該各駆動モ
ータ16の出力軸には磁気カップリング部16aが連結
されており、この一対の磁気カップリング部12bと1
6aによって非接触でスピンドル12を回転駆動させる
構成となっている。これによって、スピンドル12の周
囲から圧力が漏洩して、真空領域内に圧力変動が生じな
いようにしている。
A magnetic coupling portion 12b is connected to the spindle 12 within the mounting housing 15. Furthermore, drive motors 16 are provided on the fixing member 8 provided inside the rotary conveyance drum 3 at positions facing the film forming chambers 4c to 4f, and the output shaft of each of the drive motors 16 is The magnetic coupling portion 16a is connected, and the pair of magnetic coupling portions 12b and 1
6a, the spindle 12 is rotationally driven in a non-contact manner. This prevents pressure from leaking around the spindle 12 and causing pressure fluctuations within the vacuum region.

次に、ディスク搬入・搬出チャンバ4aはディスク受渡
チャンバ6との間でディスクDの受け渡しを行うもので
あって、両チャンバ間にはシャッタ20が設けられてい
る。また、ディスク受渡チャンバ6と外部との間にも、
シャッタ21が配設されている。そして、ディスク受渡
チャンバ6内には、ディスクDの外径部分をチャックす
るディスクチャックユニット22が設けられている。
Next, the disk loading/unloading chamber 4a transfers the disk D to and from the disk transfer chamber 6, and a shutter 20 is provided between both chambers. Also, between the disk delivery chamber 6 and the outside,
A shutter 21 is provided. A disk chuck unit 22 for chucking the outer diameter portion of the disk D is provided within the disk transfer chamber 6.

これらディスクチャックユニット22は、第4図及び第
5図から明らかなように、反転軸22aの先端に設けた
一対のチャックアーム22b、22bを有し、該各チャ
ックアーム22bの先端にはチャック作動部材22cが
取り付けられている。そして、このチャック作動部材2
2cには一対の挟持爪22d。
As is clear from FIGS. 4 and 5, these disk chuck units 22 have a pair of chuck arms 22b, 22b provided at the tip of a reversing shaft 22a, and each chuck arm 22b has a chuck actuator at the tip. A member 22c is attached. And this chuck operating member 2
2c has a pair of clamping claws 22d.

22dが装着されており、これら挟持爪22d、 22
dはディスククランパ13の嵌入突起13bに設けた係
合凹溝14aに係合させることによって、ディスクDを
チャックすることができるようになっている。そして、
反転軸22aはロークリシリンダ等からなるロータリア
クチュエータ23に装着されており、このロークリアク
チュエータ23によってチャックユニット22は180
°反転可能となっている。
22d is attached, and these clamping claws 22d, 22
d can chuck the disk D by engaging with an engagement groove 14a provided in the insertion protrusion 13b of the disk clamper 13. and,
The reversing shaft 22a is attached to a rotary actuator 23 consisting of a row clear cylinder or the like, and the chuck unit 22 is
°It is reversible.

また、このロークリアクチュエータ23は前後動手段2
4に装着されるようになっている。この前後動手段24
は、駆動モータ24aにより回転せしめられるポールね
じ24bと、該ボールねし24bに嵌合され、ボールナ
ツトを一体的に設けた前後動ブロック24cとを有し、
該前後動ブロック24cはガイドロッド24dによって
ガイドされるようになっている。
Further, this low reactuator 23 is connected to the longitudinal movement means 2.
It is designed to be installed on 4. This back and forth movement means 24
has a pole screw 24b rotated by a drive motor 24a, and a back-and-forth motion block 24c fitted with the ball screw 24b and integrally provided with a ball nut,
The longitudinal movement block 24c is guided by a guide rod 24d.

これによって、ディスクチャックユニット22を成膜装
置の外部に導出させて、ディスクハンドリング手段25
との間、及びディスク搬入・搬出チャンバ4a内に設け
たスピンドル12との間でディスクDの受け渡しを行う
ことかできるようになる。
As a result, the disk chuck unit 22 is led out of the film forming apparatus, and the disk handling means 25
It is now possible to transfer the disk D between it and the spindle 12 provided in the disk loading/unloading chamber 4a.

ここで、ディスクハンドリング手段25は、第1図から
明らかなように、区画形成部材26によって隔離された
クリーンルーム27内に配設したXY可動基台25a上
に配設した支柱25bに水平回動アーム25cを装着し
、この水平アーム25cの両端には、ディスクチャック
ユニット22と同様のチャ・ツク作動部材25d、25
dと、ディスククランパ13の嵌入突起13bに設けた
係合凹溝14aに係合させるための一対の挟持爪を備え
、ロークリアクチュエータ25eによって水平方向に回
動させることができるように構成されている。
Here, as is clear from FIG. 1, the disk handling means 25 has a horizontal rotation arm attached to a support 25b disposed on an XY movable base 25a disposed in a clean room 27 isolated by a partition forming member 26. 25c is attached, and chuck operating members 25d, 25 similar to the disc chuck unit 22 are attached to both ends of this horizontal arm 25c.
d and a pair of clamping claws for engaging with the engagement groove 14a provided in the insertion projection 13b of the disc clamper 13, and is configured to be able to be rotated in the horizontal direction by the row reactor 25e. There is.

以上のことから、ディスクDは予めディスククランパ1
3にクランプさせた状態でこの成膜装置に搬送されるこ
とになる。
From the above, the disk D is placed in the disk clamper 1 in advance.
It will be transported to this film forming apparatus in a state where it is clamped at 3.

而して、第4図において、前後動駆動手段24によって
、ディスクチャックユニット22を図中の矢印六方向に
変位させると、該ディスクチャックユニット22はディ
スクハンドリング手段25にハンドリングされているデ
ィスクDを、それに装着したディスククランパ13の部
分をチャックして、該ディスクハンドリング手段25か
ら受け取ることができる。また、ディスクチャックユニ
ット22を図中B方向に変位させると共に、反転軸22
aを反転させると、このディスクチャックユニット22
の挟持爪22d、 22a間に挟持されているディスク
クランパ13をノ、ピンドル12に装着することができ
、然る後に挟持爪22d、22dによる挟持を解除する
と、ディスクDはスピンドル12に移載される。
In FIG. 4, when the disk chuck unit 22 is displaced in the six directions of arrows in the figure by the back-and-forth drive means 24, the disk chuck unit 22 picks up the disk D being handled by the disk handling means 25. , the portion of the disc clamper 13 attached thereto can be chucked and received from the disc handling means 25. Also, while displacing the disk chuck unit 22 in the direction B in the figure, the reversing shaft 22
When a is reversed, this disc chuck unit 22
The disk clamper 13 held between the holding claws 22d and 22a can be attached to the spindle 12, and when the holding claws 22d and 22d are released, the disk D is transferred to the spindle 12. Ru.

また、スピンドル12に装着されているディスクDを取
り出すには、ディスクチャックユニット22を図中B方
向に変位させて、その挟持爪22d。
Further, in order to take out the disk D mounted on the spindle 12, the disk chuck unit 22 is displaced in the direction B in the figure, and its gripping claws 22d are removed.

22dによりディスククランパ13を把持させて、六方
向に移動させる。これによって、このディスククランパ
13にクランプされているディスクDはスピンドル12
から脱着することになる。従って、この脱着操作時にク
ランプ部片13a、 13aか分離することがないよう
にするために、ディスククランパ13を構成するクラン
プ部片13a、13a相互間の係合力はスナップアクシ
ョン機構14による連結状態への保持力より強(なって
いる。
22d grips the disk clamper 13 and moves it in six directions. As a result, the disk D clamped by this disk clamper 13 is moved to the spindle 12.
You will have to take it off from there. Therefore, in order to prevent the clamp pieces 13a, 13a from separating during this attachment/detachment operation, the engagement force between the clamp pieces 13a, 13a constituting the disc clamper 13 is adjusted to the connected state by the snap action mechanism 14. The holding power is stronger than that of

そして、反転軸22aを反転させて、ディスクDをチャ
ックを開放して外部にディスクチャックユニット22を
シャッタ21から外に導出させることによって、ディス
クハンドリング手段25に移載することができるように
なる。
Then, the disc D can be transferred to the disc handling means 25 by reversing the reversing shaft 22a, opening the chuck, and guiding the disc chuck unit 22 out of the shutter 21.

加熱チャンバ4bには、ロッド状のヒータ26か配設さ
れており、ディスク搬入・搬出チャンバ4aにおいて、
ディスククランパ13にクランプされたディスクDがこ
の加熱チャンバ4bに移行すると、該ディスクDは所定
の温度状態(例えば250℃)になるように加熱される
ことになる。
A rod-shaped heater 26 is disposed in the heating chamber 4b, and in the disk loading/unloading chamber 4a,
When the disk D clamped by the disk clamper 13 is transferred to the heating chamber 4b, the disk D is heated to a predetermined temperature state (for example, 250° C.).

さらに、4つ設けられている被膜形成チャンバ4c〜4
f内には、いずれもスパッタリングカソード源30が設
けられている。これら各被膜形成チャンバ4c〜4fに
おいては、第1層下地膜形成チャンバ4C及び第2層下
地膜形成チャンバ4dはクロームからなるターゲット部
材が、磁性膜形成チャンバ4eにはコバルトからなるタ
ーゲット部材が、また保護膜形成チャンバ4fにはカー
ボンからなるターゲット部材が設けられているが、スパ
ッタリングカソード源30におけるターゲット部材の材
質以外の構成は同一である。
Furthermore, four film forming chambers 4c to 4 are provided.
A sputtering cathode source 30 is provided in each case. In each of these film forming chambers 4c to 4f, the first layer base film forming chamber 4C and the second layer base film forming chamber 4d have a target member made of chromium, and the magnetic film forming chamber 4e has a target member made of cobalt. Although a target member made of carbon is provided in the protective film forming chamber 4f, the structure of the target member other than the material of the sputtering cathode source 30 is the same.

そこで、第6図乃至第8図にはこのスパッタリングカソ
ード源30の構成を示す。
Therefore, the structure of this sputtering cathode source 30 is shown in FIGS. 6 to 8.

これらの図から明らかなように、カソード源30は、相
互に平行に配設した上下2組、即ち4本のスパッタユニ
ット31を有し、相対向する各組のスパッタユニット3
1間にディスクDが位置せしめられるようになっている
。各スパッタユニット31は、カソード部材として円筒
状に形成したターゲット部材32を有し、このターゲッ
ト部材32の外側は、マスク筒体33に囲繞されている
。このマスク筒体33の両端は固定用アーム34に設け
たケーシング35に延在されて、このケーシング35の
壁部に固定されており、その軸線方向に長手となったス
パッタリング用の開口33aかディスクDを向くように
して形成されている。
As is clear from these figures, the cathode source 30 has two sets of upper and lower sputter units 31 arranged in parallel with each other, that is, four sputter units 31, and each set of sputter units 3 faces each other.
A disk D is positioned between the two. Each sputtering unit 31 has a cylindrical target member 32 as a cathode member, and the outside of this target member 32 is surrounded by a mask cylinder 33. Both ends of this mask cylinder 33 extend to a casing 35 provided on a fixing arm 34, and are fixed to the wall of this casing 35, and a sputtering opening 33a extending in the axial direction is connected to a disk. It is formed to face D.

各ターゲット部材32の両端は、このケーシング35内
に延在せしめられて、軸受36により回転自在に支承さ
れると共に、プーリ37が装着されており、このプーリ
37は伝達ベルト38及び回転駆動手段39に接続され
て、該プーリ37を回転駆動させることができるように
なっている。また、このターゲット部材32の内部には
非回転状態に保持されている中心軸40が設けられてお
り、該中心軸40には、その間口33aに対面する位置
に、磁石41が装着されるようになっている。
Both ends of each target member 32 extend into the casing 35 and are rotatably supported by bearings 36, and are equipped with pulleys 37, which are connected to a transmission belt 38 and a rotary drive means 39. The pulley 37 can be rotated by being connected to the pulley 37. Further, a central shaft 40 held in a non-rotating state is provided inside the target member 32, and a magnet 41 is attached to the central shaft 40 at a position facing the opening 33a. It has become.

前述したスパッタリングカソード源30の各構成部材を
支持する固定用アーム34は、固定ハウジング2に設け
た開閉扉42に取り付けられており、該開閉扉42を開
放することによって、スパッタリングカソード源30を
外部に開放させて、ターゲット部材32等の交換作業を
行うことができるようになっている。ここで、被膜形成
チャンバ4C〜4f及び加熱チャンバ4bに装着されて
いる各開閉扉42は、区画形成部材26を境としたクリ
ーンルーム27の外部に配設されており、従って、この
ターゲット部材32の交換作業等は作業者がクリーンル
ーム27内に入らずに行うことができる。
The fixing arm 34 that supports each component of the sputtering cathode source 30 described above is attached to an opening/closing door 42 provided in the fixed housing 2, and by opening the opening/closing door 42, the sputtering cathode source 30 is exposed to the outside. The target member 32 and the like can be replaced by opening the target member 32 and the like. Here, each opening/closing door 42 attached to the film forming chambers 4C to 4f and the heating chamber 4b is disposed outside the clean room 27 bordering on the partition forming member 26. Replacement work and the like can be carried out without the operator entering the clean room 27.

ディスクDが被膜形成チャンバ4c〜4f内に位置した
ときには、上下の固定用アーム34の間の位置において
、4本設けられているスパッタリングユニット31がこ
のディスクDに対面する。そこで、ターゲット部材32
を回転させると共に、ディスククランプ手段12でクラ
ンプされているディスクDを回転させると、ディスクD
の表裏両側の表面にマスク筒体33の開口33aから照
射されるターゲット分子が付着し、該ディスクDの表面
に成膜が行われる。このように、ターゲット部材32を
回転させながらスパッタリングすることによって、ター
ゲット部材32はその全周にわたって消費されることか
ら、該ターゲット部材32の利用効率が向上する。また
、これと同時にディスクDを回転させるようにしている
ので、ディスクDを直線酌に動かせながらコーティング
する場合のように、その移動方向に筋状に膜形成される
ようなことはなく、コーティング精度も向上する。
When the disk D is located in the film forming chambers 4c to 4f, the four sputtering units 31 provided face the disk D at a position between the upper and lower fixing arms 34. Therefore, the target member 32
When the disc D clamped by the disc clamp means 12 is rotated, the disc D is rotated.
Target molecules irradiated from the opening 33a of the mask cylinder 33 adhere to both the front and back surfaces of the disk D, and a film is formed on the surface of the disk D. In this way, by performing sputtering while rotating the target member 32, the target member 32 is consumed over its entire circumference, so that the utilization efficiency of the target member 32 is improved. In addition, since the disk D is rotated at the same time, unlike coating while moving the disk D in a straight line, there is no streak-like film formation in the direction of movement, and the coating accuracy is It also improves.

ここで、前述したスパッタリングコーティングは、被膜
形成チャンバ4c〜4f内を真空状態に保持し、かつア
ルゴンガス雰囲気下で行われる。このために、これら被
膜形成チャンバ4c〜4fはもとより、ディスク搬入・
搬出チャンバ4a、加熱チャンバ4bも真空状態に保持
しなければならない。さらに、シャッタ20の開放時に
ディスク搬入・搬出チャンバ4aと連通ずるディスク受
渡チャンバ6も真空状態となるようにしなければならな
い。このために、前述した各チャンバ48〜4f及び6
には真空吸引装置43が接続されるようになっており、
これにより各チャンバはそれぞれ個別的に真空化するこ
とができるようになる。
Here, the sputtering coating described above is performed under an argon gas atmosphere while keeping the insides of the film forming chambers 4c to 4f in a vacuum state. For this purpose, these film forming chambers 4c to 4f as well as disk loading and
The unloading chamber 4a and the heating chamber 4b must also be maintained in a vacuum state. Furthermore, when the shutter 20 is opened, the disk transfer chamber 6 communicating with the disk loading/unloading chamber 4a must also be brought into a vacuum state. For this purpose, each of the aforementioned chambers 48 to 4f and 6
A vacuum suction device 43 is connected to the
This allows each chamber to be individually evacuated.

しかも、被膜形成チャンバ4c〜4fは必ずしも同一の
圧力状態に保持するのではなく、それぞれ必要に応じた
程度の圧力に保持され、しかも被膜形成チャンバ4c〜
4f内にはアルゴンガスが供給されることになる。また
、これら被膜形成チャンバ4c〜4fと通路5とからな
る真空領域は可及的に狭く形成する必要がある。このた
めに、これら被膜形成チャンバ4c〜4fは必要最小限
の空間を持たせるように構成すると共に、通路5は第9
図に示したように、ディスクDと、該ディスクDを保持
するディスク保持手段11を通過させるに必要最小限の
スペースを持たせている。これによって、一種のラビリ
ンス機能が発揮されて、相隣接するチャンバ間をある程
度仕切ることができる。しかも、ロータリ搬送ドラム3
には相隣接するディスク保持手段11間の位置に可動隔
壁44が装着されている。
Moreover, the film forming chambers 4c to 4f are not necessarily maintained at the same pressure state, but are each maintained at a pressure level according to necessity, and the film forming chambers 4c to 4f are
Argon gas will be supplied within 4f. Further, the vacuum region consisting of the film forming chambers 4c to 4f and the passage 5 needs to be formed as narrow as possible. For this purpose, these film forming chambers 4c to 4f are configured to have the minimum necessary space, and the passage 5 is
As shown in the figure, the minimum space necessary for passing the disk D and the disk holding means 11 that holds the disk D is provided. This provides a kind of labyrinth function, allowing adjacent chambers to be partitioned to some extent. Moreover, the rotary conveyance drum 3
A movable partition wall 44 is installed at a position between adjacent disk holding means 11.

この可動隔壁44は通路5を形成する壁面との間に補備
かな間隔をもって対面するようになっている。
This movable partition wall 44 faces the wall surface forming the passageway 5 with a certain distance therebetween.

このような構成を採用することによって、ディスクハン
ドリング手段25によりハンドリングされているディス
クDは、シャッタ21を開閉する毎に順次ディスク受渡
チャンバ6内に移行して、該ディスク受渡チャンバ6内
に設けたディスクチャックユニット22によりチャック
される。この状態で、ロークリアクチュエータ23を作
動させ、ディスクチャックユニット22を18(1’反
転させて、シャッタ20を開放し、前後動手段24を作
動させることによって、このディスクチャックユニット
22に保持されているディスクDをディスク搬入・搬出
チャンバ4a内に位置するスピンドル12に移載される
By adopting such a configuration, the disk D being handled by the disk handling means 25 is sequentially transferred into the disk transfer chamber 6 each time the shutter 21 is opened or closed, and It is chucked by the disk chuck unit 22. In this state, the row reactor 23 is operated, the disc chuck unit 22 is reversed 18 (1'), the shutter 20 is opened, and the back and forth movement means 24 is operated, so that the disc chuck unit 22 is held by the disc chuck unit 22. The disk D is transferred to the spindle 12 located in the disk loading/unloading chamber 4a.

ここで、シャッタ21を開放すると、ディスク受渡チャ
ンバ6内はクリーンルーム27内の大気と等しくなるの
で、該ディスク受渡チャンバ6内にディスクDを移載し
てシャッタ21を閉鎖する毎にこのディスク受渡チャン
バ6に接続されている真空吸引装置43を作動させて、
このチャンバ6を真空化する。
Here, when the shutter 21 is opened, the inside of the disk delivery chamber 6 becomes equal to the atmosphere in the clean room 27, so every time the disk D is transferred into the disk delivery chamber 6 and the shutter 21 is closed, 6, by operating the vacuum suction device 43 connected to
This chamber 6 is evacuated.

このようにして、ディスク受渡チャンバ6内に持ち込ま
れ、ディスク搬入・搬出チャンバ4aに送り込まれたデ
ィスクDは、ロータリ搬送ドラム3を回転させることに
より、まず加熱チャンバ4bに移行して加熱される。な
お、この加熱チャンバ4b内においては、ディスクDは
回転状態で加熱される。
The disk D brought into the disk delivery chamber 6 and fed into the disk loading/unloading chamber 4a in this manner is first transferred to the heating chamber 4b and heated by rotating the rotary conveyance drum 3. Note that within this heating chamber 4b, the disk D is heated in a rotating state.

次いで、第1層下地膜形成チャンバ4Cに移行させて、
このディスクDの両面の上下の部位をそれぞれスパッタ
ユニット31に対面させて、ターゲット部材32を回転
させると共に、ディスクDを回転駆動する間にターゲッ
ト部材32からのターゲット分子をマスク用筒体33の
開口33aを介して該ディスクDの表面に付着させるこ
とによって、下地膜の形成が行われる。
Next, transfer to the first layer base film forming chamber 4C,
The upper and lower parts of both sides of this disk D face the sputtering unit 31, and the target member 32 is rotated, and while the disk D is rotationally driven, target molecules from the target member 32 are transferred to the opening of the mask cylinder 33. A base film is formed by attaching it to the surface of the disk D via 33a.

そして、この第1層下地膜形成チャンバ4Cでの処理が
終了すると、順次第2層下地膜形成チャンバ4d、 l
a性膜形成チャンバ4e、保護膜形成チャンバ4fに移
行されて、それぞれ前述と同様、ディスクDに被膜の形
成が行われる。このようにして多層の被膜が形成された
ディスクDは、ロータリ搬送ドラム3が360°回転し
たときに、再びディスク搬入・搬出チャンバ4aに帰還
する。
When the process in the first layer base film forming chamber 4C is completed, the second layer base film forming chambers 4d and 1 are sequentially moved.
The process is then transferred to the amorphous film forming chamber 4e and the protective film forming chamber 4f, where a film is formed on the disk D in the same manner as described above. The disk D on which the multilayer coating has been formed in this way returns to the disk loading/unloading chamber 4a again when the rotary transport drum 3 rotates 360 degrees.

成膜処理の終了したディスクDかディスク搬出・搬入チ
ャンバ4aに帰還したときには、ディスク受渡チャンバ
6内に一対設けられているディスクチャックユニット2
2のうちの一方のユニット22には次に成膜処理が行わ
れるディスクDが外部から取り入れられて、チャックさ
れているが、他方のユニット22にはディスクDはチャ
ックされていない状態とする。そこで、このディスクD
がチャックされていない側のディスクチャックユニット
22を作動させて、成膜処理が完了したディスクDを受
け取る。然る後に、外部に配置したディスクハンドリン
グ手段25にこの成膜処理が完了したディスクDを送り
出す。
When the disk D that has undergone the film-forming process returns to the disk unloading/loading chamber 4a, a pair of disk chuck units 2 provided in the disk transfer chamber 6
In one of the two units 22, a disk D to be subjected to the next film forming process is taken in from the outside and is chucked, but in the other unit 22, the disk D is not chucked. Therefore, this disk D
The disc chuck unit 22 on the side that is not chucked is operated to receive the disc D on which the film forming process has been completed. Thereafter, the disk D on which the film-forming process has been completed is delivered to a disk handling means 25 disposed outside.

これ以後は、定常状態の作動が行われるようになり、ロ
ータリ搬送ドラム3に設けた6個のディスク保持手段1
1を構成する各スピンドル12にはそれぞれディスクD
がクランプされて、該ロータリ搬送ドラム3がインデッ
クス回転する毎に、それぞれのチャンバ4a〜4fにお
いて所定の作業が同時に行われる。
After this, steady state operation is performed, and the six disk holding means 1 provided on the rotary conveyance drum 3
1, each spindle 12 has a disk D.
is clamped, and each time the rotary conveyance drum 3 index-rotates, a predetermined operation is simultaneously performed in each of the chambers 4a to 4f.

このように、ディスク搬入・搬出チャンバ4aにおいて
ディス保持手段11にディスクDが保持された後におい
ては、このディスクDは常に当該のディスク保持手段1
1で保持されたままを維持し、それを移載することな(
、各成膜工程を経るようにしているので、各工程への移
行を迅速かつ正確に行わせることができ、ディスクDが
脱落する等の不都合を生じることない。
In this way, after the disk D is held by the disk holding means 11 in the disk loading/unloading chamber 4a, this disk D is always held by the disk holding means 11 in the disk loading/unloading chamber 4a.
1, and do not transfer it (
, and each film forming process, the transition to each process can be performed quickly and accurately, and there will be no inconvenience such as the disk D falling off.

また、ロークリ搬送ドラム3をインデックス回転させて
、順次各チャンバ4b〜4fにディスクDを送り込んで
、このロータリ搬送ドラム3が360゜回転したときに
は、ディスクDは成膜工程が終了して、ディスク搬入・
搬出チャンバ4aに帰還し、その取り出しが可能となる
ことから、成膜工程を構成する各チャンバを直線状に配
設したものと比較して、別途ディスクの帰還路や、搬送
方向の反転手段等を設けたりすることがなくなり、その
ディスク搬送機構の構成が極めて簡略化される。また、
このようにディスク搬送機構の構成の簡略化が可能にな
ることは、その小型化、とりわけ真空領域を小さ(する
ことかできるようになる点で極めて有利である。
Further, the rotary conveyance drum 3 is index-rotated to feed the disk D into each chamber 4b to 4f sequentially, and when the rotary conveyance drum 3 has rotated 360 degrees, the film forming process has been completed and the disk D is loaded.・
Since it is possible to return to the unloading chamber 4a and take out the disc, compared to a case where the chambers constituting the film forming process are arranged in a straight line, a separate return path for the disk, means for reversing the transport direction, etc. are required. Therefore, the structure of the disk transport mechanism is extremely simplified. Also,
The ability to simplify the configuration of the disk transport mechanism in this way is extremely advantageous in terms of miniaturization, especially in terms of reducing the vacuum area.

しかも、真空領域に臨むロータリ搬送ドラム3を回転さ
せるだけで、ディスクDを各チャンバに搬送することか
できるように構成されていることから、その発塵のおそ
れも極めて少なくなる。
Moreover, since the disc D is configured to be transported to each chamber simply by rotating the rotary transport drum 3 facing the vacuum area, the possibility of dust generation is extremely reduced.

さらに、各チャンバ48〜4fにおいては、それぞれの
作業に必要な圧力状態に保ち、かつアルゴンガスを充填
する等の雰囲気状態はそれぞれ個別的に管理するのが好
ましい。このために、各チャンバで所定の作業を行って
いる間は、相隣接するチャンバ間に設けた通路5は可動
隔壁44によりほぼ隔離された状態に保持されている。
Further, in each chamber 48 to 4f, it is preferable to maintain the pressure state required for each operation and to individually manage the atmospheric state, such as filling the chambers with argon gas. For this reason, while a predetermined work is being performed in each chamber, the passages 5 provided between adjacent chambers are kept substantially isolated by the movable partition wall 44.

従って、各チャンバの雰囲気状態を個別的に管理するこ
とが可能となる。
Therefore, it becomes possible to individually manage the atmospheric condition of each chamber.

次に、第1O図乃至第12図に本発明の第2の実施例を
示す。
Next, a second embodiment of the present invention is shown in FIGS. 1O to 12.

本実施例においては、第10図及び第11図に示したよ
うに、装置本体101の固定ハウジング102は、本体
部102aと、天板部102bとを有し、本体部102
aには円環状の通路105が形成されている。また、デ
ィスク搬入・搬出チャンバl04a、加熱チャンバ10
4b、第1下地膜形成チャンバ104c、第2下地膜形
成チャンバ104d、 m性膜形成チャンバ104e及
び保護膜形成チャンバ104fは、それぞれ60°の位
相関係をもって天板部102b上に配置されている。従
って、通路105とチャンバ104a−104fとによ
って真空領域が形成され、チャンバ1048〜104f
には真空ポンプ(図示せず)が接続されると共に、成膜
工程を司るチャンバ104c〜104fには、アルゴン
ガスの供給機構が接続されている。
In this embodiment, as shown in FIG. 10 and FIG.
An annular passage 105 is formed in a. In addition, a disk loading/unloading chamber l04a, a heating chamber 10
4b, the first base film forming chamber 104c, the second base film forming chamber 104d, the molar film forming chamber 104e, and the protective film forming chamber 104f are arranged on the top plate part 102b with a phase relationship of 60°, respectively. Therefore, a vacuum region is formed by passage 105 and chambers 104a-104f, and chambers 1048-104f
A vacuum pump (not shown) is connected to the chambers 104c to 104f, which control the film forming process, and an argon gas supply mechanism is connected to the chambers 104c to 104f.

ディスク搬入・搬出チャンバ104a内には、ディスク
チャックユニット 122が設けられている。また、こ
のディスクチャックユニット 122は直接ディスクハ
ンドリング手段C図示せず)とディスクDのやり取りを
行うのではなく、外部との間にバッファチャンバ150
が介装されるようになっている。そして、このディスク
受渡チャンバ106とバッファチャンバ150との間、
及び該バッファチャンバ150とディスクハンドリング
手段が設けられているクリーンルームとの間にもシャッ
タ151゜152が設けられている。
A disk chuck unit 122 is provided within the disk loading/unloading chamber 104a. In addition, this disk chuck unit 122 does not directly exchange the disk D with the disk handling means C (not shown), but has a buffer chamber 150 between it and the outside.
is now being intervened. Between the disk transfer chamber 106 and the buffer chamber 150,
Shutters 151 and 152 are also provided between the buffer chamber 150 and a clean room in which a disk handling means is provided.

ディスク搬入・搬出チャンバ104aに設けたディスク
チャックユニット 122は、ディスクDの内径部分を
チャックするための適宜の機構を備えたものであり、し
かもロークリアクチュエータ等を備えた反転手段123
が配設され、さらに前後動手段124上に設置されてい
ることから、このチャンバ104aはある程度広い空間
を必要とする。ディスクハンドリング手段は、第1の実
施例で説明したことからも明らかなように、クリーンル
ーム内に配設されてはいるが、このクリーンルーム内は
大気圧の状態となっている。このために、このように比
較的広い空間を有するディスク搬入・搬出チャンバ10
4aを直接クリーンルーム内に開放すると、シャッタを
閉鎖した後のチャンバ104aの真空化が困難になると
共に、真空化のための時間が長くなる。そこで、バッフ
ァチャンバ150を設け、このバッファチャンバ150
を極めて狭い空間とすることによって、ディスクDを外
部から受け取った後におけるチャンバ150内の真空化
が容易かつ迅速に行うことができる。
A disk chuck unit 122 provided in the disk loading/unloading chamber 104a is equipped with an appropriate mechanism for chucking the inner diameter portion of the disk D, and also includes a reversing means 123 equipped with a low reactor and the like.
Since the chamber 104a is disposed on the back-and-forth moving means 124, this chamber 104a requires a certain amount of space. As is clear from the description of the first embodiment, the disk handling means is disposed within a clean room, and the inside of this clean room is at atmospheric pressure. For this purpose, the disk loading/unloading chamber 10, which has a relatively large space, is used.
If the chamber 104a is opened directly into the clean room, it becomes difficult to evacuate the chamber 104a after the shutter is closed, and it takes a long time to evacuate the chamber 104a. Therefore, a buffer chamber 150 is provided, and this buffer chamber 150
By making the space extremely narrow, the chamber 150 can be evacuated easily and quickly after receiving the disk D from the outside.

そして、前記通路105には、ディスク搬入・搬出チャ
ンバ104a、加熱チャンバ104b、第1下地膜形成
チヤンバ104c、第2下地膜形成チャンバ104d、
 FiFi性膜形成チャンバ104e及び保護膜形成チ
ャンバ104fの位置にそれぞれこれら各チャンバと連
通する開口105a〜105fが形成されている。これ
ら各開口105a−105fは、ディスクDと、該ディ
スクDを保持するためのディスク保持手段111とを挿
通させることができる範囲で可及的に小さいものとなっ
ている。
The passage 105 includes a disk loading/unloading chamber 104a, a heating chamber 104b, a first base film forming chamber 104c, a second base film forming chamber 104d,
Openings 105a to 105f are formed at the positions of the FiFi film forming chamber 104e and the protective film forming chamber 104f, respectively, to communicate with these chambers. Each of these openings 105a to 105f is made as small as possible within a range that allows the disk D and the disk holding means 111 for holding the disk D to be inserted therethrough.

ディスク保持手段111は、回転駆動手段107により
60°ずつインデックス回転せしめられるインデックス
回転部材103に60°の位相をもって取り付けた6本
の゛アーム103aの先端に昇降可能に装着されている
。このディスク保持手段111は、第12図に示したよ
うに、円弧状に形成した受け部材112を有し、該受け
部材112の上面部には、ディスクDの外周の一部分を
支承する円弧状の受け溝112aが形設されている。そ
して、この受け部材112は角棒からなる昇降ロッド 
113に固定して設けられている。
The disk holding means 111 is mounted movably up and down at the tips of six arms 103a attached to the index rotation member 103 with a phase of 60 degrees, which is index-rotated by the rotation drive means 107 by 60 degrees. As shown in FIG. 12, this disc holding means 111 has a receiving member 112 formed in an arc shape, and an arc-shaped receiving member 112 that supports a part of the outer circumference of the disc D is provided on the upper surface of the receiving member 112. A receiving groove 112a is formed. This receiving member 112 is a lifting rod made of a square bar.
113.

昇降ロッド 113は、アーム113aに昇降可能に挿
嵌されて下方に延在されている。前述した各チャンバ1
048〜104fの下部位置における固定ハウジング1
02の本体部102aの外壁に取り付けられ、この壁部
に設けた透孔156を介して通路105内に延在せしめ
られた昇降動作用のシリンダ157のビストンロツド1
57aにより押動されて、上昇するようになっている。
The elevating rod 113 is fitted into the arm 113a so as to be movable up and down, and extends downward. Each chamber 1 mentioned above
Fixed housing 1 in lower position from 048 to 104f
The piston rod 1 of the cylinder 157 for lifting and lowering is attached to the outer wall of the main body part 102a of 02 and extends into the passage 105 through a through hole 156 provided in this wall part.
57a to rise.

また、昇降ロッド113には、隔壁部材158が装着さ
れている。この隔壁部材158は昇降ロッド113が上
昇して、ディスク受け部材112の受け溝112aに支
承されたディスクDがチャンバ104a〜104f内に
配置せしめられたときに、天板部102bの開口105
a−105fの開設位置の下面と当接して、これら各チ
ャンバ104a−104fを閉鎖することができるよう
になっている。そして、このチャンバ104a−104
fをより一層実効あらしめるために、この隔壁部材15
8の上面には、天板部102bに当接するシール部材1
59が装着されている。
Further, a partition member 158 is attached to the lifting rod 113. This partition wall member 158 opens the opening 105 of the top plate portion 102b when the lifting rod 113 is raised and the disk D supported in the receiving groove 112a of the disk receiving member 112 is placed in the chambers 104a to 104f.
Each of these chambers 104a-104f can be closed by abutting against the lower surface of the opening position of chamber a-105f. And this chamber 104a-104
In order to make f even more effective, this partition wall member 15
On the upper surface of 8, there is a sealing member 1 that comes into contact with the top plate portion 102b.
59 is installed.

ディスク保持手段111は、その受け部材112によっ
てディスクDの外周部を支承するように保持するもので
あるから、成膜工程を行う際に、該ディスクDを回転駆
動することは出来ない。そこで、成膜工程を構成するチ
ャンバ1040〜104f内に設けられるスパッタリン
グコーティング手段130のカソードとしては、平板状
のターゲット部材132を有し、該ターゲット部材13
2の背後位置に設けた磁石141が配設されている。ま
た、このターゲット部材132の材質としては、第1層
、第2層の下地膜形成チャンバ104C及び104dに
おいてはクローム、磁性膜形成チャンバ104eではコ
バルト、また保護膜形成チャンバ104fにおいてはカ
ーボンとなっていることは、前述した第1の実施例と格
別変わるところはない。そして、加熱チャンバ104b
には、ヒータか設けられることはいうまでもない。
Since the disk holding means 111 supports and holds the outer periphery of the disk D with its receiving member 112, the disk D cannot be rotationally driven during the film forming process. Therefore, as a cathode of the sputtering coating means 130 provided in the chambers 1040 to 104f constituting the film forming process, a flat target member 132 is provided, and the target member 13
A magnet 141 is provided at a position behind 2. The target member 132 is made of chromium in the base film forming chambers 104C and 104d for the first and second layers, cobalt in the magnetic film forming chamber 104e, and carbon in the protective film forming chamber 104f. There is no particular difference from the first embodiment described above. And heating chamber 104b
Needless to say, a heater is also provided.

而して、ディスク搬入・搬出チャンバ104a内にディ
スクDを搬入すると、このディスク搬入・搬出チャンバ
104aの下方に位置するディスク保持手段111を上
昇させて、該ディスク搬入・搬出チャンバ104a内に
位置させる。そこで、まず外部からバッファチャンバ1
50に一度ディスクDを搬入し、然る後に、このバッフ
ァチャンバ150を真空圧にした状態で、ディスク搬入
・搬出チャンバ104a内にディスクDを導入して、当
該位置に配置されているディスク保持手段111にこの
ディスクDを受け渡す。
When the disk D is carried into the disk loading/unloading chamber 104a, the disk holding means 111 located below the disk loading/unloading chamber 104a is raised and positioned within the disk loading/unloading chamber 104a. . Therefore, first, from the outside, enter the buffer chamber 1.
50, and then, with this buffer chamber 150 under vacuum pressure, the disk D is introduced into the disk loading/unloading chamber 104a, and the disk holding means disposed at the position is This disk D is handed over to 111.

ディスク搬入・搬出チャンバ104a内にディスクDが
搬入されて、ディスク保持手段111に装着されると、
該ディスク保持手p5iliを下降させて、ディスクD
を通路105内に移行させ、インデックス回転手段10
3を60°インデックス回転させる。
When the disk D is carried into the disk loading/unloading chamber 104a and mounted on the disk holding means 111,
Lower the disc holding hand p5ili and remove the disc D.
into the passage 105, and the index rotation means 10
Rotate 3 by 60° index.

これにより、加熱チャンバ104bが配設されている位
置に移行する。そこで、当該位置に配設されているシリ
ンダ157を作動させることにより、ディスクDをそれ
を保持するディスク保持手段l11と共に上昇させて、
このディスクDを加熱チャンバ104b内に位置させる
と共に、この加熱チャンバ104bを隔壁部材158に
よって密閉し、この状態で該ディスクDを加熱する。
This moves to the position where the heating chamber 104b is provided. Therefore, by operating the cylinder 157 disposed at that position, the disk D is raised together with the disk holding means l11 that holds it.
This disk D is located in the heating chamber 104b, and this heating chamber 104b is sealed by the partition member 158, and the disk D is heated in this state.

この加熱が終了すると、第1層下地膜形成チャンバ10
4c、第2層下地膜形成チャンバ104d、磁性膜形成
チャンバ104e及び保護膜形成チャンバ104fに順
次移行させて、それぞれのチャンバ内において多層成膜
を行う。そして、インデックス回転手段103が360
°回転すると、成膜処理が終了したディスクDはディス
ク搬入・搬出チャンバ104aに帰還するので、バッフ
ァチャンバ150を介して外部に取り出すことができる
。また、これと共に、新たに導入されるディスクDがデ
ィスク搬入・搬出チャンバ104a内に送り込まれ、そ
の加熱、第1層下地膜形成、第2層下地膜形成、磁性膜
形成及び保護膜形成が順次行われることになる。
When this heating is completed, the first layer base film forming chamber 10
4c, the second layer base film forming chamber 104d, the magnetic film forming chamber 104e, and the protective film forming chamber 104f are sequentially moved to perform multilayer film formation in each chamber. Then, the index rotation means 103
When rotated by .degree., the disk D on which the film forming process has been completed returns to the disk loading/unloading chamber 104a, so that it can be taken out via the buffer chamber 150. At the same time, a newly introduced disk D is sent into the disk loading/unloading chamber 104a, and its heating, first layer base film formation, second layer base film formation, magnetic film formation, and protective film formation are sequentially performed. It will be done.

さらに、第13図乃至第15図は本発明の第3の実施例
を示すものであって、本実施例においては、第13図か
ら明らかなように、装置本体2月の固定ハウジング20
2を構成する本体部202aには円環状の通路205が
形成されているか、前述した第2の実施例とは異なり、
その天板部202bには8個のチャンバ204a〜20
4hが設けられている。そして、この天板部202bに
は、通路205はチャンバ204a〜204hに連通さ
せるための開口205a〜205hが形成されている。
Furthermore, FIGS. 13 to 15 show a third embodiment of the present invention, and in this embodiment, as is clear from FIG.
Unlike the second embodiment described above, the main body 202a constituting the second embodiment has an annular passage 205 formed therein.
The top plate portion 202b has eight chambers 204a to 20.
4h is provided. Openings 205a to 205h are formed in this top plate portion 202b to allow passage 205 to communicate with chambers 204a to 204h.

ここで、第2のチャンバ204bは加熱チャンバ。Here, the second chamber 204b is a heating chamber.

第3のチャンバ204cは第1層下地膜形成チャンバ、
第4のチャンバ204dは第2の下地膜形成チャンバ、
第5のチャンバ204eは磁性膜形成チャンバ、第6の
チャンバ204fは保護膜形成チャンバである点につい
ては、前述した第2の実施例と実質的に変わるところは
ない。また、被膜形成チャンバ204C〜204fには
、前述した第2実施例と同様の平板状のターゲット部材
を有するスパッタリングコーティング源が設けられてい
る。
The third chamber 204c is a first layer base film forming chamber,
The fourth chamber 204d is a second base film forming chamber,
There is no substantial difference from the second embodiment described above in that the fifth chamber 204e is a magnetic film forming chamber and the sixth chamber 204f is a protective film forming chamber. Further, the film forming chambers 204C to 204f are provided with a sputtering coating source having a flat target member similar to that of the second embodiment described above.

然るに、第1のチャンバ204aはディスク搬入チャン
バで、このチャンバ204aは、ディスクDを搬入する
機能だけを有するディスク搬入チャンバである。また、
第7のチャンバ204gは成膜処理が終了したディスク
Dの搬出のみを行うディスク搬出チャンバ、第8のチャ
ンバ204hはクリーニングチャンバとなっている。
However, the first chamber 204a is a disk loading chamber, and this chamber 204a is a disk loading chamber having only the function of loading the disk D. Also,
The seventh chamber 204g is a disk unloading chamber for only unloading the disk D on which the film forming process has been completed, and the eighth chamber 204h is a cleaning chamber.

従って、ディスク搬入チャンバ204a及びディスク搬
出チャンバ204gにはディスクDの搬入及び搬出を可
能ならしめる開閉扉250a、 250gが設けられて
いる。また、この装置の外部にはディスク搬入を行うた
めのディスクハンドリング手段251a及びディスク搬
出を行うためのディスクハンドリング手段251gが配
設されて、このディスクハンドリング手段251a、 
251gと、ディスク搬入チャンバ204a及びディス
ク搬出チャンバ204gとの間で直接ディスクDの受け
渡しが行われるように構成されている。
Therefore, the disc loading chamber 204a and the disc unloading chamber 204g are provided with doors 250a and 250g that allow the disc D to be loaded and unloaded. Furthermore, a disk handling means 251a for carrying in a disk and a disk handling means 251g for carrying out a disk are disposed outside this apparatus, and the disk handling means 251a,
251g, and the disk loading chamber 204a and the disk loading chamber 204g are configured to directly transfer the disk D.

ディスク保持手段211はモータ等の回転駆動手段20
7により45°毎にインデックス回転するインデックス
回転部材203に装着した8本のアーム203aに装着
したディスク受け部材212から構成され、このディス
ク受け部材212には円弧状の受け溝212aを形成し
ている点については、第2の実施例と同様ではあるが、
このディスク受け部材212の軸部212aの下端部は
窪み213aを有する駒部材213が連設されている。
The disk holding means 211 is a rotation driving means 20 such as a motor.
7, the disc receiving member 212 is attached to eight arms 203a attached to an index rotation member 203 that rotates the index every 45°, and an arcuate receiving groove 212a is formed in the disc receiving member 212. Although the points are similar to the second embodiment,
A bridge member 213 having a recess 213a is connected to the lower end of the shaft portion 212a of the disc receiving member 212.

そして、この駒部材213には、段部213bが設けら
れており、該段部213bはアーム203aに形成した
貫通孔203bに係合するようになっている。
This piece member 213 is provided with a stepped portion 213b, and the stepped portion 213b is adapted to engage with a through hole 203b formed in the arm 203a.

これに対して、ディスク保持手段211を昇降させる機
構としては、第14図に示したように、固定ハウジング
202の本体部202bの下面に設けたシリンダ257
を有し、該シリング257のピストンロッド257aを
この本体部202aに形成した透孔256から通路20
5内に臨ませて設け、該ピストンロット257aの先端
には駒部材213における窪み213aに嵌合する凸部
255aを有する押上部片255を設けるようにしてい
る。従って、該押上部片255を上昇させると、その凸
部255aがディスク受け部材212の駒部213に形
成した窪み213aと係合して、該ディスク受け部材2
12をアーム203aがら浮き上がらせて、開口205
a〜205hを介してチ等ンパ204a 〜204h内
に導入することができるようになる。
On the other hand, as a mechanism for raising and lowering the disk holding means 211, as shown in FIG.
The piston rod 257a of the sill 257 is connected to the passage 20 through the through hole 256 formed in the main body 202a.
A push-up piece 255 is provided at the tip of the piston rod 257a and has a convex portion 255a that fits into the recess 213a of the bridge member 213. Therefore, when the push-up piece 255 is raised, its convex portion 255a engages with the depression 213a formed in the bridge portion 213 of the disc receiving member 212, and the disc receiving member 2
12 from the arm 203a and open the opening 205.
It can now be introduced into the chimpanzer 204a to 204h via the channels a to 205h.

さらに、ディスクDをチャンバ204a〜204h内に
移行させたときに、開口205a〜205hを閉鎖する
ための隔壁部材258がディスク受け部材2Hの軸部2
11aに取り付けられており、またこの隔壁部材258
にはシール部材259が設けられている。
Furthermore, when the disk D is moved into the chambers 204a to 204h, a partition member 258 for closing the openings 205a to 205h is attached to the shaft portion 2 of the disk receiving member 2H.
11a, and this partition member 258
A sealing member 259 is provided at.

このように構成することによって、ディスク受け部材2
11の昇降動作時に他の部材と摺動することがなく、従
ってこの摺動に基づ(発塵のおそれがなくなる。また、
ディスク搬出チャンバ204gとディスク搬入チャンバ
204aとの間にクリーニングチャンバ204hを設け
ることによって、成膜工程において、ディスク受け部材
211に付着した異物を除去することができる。特に、
保護膜形成チャンバ204fにおいてターゲット部材か
ら照射されたカーボン分子がディスク受け部材211及
び軸部211aに付着することがあり、このようにカー
ボンが付着したまま次のディスクDに対する成膜処理が
開始すると、その成膜作業中にディスクDに付着するお
それがあるが、このクリーニングチャンバ204hにお
いて、ディスク受け部材211等に付着したカーボンを
除去して、清浄化することができる。なお、クリーニン
グチャンバ204hに配設されるクリーニング手段とし
ては、エツチング処理を行う機構等のものが好適に用い
られる。
With this configuration, the disc receiving member 2
11 does not slide against other members during the lifting and lowering operation, and therefore, based on this sliding, there is no risk of dust generation.
By providing the cleaning chamber 204h between the disk unloading chamber 204g and the disk loading chamber 204a, foreign matter attached to the disk receiving member 211 can be removed during the film forming process. especially,
Carbon molecules irradiated from the target member in the protective film forming chamber 204f may adhere to the disk receiving member 211 and the shaft portion 211a, and if the film forming process for the next disk D is started with carbon still attached in this way, Although there is a possibility that carbon may adhere to the disk D during the film forming operation, carbon adhering to the disk receiving member 211 and the like can be removed and cleaned in this cleaning chamber 204h. Note that as the cleaning means disposed in the cleaning chamber 204h, a mechanism for performing an etching process or the like is preferably used.

小径のディスクを成膜処理する場合には、前述したディ
スク受け部材111や211を用いても、ディスクの受
け渡し等の際において、その取り落し等のおそれは少な
い。しかしながら、ディスクを加熱する際にディスク受
け部材も共に加熱されることになることから、該ディス
ク受け部材が熱変形するおそれがあることから、ディス
クの取り落しの可能性が高くなる。
When forming a film on a small-diameter disk, even if the disk receiving member 111 or 211 described above is used, there is little risk of the disk being dropped during transfer or the like. However, since the disk receiving member is also heated when the disk is heated, there is a risk that the disk receiving member will be thermally deformed, increasing the possibility that the disk will be dropped.

そこで、大径のディスクD′を処理する場合において、
それを安定した状態に保持するためには、第16図に示
したようなディスク保持部材300を用いればよい。即
ち、同図から明らかなように、円弧状の受け溝301a
を有するディスク受け部材301を設けると共に、この
ディスクD′の外径部分を左右からチャックする一対の
チャック部片302、 302を設け、これら各チャッ
ク部片302゜302の先端にディスクD′に係合する
チャック部302a、 302aを設けるようになし、
かつ各チャック部片302の中間部に揺動支点303に
枢着し他端部を相互に離間する方向にばね304を作用
させるように構成する。
Therefore, when processing a large diameter disk D',
In order to hold it in a stable state, a disk holding member 300 as shown in FIG. 16 may be used. That is, as is clear from the figure, the arc-shaped receiving groove 301a
A disc receiving member 301 is provided, and a pair of chuck pieces 302, 302 are provided for chucking the outer diameter portion of the disc D' from the left and right, and a pair of chuck pieces 302, 302 are provided at the tips of these chuck parts 302, 302 to engage the disc D'. chuck portions 302a, 302a that fit together are provided;
Further, a spring 304 is configured to be pivotally connected to a swinging fulcrum 303 at the middle portion of each chuck piece 302 and act in a direction to separate the other end portions from each other.

これによって、チャック部片302.302は常時ディ
スクD′をチャックする状態に保持されて、このディス
クD′を各チャンバに送り込む際に、それを極めて安定
した状態で保持させることができる。また、このディス
クD′の成膜装置内への搬入及びこの成膜装置からの搬
出を行う際に、該ディスクD′のチャックを解除させる
必要かある。そこで、チャック部片302のチャック部
302aを形成した側とは反対側の端部にローラ305
を設け、該ローラ 305をばね304に抗する方向に
押動するチャック解除機構を配設しておく。これによっ
て、ディスクD′の着脱が必要なときには、このチャッ
ク解除機構を作動させればよい。
As a result, the chuck pieces 302, 302 are always kept in a state of chucking the disk D', and can hold this disk D' in an extremely stable condition when feeding it into each chamber. Furthermore, when carrying the disk D' into and out of the film forming apparatus, it is necessary to release the chuck of the disk D'. Therefore, a roller 305 is attached to the end of the chuck piece 302 opposite to the side where the chuck part 302a is formed.
and a chuck release mechanism for pushing the roller 305 in a direction against the spring 304. Thereby, when it is necessary to attach or detach the disk D', it is only necessary to operate this chuck release mechanism.

[発明の効果1 以上説明したように、本発明は、成膜処理を行うために
必要な複数の作業チャンバと、各チャンバ間の通路から
なる真空領域を水平円環状のディスク搬送ループ経路に
より形成しているので、ディスクを帰還させるための経
路や、ディスクの搬送方向を反転させるための機構等を
設ける必要かなくなり、ディスク搬送経路を極めて小型
化、コンパクト化することができるようになり、またイ
ンデックス機構を備えたロータリ式の搬送手段を水平方
向に回転させて、ディスクを各作業チャンバに順次搬送
するように構成しているので、真空領域内にはディスク
保持手段と、このディスク保持手段を搬送手段に連結す
る部材のみを配置すればよく、真空領域の省スペース化
を図ることができ、しかも装置全体の小型化、コンパク
ト化が可能となり、真空領域内に塵埃が発生したり、雰
囲気汚染が生じるおそれは極めて少なく、成膜処理の品
質が向上することになり、さらに作業中においては、デ
ィスクは常時ディスク保持手段に保持されて、受け渡し
を行う必要がないことがら、該ディスクを極めて安定し
た状態に保持することができ、作業中においてディスク
が脱落するおそれは極めて少なく、作業チャンバ間の移
行を高速で行うことができるようになり、全体として処
理効率が向上する等の諸効果を奏する。
[Advantageous Effects of the Invention 1] As explained above, the present invention has the advantage of forming a vacuum region consisting of a plurality of work chambers necessary for film-forming processing and passages between the chambers by a horizontal annular disk transport loop path. Therefore, there is no need to provide a path for returning the disk or a mechanism for reversing the direction of disk conveyance, making it possible to make the disk conveyance path extremely small and compact. The rotary conveyance means equipped with an indexing mechanism is rotated horizontally to convey the disks to each work chamber in sequence, so there is a disk holding means in the vacuum area, and the disk holding means is placed inside the vacuum area. It is only necessary to arrange the parts connected to the conveyance means, which saves space in the vacuum area.In addition, the entire device can be made smaller and more compact, which prevents the generation of dust and atmospheric pollution in the vacuum area. The risk of this occurring is extremely small, improving the quality of the film forming process.Furthermore, during the work, the disk is always held in the disk holding means and there is no need to transfer it, making the disk extremely stable. The disk can be held in a fixed state, there is very little risk of the disk falling off during work, and it is possible to move between work chambers at high speed, which has various effects such as improving overall processing efficiency. .

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図乃至第9図は本発明の第1の実施例を示し、第1
図は成膜装置の断面図、第2図は半断面状態で示す第1
図の正面図、第3図はディスククランプ部材の分解斜視
図、第4図はディスクチャックユニットの全体構成を示
す斜視図、第5図はチャック機構部分の側面図、第6図
は被膜形成チャンバの断面図、第7図はスパッタリング
カソード源の断面図、第8図はスパッタリングカソード
源の組立体の斜視図、第9図は通路の断面図、第10図
乃至第14図は本発明の第2の実施例を示し、第1O図
は成膜装置の部分断面平面図、第11図は半断面状態で
示す第1O図の正面図、第12図はディスク保持部材の
構成説明図、第13図乃至第15図は本発明の第3の実
施例を示し、第13図は成膜装置の部分断面平面図、第
14図は半断面状態で示す第13図の正面図、第15図
はディスク保持手段の昇降機構の構成説明図、第、16
図はディスク保持部材の他の例を示す断面図である。 1、 .101,201:装置本体、2 、 102.
 202 :固定ハウシンク、102a、 202a 
:本体部、102b、 202b:天板部、3.ローク
リ搬送ドラム、4a。 104a :ディスク搬入・搬出チャンバ、4b、 1
04.b。 204b :加熱チャンバ、4c、 104c、 20
4c :第1層下地膜形成チャンバ、4d、 104d
、 2.04d:第2層下地膜形成チャンバ、4e、 
104e、 204e  磁性膜形成チャンバ、4f、
 l04f、 204f:保護膜形成チャンバ、5 、
 105. 205 :通路、6. 106+デイスク
受渡チヤンバ、7:回転駆動手段、11. 111. 
211゜300:ディスク保持手段、12:゛スピンド
ル、13:ディスククランパ、14ニスナツプアクショ
ン′機横、16:駆動モータ、 20.21.151 
、152  :シャッタ、22. 122 :ディスク
チャックユニット、23:ロータリアクチュエータ、2
4:前後動手段、25、251a、 251g :ディ
スクハントリング手段、26:ヒータ、30ニスバツタ
リングコーテイング源、31ニスバツタリングユニツト
、32:ターゲット部材、43:真空吸引装置、44:
可動隔壁、103、 203 :インデックス回転手段
、103a。 203a :アーム、 112. 212. 301 
:ディスク受け部材、 113:昇降ロッド、 150
:バッファチャンバ、 157. 257 ニジリンダ
、 158. 258 :隔壁部材、 159. 25
9 :シール部材、  255:押上部片、302:ヂ
ャック部片、304:ばね、D、D’  :ディスク。 第1図 2へ 第2図 第3図 第4図 第6図 第io図 ヤθ 65d 第16図
1 to 9 show a first embodiment of the present invention.
The figure is a cross-sectional view of the film forming apparatus, and Figure 2 is a half-sectional view of the first
3 is an exploded perspective view of the disk clamp member, FIG. 4 is a perspective view showing the overall configuration of the disk chuck unit, FIG. 5 is a side view of the chuck mechanism, and FIG. 6 is a film forming chamber. 7 is a sectional view of a sputtering cathode source, FIG. 8 is a perspective view of an assembly of a sputtering cathode source, FIG. 9 is a sectional view of a passageway, and FIGS. FIG. 10 is a partial cross-sectional plan view of the film forming apparatus, FIG. 11 is a front view of FIG. 1O shown in a half-sectional state, FIG. 15 shows a third embodiment of the present invention, FIG. 13 is a partial sectional plan view of the film forming apparatus, FIG. 14 is a front view of FIG. 13 shown in a half sectional state, and FIG. Explanatory diagram of the configuration of the elevating mechanism of the disc holding means, No. 16
The figure is a sectional view showing another example of the disc holding member. 1. 101, 201: device main body, 2, 102.
202: Fixed house sink, 102a, 202a
: Main body part, 102b, 202b: Top plate part, 3. Low-kuri conveyance drum, 4a. 104a: Disk loading/unloading chamber, 4b, 1
04. b. 204b: heating chamber, 4c, 104c, 20
4c: First layer base film formation chamber, 4d, 104d
, 2.04d: Second layer base film formation chamber, 4e,
104e, 204e magnetic film forming chamber, 4f,
l04f, 204f: Protective film forming chamber, 5,
105. 205: Passage, 6. 106+disk delivery chamber, 7: rotational drive means, 11. 111.
211゜300: Disc holding means, 12: Spindle, 13: Disc clamper, 14 Snap action machine side, 16: Drive motor, 20.21.151
, 152: shutter, 22. 122: Disc chuck unit, 23: Rotary actuator, 2
4: Back and forth movement means, 25, 251a, 251g: Disk hunting means, 26: Heater, 30 Varnish buttering coating source, 31 Varnish buttering unit, 32: Target member, 43: Vacuum suction device, 44:
Movable bulkhead, 103, 203: Index rotation means, 103a. 203a: Arm, 112. 212. 301
: Disk receiving member, 113: Lifting rod, 150
: buffer chamber, 157. 257 Niji Linda, 158. 258: Partition member, 159. 25
9: Seal member, 255: Push-up piece, 302: Jack piece, 304: Spring, D, D': Disc. Fig. 1 To 2 Fig. 2 Fig. 3 Fig. 4 Fig. 6 Fig. io Fig. y θ 65d Fig. 16

Claims (21)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)複数の作業チャンバと、該各作業チャンバ間を連
通させる通路とからなる水平円環状のディスク搬送ルー
プ経路を形成する固定壁部と、 前記固定壁部と共に真空領域を形成する可動壁を有する
ロータリインデックス式搬送手段と、前記可動壁部に取
り付けられて、真空領域内に位置し、被加工ディスクを
保持して前記各作業チャンバにおいてディスクに所定の
処理,加工を行う複数のディスク保持手段とを有し、 前記ロータリインデックス式搬送手段により前記ディス
ク保持手段を前記各作業チャンバに位置決めしながら前
記ディスク搬送ループ経路に沿って搬送することにより
、前記ディスクの表裏両面を同時成膜する構成としたこ
とを特徴とするディスク成膜装置。
(1) A fixed wall part forming a horizontal annular disk transport loop path consisting of a plurality of work chambers and passages communicating between the work chambers, and a movable wall part forming a vacuum region together with the fixed wall part. a plurality of disk holding means attached to the movable wall portion and located in a vacuum region to hold the disk to be processed and perform predetermined processing and processing on the disk in each of the working chambers; The disc holding means is positioned in each of the work chambers by the rotary index type transport means and transported along the disc transport loop path, thereby simultaneously forming a film on both the front and back surfaces of the disc. A disk film forming apparatus characterized by the following.
(2)前記作業チャンバは、ディスク搬入・搬出チャン
バと、ディスク加熱チャンバと、それぞれ被膜形成手段
を配設した複数の被膜形成チャンバとから構成したこと
を特徴とする請求項(1)記載のディスク成膜装置。
(2) The disk according to claim (1), wherein the working chamber is composed of a disk loading/unloading chamber, a disk heating chamber, and a plurality of coating forming chambers each provided with a coating forming means. Film deposition equipment.
(3)前記ディスク搬入・搬出チャンバと、ディスクを
搬入,搬出するためのディスク移載手段との間にディス
クを受渡するために、前記ディスク搬入・搬出チャンバ
と外部に位置するディスクハンドリング手段との間で開
閉可能なディスク受渡チャンバを設ける構成としたこと
を特徴とする請求項(2)記載のディスク成膜装置。
(3) In order to transfer the disc between the disc loading/unloading chamber and a disc transfer means for loading and unloading the disc, the disc loading/unloading chamber and a disc handling means located outside are connected. 3. The disk film forming apparatus according to claim 2, further comprising a disk transfer chamber that can be opened and closed between the disks.
(4)前記ディスク受渡チャンバ内には、ディスクを把
持する一対のディスク保持手段を180°の位相関係を
持たせて一対設け、これら各ディスク把持手段を反転可
能としたことを特徴とする請求項(3)記載のディスク
成膜装置。
(4) A pair of disc holding means for gripping the disc are provided in the disc delivery chamber with a phase relationship of 180°, and each of these disc gripping means is reversible. (3) Disk film forming apparatus as described.
(5)前記ディスク受渡チャンバと前記ディスクハンド
リング手段との間でディスクの受け渡しを行う際に、狭
いスペースを有するバッファチャンバを設け、該バッフ
ァチャンバには、ディスクを保持するディスク保持手段
を配設すると共に、前記ディスク受渡チャンバと前記デ
ィスクハンドリング手段との間を選択的に開閉可能なシ
ャッタを設ける構成としたことを特徴とする請求項(3
)または(4)記載のディスク成膜装置。
(5) A buffer chamber having a narrow space is provided when transferring a disk between the disk transfer chamber and the disk handling means, and a disk holding means for holding the disk is provided in the buffer chamber. In addition, a shutter that can be selectively opened and closed is provided between the disc transfer chamber and the disc handling means.
) or the disk film forming apparatus described in (4).
(6)前記作業チャンバは、ディスク搬入チャンバと、
ディスク加熱チャンバと、それぞれ被膜形成部材を配設
した複数の被膜形成チャンバと、ディスク搬出チャンバ
と、ディスク保持部材のクリーニングチャンバとから構
成したことを特徴とする請求項(1)記載のディスク成
膜装置。
(6) The work chamber includes a disk loading chamber;
The disk film forming method according to claim (1), comprising a disk heating chamber, a plurality of film forming chambers each provided with a film forming member, a disk ejecting chamber, and a cleaning chamber for a disk holding member. Device.
(7)前記複数の被膜形成チャンバは、少なくとも1ま
たは2つの下地膜形成チャンバと、磁性膜形成チャンバ
と、保護膜形成チャンバとから構成したことを特徴とす
る請求項(2)または(6)記載のディスク成膜装置。
(7) Claim (2) or (6), wherein the plurality of film forming chambers are comprised of at least one or two base film forming chambers, a magnetic film forming chamber, and a protective film forming chamber. Disk film forming apparatus described.
(8)前記ディスク搬入・搬出チャンバまたはディスク
搬入チャンバ及びディスク搬出チャンバと外部との間で
ディスクの受け渡しを行う際に、狭いスペースを有する
バッファチャンバをそれぞれ設ける構成としたことを特
徴とする請求項(2)または(6)記載のディスク成膜
装置。
(8) A configuration characterized in that buffer chambers each having a narrow space are provided when transferring a disk between the disk loading/unloading chamber or the disk loading/unloading chamber and the disk loading chamber and the outside. The disk film forming apparatus according to (2) or (6).
(9)前記ディスク保持手段は、ディスクの内周をクラ
ンプするディスククランプ手段で構成したことを特徴と
する請求項(1)記載のディスク成膜装置。
(9) The disk film forming apparatus according to claim (1), wherein the disk holding means comprises disk clamping means for clamping the inner periphery of the disk.
(10)前記ディスク保持手段は、ディスクの外周を支
承する円弧状のディスク係合用の溝を備えたディスクホ
ルダで構成したことを特徴とする請求項(1)記載のデ
ィスク成膜装置。
(10) The disk film forming apparatus according to claim 1, wherein the disk holding means comprises a disk holder having an arc-shaped disk engagement groove that supports the outer periphery of the disk.
(11)前記ディスククランプ手段を回転駆動手段によ
り回転駆動させて成膜することを特徴とする請求項(1
0)記載のディスク成膜装置。
(11) Claim (1) characterized in that the film is formed by rotationally driving the disk clamping means by a rotational driving means.
0) Disk film forming apparatus described.
(12)前記ディスク保持手段は、ディスクの外周をチ
ャックするディスクチャック手段で構成したことを特徴
とする請求項(1)記載のディスク成膜装置。
(12) The disk film forming apparatus according to claim 1, wherein the disk holding means comprises disk chuck means for chucking the outer periphery of the disk.
(13)少なくともディスクの受け渡しを行うそれぞれ
別個または単一のチャンバと、ディスクの加熱チャンバ
及びそれぞれ被膜形成部材を配設した複数の被膜形成チ
ャンバからなる複数の作業チャンバを所定角度毎に配設
すると共に、該各作業チャンバ間を円弧状に形成した連
絡通路で連通させることにより水平円環状のディスク搬
送ループ経路を形成すると共に、水平回転筒体の外周壁
を臨ませることによって真空領域を形成し、この真空領
域内には、前記各作業チャンバの位置と対応する角度毎
に支持軸を前記水平回転筒体の外周壁から真空領域内に
向けて延在するように設け、該各支持軸にディスクを保
持するディスク保持手段を設ける構成としたことを特徴
とするディスク成膜装置。
(13) A plurality of work chambers are arranged at predetermined angles, each consisting of at least a separate or single chamber for delivering and receiving disks, a disk heating chamber, and a plurality of film forming chambers each provided with a film forming member. At the same time, a horizontal annular disk transport loop path is formed by connecting each of the work chambers through an arcuate communication passage, and a vacuum area is formed by facing the outer circumferential wall of the horizontal rotating cylinder. , in this vacuum region, support shafts are provided extending from the outer circumferential wall of the horizontal rotating cylinder toward the inside of the vacuum region at angles corresponding to the positions of the respective work chambers; A disk film forming apparatus characterized by having a configuration in which a disk holding means for holding a disk is provided.
(14)前記各支持軸を前記水平回転筒体の外周壁に回
転自在に挿通させると共に、該各支持軸には回転駆動手
段によって回転させるようになし、また前記ディスク保
持手段はディスクの内周をクランプする構成としたこと
を特徴とする請求項(13)記載のディスク成膜装置。
(14) Each of the support shafts is rotatably inserted through the outer circumferential wall of the horizontal rotating cylinder, and each of the support shafts is configured to be rotated by a rotation drive means, and the disk holding means is arranged around the inner circumference of the disk. 14. The disk film forming apparatus according to claim 13, wherein the disk film forming apparatus is configured to clamp the disk.
(15)前記各被膜形成チャンバに配設される被膜形成
部材は回転筒状のものであることを特徴とする請求項(
14)記載のディスク成膜装置。
(15) Claim (15) characterized in that the film forming member disposed in each of the film forming chambers has a rotary cylindrical shape.
14) The disk film forming apparatus described above.
(16)前記被膜形成部材をディスクに対して上下にそ
れぞれ2組配設する構成としたことを特徴とする請求項
(15)項記載のディスク成膜装置。
(16) The disk film forming apparatus according to claim (15), characterized in that two sets of the film forming members are arranged above and below the disk.
(17)前記水平回転筒体には、前記各軸のうち、相隣
接する軸間の位置に前記連絡通路を区画形成する壁部に
対して非接触で、相隣接する作業チャンバ間を区画形成
する可動隔壁を設ける構成としたことを特徴とする請求
項(13)記載のディスク成膜装置。
(17) The horizontal rotary cylinder is provided with partitions between adjacent work chambers without contact with walls that partition and form the communication passages at positions between adjacent shafts among the respective shafts. 14. The disk film forming apparatus according to claim 13, wherein a movable partition wall is provided.
(18)水平円環状に形成したディスク搬送ループ通路
の上部位置に、少なくともディスクの受け渡しを行うそ
れぞれ別個または単一のチャンバと、ディスクの加熱チ
ャンバ及び複数の被膜形成チャンバからなる複数の作業
チャンバを所定角度毎に配設し、これら各作業チャンバ
と前記通路との間を、少なくともディスクが挿通可能な
開口を介して連通させてなる真空領域を形成し、前記通
路には、ロータリインデックス式の回転部材の外周壁を
臨ませて設け、該外周壁に前記各作業チャンバの位置に
対応する角度毎に支持アームを前記通路内に臨むように
延在させて設け、該各支持アームにはディスク保持手段
を前記通路内と前記各作業チャンバとの間に昇降可能に
装着する構成としたことを特徴とするディスク成膜装置
(18) A plurality of work chambers each consisting of at least a separate or single chamber for transferring the disk, a disk heating chamber, and a plurality of film forming chambers are installed in the upper position of the disk transport loop path formed in a horizontal annular shape. The working chambers are arranged at predetermined angles, and the passages are communicated with each other through openings through which at least a disk can be inserted to form a vacuum region, and the passages include a rotary index type rotating The outer circumferential wall of the member is provided so as to face, and support arms are provided on the outer circumferential wall and extend to face into the passageway at angles corresponding to the positions of the respective work chambers, and each support arm is provided with a disk holding arm. A disk film forming apparatus characterized in that a means is installed between the inside of the passage and each of the working chambers so as to be movable up and down.
(19)前記ディスク保持手段には、それにディスクを
装架して前記各作業チャンバ内に移行させたときに、前
記連通口を閉鎖させる隔壁部材を設ける構成としたこと
を特徴とする請求項(18)記載のディスク成膜装置。
(19) The disk holding means is provided with a partition member that closes the communication port when a disk is mounted thereon and moved into each of the working chambers. 18) The disk film forming apparatus described above.
(20)前記ディスク保持手段は前記支持アームに摺動
可能に取り付けた昇降ロッドを、前記通路の下部に設け
た突き上げロッドにより突き上げることによって、前記
各作業チャンバ内に移行させるように構成したことを特
徴とする請求項(19)記載のディスク成膜装置。
(20) The disk holding means is configured to be moved into each of the work chambers by pushing up a lifting rod that is slidably attached to the support arm using a pushing up rod provided at the bottom of the passage. A disk film forming apparatus according to claim 19.
(21)前記ディスク保持手段には、前記支持アームに
係合する係合用部材を連結し、該係合用部材を突き上げ
ロッドによって突き上げることによって、前記各作業チ
ャンバ内に移行させるように構成したことを特徴とする
請求項(20)項記載のディスク成膜装置。
(21) An engagement member that engages with the support arm is connected to the disk holding means, and the engagement member is pushed up by a push-up rod to be moved into each of the work chambers. A disk film forming apparatus according to claim (20).
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Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH09176856A (en) * 1995-12-22 1997-07-08 Ulvac Japan Ltd Sheet type vacuum treating apparatus
JP2008116340A (en) * 2006-11-06 2008-05-22 Hitachi High-Technologies Corp Method and device for inspecting surface defect in disc

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