JPH04181901A - 赤外線光学素子およびその製造方法 - Google Patents
赤外線光学素子およびその製造方法Info
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- JPH04181901A JPH04181901A JP2311738A JP31173890A JPH04181901A JP H04181901 A JPH04181901 A JP H04181901A JP 2311738 A JP2311738 A JP 2311738A JP 31173890 A JP31173890 A JP 31173890A JP H04181901 A JPH04181901 A JP H04181901A
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Landscapes
- Surface Treatment Of Optical Elements (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
産業上の利用分野
本発明は、赤外線を集光あるいは、透過させる赤外レン
ズ素子およびその製造方法に関するものである。
ズ素子およびその製造方法に関するものである。
従来の技術
近年、赤外線を利用した機器や計測機器が盛んに開発さ
れている。特に遠赤外（５μｍ〜１５μｍ）の光学機器
（例えば、赤外検知機等）の開発が活発になって来てい
る。
れている。特に遠赤外（５μｍ〜１５μｍ）の光学機器
（例えば、赤外検知機等）の開発が活発になって来てい
る。
遠赤外線（５μｍ〜１５μｍ）の波長において透過率の
良い材料は、ゲルマニウム（Ｇｅ）、シリコン（Ｓｉ）
、亜鉛化セレン（ＺｎＳｅ）、ハロゲン化銀（ＡｇＣｌ
、ＡｇＢｒ等）、ハロゲン化タリウム（Ｔｅ Ｉ、Ｔ
ｅＢｒ、ＴＱ ｃｉ！等）等であり、これらの材料を研
磨、切削あるいは成形後反射防止膜をコーティングして
、レンズや赤外透過窓として使用している。例えば、佐
伯利−他、三菱電機技報Ｖｏ１．５１Ｎｈｌｌ、１９７
７年Ｐ、 ７４５〜Ｐ、 ７４８゜ Ｊａｍｅｓ Ｗ、 Ｈｏｗａｒｄ他、０ＰＴＩＣＡＬ
ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧＭａｒｃｈ Ａｐｒｉｌｌ
１９８４． Ｖｏ １．２３ Ｍ２ Ｐ、 １
８７〜Ｐ、１９２゜ 発明が解決しようとする課題 従来赤外線用のレンズや窓材に用いられてきた、Ｓ ｉ
、Ｇｅ、Ｚｎ５ｅ等の材料は結晶質であり、光学研磨法
では、従来の光学ガラスの研磨法と異なり、結晶の方位
等を考慮せねばならず加工性、量産性に劣っていた。又
光学機器のレンズ構成の簡略化とレンズ部分の軽量化の
両方を回持に達成しうる非球面レンズ化には、さらに加
工性。
良い材料は、ゲルマニウム（Ｇｅ）、シリコン（Ｓｉ）
、亜鉛化セレン（ＺｎＳｅ）、ハロゲン化銀（ＡｇＣｌ
、ＡｇＢｒ等）、ハロゲン化タリウム（Ｔｅ Ｉ、Ｔ
ｅＢｒ、ＴＱ ｃｉ！等）等であり、これらの材料を研
磨、切削あるいは成形後反射防止膜をコーティングして
、レンズや赤外透過窓として使用している。例えば、佐
伯利−他、三菱電機技報Ｖｏ１．５１Ｎｈｌｌ、１９７
７年Ｐ、 ７４５〜Ｐ、 ７４８゜ Ｊａｍｅｓ Ｗ、 Ｈｏｗａｒｄ他、０ＰＴＩＣＡＬ
ＥＮＧＩＮＥＥＲＩＮＧＭａｒｃｈ Ａｐｒｉｌｌ
１９８４． Ｖｏ １．２３ Ｍ２ Ｐ、 １
８７〜Ｐ、１９２゜ 発明が解決しようとする課題 従来赤外線用のレンズや窓材に用いられてきた、Ｓ ｉ
、Ｇｅ、Ｚｎ５ｅ等の材料は結晶質であり、光学研磨法
では、従来の光学ガラスの研磨法と異なり、結晶の方位
等を考慮せねばならず加工性、量産性に劣っていた。又
光学機器のレンズ構成の簡略化とレンズ部分の軽量化の
両方を回持に達成しうる非球面レンズ化には、さらに加
工性。
量産性が悪化するためレンズが高価になるという欠点を
有していた。
有していた。
又遠赤外を透過させる材料としては、Ｓｉ。
Ｇｅ、Ｚｎ５ｅ以外に、Ｔｉ！ Ｂｒ、Ｔｆ！ Ｉ。
ＡｇＢｒ、ＡｇＣＱ等の材料があり、これらが赤外線用
のファイバーとして使用されてきた（例えば、赤外用フ
ァイバー、０．Ｐｈｕｓ Ｅ、 Ｖｏｌ、ＩＬ １９
８０年Ｐ４１．．ＭｉｍｕｒａＹ、、 Ｙ、 Ｏｋ
ａｍｕｒａ Ｊｐｎ、 Ｊ、 Ａｐｐｌ、 Ｐｈ
ｙｓ。
のファイバーとして使用されてきた（例えば、赤外用フ
ァイバー、０．Ｐｈｕｓ Ｅ、 Ｖｏｌ、ＩＬ １９
８０年Ｐ４１．．ＭｉｍｕｒａＹ、、 Ｙ、 Ｏｋ
ａｍｕｒａ Ｊｐｎ、 Ｊ、 Ａｐｐｌ、 Ｐｈ
ｙｓ。
Ｖｏｌ、１９ ｒｈ５Ｐ、 Ｌ−２６９１９８０＞
。
。
しかしながらこれらの遠赤外透過材料は、その屈折率ｎ
が、２．０〜４．０と高（、通常の可視光光学ガラスと
比べて、表面反射が大きく、表面の反射防止膜なしでは
、赤外の透過率が８０％以下であった。
が、２．０〜４．０と高（、通常の可視光光学ガラスと
比べて、表面反射が大きく、表面の反射防止膜なしでは
、赤外の透過率が８０％以下であった。
勿論、これら赤外透過材料の屈折率より低い材料を適当
な厚みでコーティングすれば透過率は良くなると考えら
れるが（一般に、反射防止膜はレンズや窓材の屈折率の
平方根の屈折率で、光学的膜厚である波長の４分の１の
奇数倍の厚さでコーティングすることによって作成され
る。）、従来の赤外透過材の屈折率は２．０〜４．０で
あるので反射防止膜の屈折率は１．４１〜２．０となる
。
な厚みでコーティングすれば透過率は良くなると考えら
れるが（一般に、反射防止膜はレンズや窓材の屈折率の
平方根の屈折率で、光学的膜厚である波長の４分の１の
奇数倍の厚さでコーティングすることによって作成され
る。）、従来の赤外透過材の屈折率は２．０〜４．０で
あるので反射防止膜の屈折率は１．４１〜２．０となる
。
しかしながら、屈折率が１．４１〜２．０で、遠赤外線
を十分透過し、しかも化学的に安定で耐環境性に優れた
材料は非常に少ない。特にＡｇＢｒ。
を十分透過し、しかも化学的に安定で耐環境性に優れた
材料は非常に少ない。特にＡｇＢｒ。
ＡｇＣ＋！ 、ＴＱ Ｉ、ＴＱ Ｂｒ等に対する反射防
止膜（これらの材料の屈折率は波長１０μｍで２．０〜
２．４であるので反射防止膜の材料はｎ＝１．４１〜１
．５５の間である。）で、１０μｍ付近の赤外透過率が
高くしかも耐環境性に優れた反射防止膜の材料はほとん
どなかった。
止膜（これらの材料の屈折率は波長１０μｍで２．０〜
２．４であるので反射防止膜の材料はｎ＝１．４１〜１
．５５の間である。）で、１０μｍ付近の赤外透過率が
高くしかも耐環境性に優れた反射防止膜の材料はほとん
どなかった。
課題を解決するための手段
本発明は上記問題点を解決するために、５μｍ〜１５μ
ｍの赤外線を良（透過し、屈折率が１．４１〜１．５５
に近くしかも化学的に安定であるポリエチレンをプラズ
マＣＶＤ法、スパッタリング法あるいはイオンプレーテ
ィング法にて、ハロゲン化銀およびハロゲン化タリウム
上にコーティングして赤外線光学素子とするものである
。
ｍの赤外線を良（透過し、屈折率が１．４１〜１．５５
に近くしかも化学的に安定であるポリエチレンをプラズ
マＣＶＤ法、スパッタリング法あるいはイオンプレーテ
ィング法にて、ハロゲン化銀およびハロゲン化タリウム
上にコーティングして赤外線光学素子とするものである
。
すなわち、赤外線用レンズや窓材料であるＡｇＢｒ、Ａ
ｇＣＱ 、Ｔ（ｌ Ｂｒ、Ｔｅ １等と反応しない安定
な材料であるポリエチレンをプラズマＣＶＤ法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法にてこれらの赤外
用レンズや窓材の上に光学的膜厚がλ／４（ただしλは
波長）の奇数倍に゛なるようにコーティングを施すもの
である。
ｇＣＱ 、Ｔ（ｌ Ｂｒ、Ｔｅ １等と反応しない安定
な材料であるポリエチレンをプラズマＣＶＤ法、スパッ
タリング法、イオンプレーティング法にてこれらの赤外
用レンズや窓材の上に光学的膜厚がλ／４（ただしλは
波長）の奇数倍に゛なるようにコーティングを施すもの
である。
作用
本発明は、上記したＡｇＢｒ、ＡｇＣＱ 、Ｔｆ’ Ｉ
。
。
Ｔｉ！Ｂｒ上にポリエチレン製反射防止膜をコーティン
グすることにより、従来赤外線の透過率が８０％以下と
低（、しかも耐環境性（亜硫酸ガステスト）も良好でな
かったものを、赤外線の透過率が８０％以上で、耐環境
性（亜硫酸ガステスト）も良好なものにすることができ
るようになる。
グすることにより、従来赤外線の透過率が８０％以下と
低（、しかも耐環境性（亜硫酸ガステスト）も良好でな
かったものを、赤外線の透過率が８０％以上で、耐環境
性（亜硫酸ガステスト）も良好なものにすることができ
るようになる。
この理由はＡｇＢｒ、ＡｇＣｌ 、Ｔｉ！ Ｂｒ。
Ｔｅ Ｉの屈折率（波長１０μｍ）がそれぞれ２．１゜
２．０．２・、２，２．４であり、一方ポリエチレンの
屈折率は、１．５（波長１０μｍ）で上記のノ＼ロゲン
化銀やハロゲン化タリウムよりも低いためノ＼ロゲン化
銀やハロゲン化タリウム上にポリエチレンを光学的膜ｎ
ｘｄ （ｎはポリエチレンの屈折率、ｄは実際コーティ
ングする膜厚）がλ／４（λは波長）の奇数倍になるよ
うにコーティングすれば、反射防止効果が得られ透過利
率が向上する。又ポリエチレンの耐薬品性、水分の進入
を防止する能力等の効果により、反射防止効果のみなら
ず耐環境性（特に亜硫酸ガステスト）を向上させること
も可能となる。
２．０．２・、２，２．４であり、一方ポリエチレンの
屈折率は、１．５（波長１０μｍ）で上記のノ＼ロゲン
化銀やハロゲン化タリウムよりも低いためノ＼ロゲン化
銀やハロゲン化タリウム上にポリエチレンを光学的膜ｎ
ｘｄ （ｎはポリエチレンの屈折率、ｄは実際コーティ
ングする膜厚）がλ／４（λは波長）の奇数倍になるよ
うにコーティングすれば、反射防止効果が得られ透過利
率が向上する。又ポリエチレンの耐薬品性、水分の進入
を防止する能力等の効果により、反射防止効果のみなら
ず耐環境性（特に亜硫酸ガステスト）を向上させること
も可能となる。
実施例
以下、本発明の一実施例の赤外線光学素子および赤外線
光学レンズの製造方法について、図面を用いて説明する
。
光学レンズの製造方法について、図面を用いて説明する
。
実施例１
直径１０ｍｍ、長さ２０ｗｎの円柱状で、１５重量％の
コバルト（ＣＯ）を含有するタングステンカーバイド（
Ｗｅ）系の超硬合金の棒を２本ずつ準備し、放電加工に
よって、曲率半径４５＋＋＋ｍの凹面形状の上型と、曲
率半径が１００ｗｎの凹面形状の下型から成る一対のプ
レス成形用型の形状に加工した。
コバルト（ＣＯ）を含有するタングステンカーバイド（
Ｗｅ）系の超硬合金の棒を２本ずつ準備し、放電加工に
よって、曲率半径４５＋＋＋ｍの凹面形状の上型と、曲
率半径が１００ｗｎの凹面形状の下型から成る一対のプ
レス成形用型の形状に加工した。
これらの各一対のブロックのプレス成形面を超微細なダ
イヤモンド砥粒を用いて鏡面研磨して、表面の最大荒さ
（Ｒイａｘ）が、０．０２μｍの精度に鏡面加工を行い
、金型を作成した。
イヤモンド砥粒を用いて鏡面研磨して、表面の最大荒さ
（Ｒイａｘ）が、０．０２μｍの精度に鏡面加工を行い
、金型を作成した。
このようにして作成した型の断面図を第１図に示す。こ
の型を第２図に示すプレスマシン（断面図）にセットし
て、塩化銀（ＡｇＣｌ）（半径７■の球形状の塊状物）
をプレスして両凸のレンズ形状に成形した。成形条件と
しては、空気中で型温度を１００℃にして、プレス圧力
５０ ｋｇ ／ ｃ＋ｆで成形を行い、成形物を型から
取り出した。
の型を第２図に示すプレスマシン（断面図）にセットし
て、塩化銀（ＡｇＣｌ）（半径７■の球形状の塊状物）
をプレスして両凸のレンズ形状に成形した。成形条件と
しては、空気中で型温度を１００℃にして、プレス圧力
５０ ｋｇ ／ ｃ＋ｆで成形を行い、成形物を型から
取り出した。
次にこのレンズの全面に第３図に示すスパッタリング装
置を用いて、ポリエチレンのスパッタリングを行い、（
ターゲットは、ポリエチレン、スパッタ時の圧力は、ｌ
Ｘｌ０ ”Ｔｏｒｒ、高周波電力２００Ｗでアルゴンガ
ス中でスパッタした。）１．２５μｍ膜厚のポリエチレ
ンをスパッタした。
置を用いて、ポリエチレンのスパッタリングを行い、（
ターゲットは、ポリエチレン、スパッタ時の圧力は、ｌ
Ｘｌ０ ”Ｔｏｒｒ、高周波電力２００Ｗでアルゴンガ
ス中でスパッタした。）１．２５μｍ膜厚のポリエチレ
ンをスパッタした。
上記ポリエチレンをコーティングしたＡｇＣｅレンズに
対する各種性能試験結果を第１表試料嵐１に示す。
対する各種性能試験結果を第１表試料嵐１に示す。
（以 下 余 白）
実施例２
実施例１と同様の金型、同様のプレス成形機と成形条件
でＡｇＢ ｒを成形しレンズとした。
でＡｇＢ ｒを成形しレンズとした。
次にこのレンズの全面に第４図に示すイオンプレーティ
ング装置を用いて、ポリエチレンのコーティングを行い
（コーティング時の圧力２ Ｘ １０−４Ｔｏｒｒ、ア
ルゴンガス中で、高周波電力２５０Ｗ、アルゴンガス中
でイオンプレーティングを行った。）、３．５７μｍの
膜厚のポリエチレンをイオンプレーティングした。
ング装置を用いて、ポリエチレンのコーティングを行い
（コーティング時の圧力２ Ｘ １０−４Ｔｏｒｒ、ア
ルゴンガス中で、高周波電力２５０Ｗ、アルゴンガス中
でイオンプレーティングを行った。）、３．５７μｍの
膜厚のポリエチレンをイオンプレーティングした。
上記ポリエチレンをコーティングしたＡｇＢｒレンズに
対する各種性能試験結果を第１表試料ＮＬ１２に示す。
対する各種性能試験結果を第１表試料ＮＬ１２に示す。
実施例３
実施例１と同様の金型、同様のプレス成形機と成形条件
でＴｅ ｌを成形しレンズとした。
でＴｅ ｌを成形しレンズとした。
次にこのレンズの全面に、第５図に示すプラズマＣＶＤ
装置を用いて、ポリエチレンのコーティングを行い（原
料はエチレンモノマーを用い５×１０’Ｔｏｒｒの減圧
下において、高周波電力２００Ｗで重合を行いポリエチ
レンをコートした。）、３．１３μｍの膜厚のポリエチ
レンをコーティングした。
装置を用いて、ポリエチレンのコーティングを行い（原
料はエチレンモノマーを用い５×１０’Ｔｏｒｒの減圧
下において、高周波電力２００Ｗで重合を行いポリエチ
レンをコートした。）、３．１３μｍの膜厚のポリエチ
レンをコーティングした。
上記ポリエチレンをコーティングしたＴｅ ｌレンズに
対する各種性能試験結果を第１表試料ＮＱ３に示す。
対する各種性能試験結果を第１表試料ＮＱ３に示す。
実施例４
実施例１と同様の金型、同様のプレス成形機と成形条件
でＴｅＢｒを成形しレンズとした。
でＴｅＢｒを成形しレンズとした。
次に膜厚が２３．９μｍのポリエチレン製のシートを２
枚用意し、このシートの間にＴｅＢｒレンズを置き４０
℃の温度でレンズにシートを密着させ中の空気を取り真
空パックした。
枚用意し、このシートの間にＴｅＢｒレンズを置き４０
℃の温度でレンズにシートを密着させ中の空気を取り真
空パックした。
上記ポリエチレンを真空パックしたＴｅＢｒレンズに対
する各種性能試験結果を第１表試料ＮＱ４に示す。
する各種性能試験結果を第１表試料ＮＱ４に示す。
また以下の実施例は同様の方法で、成形材料（レンズ材
料）、コーテイング膜作成方法、コーティング膜厚等を
変化させた時の結果を第１表の試料嵐５〜１０に示す。
料）、コーテイング膜作成方法、コーティング膜厚等を
変化させた時の結果を第１表の試料嵐５〜１０に示す。
なお第１表の試料嵐１１〜１６は本願発明外の比較例で
ある。
ある。
第１表かられかるように本実施例試料から得られるポリ
エチレンをコーティングした赤外線素子は、従来からあ
る赤外線素子よりも赤外の透過率が良く、又耐環境性も
優れていることがわかる。
エチレンをコーティングした赤外線素子は、従来からあ
る赤外線素子よりも赤外の透過率が良く、又耐環境性も
優れていることがわかる。
発明の効果
以上の説明から明らかなように、本発明の赤外用光学素
子およびその成形方法は、従来用いられてきた研磨法や
切削法に変る新しい素子の作成方法であり、レンズ等の
量産性も良好であり、その信頼性も優れたものであり産
業上きわめて有益な発明である。
子およびその成形方法は、従来用いられてきた研磨法や
切削法に変る新しい素子の作成方法であり、レンズ等の
量産性も良好であり、その信頼性も優れたものであり産
業上きわめて有益な発明である。
第１図は本発明の一実施例における赤外光学レンズ素子
のプレス成形用型の断面図、第２図は本発明の一実施例
におけるプレスマシンの一部切欠断面図、第３図は本発
明の一実施例におけるスパッタリング装置の概略断面図
、第４図は本発明の一実施例におけるイオンプレーティ
ング装置の概略断面図、第５図は本発明の一実施例にお
けるプラズマＣＶＤ装置の概略断面図である。 １１・・・・・・上型（母材）、１２・・・・・・下型
（母材）、２２・・・・・・上型の成形面（上型表面）
、２３・・・・・・下型の成形面（下型表面）。 代理人の氏名 弁理士小蝦治明 ほか２名ｕ−−１号（
８Ｈ） ２３ 丁勺小Δ牛〆５・１工を転配）！４−１ケ ３３−−下型Ｊ、几９− ｊ４−ＴＹ１Ｊ口勲（−タ ３５−−王！ イ４−”、ｈ′＋９’ｌ＋７１アノノ 付 ７１・）、；：ａ＋１ ＊−ノ゛仔−善氏トＸ）
［り 第３図 ４７−１ ）、” ’ＲＬ、恍ロ −
Ｐ瞥穴キ ４９−−：入）妃、基１□−６−ン秤、り０−−了１シ
〕°ノＶス穐λ口 １Ｇ 品入＄４ 、ニー、’ｉ工＋β）１鰺と一タ５
７−９小ｌＫ！ミ９を−４？ 第 ４ 図 ５８ 二１．３４（ｆ
゛１１＋ｔ＝）Ｓ７ 詳■↑、ｔノー ７７−〜−プラス゛マＣＶＤ＋１，２、−第 ５ 図
７トー晶」友ｔ５脣、Ｔ’ｌ
−一王杼１ｃ棧 ８ｏ−２−舷〕」ふル（。 ８ｔ−−−ｊは」４（しリス） ８り−１アマ−（エケしン）ＸＶ′ノ＾５８３−Ｔ升入
ｔ
のプレス成形用型の断面図、第２図は本発明の一実施例
におけるプレスマシンの一部切欠断面図、第３図は本発
明の一実施例におけるスパッタリング装置の概略断面図
、第４図は本発明の一実施例におけるイオンプレーティ
ング装置の概略断面図、第５図は本発明の一実施例にお
けるプラズマＣＶＤ装置の概略断面図である。 １１・・・・・・上型（母材）、１２・・・・・・下型
（母材）、２２・・・・・・上型の成形面（上型表面）
、２３・・・・・・下型の成形面（下型表面）。 代理人の氏名 弁理士小蝦治明 ほか２名ｕ−−１号（
８Ｈ） ２３ 丁勺小Δ牛〆５・１工を転配）！４−１ケ ３３−−下型Ｊ、几９− ｊ４−ＴＹ１Ｊ口勲（−タ ３５−−王！ イ４−”、ｈ′＋９’ｌ＋７１アノノ 付 ７１・）、；：ａ＋１ ＊−ノ゛仔−善氏トＸ）
［り 第３図 ４７−１ ）、” ’ＲＬ、恍ロ −
Ｐ瞥穴キ ４９−−：入）妃、基１□−６−ン秤、り０−−了１シ
〕°ノＶス穐λ口 １Ｇ 品入＄４ 、ニー、’ｉ工＋β）１鰺と一タ５
７−９小ｌＫ！ミ９を−４？ 第 ４ 図 ５８ 二１．３４（ｆ
゛１１＋ｔ＝）Ｓ７ 詳■↑、ｔノー ７７−〜−プラス゛マＣＶＤ＋１，２、−第 ５ 図
７トー晶」友ｔ５脣、Ｔ’ｌ
−一王杼１ｃ棧 ８ｏ−２−舷〕」ふル（。 ８ｔ−−−ｊは」４（しリス） ８り−１アマ−（エケしン）ＸＶ′ノ＾５８３−Ｔ升入
ｔ
Claims (3)
- （１）臭化タリウム（ＴｌＢｒ）、沃化タリウム（Ｔｌ
Ｉ）単独あるいは、ＴｌＢｒ、ＴｅＩの固溶体からなる
レンズあるいは赤外線光学窓上にポリエチレンをコーテ
ィングしてなる赤外線光学素子。 - （２）臭化銀（ＡｇＢｒ）、塩化銀（ＡｇＣｌ）単独あ
るいは、ＡｇＢｒ、ＡｇＣｌの固溶体からなるレンズあ
るいは赤外線光学窓上にポリエチレンをコーティングし
てなる赤外線光学素子。 - （３）ハロゲン化タリウム（ＴｌＩ、ＴｌＢｒおよびそ
の固溶体）およびハロゲン化銀（ＡｇＢｒ、ＡｇＣｌお
よびその固溶体）で作成されたレンズあるいは赤外線光
学窓上にプラズマＣＶＤ法、スパッタリング法あるいは
イオンプレーティング法によって、光学的膜厚がλ／４
（ただしλは赤外線の波長）の奇数倍になるようにポリ
エチレンをコーティングすることを特徴とする赤外線光
学素子の製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2311738A JPH04181901A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 赤外線光学素子およびその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2311738A JPH04181901A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 赤外線光学素子およびその製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04181901A true JPH04181901A (ja) | 1992-06-29 |
Family
ID=18020882
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2311738A Pending JPH04181901A (ja) | 1990-11-16 | 1990-11-16 | 赤外線光学素子およびその製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04181901A (ja) |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007323021A (ja) * | 2006-06-05 | 2007-12-13 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 波長変換レーザ出力差周波分離装置 |
| CN103443658A (zh) * | 2012-03-09 | 2013-12-11 | 住友电气工业株式会社 | 光学部件及其制造方法 |
| RU2762966C2 (ru) * | 2019-09-02 | 2021-12-24 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" (УрФУ) | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ВЫСОКОПРОЗРАЧНОЙ КРИСТАЛЛИЧЕСКОЙ КЕРАМИКИ НА ОСНОВЕ ДВУХ ТВЕРДЫХ РАСТВОРОВ СИСТЕМЫ AgBr - TlI (ВАРИАНТЫ) |
-
1990
- 1990-11-16 JP JP2311738A patent/JPH04181901A/ja active Pending
Cited By (4)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2007323021A (ja) * | 2006-06-05 | 2007-12-13 | Kawasaki Heavy Ind Ltd | 波長変換レーザ出力差周波分離装置 |
| JP4679440B2 (ja) * | 2006-06-05 | 2011-04-27 | 川崎重工業株式会社 | 波長変換レーザ出力差周波分離装置 |
| CN103443658A (zh) * | 2012-03-09 | 2013-12-11 | 住友电气工业株式会社 | 光学部件及其制造方法 |
| RU2762966C2 (ru) * | 2019-09-02 | 2021-12-24 | Федеральное государственное автономное образовательное учреждение высшего образования "Уральский федеральный университет имени первого Президента России Б.Н. Ельцина" (УрФУ) | СПОСОБ ПОЛУЧЕНИЯ ВЫСОКОПРОЗРАЧНОЙ КРИСТАЛЛИЧЕСКОЙ КЕРАМИКИ НА ОСНОВЕ ДВУХ ТВЕРДЫХ РАСТВОРОВ СИСТЕМЫ AgBr - TlI (ВАРИАНТЫ) |
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