JPH04181772A - 光電変換装置 - Google Patents

光電変換装置

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Publication number
JPH04181772A
JPH04181772A JP2308606A JP30860690A JPH04181772A JP H04181772 A JPH04181772 A JP H04181772A JP 2308606 A JP2308606 A JP 2308606A JP 30860690 A JP30860690 A JP 30860690A JP H04181772 A JPH04181772 A JP H04181772A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
transistor
photoelectric conversion
bipolar
conversion device
signal
Prior art date
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Pending
Application number
JP2308606A
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English (en)
Inventor
Masato Shinohara
真人 篠原
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Canon Inc
Original Assignee
Canon Inc
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Publication date
Application filed by Canon Inc filed Critical Canon Inc
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Publication of JPH04181772A publication Critical patent/JPH04181772A/ja
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Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 [産業上の利用分野] 本発明は光電変換装置に係り、特に光エネルギーを受け
ることにより生成されるキャリアを制御電極領域に蓄積
し、蓄積されたキャリアに基づいて信号を二つの主電極
領域の一方から出力する光電変換装置に関する。
[従来の技術] 近年、光電変換装置の高解像度化の要求等から増幅型の
光センサが求められており、このなかにバイポーラトラ
ンジスタと路間等の構成を有し、ベースに光エネルギー
を受けることにより生成されるキャリアを蓄積し、エミ
ッタから蓄積されたキャリアに対応する信号を出力する
センサ(以下、バイポーラ型センサという)がある。
以下、このバイポーラ型センサで画素を構成する従来の
光電変換装置の一画素及びその信号読み出し回路系につ
いて第3図を用いて説明する。
第3図において、1は単位画素(光電変換要素)となる
バイポーラ型センサであって、そのベースに光キャリア
が蓄積され、エミッタから蓄積されたキャリアに対応す
る信号が出力される。
2はバイポーラ型センサ1のエミッタに接続する垂直出
力線、3は垂直8力線2をリセットするためのMOS 
トランジスタ、4は画素の出力電圧を蓄積するための蓄
積容量、5は垂直出力線2と蓄積容量4とを接続するM
OS トランジスタ、6は水平出力線、7は蓄積容量4
の蓄積電圧を水平出力線6へ転送するためのMOS )
ランジスタ、8はプリアンプ、9はMOS l−ランジ
スタ3のゲートにパルスφ。を印加するための端子、1
0はMOS トランジスタ5のゲートにパルスφアを印
加するための端子、11はプリアンプ8からの出力端子
、12はバイポーラ型センサ1のベース電位をクランプ
するためのp型MO3)ランジスタ、13はp型MO3
)ランジスタ12のゲートにパルスφ7を印加するため
の端子である。
第4図は上証−画素及びその信号読み出し回路系の動作
を説明するためのタイミングチャートである。
第4図において、まず、端子13に印加するパルスφ8
をロウレベルとしてPMOS トランジスタ12をON
状態とし、バイポーラ型センサ1のベース電位をクラン
プする。
次に、端子9にハイレベルのパルスφc8を印加して、
MOS トランジスタ3により垂直出力線2をGNDに
リセットする。この時、画素のベースからベース電流が
流れて、ベースの電位を一定レベルにまで低(する。
次に、MOS トランジスタ3をOFF状態にした時点
で光キャリアがバイポーラ型センサ1のベースに蓄積さ
れていき、それに相当するエミッタ電流が流れて、蓄積
電14に信号電圧が蓄積される。
次に、端子10に印加されるパルスφ□をハイレベルか
らロウレベルとしてMOSトランジスタ5をOFF状態
とし、次にシフトレジスフ8力によって選択されたMO
S )ランジスタフをON状態とすることにより、容量
4の出力を水平出力l116に転送する。
なお、第3図に示したのは主として一次元センサに応用
されるタイプのセンサ系であり、第3図の画素及び垂直
の出力系を一次元状に配列することによってラインセン
サが構成される。
[発明が解決しようとする課題] しかしながら、従来の光電変換装置では、画素のバイポ
ーラ型センサの電流増幅率hrtを小さく設定すると、
エミッタから信号が蓄積容置4に蓄積される時に、ベー
スに蓄積されたホールの消減数が多くなるため信号が小
さくなる上に、ホールの消減数のゆらぎによるランダム
ノイズが大きくなり、S/N比が劣化する課題があった
。一方、電流増幅率h□を大きくすると、全ての画素を
均一に作ることが難しくなり、出力のばらつきという固
定パターンノイズが大きくなるほか、画素の欠陥も多(
なり歩留まりが悪くなるという課題があった。
[課題を解決するための手段〕 本発明の光電変換装置は、光エネルギーを受けることに
より生成されるキャリアを蓄積する制御電極領域と、蓄
積されたキャリアに基づいて信号をその一つから出力す
る二つの主電極領域とを備えた第1のトランジスタと、 この第1のトランジスタとダーリントン接続される第2
のトランジスタとで光電変換要素を構成したことを特徴
とする。
[作用] 本発明は、比較的電流増幅率hrtの小さい、バイポー
ラ型センサとバイポーラトランジスタとによって構成さ
れるダーリントン接続回路を一つの光電変換要素として
センサを構成する。バイポーラ型センサとバイポーラト
ランジスタとのそれぞれの電流増幅率hFEは小さく設
定されるので均−且つ歩留まりよく形成できるが、ダー
リントン接続回路の画素の電流増幅率h□′は電流増幅
率hrzの二乗という大きな値となるので、バイポーラ
型センサのベースに蓄積されたホールの消減数を小さく
抑えることができる。
[実施例] 以下、本発明の実施例を図面を用いて詳細に説明する。
第1図は、本発明の光電変換装置の一実施例の一画素及
びその信号読み出し回路系を示す回路図である。
本発明の光電変換装置の特徴となるのは、第1図に示す
ように、単位画素(光電変換要素)14をバイポーラ型
センサSとバイポーラトランジスタTrとのダーリント
ン接続回路で構成し、バイポーラ型センサSのベースに
光キャリアを蓄積し、バイポーラ型センサSのエミッタ
から出力された信号をバイポーラトランジスタTrのベ
ースに入力し、バイポーラトランジスタTrのエミッタ
から増幅された信号を出力することにある。
なお、その他の構成部材は第3図に示した構成部材と同
一なのでは同一符号を付して説明を省略する。またその
動作についても第4図のタイミングチャートを用いて説
明した従来の光電変換装置と同様なので説明を省略する
第2図は、上記光電変換装置の光電変換要素の一実施例
の構造を説明するための縦断面図である。
本実施例では、第1の半導体領域上にある絶縁膜の上に
第2の半導体領域を成長させ、二階建て構造でダーリン
トン接続回路を形成している。
□第2図において、21はエミッタ、22はベース、2
3はコレクタ、24は隣接するバイポーラ型センサとの
絶縁をするための厚い酸化膜、25はベース22の電位
を制御するためのポリシリコンでできた駆動線である。
エミッタ21.ベース22、コレクタ23は下層の第1
の半導体領域に形成されるバイポーラ型センサを構成す
る。
26はエミッタ21とベース27との接続線、27はベ
ース、28はエミッタ、29はエミッタ28に接続する
出力線、30はコレクタ、31は上層の第2の半導体領
域と下層の第1の半導体領域を分離する絶縁体層である
ベース27.エミッタ28.コレクタ30は上層の第2
の半導体領域に形成されるバイポーラトランジスタを構
成する。光の入射はコレクタ23側から行われ、開口率
は非常に大きくなる。このような二段構造のダーリント
ン接続回路を配列することによって形成されるセンサは
2次元センサに特に有効である。
[発明の効果] 以上詳細に説明したように、本発明の光電変換装置によ
れば、ダーリントン接続回路によって光電変換要素を形
成することにより、個々のトランジスタの電流増幅率h
□は小さくてもよいため、次のような効果を得る。
(1)光電変換要素を形成するバイポーラ型センサの歩
留まりが上がる。
(2)光電変換要素が均一に形成しゃすく、固定パター
ンノイズが小さくなる。またダーリントン接続回路の電
流増幅率h rt’は個々のトランジスタの電流増幅率
1’l FKの二乗と大きくとれるため、信号電荷の消
滅が小さい。
(3)ランダムノイズが小さくなる。
(4)信号の減少量は小さ(抑えられる。
【図面の簡単な説明】
第1図は、本発明の充電変換装置の一画素及びその信号
読み出し回路系を示す回路図である。 第2図は、上記光電変換装置の光電変換要素の一実施例
の構造を説明するための縦断面図である。 第3図は、従来の光電変換装置の一画素及びその信号読
み出し回路系を示す回路図である。 第4図は一画素及びその信号読み出し回路系の動作を説
明するためのタイミングチャートである。 1:バイポーラ型センサ、2:垂直出力線、3:MOS
)ランジスタ、4:蓄積容量、5 : MOSトランジ
スタ、6:水平出力線、7 : MOS )ランジスタ
、8:ブリアンプ、49:端子、10:端子、11:出
力端子、12:p型MOSトランジスタ、13:端子、
14:単位画素、21:エミッタ、22:ベース、23
:コレクタ、24:酸化膜、25:駆動線、26:接続
線、27:ベース、28:エミッタ、29:出力線、3
0:コレクタ、31:絶縁体層。 代理人  弁理士 山 下 積 平 第1図 第2図

Claims (3)

    【特許請求の範囲】
  1. (1)光エネルギーを受けることにより生成されるキャ
    リアを蓄積する制御電極領域と、蓄積されたキャリアに
    基づいて信号をその一つから出力する二つの主電極領域
    とを備えた第1のトランジスタと、 この第1のトランジスタとダーリントン接続される第2
    のトランジスタとで光電変換要素を構成した光電変換装
    置。
  2. (2)絶縁層で分離された二つの半導体領域に、それぞ
    れ前記第1のトランジスタと前記第2のトランジスタと
    を形成した請求項1記載の光電変換装置。
  3. (3)絶縁層を介して積層された二つの半導体領域の下
    層の半導体領域に前記第1のトランジスタを形成し、上
    層の半導体領域に前記第2のトランジスタを形成し、 入射光を下層側から導入した請求項2記載の光電変換装
    置。
JP2308606A 1990-11-16 1990-11-16 光電変換装置 Pending JPH04181772A (ja)

Priority Applications (1)

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JP2308606A JPH04181772A (ja) 1990-11-16 1990-11-16 光電変換装置

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JP2308606A JPH04181772A (ja) 1990-11-16 1990-11-16 光電変換装置

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Publication Number Publication Date
JPH04181772A true JPH04181772A (ja) 1992-06-29

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ID=17983065

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JP2308606A Pending JPH04181772A (ja) 1990-11-16 1990-11-16 光電変換装置

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JP (1) JPH04181772A (ja)

Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013118629A (ja) * 2011-10-31 2013-06-13 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光電変換装置のリセット方法と、光電変換装置、光電変換アレイ、および撮像装置

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* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2013118629A (ja) * 2011-10-31 2013-06-13 National Institute Of Advanced Industrial & Technology 光電変換装置のリセット方法と、光電変換装置、光電変換アレイ、および撮像装置

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