JPH0417628A - 銅電解スライムの製錬方法 - Google Patents
銅電解スライムの製錬方法Info
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- JPH0417628A JPH0417628A JP2117722A JP11772290A JPH0417628A JP H0417628 A JPH0417628 A JP H0417628A JP 2117722 A JP2117722 A JP 2117722A JP 11772290 A JP11772290 A JP 11772290A JP H0417628 A JPH0417628 A JP H0417628A
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Classifications
-
- Y—GENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
- Y02—TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
- Y02P—CLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
- Y02P10/00—Technologies related to metal processing
- Y02P10/20—Recycling
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
（産業上の利用分野）
本発明は銅電解工程で発生する銅電解スライムの製錬方
法に関する。
法に関する。
（従来の技術）
従来、銅電解スライムを処理する工程は複数の段階から
なっており、その−例は下記のようなものである。
なっており、その−例は下記のようなものである。
■ 酸化焙焼−硫酸抽出による脱銅
■ 酸化焙焼又は硫酸化焙焼によるセレンの揮発除去
■ フラックス及び還元剤を加えて加熱溶解し、鉛、ア
ンチモン、ビスマスを含むスラグと金銀を含む貴鉛とを
生成せしめる工程 ■ 貴鉛中の鉛、セレン、テルル、銅等を酸化除去しド
ーレメタルと呼ばれる粗銀を生成せしめる工程 上記した工程のうち、第３工程ではスラグへの貴金属の
損失を最小にするため、できるだけ多量の還元剤を用い
て完全に還元することが望ましいが、このようにすると
アンチモンも還元されて多量に貴鉛中に入るので、次工
程で貴鉛の脱アンチモン処理に負担がかかることとなる
。
ンチモン、ビスマスを含むスラグと金銀を含む貴鉛とを
生成せしめる工程 ■ 貴鉛中の鉛、セレン、テルル、銅等を酸化除去しド
ーレメタルと呼ばれる粗銀を生成せしめる工程 上記した工程のうち、第３工程ではスラグへの貴金属の
損失を最小にするため、できるだけ多量の還元剤を用い
て完全に還元することが望ましいが、このようにすると
アンチモンも還元されて多量に貴鉛中に入るので、次工
程で貴鉛の脱アンチモン処理に負担がかかることとなる
。
一方、鉛、アンチモン、ビスマスをスラグ中に除去する
場合には、スラグ量が増大し貴金属のスラグロスが増す
ばかりでなく、添加するフラックスも加わり、スラグか
らの有価金属の回収を困難にしコストを増大させること
となる。
場合には、スラグ量が増大し貴金属のスラグロスが増す
ばかりでなく、添加するフラックスも加わり、スラグか
らの有価金属の回収を困難にしコストを増大させること
となる。
また、スラグ量を極力減しるため鉄シリケートスラグに
代えシリカ質フラックスとライム質フラックスにより銅
電解スライム中のベースメタルの大部分をスラグ中に移
行させ、ベースメタルとともにスラグ中に移行した金銀
を浮遊選鉱して精鉱として回収する方法も提案されてい
る。（特開昭６ｌ−１７４３４１）Ｌかしこの方法は金
、銀の一部が一部スラグとなって工程内仕掛品となり、
また浮遊選鉱工程が必要となるため設備費も大となる。
代えシリカ質フラックスとライム質フラックスにより銅
電解スライム中のベースメタルの大部分をスラグ中に移
行させ、ベースメタルとともにスラグ中に移行した金銀
を浮遊選鉱して精鉱として回収する方法も提案されてい
る。（特開昭６ｌ−１７４３４１）Ｌかしこの方法は金
、銀の一部が一部スラグとなって工程内仕掛品となり、
また浮遊選鉱工程が必要となるため設備費も大となる。
（本発明が解決しようとする課題）
本発明は、銅電解スライムから金、銀、及び貴金属を効
率的に回収することを目的とするものであり、そのため
に■加熱溶解工程（還元溶解工程）においてスラグへの
貴金属ロスを低減させるためにスラグ量を減じる■該ス
ラグから有価金属を効率的に回収する■貴金属を高収率
で貴鉛中に移行させること、を課題とする。
率的に回収することを目的とするものであり、そのため
に■加熱溶解工程（還元溶解工程）においてスラグへの
貴金属ロスを低減させるためにスラグ量を減じる■該ス
ラグから有価金属を効率的に回収する■貴金属を高収率
で貴鉛中に移行させること、を課題とする。
（課題を解決するための手段）
上記課題を解決するために本発明は第一に、脱銅、脱セ
レンした後の銅電解スライムを、必要に応じ製錬中間物
とともに加熱溶解炉にて溶解して脈石成分をスラグ化し
、貴鉛を生成せしめる銅電解スライムの製錬方法におい
て、該銅電解スライムを含む処理物に該処理物中の銅、
ビスマスの全量、及び鉛の６０〜１００重量％を還元す
るに必要と想定される化学量論的当量の炭素質還元剤を
添加し、必要に応じ該銅電解スライムに対して４重量％
以下のシリカ質フラックスを添加して加熱溶解させ、該
銅電解スライム中のアンチモンの大部分をスラグ中に移
行させるとともに、金、銀を含む貴金属を含有する貴鉛
を生成させる。
レンした後の銅電解スライムを、必要に応じ製錬中間物
とともに加熱溶解炉にて溶解して脈石成分をスラグ化し
、貴鉛を生成せしめる銅電解スライムの製錬方法におい
て、該銅電解スライムを含む処理物に該処理物中の銅、
ビスマスの全量、及び鉛の６０〜１００重量％を還元す
るに必要と想定される化学量論的当量の炭素質還元剤を
添加し、必要に応じ該銅電解スライムに対して４重量％
以下のシリカ質フラックスを添加して加熱溶解させ、該
銅電解スライム中のアンチモンの大部分をスラグ中に移
行させるとともに、金、銀を含む貴金属を含有する貴鉛
を生成させる。
第二に、前記スラグに、シリカ質フラックス、ライム質
フラックスのいずれか一方又は双方及び鉄よりなるフラ
ックスを添加し、さらに必要に応じアンチモンと貴金属
を含有する製錬中間物を添加し、それらの処理物中の銅
、ビスマス、鉛、アンチモンの全量を還元し得る量と想
定される化学量論的当量の炭素質還元剤を加えて加熱溶
解し、スラグとアンチモンを高濃度に含有する貴鉛を生
成させる。
フラックスのいずれか一方又は双方及び鉄よりなるフラ
ックスを添加し、さらに必要に応じアンチモンと貴金属
を含有する製錬中間物を添加し、それらの処理物中の銅
、ビスマス、鉛、アンチモンの全量を還元し得る量と想
定される化学量論的当量の炭素質還元剤を加えて加熱溶
解し、スラグとアンチモンを高濃度に含有する貴鉛を生
成させる。
ここで第一の発明における処理物中の銅、ビスマスの全
量、及び鉛の６０〜１００重量％を還元するに必要と想
定される化学量論的当量の炭素質還元剤とは、下記の反
応式において、 Ｐｂ５Ｏ，＋Ｃ−＋Ｐｂ＋ＳＯｚ＋ＣＯｚ
・・・・・・（３）（１）、 （２）式によ
り算出した化学量論的当量の炭素質還元剤量と、（３）
式により算出した化学量論的当量の還元剤量の６０〜１
００重量％の炭素質還元剤量とを合計して求める。
量、及び鉛の６０〜１００重量％を還元するに必要と想
定される化学量論的当量の炭素質還元剤とは、下記の反
応式において、 Ｐｂ５Ｏ，＋Ｃ−＋Ｐｂ＋ＳＯｚ＋ＣＯｚ
・・・・・・（３）（１）、 （２）式によ
り算出した化学量論的当量の炭素質還元剤量と、（３）
式により算出した化学量論的当量の還元剤量の６０〜１
００重量％の炭素質還元剤量とを合計して求める。
第二の発明における処理物中の銅、ビスマス、鉛、アン
チモンの全量を還元し得る量と想定される化学量論的当
量の炭素質還元剤とは、前記した（１）、 （２）、
（３）式で計算した化学量論的当量の炭素質還元剤量と
、下記の式（４）、 により求めた化学量論的当量の炭素質還元剤量とを合計
して求める。
チモンの全量を還元し得る量と想定される化学量論的当
量の炭素質還元剤とは、前記した（１）、 （２）、
（３）式で計算した化学量論的当量の炭素質還元剤量と
、下記の式（４）、 により求めた化学量論的当量の炭素質還元剤量とを合計
して求める。
また、第一の発明におけるフラックスの添加は金、銀を
はじめとする貴金属のスラグロスを抑えるためスラグ量
を減少させることを目的として、必要に応じシリカ系フ
ランクスを４重量％以下添加するのみとする。
はじめとする貴金属のスラグロスを抑えるためスラグ量
を減少させることを目的として、必要に応じシリカ系フ
ランクスを４重量％以下添加するのみとする。
（作 用）
第一の発明において、金、銀は高収率で貴鉛中に回収さ
れ、特に金のスラグロスは最少限に抑えられる。また、
後の工程での金、銀の回収を迅速化するため、アンチモ
ンの大部分は、炭素質還元剤の量を前記した量に制限す
ることによって、スラグへ移行させる。また、鉛は金、
銀をはじめとする貴金属を回収するために還元して金属
鉛とするが、必要に応じて４０重量％以下の割合でスラ
グへ移行させる。それによってスラグの流動性と粘性が
改善される。なお、鉛を４０重量％を越えてスラグへ移
行させることは、スラグ量を増大させて貴金属のスラグ
ロスを増大させたり、未還元の硫酸鉛の熱分解により炉
内状況の不安定をまねくので好ましくない。
れ、特に金のスラグロスは最少限に抑えられる。また、
後の工程での金、銀の回収を迅速化するため、アンチモ
ンの大部分は、炭素質還元剤の量を前記した量に制限す
ることによって、スラグへ移行させる。また、鉛は金、
銀をはじめとする貴金属を回収するために還元して金属
鉛とするが、必要に応じて４０重量％以下の割合でスラ
グへ移行させる。それによってスラグの流動性と粘性が
改善される。なお、鉛を４０重量％を越えてスラグへ移
行させることは、スラグ量を増大させて貴金属のスラグ
ロスを増大させたり、未還元の硫酸鉛の熱分解により炉
内状況の不安定をまねくので好ましくない。
また、第二発明においては、第一発明においてスラグ中
に移行したアンチモンのほとんどを貴鉛中に移行させ、
さらに公知の酸化揮発法を適用することによってアンチ
モンを分別回収することができる。また、第一工程で得
られたスラグの外に貴金属とアンチモンを含有する製錬
中間物、例えば鉛電解スライムを共に処理すれば、それ
らの製錬中間物中の貴金属も貴鉛中に高収率で回収でき
る。
に移行したアンチモンのほとんどを貴鉛中に移行させ、
さらに公知の酸化揮発法を適用することによってアンチ
モンを分別回収することができる。また、第一工程で得
られたスラグの外に貴金属とアンチモンを含有する製錬
中間物、例えば鉛電解スライムを共に処理すれば、それ
らの製錬中間物中の貴金属も貴鉛中に高収率で回収でき
る。
なお、第一発明の処理で得られた貴鉛はアンチモンが低
いので、その後の処理工程、例えば粗銀を生成させる分
銀工程へ脱アンチモン処理を行うことなく供することが
できる。第二発明の処理で得られた貴鉛は、脱アンチモ
ン処理の後分銀工程へ送ることになるが、第一発明、第
二発明を連続的に実施して得られる貴鉛のうち第一発明
を実施して得られる貴鉛については脱アンチモン処理を
省略できる。
いので、その後の処理工程、例えば粗銀を生成させる分
銀工程へ脱アンチモン処理を行うことなく供することが
できる。第二発明の処理で得られた貴鉛は、脱アンチモ
ン処理の後分銀工程へ送ることになるが、第一発明、第
二発明を連続的に実施して得られる貴鉛のうち第一発明
を実施して得られる貴鉛については脱アンチモン処理を
省略できる。
（実施例）
実施例 １゜
脱銅、脱セレンした銅電解スライム６７００ｋｇと滓類
３００ｋｇをコークス２２６ ｋｇを加えて、約１２０
０°Ｃで加熱溶解し、処理物中の鉛の約３３重量％をス
ラグに移行させるように製錬した。その結果を第−表に
示す。
３００ｋｇをコークス２２６ ｋｇを加えて、約１２０
０°Ｃで加熱溶解し、処理物中の鉛の約３３重量％をス
ラグに移行させるように製錬した。その結果を第−表に
示す。
第−表から明らかなように、金は１００％、銀は９８％
以上が貴鉛中に回収され、アンチモンは１１．６％が貴
鉛に移行したのみであった。その結果、貴鉛のアンチモ
ン品位は２重量％であった。
以上が貴鉛中に回収され、アンチモンは１１．６％が貴
鉛に移行したのみであった。その結果、貴鉛のアンチモ
ン品位は２重量％であった。
実施例 ２゜
脱銅、脱セレンした銅電解スライム４０００ｋｇと炉内
発生滓類２４００ｋｇにコークス１８０ｋｇを加えて約
１２００°Ｃで加熱溶解し、処理物中の鉛の２６重量％
をスラグに移行させるように製錬した。その結果を第二
表に示す。
発生滓類２４００ｋｇにコークス１８０ｋｇを加えて約
１２００°Ｃで加熱溶解し、処理物中の鉛の２６重量％
をスラグに移行させるように製錬した。その結果を第二
表に示す。
第二表から明らかなように、金は１００％、銀は９９％
以上が貴鉛中に回収され、アンチモン１２．４％が貴鉛
中に移行したのみであった。その結果、貴鉛のアンチモ
ン品位は４．４重量％であった。
以上が貴鉛中に回収され、アンチモン１２．４％が貴鉛
中に移行したのみであった。その結果、貴鉛のアンチモ
ン品位は４．４重量％であった。
実施例 ３゜
第一発明を実施することによって生成した含アンチモ・
ンスラグ２０００ｋｇ、鉛電解スライム２０００ｋｇ、
滓類２２００ｋｇに珪石８０ｋｇ、鉄屑６００ｋｇ、コ
ークス４６０ｋｇを加えて約１２００°Ｃで加熱溶解し
た。その結果を第三表に示す。
ンスラグ２０００ｋｇ、鉛電解スライム２０００ｋｇ、
滓類２２００ｋｇに珪石８０ｋｇ、鉄屑６００ｋｇ、コ
ークス４６０ｋｇを加えて約１２００°Ｃで加熱溶解し
た。その結果を第三表に示す。
金は１００％、銀は９９．３％の貴鉛実収率であった。
また、アンチモンの貴鉛実収率は９４．８％であった。
（発明の効果）
本発明の銅電解スライムの製錬方法によれば、金１００
％、銀９９％以上の実収率で貴金属を貴鉛中に回収でき
る。また得られる貴鉛の略半分はアンチモン品位が５重
量％以下となるので、脱アンチモン工程を経由すること
なく分銀工程に送ることができ、金銀等の工程内滞留量
を減少させることができる。また、アンチモン含有率の
高い貴鉛からは、揮発製錬法を適用することによってア
ンチモンも有価金属として回収できる。また発生するス
ラグは貴金属含有率が低いので、工程内での繰返し処理
の必要がない。
％、銀９９％以上の実収率で貴金属を貴鉛中に回収でき
る。また得られる貴鉛の略半分はアンチモン品位が５重
量％以下となるので、脱アンチモン工程を経由すること
なく分銀工程に送ることができ、金銀等の工程内滞留量
を減少させることができる。また、アンチモン含有率の
高い貴鉛からは、揮発製錬法を適用することによってア
ンチモンも有価金属として回収できる。また発生するス
ラグは貴金属含有率が低いので、工程内での繰返し処理
の必要がない。
特許出願人 住友金属鉱山株式会社
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 １）脱銅、脱セレンした後の銅電解スライムを、必要に
応じ製錬中間物とともに加熱溶解炉にて溶解して脈石成
分をスラグ化し、貴鉛を生成せしめる銅電解スライムの
製錬方法において、該銅電解スライムを含む処理物に該
処理物中の銅、ビスマスの全量、及び鉛の６０〜１００
重量％を還元するに必要と想定される化学量論的当量の
炭素質還元剤を添加し、必要に応じ該銅電解スライムに
対して４重量％以下のシリカ質フラックスを添加して加
熱溶解させ、該銅電解スライム中のアンチモンの大部分
をスラグ中に移行させるとともに、金、銀を含む貴金属
を含有する貴鉛を生成させることを特徴とする銅電解ス
ライムの製錬方法。 ２）請求項第１項記載の銅電解スライムの製錬方法で得
られたスラグに、シリカ質フラックス、ライム質フラッ
クスのいずれか一方又は双方及び鉄よりなるフラックス
を添加し、さらに必要に応じアンチモンと貴金属を含有
する製錬中間物を添加し、それらの処理物中の銅、ビス
マス、鉛、アンチモンの全量を還元し得る量と想定され
る化学量論的当量の炭素質還元剤を加えて加熱溶解し、
スラグとアンチモンを高濃度に含有する貴鉛を生成させ
ることを特徴とする銅電解スライムの製錬方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117722A JPH0417628A (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 銅電解スライムの製錬方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2117722A JPH0417628A (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 銅電解スライムの製錬方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0417628A true JPH0417628A (ja) | 1992-01-22 |
Family
ID=14718674
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2117722A Pending JPH0417628A (ja) | 1990-05-09 | 1990-05-09 | 銅電解スライムの製錬方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0417628A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4866732B2 (ja) * | 2003-09-23 | 2012-02-01 | オウトテック オサケイティオ ユルキネン | 陽極汚泥の処理方法 |
-
1990
- 1990-05-09 JP JP2117722A patent/JPH0417628A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP4866732B2 (ja) * | 2003-09-23 | 2012-02-01 | オウトテック オサケイティオ ユルキネン | 陽極汚泥の処理方法 |
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