JPH0417137A - Manufacture of stamper for optical disk - Google Patents

Manufacture of stamper for optical disk

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JPH0417137A
JPH0417137A JP12070690A JP12070690A JPH0417137A JP H0417137 A JPH0417137 A JP H0417137A JP 12070690 A JP12070690 A JP 12070690A JP 12070690 A JP12070690 A JP 12070690A JP H0417137 A JPH0417137 A JP H0417137A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
stamper
master
resist
ozone
processing
Prior art date
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Pending
Application number
JP12070690A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Norio Ono
大野 憲男
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
Original Assignee
Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Publication date
Application filed by Mitsui Petrochemical Industries Ltd filed Critical Mitsui Petrochemical Industries Ltd
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Publication of JPH0417137A publication Critical patent/JPH0417137A/en
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Abstract

PURPOSE:To implement exfoliation processing of a stamper and removal of resist at once in a short time with a simple device with almost no damage to the master stamper by allowing an ultraviolet ray (UV) to radiate to the master stamper under the existence of ozone. CONSTITUTION:At least one of removal of resident photo resist from a master stamper, exfoliation processing of the master stamper and exfoliation processing of mother stamper is implemented under the presence of ozone through ultraviolet ray radiation. The resist resident on the surface of the stamper becomes a chemical compound with a low molecular weight by the UV radiation, and it is oxidized and decomposed by ozone. Then the Ni surface from which resist removed is oxidized by ozone and exfoliation of a copy stamper in the electrocasting processing is facilitated. Since the removal of resist and the exfoliation processing are implemented at once with a simple device, the processing time is very less and a damage to the stamper is less, then the quality is improved.

Description

【発明の詳細な説明】 〈産業上の利用分野〉 本発明は、光デイスク用スタンパ−の製造方法に関し、
特に、電鋳によりマスタースタンパ−からマザースタン
パ−を経てコピースタンバ−を製造するに際して、マス
タースタンパ−およびマザースタンパ−の前処理が簡単
であり、マスタースタンパ−についてはレジストならび
に剥離処理、またマザースタンパ−については剥離処理
を容易に行なうことができる光デイスク用スタンパ−の
製造方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] <Industrial Application Field> The present invention relates to a method for manufacturing a stamper for optical disks.
In particular, when manufacturing a copy stamper from a master stamper via a mother stamper by electroforming, the pretreatment of the master stamper and mother stamper is easy, and the master stamper is subjected to resist and peeling treatment, and the mother stamper is - relates to a method for manufacturing an optical disc stamper that can be easily peeled off.

〈従来の技術〉 光ディスク用スタンパ−は、マスタースタンパ−からマ
ザースタンパ−を経てコピースタンバ−が製造される。
<Prior Art> A stamper for an optical disc is manufactured from a master stamper to a copy stamper via a mother stamper.

 この製造工程において、マスタースタンパ−は、表面
に残存するレジストの除去および剥離処理、また、マザ
ースタンパ−については剥離処理を行なった後、電鋳に
供される。
In this manufacturing process, the master stamper is subjected to electroforming after the resist remaining on the surface is removed and a peeling process is performed, and the mother stamper is subjected to a peeling process.

従来、これらの処理において、レジストは般にプラズマ
によるアッシング、電解脱脂等の処理によって除去され
、また、剥離処理は通常、スルファミン酸またはクエン
酸等に浸漬、次いで重クロム酸カリ中に浸漬することで
処理されている。
Conventionally, in these processes, the resist is generally removed by plasma ashing, electrolytic degreasing, etc., and the stripping process usually involves immersion in sulfamic acid or citric acid, and then immersion in potassium dichromate. is being processed.

〈発明が解決しようとする課題〉 しかし、これらの従来の処理方法においては、レジスト
除去の場合、アッシングによる方法では高価な装置か必
要となり、また、電解脱脂ては処理操作が煩雑になり、
さらにどちらの処理方法も広い場所が必要となるため、
コスト上昇の原因となる。 また、剥離処理においては
、重クロム酸カリ(6価クロム)を使用するため、公害
防止上、廃水の処理が必要となる。
<Problems to be Solved by the Invention> However, in these conventional processing methods, in the case of resist removal, the ashing method requires expensive equipment, and the electrolytic degreasing method requires complicated processing operations.
Furthermore, both processing methods require a large space;
This causes an increase in costs. Furthermore, since potassium dichromate (hexavalent chromium) is used in the stripping process, wastewater treatment is required to prevent pollution.

そこで本発明は、比較的簡単な装置で短時間にレジスト
の除去やスタンパ−の剥離処理を一度に行なうとともに
、特に廃水の処理を必要とせず、設備的に場所を取らな
い光ディスク用スタンパ−の製造方法を提供することに
ある。
Therefore, the present invention has been devised to remove the resist and peel off the stamper at once using a relatively simple device in a short period of time, as well as to remove the stamper for optical discs, which does not require wastewater treatment and does not take up much space in terms of equipment. The purpose is to provide a manufacturing method.

〈課題を解決するための手段〉 本発明は、前記課題を解決し、品質の良いコピースタン
パ−を得るため、マスタースタンパ−からのレジスト除
去、マスタースタンパ−の剥離処理、ならびにマザース
タンパ−の剥離処理を効率よく行なうことができる方法
について鋭意研究を重ねた結果、マスタースタンパ−を
オゾンの存在下、紫外線(UV)照射する事によりマス
タースタンパ−のダメージがほとんどなくレジストの除
去が行なわれるとともに、剥離処理が行なえることを見
いたし、本発明に到達した。
<Means for Solving the Problems> In order to solve the above-mentioned problems and obtain a high-quality copy stamper, the present invention is directed to removing the resist from the master stamper, peeling off the master stamper, and peeling off the mother stamper. As a result of extensive research into methods that can perform processing efficiently, we have discovered that by irradiating the master stamper with ultraviolet (UV) light in the presence of ozone, the resist can be removed with almost no damage to the master stamper. We have found that peeling treatment can be performed and have arrived at the present invention.

すなわち、本発明は、前記課題を解決するために、光デ
イスク用スタンパ−の製造方法において、マスタースタ
ンパ−のレジスト除去、マスタースタンパ−の剥離処理
および/またはマザースタンパ−の剥離処理を、オゾン
の存在下、紫外線を照射して行うことを特徴とする光デ
ィスク用スタンパ−の製造方法を提供するものである。
That is, in order to solve the above-mentioned problems, the present invention provides a method for manufacturing a stamper for an optical disk, in which resist removal from a master stamper, a peeling process for a master stamper, and/or a peeling process for a mother stamper are performed using ozone. The present invention provides a method for producing a stamper for an optical disc, which is characterized in that the process is carried out by irradiating ultraviolet rays in the presence of a stamper.

前記処理温度が80℃以上であると、好ましい。It is preferable that the treatment temperature is 80°C or higher.

また、前記処理におけるオゾン濃度が0. 1%以上で
あると、好ましい。
Further, the ozone concentration in the treatment is 0. It is preferable that it is 1% or more.

さらに、処理時間が30秒以上であると、好ましい。Furthermore, it is preferable that the processing time is 30 seconds or more.

以下、第1図(A)〜(E)に示す本発明の実施態様に
従って本発明の詳細な説明する。
Hereinafter, the present invention will be described in detail according to the embodiments of the present invention shown in FIGS. 1(A) to 1(E).

まず、ガラス基板の表面にフォトレジストを塗布し、レ
ーザー光を照射(図示せず)して露光した後、現像して
、第1図(A)に示すように、ガラス基板1の表面にフ
ォトレジスト2によって形成された所望のグループおよ
びビット3を形成してなるガラスマスター4を作製する
。 ここて、使用するガラス基板、フォトレジスト、並
びに露光、現像の条件等は、常用のものでよく、特に制
限されない。
First, a photoresist is applied to the surface of a glass substrate, exposed to laser light (not shown), and then developed to form a photoresist on the surface of the glass substrate 1, as shown in FIG. A glass master 4 having desired groups and bits 3 formed by the resist 2 is produced. Here, the glass substrate, photoresist, exposure, development conditions, etc. used may be conventional ones and are not particularly limited.

次に、ガラスマスター4に、ニッケルによるスパッタリ
ング、無電解ニッケルめっき等により導体化した後、電
鋳を行ない、第1図(B)に示すように、マスタースタ
ンパ−5を形成する。 ガラス基板からマスタースタン
パ−5を剥し、次いで、フォトレジスト2を除去し、第
1図(C)に示すマスタースタンパ−5を得る。
Next, the glass master 4 is made conductive by nickel sputtering, electroless nickel plating, etc., and then electroformed to form a master stamper 5 as shown in FIG. 1(B). The master stamper 5 is peeled off from the glass substrate, and then the photoresist 2 is removed to obtain the master stamper 5 shown in FIG. 1(C).

本発明の方法は、このマスタースタンパ−からの残存フ
ォトレジストの除去およびマスタースタンパ−の剥l!
IIIA理、ならびに後記のマザースタンパ−の剥離処
理の少なくとも1つの処理を、オゾンの存在下、紫外線
を照射して行うものである。
The method of the present invention involves removing residual photoresist from the master stamper and stripping the master stamper!
At least one of the IIIA process and the mother stamper peeling process described below is performed by irradiating ultraviolet rays in the presence of ozone.

このオゾン存在下、紫外線を照射して行う処理は、電鋳
により得られたマスタースタンパ−ならびにマザースタ
ンパーを、そのまま市販の加熱型UV/オゾン発生装置
中で処理することにより行なうことがてきる。
This treatment by irradiating ultraviolet rays in the presence of ozone can be carried out by directly treating the master stamper and mother stamper obtained by electroforming in a commercially available heating type UV/ozone generator.

加熱温度は、マスタースタンパーの処理においては、レ
ジストが十分に除去でき、またマスタースタンパーの表
面かダメージをうけず、品質の良いコピースタンバ−か
得られる点て、80〜250℃が良く、好ましくは12
0〜180℃か良い。またマザースタンパーの処理にお
いても、通常は80〜250℃てあり、好ましくは12
0〜180℃が良い。
The heating temperature is preferably 80 to 250°C in processing the master stamper, since the resist can be sufficiently removed and the surface of the master stamper will not be damaged and a high-quality copy stamper can be obtained. 12
0~180℃ is good. Also, in the mother stamper treatment, the temperature is usually 80 to 250°C, preferably 12°C.
0 to 180°C is good.

オゾン濃度は、通常、01%以上であるのかよい。The ozone concentration is usually 0.1% or more.

さらに、処理時間は、通常、30秒以上でよい。Furthermore, the processing time may generally be 30 seconds or more.

このようにして得られたマスタースタンバは、純水で洗
浄した後、これを用いて、前記第1図(B)と同様に電
鋳に供することにより、m1図(D)に示すマサ−スタ
ンバ−6が複数個、例えば、5個作製される。
The thus obtained master stanbar is washed with pure water and then subjected to electroforming in the same manner as in FIG. -6 is produced in plurality, for example, five.

この複数個のマザースタンパ−6の作製において、マス
タースタンパーによって形成されたマザースタンパ−は
、マスタースタンパーの剥離処理により得られるが、本
発明においては、マスタースタンパーの剥l1lltI
A理を、前記のオゾン存在下、紫外線を照射して行なう
ものである。
In producing the plurality of mother stampers 6, the mother stamper formed by the master stamper is obtained by peeling off the master stamper.
Process A is carried out by irradiating ultraviolet rays in the presence of ozone.

作製された複数個のマザースタンパ−は、純水にて洗浄
された後、前記第1図(B)と同様の電鋳に供され、第
1図(E)のようなコピースタンバ−7が複数個作製さ
れる。
After washing the prepared mother stampers with pure water, they are subjected to electroforming as shown in FIG. 1(B), and a copy stamper 7 as shown in FIG. 1(E) is formed. Multiple pieces are made.

このようにして得られたコピースタンパ−を用いて、所
望の光ディスクを作製することができる。
A desired optical disc can be manufactured using the copy stamper thus obtained.

また、電鋳において、導体化したガラス基板、マスター
スタンパー、マザースタンパ−との通電に円形電極を使
用するが、この時、円形電極をオゾンの存在下、紫外線
を照射すると、得られるニッケル板との剥離が良くなる
In addition, in electroforming, a circular electrode is used to conduct electricity between a conductive glass substrate, a master stamper, and a mother stamper. At this time, when the circular electrode is irradiated with ultraviolet rays in the presence of ozone, the resulting nickel plate and Improves peeling.

く作用〉 本発明の方法においては、スタンバ−の表面に存在する
レジストはUV照射により低分子量の化合物となり、そ
の後オゾンにより酸化分解される。 次いで、レジスト
のなくなったNi表面はオゾンにより酸化され、電鋳て
のコピースタンバ−の剥離が容易になると考えられる。
Effect> In the method of the present invention, the resist present on the surface of the stand bar is converted into a low molecular weight compound by UV irradiation, and then oxidized and decomposed by ozone. Next, the Ni surface free of resist is oxidized by ozone, and it is thought that the electroformed copy stamper can be easily peeled off.

〈実施例〉 以下、本発明の実施例および比較例により本発明をより
具体的に説明する。
<Examples> Hereinafter, the present invention will be explained in more detail with reference to Examples and Comparative Examples of the present invention.

(実施例1) レジストを塗布したガラス基板上にレーザー光を照射し
た後、現像してレーザー光の照射された部分を溶解し、
乾燥させた。 次いで、ニッケルスパッタリングを行な
い、導体化したガラス基板(ガラスマスター)を得た。
(Example 1) After irradiating a glass substrate coated with a resist with a laser beam, it is developed to dissolve the portion irradiated with the laser beam,
Dry. Next, nickel sputtering was performed to obtain a conductive glass substrate (glass master).

 このガラスマスターをニッケル電鋳して、マスタース
タンパーを形成した。
This glass master was electroformed with nickel to form a master stamper.

これをアセトン中に5分間浸漬しレジストの一部を除去
した後、水洗、ついでイソプロパツール(T PA)の
蒸気中で乾燥した後、市販のUV/オゾンクリーナを使
用し、酸素を1ft/min (オゾン濃度・1%)流
しながら150℃、5分間処理した。  UV/オゾン
クリーナて処理したマスタースタンパーを水洗、次いで
IPAで乾燥後、前記と同様の条件でニッケル電鋳を行
ないマザースタンパ−を形成した。
This was immersed in acetone for 5 minutes to remove a portion of the resist, washed with water, and then dried in isopropanol (TPA) steam. Treatment was performed at 150° C. for 5 minutes while flowing min (ozone concentration: 1%). The master stamper treated with UV/ozone cleaner was washed with water, then dried with IPA, and nickel electroforming was performed under the same conditions as above to form a mother stamper.

電鋳により形成されたマザースタンパ−は、マスタース
タンパーから簡単に剥離できた。
The mother stamper formed by electroforming could be easily peeled off from the master stamper.

得られたマザースタンパ−を、水洗、IPA乾燥後、マ
スタースタンパーと同しようにUV/オゾンクリーナを
用いて、150’Cで5分間処理後、ニッケル電鋳を行
なフてスタンバ−を形成した。
The obtained mother stamper was washed with water, dried with IPA, treated with UV/ozone cleaner at 150'C for 5 minutes in the same way as the master stamper, and then nickel electroformed to form a stamp bar. .

電鋳て形成されたスタンバ−は、マザースタンパ−から
簡単に剥離出来た。
The stamp bar formed by electroforming could be easily peeled off from the mother stamper.

このようにして得られたスタンバ−を用いて光ディスク
を製造した。
An optical disc was manufactured using the stand bar thus obtained.

この光ディスクを性能評価試験に供し、製品品質の目安
となるバイトエラーレイト(BER)を測定し、従来の
クエン酸/重クロム酸カリで剥If!II処理を行なっ
て得られた光ディスフのそれと比較したところ、小さい
バイトエラーレイトを示した。
This optical disc was subjected to a performance evaluation test, the bite error rate (BER), which is a measure of product quality, was measured, and if it was peeled using conventional citric acid/potassium dichromate. When compared with that of the optical disc obtained by II processing, it showed a small byte error rate.

(比較例1) 実施例1と同じようにして得たマスタースタンパ−を、
アセトン中に5分間浸漬しレジストの一部を除去した後
、水洗した。 次いで、IPAの蒸気中で乾燥した後、
空気中で150℃、5分間加熱処理した。 その後、水
洗、次いでIPAで乾燥し、ニッケル電鋳を行なった。
(Comparative Example 1) A master stamper obtained in the same manner as in Example 1 was
After immersing it in acetone for 5 minutes to remove a portion of the resist, it was washed with water. Then, after drying in IPA vapor,
Heat treatment was performed in air at 150°C for 5 minutes. Thereafter, it was washed with water, dried with IPA, and nickel electroformed.

 ニッケル電鋳後、マスタースタンパ−から得られるは
ずのマザースタンパ−は簡単に剥離できず、無理やり剥
したところ変型し、コピースタンバ−用として用いるこ
とはできなかった。
After nickel electroforming, the mother stamper that was supposed to be obtained from the master stamper could not be easily peeled off, and when it was forcibly peeled off, it was deformed and could not be used as a copy stamper.

〈発明の効果〉 本発明の方法によれば、レジストの除去と剥離処理か、
比較的簡単な装置で一度に行なえるため処理時間が非常
に短く、また、スタンパ−へのダメージがすくないため
、品質の優れたコピースタンパ−が得られる。  さら
に、廃水の処理を必要とせず、設備的に場所を取らない
ため、生産性の向上に寄与すること犬である。
<Effects of the Invention> According to the method of the present invention, resist removal and peeling treatment,
Since the process can be carried out all at once using relatively simple equipment, the processing time is very short, and since there is little damage to the stamper, a copy stamper of excellent quality can be obtained. Furthermore, it does not require wastewater treatment and does not take up much space in terms of equipment, contributing to improved productivity.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図(A)〜(E)は、本発明の 様の工程を説明する図である。 符号の説明 1・・・ガラス基板、 2・・・フォトレジスト、 3・・・グループおよびピット、 4・・・ガラスマスター 5・・・マスタースタンパ− 6・・・マザースタンパ− 7・・・コピースタンバ− 実施態 FIGS. 1(A) to (E) illustrate the present invention. FIG. Explanation of symbols 1...Glass substrate, 2...Photoresist, 3...Group and pit, 4...Glass Master 5...Master stamper 6...Mother stamper 7...Copy standby implementation

Claims (1)

【特許請求の範囲】 (1)光ディスク用スタンパーの製造方法において、マ
スタースタンパーのレジスト除去、マスタースタンパー
の剥離処理および/またはマザースタンパーの剥離処理
を、オゾンの存在下、紫外線を照射して行うことを特徴
とする光ディスク用スタンパーの製造方法。(2)処理
温度が80℃以上である請求項1に記載の光ディスク用
スタンパーの製造方法。 (3)処理におけるオゾン濃度が0.1%以上である請
求項1または2に記載の光ディスクの製用スタンパーの
製造方法。 (4)処理時間が30秒以上である請求項1〜3のいず
れかに記載の光ディスク用スタンパーの製造方法。
[Scope of Claims] (1) In the method for manufacturing a stamper for an optical disc, the resist removal from the master stamper, the master stamper peeling process, and/or the mother stamper peeling process are performed by irradiating ultraviolet rays in the presence of ozone. A method for manufacturing an optical disc stamper characterized by: (2) The method for manufacturing an optical disc stamper according to claim 1, wherein the processing temperature is 80°C or higher. (3) The method for producing an optical disc manufacturing stamper according to claim 1 or 2, wherein the ozone concentration in the treatment is 0.1% or more. (4) The method for manufacturing an optical disc stamper according to any one of claims 1 to 3, wherein the processing time is 30 seconds or more.
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