JPH04158508A - Semiconductor wafer transfer system - Google Patents

Semiconductor wafer transfer system

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JPH04158508A
JPH04158508A JP28545490A JP28545490A JPH04158508A JP H04158508 A JPH04158508 A JP H04158508A JP 28545490 A JP28545490 A JP 28545490A JP 28545490 A JP28545490 A JP 28545490A JP H04158508 A JPH04158508 A JP H04158508A
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JP
Japan
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semiconductor wafer
wafer
processing
semiconductor wafers
semiconductor
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Application number
JP28545490A
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Japanese (ja)
Inventor
Shoji Yano
昭二 矢野
Seiichi Mimura
誠一 三村
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Mitsubishi Electric Corp
Original Assignee
Mitsubishi Electric Corp
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Publication date
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  • Container, Conveyance, Adherence, Positioning, Of Wafer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To effectively utilize a space and to shorten one total time required for working process by perpendicularly laying out various kinds of apparatus constituting the system such as a semiconductor wafer working processor and a transfer truck. CONSTITUTION:A wafer cassette 13 is locked with a transfer truck 5 moved perpendicularly and is transferred to a step 3 of a tower 1 where a required working processor 10 is laid out. With semiconductor wafers stored, they are received and held by a delivery robot 7 provided in every working processor 10 and then supplied to the working processor 10. Each of semiconductor wafers supplied every wafer cassette 13 is subjected to a necessary working process. Further, a processed semiconductor wafer is stored again in the wafer cassette 13, discharged out of the working processor 10, received and held by the delivery robot 7, replaced onto a tray 6 of the transfer truck 5, and transferred to a next step.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、半導体ウェハの加工処理を行う際に用いら
れる半導体ウェハ搬送システムに係り、詳しくは、この
システムを構成する各種g2の配置関係に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor wafer transport system used when processing semiconductor wafers, and in particular relates to the arrangement of various g2 constituting this system. .

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来から、この種の半導体ウェハ搬送システムを構成す
るに際しては、第3図の一部省略平面図で示すように、
半導体ウェハの加工処理及び搬送を行うために必要な各
種装置を同一平面上に配置しておくのが一般的となって
いる。
Conventionally, when configuring this type of semiconductor wafer transport system, as shown in the partially omitted plan view of FIG.
2. Description of the Related Art It has become common practice to arrange various devices necessary for processing and transporting semiconductor wafers on the same plane.

すなわち、この図における符号10は半導体ウェハ(図
示していない)に対して必要な加工処理を施す個々の加
工処理装置、11は所要の加工処理工程ごとに必要な一
部としてまとめられた複数の加工処理装置10からなる
加工処理装置群であり、12は加工処理装置群11のそ
れぞれに対して半導体ウェハを搬送するための搬送台車
である。
That is, the reference numeral 10 in this figure indicates an individual processing device that performs necessary processing on a semiconductor wafer (not shown), and 11 indicates a plurality of processing devices that are assembled as a necessary part for each required processing step. A processing equipment group includes processing equipment 10, and reference numeral 12 denotes a transport vehicle for transporting semiconductor wafers to each of the processing equipment group 11.

なお、これらの加工処理すべき半導体ウェハは複数枚ず
つウェハカセット13に収納されており、複数のウェハ
カセット13が搬送台車12上に載置されて搬送される
ようになっている。
Note that a plurality of these semiconductor wafers to be processed are stored in wafer cassettes 13, and the plurality of wafer cassettes 13 are placed on the transport carriage 12 and transported.

そして、搬送台車12によって所要の加工処理装置群1
1まで搬送されたウェハカセット13のそれぞれは、加
工処理装置群11ごとに設けられたカセット受け渡し用
ロボット14によって受け取り保持されたうえ、このカ
セット受け渡し用ロボン(・14が移送レール15上を
走行することによって所要の加工処理装置10まで移送
される。
Then, the necessary processing equipment group 1 is transported by the transport vehicle 12.
Each of the wafer cassettes 13 that have been transferred to the processing equipment group 11 is received and held by a cassette transfer robot 14 provided for each processing equipment group 11, and this cassette transfer robot 14 runs on a transfer rail 15. As a result, it is transferred to the required processing apparatus 10.

また、このようにして移送された半導体ウェハはウェハ
カセットI3ごとカセット受け渡し用ロボフト14から
加工処理装置10に供給され、この加工処理装置10で
は個々の半導体ウェハに対して必要な加工処理が施され
る。
Further, the semiconductor wafers transferred in this manner are supplied together with the wafer cassette I3 from the cassette transfer robot 14 to the processing equipment 10, and in this processing equipment 10, the necessary processing is performed on each semiconductor wafer. Ru.

さらに、加工処理が終了した半導体ウェハは再びウェハ
カセット13に収納されたうえで加工処理装置10から
排出され、カセット受け渡し用ロボット14によって受
け取り保持される。そして、このカセット受け渡し用ロ
ボット]4の走行によって移送されたウェハカセット1
3は、搬送台車12上に移し替えられて次工程へv1送
されていくことになる。なお、この半導体ウェハ搬送シ
ステムは’:17ビユータを具備しており、このコンピ
ュータによって各種装置間の整合性を保ちながら全体的
に制御されている。
Further, the processed semiconductor wafer is again stored in the wafer cassette 13 and discharged from the processing apparatus 10, and is received and held by the cassette transfer robot 14. The wafer cassette 1 transferred by the running of this cassette delivery robot] 4.
3 will be transferred onto the conveyor truck 12 and sent v1 to the next process. Note that this semiconductor wafer transfer system is equipped with a ':17 viewer, and is entirely controlled by this computer while maintaining consistency among the various devices.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところで、前記従来構成の半導体ウェハ搬送システムに
おいては、これを構成する加工処理装置10や搬送台車
12などの各種装置が同一平面上に配置されていること
から、システムが大型化すればするほど平面的な占有ス
ペースが拡がってしまうことになり、スペースの有効利
用が図れないという不都合が生していた。また、加工処
理装置10と搬送台車12との間でウェハカセット13
を移送する必要があることから、半導体ウェハの搬送及
び移送に要する全体経路が長くなる結果、半導体ウェハ
の加工処理に要する全体時間が長くかかることになって
生産性の向上が図れないという不都合もあった。
By the way, in the semiconductor wafer transfer system of the conventional configuration, various devices constituting the system, such as the processing device 10 and the transfer vehicle 12, are arranged on the same plane. This resulted in the inconvenience that the occupied space would be expanded, making it impossible to utilize the space effectively. Additionally, a wafer cassette 13 is connected between the processing device 10 and the transport vehicle 12.
Since it is necessary to transport the semiconductor wafers, the overall route required for transporting and transferring the semiconductor wafers becomes longer, resulting in the inconvenience that the overall time required for processing the semiconductor wafers becomes longer, making it impossible to improve productivity. there were.

本発明は、かかる従来例の不都合に鑑みて創I案された
ものであって、スペースの有効利用を図るとともに、生
産性の同上を容易に図ることができる構成の半導体ウェ
ハ搬送システムを提供することを目的としている。
The present invention was devised in view of the disadvantages of the conventional example, and provides a semiconductor wafer transport system having a configuration that allows effective use of space and easily increases productivity. The purpose is to

(課題を解決するための手段〕 本実施例に係る半導体ウェハ搬送システムは、このよう
な目的を達成するために、鉛直方向に沿って離間配置さ
れた複数の階層を有する塔体と、この塔体の平面視中心
位置に配設された鉛直軸に沿って移動し、かつ、前記階
層のそれぞれと対応した高さ位置で停止する搬送台車と
、前記塔体の各階層ごとに配置され、かつ、前記鉛直軸
に対して放射状に位置する複数の加工処理装置と、各加
工処理装置と前記搬送台車との間で半導体ウェハの受け
渡しを行う移載装置とを備えたことを特徴とするもので
ある。
(Means for Solving the Problems) In order to achieve such an objective, the semiconductor wafer transport system according to the present embodiment includes a tower body having a plurality of floors spaced apart in the vertical direction, and a tower body having a plurality of floors spaced apart in the vertical direction. a transport vehicle that moves along a vertical axis disposed at the center position of the body in a plan view and stops at a height position corresponding to each of the floors; , comprising a plurality of processing devices located radially with respect to the vertical axis, and a transfer device that transfers semiconductor wafers between each processing device and the transport vehicle. be.

〔作用〕[Effect]

本発明によれば、半導体ウェハ搬送システムを構成する
各種装置が鉛直方向に沿って配置されているので、半導
体ウェハは鉛直軸に沿って移動したうえで停止する搬送
台車によって搬送されたのち、移載装置によって所要の
加工処理装置に対して直接供給されることになる。
According to the present invention, since the various devices constituting the semiconductor wafer transport system are arranged along the vertical direction, the semiconductor wafer is transported by the transport carriage that moves along the vertical axis and then stops, and then is transferred. It will be directly supplied to the required processing equipment by the loading device.

〔実施例〕〔Example〕

以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。 Hereinafter, one embodiment of the present invention will be described based on the drawings.

第】図は半導体ウェハ搬送システムの全体構成を簡略化
して示す一部省略縦断側面図であり、第2図は第1図の
n−n線に沿う横断平面図である。
1 is a partially omitted vertical sectional side view showing a simplified overall configuration of the semiconductor wafer transfer system, and FIG. 2 is a lateral plan view taken along line nn in FIG. 1.

なお、これらの第1図及び第2図において、従来例を示
す第3図と互いに同一もしくは相当する部品、部分には
同一符号を付している。
In these FIGS. 1 and 2, parts and portions that are the same or corresponding to those in FIG. 3 showing the conventional example are given the same reference numerals.

本実施例に係る半導体ウェハ搬送システムは、鉛直方向
に沿って床面G上に立設された塔体1と、その平面視中
心位置に配設されて固定的に位置決め支持された鉛直軸
2とを備えており、この塔体1の外周面に沿っては外壁
1aが設けられる一方、搬送台車(後述する)が通過す
る鉛直軸2の周囲には内壁1bが設けられている6なお
、これらの壁1a、lbは必ず設けられていなければな
らないものではないが、外壁1aを設けておけば塔体1
の内部を外部雰囲気から分離したうえで清浄(クリーン
)化することができるという利点がある。
The semiconductor wafer transfer system according to the present embodiment includes a tower body 1 vertically erected on a floor surface G, and a vertical shaft 2 fixedly positioned and supported at the center position in plan view. An outer wall 1a is provided along the outer peripheral surface of the tower body 1, while an inner wall 1b is provided around a vertical axis 2 through which a transport vehicle (described later) passes6. These walls 1a and lb do not necessarily have to be provided, but if the outer wall 1a is provided, the tower body 1
It has the advantage that the inside of the can be separated from the outside atmosphere and then cleaned.

そして、この塔体1は鉛直方向に沿って互いに離間配置
された複数の階層3を有しており、各階層3上には半導
体ウェハ(図示していない)に対して必要な加工処理を
施すための加工処理送装置10の複数が互いに鉛直軸2
に対して放射状となるように位置決めしたうえで配置さ
れている。なお、このとき、各階層3に一部として配!
された複数の加工処理送袋aF10は、半導体ウェハに
施すべき所要の加工処理工程ごとに必要な加工処理送装
置群としてまとめられていることが望ましいが、これに
限定されるものではない。
This tower body 1 has a plurality of floors 3 spaced apart from each other along the vertical direction, and on each floor 3, necessary processing is performed on semiconductor wafers (not shown). A plurality of processing and feeding devices 10 for
They are positioned and placed radially relative to each other. In addition, at this time, it is distributed as part of each layer 3!
It is desirable that the plurality of processing transport bags aF10 are grouped together as a processing transport device group required for each required processing step to be performed on the semiconductor wafer, but the present invention is not limited thereto.

また、この半導体ウェハ搬送システムは、鉛直軸2に沿
って上下に移動する搬送台車5と、その駆動停止手段(
図示していない)とを備えており、この搬送台車5は塔
体1の有する階層3のそれぞれと対応する高さ位置で停
止されるようになっている。そして、この搬送台車5に
は、その移動方向である鉛直方向に沿って区分された複
数の半導体ウェハ載置台、いわゆるトレイ6が配設され
ており、各トレイ6上には複数枚ずつの半導体ウェハを
収納したウェハカセット13が所要の加工処理送装置1
0に対して搬送されるべく載置されている。なお、この
搬送台車5は、単一のトレイ6のみを有するものであっ
てもよいことはいうまでもない。
This semiconductor wafer transport system also includes a transport carriage 5 that moves up and down along the vertical axis 2, and a drive stop means (
(not shown), and this transport vehicle 5 is adapted to be stopped at a height position corresponding to each of the floors 3 of the tower body 1. The carrier 5 is provided with a plurality of semiconductor wafer mounting tables, so-called trays 6, which are divided along the vertical direction, which is the direction of movement thereof, and each tray 6 has a plurality of semiconductor wafers mounted thereon. Processing and feeding device 1 that requires a wafer cassette 13 containing wafers
0 is placed to be transported. It goes without saying that this carrier 5 may have only a single tray 6.

さらにまた、搬送台車5が停止する塔体1の各階層2上
には、停止した搬送台車2のトレイ6と個々の加工処理
装置10との間に位置する移載装置としての受け渡し用
ロボット7が設けられており、この受け渡し用ロボット
7によって半導体ウェハを収納したウェハカセット13
の受け渡しを直接的に行うようになっている。なお、こ
れらのウェハカセット13の受け渡しが塔体1の内壁1
bを介して行われることがら、この内壁1bの所定位置
それぞれにはウェハカセット13の道通用開口1cが形
成されている。
Furthermore, on each floor 2 of the tower body 1 where the transport vehicle 5 stops, there is a delivery robot 7 as a transfer device located between the tray 6 of the stopped transport vehicle 2 and each processing device 10. A wafer cassette 13 containing semiconductor wafers is provided by the transfer robot 7.
The transfer is now done directly. Note that these wafer cassettes 13 are transferred through the inner wall 1 of the tower body 1.
Openings 1c through which the wafer cassette 13 can pass are formed at predetermined positions on the inner wall 1b.

つぎに、本実施例に係る半導体ウェハ搬送システムの動
作について説明する。
Next, the operation of the semiconductor wafer transfer system according to this embodiment will be explained.

まず、半導体ウェハが収納されたウェハカセット13は
搬送台車5が鉛直方向に移動したうえで停止することに
よって所要の加工処理装置10が配置された塔体1の階
層3まで搬送される。そして、搬送されたウェハカセッ
ト13のそれぞれは、半導体ウェハを収納したまま、加
工処理装置10ごとに設けられた受け渡し用ロボット7
によって受け取り保持されたのち、この受け渡し用ロボ
ット7を介して加工処理装置10に供給される。そこで
、この加工処理装置10では、ウェハカセット13ごと
供給された半導体ウェハの個々に対して必要な加工処理
が施される。
First, the wafer cassette 13 containing semiconductor wafers is transported to the floor 3 of the tower body 1 where the required processing equipment 10 is arranged by the transport vehicle 5 moving in the vertical direction and then stopping. Each of the transported wafer cassettes 13 is then transferred to a delivery robot 7 provided for each processing apparatus 10 while storing semiconductor wafers therein.
After being received and held by the transfer robot 7, it is supplied to the processing device 10. Therefore, in this processing apparatus 10, necessary processing is performed on each of the semiconductor wafers supplied together with the wafer cassette 13.

さらに、加工処理が終了した半導体ウェハは再びウェハ
カセット13に収納されたうえで加工処理装置10から
排出され、受け渡し用ロボット7によって受け取り保持
されたうえで搬送台車5のトレイ6上に移し替えられて
次工程へ搬送されていく。
Furthermore, the processed semiconductor wafer is again stored in the wafer cassette 13 and discharged from the processing apparatus 10, received and held by the transfer robot 7, and then transferred onto the tray 6 of the transport vehicle 5. and transported to the next process.

ところで、以上の説明においては、加工処理すベキ半導
体ウェハをウェハカセット13に収納したうえで搬送す
るものとしているが、例えば、半導体ウェハを一枚ごと
搬送したうぇで加工処理するものであってもよく、この
場合の受け渡し用ロボット7は搬送台車5のトレイ6と
加工処理装置10との間で半導体ウェハを一枚ずつ移載
することになる。そして、この半導体ウェハ搬送システ
ムカコンピュータを具備しており、このコンピュータに
よって各種装置間の整合性を保ちながら全体的に制御さ
れていることはいうまでもない。
Incidentally, in the above explanation, it is assumed that the semiconductor wafers to be processed are stored in the wafer cassette 13 and then transported, but, for example, the semiconductor wafers are transported one by one and then processed. In this case, the transfer robot 7 transfers the semiconductor wafers one by one between the tray 6 of the transport vehicle 5 and the processing device 10. It goes without saying that this semiconductor wafer transport system is equipped with a computer, and that the entire system is controlled by this computer while maintaining consistency among the various devices.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上説明したように、この発明に係る半導体ウェハ搬送
システムにおいては、システムを構成する半導体ウェハ
の加工処理装置や搬送台車などのような各種装置が鉛直
方向に沿って配置されているので、半導体ウェハは鉛直
軸に沿って移動したうえで停止する搬送台車によって搬
送されたうえ、移載装置を介して所要の加工処理装置に
対して直接的に供給されることになる。そこで、本発明
によれば、システムが大型化しても平面的な6育スペー
スが拡がってしまうことはなくなり、スベースの有効利
用を図ることができる。また、同時に、半導体ウェハの
搬送に要する全体経路が短くなる結果、半導体ウェハの
加工処理に要する全体時間を短縮化することが可能とな
り、生産性の向上を容易に図ることができるという効果
も得られる。
As explained above, in the semiconductor wafer transfer system according to the present invention, various devices constituting the system, such as a semiconductor wafer processing device and a transfer vehicle, are arranged along the vertical direction. The material is transported by a transport vehicle that moves along a vertical axis and then stops, and is then directly supplied to a required processing device via a transfer device. Therefore, according to the present invention, even if the system becomes larger, the planar 6-year-old space does not expand, and the space can be used effectively. At the same time, as the overall path required to transport semiconductor wafers is shortened, the overall time required for processing semiconductor wafers can be shortened, and productivity can be easily improved. It will be done.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図及び第2図は本実施例に係り、第1図は半導体ウ
ェハ搬送システムの全体構成を簡略化して示す一部省略
縦断側面図、第2図は第1図の■−■線に沿う横断平面
図である。また、第3図は従来例に係り、半導体ウェハ
搬送システムの全体構成を簡略化して示す一部省略平面
図である。 図における符号1は塔体、2は鉛直軸、3は階層、5は
搬送台車、6はトレイ(半導体ウェハ載置台)、7は受
け渡し用ロボット(移載装置)である。 なお、図中の同一符号は、互いに同一もしくは相当する
部品、部分を示している。
1 and 2 relate to this embodiment, FIG. 1 is a partially omitted vertical side view showing the overall configuration of the semiconductor wafer transfer system, and FIG. 2 is along the line ■-■ in FIG. 1. FIG. Further, FIG. 3 is a partially omitted plan view showing a simplified overall configuration of a semiconductor wafer transfer system according to a conventional example. In the figure, reference numeral 1 is a tower body, 2 is a vertical axis, 3 is a floor, 5 is a transport vehicle, 6 is a tray (semiconductor wafer mounting table), and 7 is a delivery robot (transfer device). Note that the same reference numerals in the drawings indicate parts and portions that are the same or correspond to each other.

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)鉛直方向に沿って離間配置された複数の階層を有
する塔体と、この塔体の平面視中心位置に配設された鉛
直軸に沿って移動し、かつ、前記階層のそれぞれと対応
した高さ位置で停止する搬送台車と、前記塔体の各階層
ごとに配置され、かつ、前記鉛直軸に対して放射状に位
置する複数の加工処理装置と、各加工処理装置と前記搬
送台車との間で半導体ウェハの受け渡しを行う移載装置
とを備えたことを特徴とする半導体ウェハ搬送システム
(1) A tower body having a plurality of floors spaced apart along the vertical direction, moving along a vertical axis located at the center position of the tower body in plan view, and corresponding to each of the floors. a transportation vehicle that stops at a height position, a plurality of processing devices arranged on each floor of the tower body and located radially with respect to the vertical axis, and each processing device and the transportation vehicle. 1. A semiconductor wafer transfer system comprising: a transfer device for transferring semiconductor wafers between devices.
(2)前記搬送台車が鉛直方向に沿って区分された複数
の半導体ウェハ載置台を有することを特徴とする請求項
第1項記載の半導体ウェハ搬送システム。
(2) The semiconductor wafer transport system according to claim 1, wherein the transport vehicle has a plurality of semiconductor wafer mounting tables divided along the vertical direction.
JP28545490A 1990-10-22 1990-10-22 Semiconductor wafer transfer system Pending JPH04158508A (en)

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Cited By (7)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5980183A (en) * 1997-04-14 1999-11-09 Asyst Technologies, Inc. Integrated intrabay buffer, delivery, and stocker system
US6283692B1 (en) * 1998-12-01 2001-09-04 Applied Materials, Inc. Apparatus for storing and moving a cassette
JP2004146450A (en) * 2002-10-22 2004-05-20 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus
US7234908B2 (en) 2000-03-16 2007-06-26 Applied Materials, Inc. Apparatus for storing and moving a cassette
US7577487B2 (en) 2005-09-14 2009-08-18 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for a band to band transfer module
WO2010074366A1 (en) * 2008-12-23 2010-07-01 Hwang Moo Sung Wafer transporting system, semiconductor fabrication plant structure using same, and wafer transporting method
US7912576B2 (en) 2003-11-13 2011-03-22 Applied Materials, Inc. Calibration of high speed loader to substrate transport system

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5980183A (en) * 1997-04-14 1999-11-09 Asyst Technologies, Inc. Integrated intrabay buffer, delivery, and stocker system
US6283692B1 (en) * 1998-12-01 2001-09-04 Applied Materials, Inc. Apparatus for storing and moving a cassette
US7637707B2 (en) 1998-12-01 2009-12-29 Applied Materials, Inc. Apparatus for storing and moving a cassette
US7234908B2 (en) 2000-03-16 2007-06-26 Applied Materials, Inc. Apparatus for storing and moving a cassette
JP2004146450A (en) * 2002-10-22 2004-05-20 Tokyo Electron Ltd Substrate processing apparatus
US7912576B2 (en) 2003-11-13 2011-03-22 Applied Materials, Inc. Calibration of high speed loader to substrate transport system
US7577487B2 (en) 2005-09-14 2009-08-18 Applied Materials, Inc. Methods and apparatus for a band to band transfer module
WO2010074366A1 (en) * 2008-12-23 2010-07-01 Hwang Moo Sung Wafer transporting system, semiconductor fabrication plant structure using same, and wafer transporting method

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