JPH0415655A - Electrophotographic sensitive body - Google Patents

Electrophotographic sensitive body

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JPH0415655A
JPH0415655A JP11853290A JP11853290A JPH0415655A JP H0415655 A JPH0415655 A JP H0415655A JP 11853290 A JP11853290 A JP 11853290A JP 11853290 A JP11853290 A JP 11853290A JP H0415655 A JPH0415655 A JP H0415655A
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  • Photoreceptors In Electrophotography (AREA)
  • Compositions Of Macromolecular Compounds (AREA)
  • Adhesives Or Adhesive Processes (AREA)
  • Macromonomer-Based Addition Polymer (AREA)

Abstract

PURPOSE:To enhance resistance of electrostatic characteristics against environmental conditions by incorporating specified resins in a binder resin. CONSTITUTION:The binder resins comprise the resins A and B, and the resin A is a copolymer comprising a main polymer chain comsisting of polymer components each represented by formulae IIa and IIb and polymer components each having a polar group, such as -COOH, and monofunctional macromonomers MA each having a polymerizable double bond group represented by formula I and combined with the only one terminal of said polymer chain, and a monomer represented by formula II. The resin B is a graft copolymer comprising the C block comprising polymer components each having an acidic group, such as PO3 H2 group and a cyclic acid anhydride, and the D block comprising polymer components each represented by formula III and monofunctional macromonomers MB each having a double bond and combined with the terminal of the poymer chain of the D block. In formulae I, II, IIa, IIb, and III, each of X0, X1, X2, X3, and X4 is -COO- or the like; each of a1, a2, b1, b2, c1, c2, d1 and d2 is H or the like; each of Q1 and Q2 is an aromatic group; V is -CN or the like; and R21 is a hydrocarbon group, thus permitting the electrostatic characteristics to be maintained against environmental variations.

Description

【発明の詳細な説明】 (産業上の利用分野) 本発明は電子写真感光体に関し、詳しくは静電特性、耐
湿性及び耐久性の優れた電子写真感光体に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION (Field of Industrial Application) The present invention relates to an electrophotographic photoreceptor, and more particularly to an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic properties, moisture resistance, and durability.

(従来の技術) 電子写真感光体には所定の特性を得るため、あるいは通
用される電子写真プロセスの種類に応j)で種々の構成
をとる。
(Prior Art) Electrophotographic photoreceptors have various configurations in order to obtain predetermined characteristics or depending on the type of electrophotographic process in use.

電子写真感光体の代表的なものとして、支持体上に光導
電層が形成されている感光体及び表面に絶縁層を備えた
感光体があり、広く用いられている。支持体と少なくと
も1層の光導tNから構成される感光体は、最も一般的
な電子写真プロセスによる、即ち、帯電、画像露光及び
現像、更に必要に応じて転写による画像形成に用いられ
る。
As representative electrophotographic photoreceptors, there are photoreceptors having a photoconductive layer formed on a support and photoreceptors having an insulating layer on the surface, which are widely used. The photoreceptor, consisting of a support and at least one layer of photoconductive tN, is used for imaging by the most common electrophotographic processes, ie, charging, imagewise exposure and development, and optionally transfer.

更には、ダイレクト製版用のオフセント原版として電子
写真感光体を用いる方法が広く実用されている。
Furthermore, a method of using an electrophotographic photoreceptor as an offset master plate for direct plate making is widely used.

電子写真感光体の光導電層を形成するために使用する結
合剤は、それ自体の成膜性および光導電性粉末の結合剤
中への分散能力が優れるとともに、形成された記録体層
の基材に対する接着性が良好であり、しかも記録体層の
光導電層は帯電能力に優れ、暗減衰が小さく、光減衰が
大きく、前露光疲労が少く、且つ、撮像時の湿度の変化
によってこれら特性を安定に保持していることが必要で
ある等の各種の静電特性および優れた撮像性を具備する
必要がある。
The binder used to form the photoconductive layer of the electrophotographic photoreceptor has excellent film-forming properties and ability to disperse the photoconductive powder into the binder, and also has excellent properties as a base material for the formed recording layer. In addition, the photoconductive layer of the recording layer has excellent charging ability, low dark decay, large light decay, low pre-exposure fatigue, and changes in humidity during imaging. It is necessary to have various electrostatic properties such as the need to stably hold the image, and excellent imaging performance.

更に、電子写真感光体を用いた平版印刷用原版の研究が
鋭意行なわれており、電子写真感光体としての静電特性
と印刷原版としての印刷特性を両立させた光導電層用の
結着樹脂が必要である。
Furthermore, research is being carried out on lithographic printing original plates using electrophotographic photoreceptors, and a binder resin for the photoconductive layer that has both the electrostatic properties of an electrophotographic photoreceptor and the printing properties of a printing original plate has been developed. is necessary.

しかしながら、従来公知の樹脂においては、特に帯電性
、暗電荷保持性、光感度の静電特性、光導電層の平滑性
等に多くの問題があり、実用上満足できるものではなか
った。
However, conventionally known resins have many problems, particularly in chargeability, dark charge retention, electrostatic properties of photosensitivity, smoothness of the photoconductive layer, etc., and are not practically satisfactory.

又、電子写真式平版印刷用原版として開発されたとする
結着樹脂においても、現実に評価してみると前記の静電
特性、印刷物の地汚れ等に問題があった。
Furthermore, even in the case of a binder resin which is said to have been developed as an original plate for electrophotographic lithographic printing, when actually evaluated, there were problems with the above-mentioned electrostatic properties, scumming of printed matter, etc.

更に、これらの問題☆、を解決するために、結着樹脂と
して酸性基を重合体の側鎖に含有する共重合成分を0.
05〜lO重景%含有する低分子量の樹脂又は酸性を重
合体主鎖の末端に結合する低分子量の樹脂(t’1w1
o1〜104)、更には酸性基を重合体主鎖の末端乙こ
結合するクシ型ポリマーを用いることにより、光導電層
の平滑性及び静電特性を良好にし、しかも地汚れのない
画質を得ることがそれぞれ特開昭63−217354号
、特開昭64−70761号および特開平2−6756
3号に記載されでいる。
Furthermore, in order to solve these problems ☆, a copolymer component containing an acidic group in the side chain of the polymer was used as a binder resin.
A low molecular weight resin containing 05 to 10% or a low molecular weight resin that binds acid to the end of the polymer main chain (t'1w1
o1 to 104), and furthermore, by using a comb-shaped polymer in which an acidic group is bonded to the end of the polymer main chain, the smoothness and electrostatic properties of the photoconductive layer are improved, and image quality without background smearing is obtained. JP-A-63-217354, JP-A-64-70761 and JP-A-2-6756, respectively.
It is stated in No. 3.

また、結着樹脂として、酸性基を共重合体の側鎖に含有
し、又は重合体主鎖の末端に結合し、且つ熱及び/又は
光硬化性官能基を含有する重合成分を含有する樹脂を用
いる技術が特開平1−100554号、特願昭63−3
9690号ζこ、酸性基を共重合体の側鎖に含有し、又
は重合体主鎖の末端に結合する樹脂を架橋剤と併用する
技術が特開平1−102573号、同2−874号にそ
れぞれ開示され、更に該樹脂の低分子量体(重量平均分
子量103〜104)を高分子量(重量平均分子量10
“以上)の樹脂と組合せて用いる技術が特開昭64−5
64号、同63−220149号、同63−22014
0号、特開平1−280761Σ、同1−116643
号及び同1−169455号に、かかる低分子量体を熱
及び/又は光硬化性樹脂を組合せて用いる技術が特開平
1−211766号及び同2−34859号に、かかる
低分子量体をクツ型ポリマーど組合せて用いる技術が特
開平2−53064月、同2−56558号および特願
昭63−254786号ムこそれぞれ開示されている。
In addition, as a binder resin, a resin containing a polymeric component containing an acidic group in the side chain of the copolymer, or bonded to the end of the main chain of the polymer, and containing a thermally and/or photocurable functional group. The technique using this is disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 1-100554 and Japanese Patent Application No. 1983-3.
No. 9690 ζ The technique of using a resin containing an acidic group in the side chain of the copolymer or bonding to the end of the main chain of the polymer together with a crosslinking agent is disclosed in JP-A-1-102573 and JP-A-2-874. Furthermore, the low molecular weight form of the resin (weight average molecular weight 103 to 104) is mixed with the high molecular weight form (weight average molecular weight 10
The technology used in combination with the above resins was disclosed in Japanese Patent Application Laid-open No. 64-5.
No. 64, No. 63-220149, No. 63-22014
No. 0, JP-A-1-280761Σ, JP-A-1-116643
JP-A No. 1-211766 and JP-A No. 2-34859 disclose a technique of using such a low molecular weight material in combination with a heat-curable and/or photo-curable resin. Techniques to be used in combination are disclosed in Japanese Patent Application Laid-Open No. 53064/1999, Japanese Patent Application No. 56558/1983, and Japanese Patent Application No. 254786/1986, respectively.

これらの技術乙こより、側鎖又は末端に酸性基を含有す
る樹脂を用いたことによる一F記特性を阻害せず↓こさ
らに光導電層の膜強度を充分ならしめ、機械的強度か増
大されることが記載されている。
These technologies allow the use of resins containing acidic groups in side chains or terminals to achieve sufficient film strength and increase mechanical strength without impairing the properties listed in 1F. It is stated that

(発明が解決しようとする課題) しかしながら、これらの樹脂を用いても、環境が高温・
高温から低温・低温まで著しく変動した場合における安
定した性能の維持においてはいまだ不充分であることが
判った。特に半導体レーザー光を用いたスキャニング露
光方式では、従来の可視光による全面同時露光方式に比
べ、露光時間が長くなり、また露光強度にも制約がある
ことから、静電特性、特に暗電荷保持特性、光感度に対
して、より高い性能が要求される。
(Problem to be solved by the invention) However, even when these resins are used, the environment is high temperature and
It has been found that it is still insufficient to maintain stable performance when the temperature fluctuates significantly from high temperature to low temperature. In particular, scanning exposure methods using semiconductor laser light require longer exposure times than conventional simultaneous exposure methods using visible light across the entire surface, and there are restrictions on exposure intensity. , higher performance is required in terms of photosensitivity.

更には、電子写真式平版印刷用原版において、半導体レ
ーザー光を用いたスキャニング露光方式を採用した場合
、従来の感光体で実際に試験してみると、上記の静電特
性が不満足であるとともに、特にEl/□とEl/10
との差が大きく複写画像の階調が軟調となり、更には露
光後の残留電位を小さくするのが困難となり、複写画像
のカプリが顕著となってしまい、又、オフセットマスタ
ーとして印刷しても、印刷物に印刷原稿の貼り込み跡が
出てしまう等の重大な問題となって現われた。
Furthermore, when a scanning exposure method using semiconductor laser light is adopted in an electrophotographic lithographic printing original plate, actual tests using a conventional photoreceptor show that the electrostatic properties described above are unsatisfactory. Especially El/□ and El/10
If the difference is large, the gradation of the copied image will be soft, and furthermore, it will be difficult to reduce the residual potential after exposure, and the capri of the copied image will become noticeable.Also, even if printed as an offset master, This has resulted in serious problems such as traces of pasted originals appearing on printed matter.

本発明は、以上の様な従来の電子写真感光体の有する課
題を改良するものである。
The present invention is intended to improve the problems of conventional electrophotographic photoreceptors as described above.

本発明の目的は、複写画像形成時の環境が低温低湿ある
いは高温高湿の如く変動した場合でも、安定して良好な
静電特性を維持し、鮮明で良質な画像を有する電子写真
感光体を提供することである。
An object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that stably maintains good electrostatic properties and produces clear, high-quality images even when the environment during copy image formation changes such as low temperature and low humidity or high temperature and high humidity. It is to provide.

本発明の他の目的は、静電特性に優れ且つ環境本発明の
他の目的は、静電特性に優れ且つ環境依存性の小さいc
pc電子写真感光体を提供することである。
Another object of the present invention is to provide c
An object of the present invention is to provide a PC electrophotographic photoreceptor.

本発明の他の目的は、半導体レーザー光を用いたスキャ
ニング露光方式に有効な電子写真感光体を提供すること
である。
Another object of the present invention is to provide an electrophotographic photoreceptor that is effective in a scanning exposure method using semiconductor laser light.

本発明の他の目的は、電子写真式平版印刷原版として、
静電特性(特に暗電荷保持性及び光感度)に優れ、原画
に対して忠実な複写画像を再現し、且つ、印刷物の全面
一様な地汚れはもちろん点状の地汚れをも発生させず、
また耐剛性に優れ、貼り込み跡が生じない平版印刷原版
を提供することである。
Another object of the present invention is to provide an original plate for electrophotographic planographic printing.
It has excellent electrostatic properties (particularly dark charge retention and photosensitivity), reproduces copied images that are faithful to the original, and does not cause not only uniform background smudges on the entire surface of printed matter but also dotted smudges. ,
Another object of the present invention is to provide a lithographic printing original plate that has excellent rigidity and does not leave any pasting marks.

(課題を解決するための手段) 上記目的は無機光導電体及び結着樹脂を少なくとも含有
する光導電層を有する電子写真感光体において、該結着
樹脂が、下記に示される樹脂〔A〕の少なくとも1種と
樹脂(B)の少なくとも1種とを含有して成る事を特徴
とする電子写真感光体により達成されることが見出され
た。
(Means for Solving the Problems) The above object is to provide an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductor and a binder resin, wherein the binder resin is a resin [A] shown below. It has been found that this can be achieved by an electrophotographic photoreceptor characterized by containing at least one type of resin (B) and at least one type of resin (B).

結着樹脂〔A〕; 下記一般式(Ila)及び(I[b)で示される重合体
成分のうちの少なくとも1種及び−COOH基、PO,
H,基、−PO3H2基、−OH基及びc式(1)中、
X(1は−COO−−0CO−−CHzOCO−1−C
HxCOO−1−O−−SO□−−CO−1−CONH
COOH 水素基を示す)を表わす)基から選ばれる少なくとも1
つの極性基を含有する重合体成分のうちの少なくとも1
種を各々含有する重合体主鎖の一方の末端にのみ下記一
般式(1)で示される重合性二重結合基を結合して成る
重量平均分子量2X10’以下の一官能性マクロモノマ
ー(MA)と、下記一般式(I[[)で示されるモノマ
ーとから少なくとも成る重量平均分子量1.OXIO’
〜2.OXIO’の共重合体。
Binder resin [A]; at least one of the polymer components represented by the following general formulas (Ila) and (I[b), and -COOH group, PO,
H, group, -PO3H2 group, -OH group and c in formula (1),
X (1 is -COO--0CO--CHzOCO-1-C
HxCOO-1-O--SO□--CO-1-CONH
At least one group selected from COOH (representing a hydrogen group)
At least one of the polymer components containing two polar groups
A monofunctional macromonomer (MA) with a weight average molecular weight of 2X10' or less, which is formed by bonding a polymerizable double bond group represented by the following general formula (1) only to one end of a polymer main chain containing each species. and a monomer represented by the following general formula (I[[), having a weight average molecular weight of 1. OXIO'
~2. Copolymer of OXIO'.

一般式(1,) a+   at CIl霧C 化水素基を表わす)。General formula (1,) a+ at CIl Fog C (represents a hydrogen chloride group).

al、a2は、互いに同じでも異なってもよく、各々水
素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−CO
O4+又は炭化水素を介したーCoo−Zl(Zlは水
素原子又は置換されてもよい炭化水素基を示す)を表わ
す。〕 一般式(Ila) b+  bt −f−CH−C−汁− X、−Q。
al and a2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -CO
Represents -Coo-Zl via O4+ or a hydrocarbon (Zl represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group which may be substituted). ] General formula (Ila) b+ bt -f-CH-C-juice- X, -Q.

一般式(II b) a− (弐(IIa)又は(IIb)中、×1は弐(1)中の
Xoと同一の内容を表わす。Ω、は、炭素数1〜18の
脂肪族基又は炭素数6〜12の芳香族基を表わす。
General formula (II b) a- (2 In (IIa) or (IIb), x1 represents the same content as Xo in 2 (1). Ω is an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or Represents an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms.

bl、b2は、互いに同しでも、異なってもよく、式(
1)中の81、a2と同一の内容を表わす。
bl and b2 may be the same or different from each other, and are expressed by the formula (
81 in 1) represents the same content as a2.

Yは水素原子、ハロゲン原子、炭化水素基、アルコキシ
基又は−COOZz (Zzはアルキル基、アラルキル
基又はアリール基を示す)を表わす。]一般能代DI)
   c−c− C1l=C z  Qz 〔式(I[l)中、x2は、式(I)中(o X o 
ト同一)内容を表わし、Q2は式(I[a)中のQ、と
同一の内容を表わす。cl、C2は互いに同じでも異な
ってもよく、式(1)中のal、a2と同一の内容を表
わす。)結着樹脂〔B〕 : PO,82基、−COOH基、−5o、I(基、フェノ
ール性及び環状酸無水物含有基から選択される少なくと
も1つの酸性基を含有する重合体成分を少なくとも1種
含有するAブロックと、下記一般式(■)で示される重
合体成分を少なくとも含有するBブロックとから構成さ
れるA−Bブロック共重合体のBブロックの重合体主鎖
の末端に重合性二重結合基を結合して成る重量平均分子
量1×103〜2×104の一官能性マクロモノマー(
MB)を少なくとも1種共重合成分として含有して成る
重量平均分子量3X10’〜lXl0’のグラフト・型
共重合体。
Y represents a hydrogen atom, a halogen atom, a hydrocarbon group, an alkoxy group, or -COOZz (Zz represents an alkyl group, an aralkyl group, or an aryl group). ]General Noshiro DI)
c-c- C1l=C z Qz [In formula (I[l), x2 is (o X o
Q2 represents the same content as Q in formula (I[a)]. cl and C2 may be the same or different, and represent the same content as al and a2 in formula (1). ) Binder resin [B]: at least a polymer component containing at least one acidic group selected from PO, 82 groups, -COOH groups, -5o, I (groups), phenolic and cyclic acid anhydride-containing groups. Polymerized at the end of the polymer main chain of the B block of an A-B block copolymer composed of an A block containing one type of polymer component and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (■). A monofunctional macromonomer with a weight average molecular weight of 1 x 103 to 2 x 104 (
A graft type copolymer having a weight average molecular weight of 3X10' to 1X10' and containing at least one type of copolymerization component MB).

一般式(IV) d、   d。General formula (IV) d, d.

+CH−C)− 4Rz c式(IV)中、d、及びむは各々水素原子、ハロゲン
原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。x4はCOO
−−0CO−、(CH塘;0CO−、ガHη4C00C
1,,1,は1〜3の整数を表わす)、−〇Rz3  
  Rzx so、−−GO−1−CON−−5O2N−1−CON
HCOO水素原子又は炭化水素基を表わす)。
+CH-C)- 4Rz c In formula (IV), d and m each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group. x4 is COO
--0CO-, (CH塘;0CO-, GAHη4C00C
1,,1, represents an integer from 1 to 3), -〇Rz3
Rzx so, --GO-1-CON--5O2N-1-CON
HCOO represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group).

L+ は炭化水素基を表わす。但し×4が −◎を表わ
す場合、R2I は水素原子又は炭化水素基を表わす。
L+ represents a hydrocarbon group. However, when x4 represents -◎, R2I represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.

〕 即ち、本発明に供される結着樹脂は、−官能性マクロモ
ノマー(1’lA)と一般式(I[[)で表わされる単
量体とを少なくとも含有する低分子量のグラフト型共重
合体CA)と、上記特定の酸性基含有成分を含有するA
ブロックと上記の式(IV)で示される重合体成分を含
有するBブロックとのAB型共重合体のBブロックの重
合体主鎖末端に重合性二重結合基を結合して成る一官能
性マクロモノマー(MB)を共重合成分として少なくと
も1種含有するグラフト型共重合体から成る高分子量の
樹脂(B)とから少なくとも構成される。
] That is, the binder resin provided in the present invention is a low molecular weight graft type copolymer containing at least a -functional macromonomer (1'lA) and a monomer represented by the general formula (I [[)]. combined CA) and A containing the above specific acidic group-containing component
Monofunctionality formed by bonding a polymerizable double bond group to the polymer main chain end of the B block of an AB type copolymer of the block and the B block containing the polymer component represented by the above formula (IV) It is composed of at least a high molecular weight resin (B) consisting of a graft copolymer containing at least one macromonomer (MB) as a copolymerization component.

本発明の樹脂[A)に用いられるグラフト型共重合体は
、重合主鎖の片末端に−POsHz基、−SO,H1] H 同一の内容を表わす)から選ばれる極性基を1つ以上有
していてもよい(以下この樹脂CA’Jを、特に樹脂[
A′1  と称することもある)。
The graft copolymer used in the resin [A) of the present invention has one or more polar groups selected from -POsHz group, -SO, H1]H) at one end of the polymer main chain. (Hereinafter, this resin CA'J will be referred to as resin [
(Sometimes referred to as A'1).

更に、高分子量の樹脂CB〕としては、上記のマクロモ
ノマー(−B)のうちの少なくとも1種を含み、且つ下
記一般式(V)で表わされる重合体成分を含有して成る
グラフト型共重合体であることが好ましい。
Furthermore, as the high molecular weight resin CB], a graft type copolymer containing at least one of the above macromonomers (-B) and a polymer component represented by the following general formula (V) is used. Preferably, it is a combination.

一般式(V) dコ  d4 一+CH−Cト XS  R2! 〔式(V)中、d5、d4、X、及びR2Zは式(TV
)のd3、d2、X4及びR2+ とそれぞれ同様の内
容を表わす。〕 前述の如き従来公知の酸性基含有結着樹脂は主としてオ
フセントマスター用であって、膜強度保持による耐剛性
向上のためにその分子量は大きいものであり(例えば5
X10’以上)、且つこれらの共重合体はランダム共重
合体であり酸性基含有の共重合体成分は、重合体主鎖に
ランダムに存在しているものであった。
General formula (V) dco d4 1+CH-CtoXS R2! [In formula (V), d5, d4, X, and R2Z are the formula (TV
) respectively represent the same contents as d3, d2, X4 and R2+. ] The conventionally known acidic group-containing binder resins as mentioned above are mainly used for off-cent masters, and their molecular weights are large (for example, 5.
X10' or more), and these copolymers were random copolymers, and the acidic group-containing copolymer components were randomly present in the polymer main chain.

これに対し、本発明の結着樹脂で用いられる樹脂[A)
は、グラフト型共重合体であり、且つ樹脂中に含有され
る極性基が、重合体主鎖中にランダムに存在するもので
なく、重合体のグラフト部に含有された共重合体である
On the other hand, the resin [A] used in the binder resin of the present invention
is a graft copolymer, and is a copolymer in which the polar groups contained in the resin are not randomly present in the main chain of the polymer, but are contained in the graft portion of the polymer.

従って、重合体の主鎖から離れた特定の位置に存在する
極性基の部分が無機光導電体の化学量論的な欠陥に吸着
し、重合体の主鎖部分は、光導電体の表面をゆるやかに
且つ充分に被覆していると推定される。その事により、
光導電体のトラップを補償すると共に湿度特性を向上さ
せる一方、光導電体の分散が充分に行なわれ、凝集を抑
制するとともに、高温・高温から低温・低湿まで環境変
化が著しく変動しても安定した高性能の電子写真特性を
維持することが判った。そして樹脂〔B〕は、樹脂〔A
〕を用いたことによる上記電子写真特性の高性能を全く
阻害せずに、樹脂〔A〕のみでは不充分な光導電層の機
械的強度を充分ならしめるものである。特に半導体レー
ザーを用いたスキャニング露光方式を用いる場合に有効
である。
Therefore, the portion of the polar group present at a specific position away from the main chain of the polymer adsorbs to the stoichiometric defects of the inorganic photoconductor, and the main chain portion of the polymer covers the surface of the photoconductor. It is estimated that the coating is loose and sufficient. Due to that,
It compensates for traps in the photoconductor and improves humidity characteristics, while ensuring sufficient dispersion of the photoconductor, suppressing agglomeration, and being stable even when the environment changes significantly from high temperature/high temperature to low temperature/low humidity. It was found that high performance electrophotographic properties were maintained. And resin [B] is resin [A
The resin [A] can provide sufficient mechanical strength to the photoconductive layer, which is insufficient when using the resin [A] alone, without impairing the high performance of the electrophotographic properties described above. This is particularly effective when using a scanning exposure method using a semiconductor laser.

即ち、無機光導電体の結着樹脂として、樹脂〔A〕と樹
脂(B)を各々樹脂の重量平均分子量及びグラフト部の
構造、更には樹脂中に特定に含有された極性基の含有量
を特定化する事で、無機光導電体と樹脂との相互作用の
強さを変え、且つ樹脂(Alと樹脂〔B〕のポリマー分
子鎖の相互作用のし易さをも変える事ができる。そのこ
とにより低分子量で結果として極性基含有が多く、相互
作用のより強い樹脂〔A〕が選択的に無機光導電体に適
切に吸着し、且つ樹脂〔A〕のマクロモノマ−(MA)
成分(グラフト部)及び式(III)のモノマー成分(
主鎖部)の分子鎖が樹脂〔B〕の主鎖部の成分の分子鎖
と十分に相互作用し、更に樹1B)のマクロモノマー(
MB)成分(グラフト部)の分子鎖同志が十分に相互作
用し、いわゆるアンカー効果を示す。その結果、主とし
て樹脂〔A〕の作用で電子写真特性が著しく向上し、樹
脂〔B〕の作用で、更に光導電層の機械的強度が向上す
るものと推定される。樹脂(B)においては重合体主鎖
の特定の位置に結合した酸性基が電子写真特性を疎外し
ない程度に無機光導電体とゆるやかに相互作用すると推
定される。
That is, as the binder resin of the inorganic photoconductor, resin [A] and resin (B) are each selected based on the weight average molecular weight of the resin, the structure of the graft part, and the content of polar groups specifically contained in the resin. By specifying the properties, it is possible to change the strength of the interaction between the inorganic photoconductor and the resin, and also change the ease of interaction between the polymer molecular chains of the resin (Al and resin [B]). As a result, the resin [A], which has a low molecular weight, contains many polar groups, and has stronger interactions, is selectively and appropriately adsorbed to the inorganic photoconductor, and the macromonomer (MA) of the resin [A]
component (graft part) and monomer component of formula (III) (
The molecular chain of the main chain portion) sufficiently interacts with the molecular chain of the component of the main chain portion of the resin [B], and furthermore, the macromonomer (
The molecular chains of the MB) component (graft portion) sufficiently interact with each other and exhibit a so-called anchor effect. As a result, it is presumed that the electrophotographic properties are significantly improved mainly due to the action of the resin [A], and the mechanical strength of the photoconductive layer is further improved due to the action of the resin [B]. In the resin (B), it is presumed that the acidic group bonded to a specific position on the polymer main chain interacts gently with the inorganic photoconductor to the extent that the electrophotographic properties are not adversely affected.

また、本発明では、光導電層表面の平滑性が滑らかとな
る。電子写真式平版印刷原版として光導電層表面の平滑
性の粗らい感光体を用いると、光導電体である酸化亜鉛
粒子と結着樹脂の分散状態が適切でなく、凝集物が存在
する状態で光導電層が形成されるため、不感脂化処理液
による不感脂化処理をしても非画像部の親水化が均一に
充分に行なわれず、印刷時に印刷インキの付着を引き起
こし、結果として印刷物の非画像部の地汚れが生じてし
まう。
Further, in the present invention, the surface of the photoconductive layer has smoothness. When a photoreceptor with a rough photoconductive layer surface is used as an electrophotographic lithographic printing original plate, the dispersion state of the zinc oxide particles that are the photoconductor and the binder resin is not appropriate, and aggregates may be present. Because a photoconductive layer is formed, even if desensitization treatment is performed using a desensitization treatment liquid, the non-image areas cannot be made uniformly and sufficiently hydrophilic, causing printing ink to adhere during printing, and as a result, the printed matter deteriorates. Background stains occur in non-image areas.

本発明の樹脂を用いた場合無機光導電体と結着樹脂の吸
着・被覆の相互作用が適切に行われ、且つ光導電層の膜
強度が保持されるものである。
When the resin of the present invention is used, the adsorption/covering interaction between the inorganic photoconductor and the binder resin is properly performed, and the film strength of the photoconductive layer is maintained.

更に酸性基を重合体主鎖に連結する側鎖に含有するラン
ダム共重合体樹脂に比べて光感度が良好であることが判
った。
Furthermore, it was found that the photosensitivity was better than that of a random copolymer resin containing an acidic group in the side chain connecting to the main chain of the polymer.

通常可視光〜赤外光域に光感度を保有させるために用い
る分光増感色素は、光導電体に吸着することでその分光
増感作用が充分機能するものであることから、本発明の
共重合体を含有する結着樹脂は、分光増感色素の吸着を
阻害しないで光導電体と適切に相互作用するものと推定
される。この作用は、近赤外〜赤外光の分光増感用色素
として特に有効なシアニン色素あるいはフタロシアニン
系顔料で特に顕著な効果を示した。
The spectral sensitizing dye, which is normally used to maintain photosensitivity in the visible to infrared light range, fully functions its spectral sensitizing action when adsorbed to the photoconductor. It is assumed that the polymer-containing binder resin interacts appropriately with the photoconductor without inhibiting adsorption of the spectral sensitizing dye. This effect was particularly remarkable with cyanine dyes or phthalocyanine pigments, which are particularly effective as dyes for spectral sensitization of near-infrared to infrared light.

本発明における低分子量体の樹脂〔A〕のみを結着樹脂
として用いる場合にも、光導電体と結着樹脂が充分に吸
着し、粒子表面を被覆し得るため、光導電層の平滑性及
び静電特性においても良好で、しかも地汚れのない画質
が得られ、更に、CPC感光体あるいは数十枚の印刷枚
数のオフセント原版としては充分な膜強度が保有される
。しかし、ここで本発明の如く樹脂〔B〕を共存させる
ことで、樹脂〔A〕の機能を何ら疎外することなく樹脂
[A)のみではいまだ不充分な光導電層の機械的強度を
より向上させることができた。従って、本発明の感光体
は、環境条件が変動しても優れた静電特性を有し且つ、
膜強度も充分であり、過酷な印刷条件下(例えば大型印
刷機で印圧が強くなる場合など)でも最低7000枚の
印刷枚数が可能となった。
Even when only the low molecular weight resin [A] in the present invention is used as the binder resin, the photoconductor and the binder resin can sufficiently adsorb and coat the particle surface, which improves the smoothness of the photoconductive layer. It has good electrostatic properties, provides image quality without background smearing, and has sufficient film strength for use as a CPC photoreceptor or as an offset original plate for printing several tens of sheets. However, by coexisting resin [B] as in the present invention, the mechanical strength of the photoconductive layer, which is still insufficient with resin [A] alone, can be further improved without alienating the function of resin [A]. I was able to do it. Therefore, the photoreceptor of the present invention has excellent electrostatic properties even when environmental conditions vary, and
The film has sufficient strength, making it possible to print a minimum of 7,000 sheets even under harsh printing conditions (for example, when printing pressure is high with a large printing press).

更に、膜強度もより良好となり、耐剛性が向上する。Furthermore, the film strength is also improved, and rigidity resistance is improved.

樹脂〔A〕において、グラフト型共重合体の重量平均分
子量はlXIO3〜2X10’、好ましくは3X10’
〜1×104、該マクロモノマー(MA)の共重合成分
の存在割合は1〜80重置%、好ましくは5〜70重量
%、共重合体主鎖の末端に極性基が結合する場合におけ
る該極性基の共重合体中における存在の割合は0.5〜
15重量%、好ましくは1〜10重置%である。また、
樹脂〔A〕のガラス転移点は好ましくは一20°C〜1
20°C1より好ましくは一10°C〜90°Cである
In resin [A], the weight average molecular weight of the graft copolymer is 1XIO3 to 2X10', preferably 3X10'
~1×104, the proportion of copolymerized components of the macromonomer (MA) is 1 to 80% by weight, preferably 5 to 70% by weight, when a polar group is bonded to the end of the copolymer main chain. The proportion of polar groups in the copolymer is 0.5 to
15% by weight, preferably 1 to 10% by weight. Also,
The glass transition point of the resin [A] is preferably -20°C to 1
The temperature is more preferably -10°C to 90°C than 20°C.

さらに、樹脂〔A〕の分子量がlXl0’より小さくな
ると、皮膜形成能が低下し充分な膜強度が保てず、分子
量が2X10’より大きくなると本発明の樹脂であって
も電子写真特性(特に初期電位、暗減衰保持率)が劣化
するため好ましくない、特にかかる高分子量体の場合に
極性基含有量が3重量%を越えるとかかる電子写真特性
の劣化が著しく、オフセットマスターとして用いたとき
に地汚れが顕著となる。
Furthermore, if the molecular weight of the resin [A] is smaller than 1X10', the film forming ability will decrease and sufficient film strength cannot be maintained, and if the molecular weight is larger than 2X10', even the resin of the present invention has electrophotographic properties (especially Initial potential, dark decay retention rate) are deteriorated, which is undesirable. Particularly in the case of such high molecular weight materials, if the polar group content exceeds 3% by weight, the electrophotographic characteristics deteriorate significantly, and when used as an offset master. Ground stains become noticeable.

結着樹脂〔A〕における任意の極性基(任意の主鎖末端
極性基)含有量が0.5重量%より少ないと、初期電位
が低くて充分な画像濃度を得ることができない、一方該
酸性基含有量が15重量%よりも多いと、分散性が低下
し、膜平滑度及び電子写真特性の高温特性が低下し、更
にオフセットマスターとして用いるときに地汚れが増大
する。
If the content of any polar group (any polar group at the end of the main chain) in the binder resin [A] is less than 0.5% by weight, the initial potential will be low and sufficient image density cannot be obtained; When the group content is more than 15% by weight, the dispersibility decreases, film smoothness and high-temperature electrophotographic properties decrease, and furthermore, background smearing increases when used as an offset master.

本発明のグラフト型共重合体の樹脂〔A〕の共重合成分
として供せられる、−官能性マクロモノマー(1’lA
)について更に具体的に説明する。−官能性マクロモノ
マ−(MA)は、一般式(1)で示される重合性二重結
合基を、一般式(n a)及び(nb)で示される重合
体成分のうちの少なくとも1種と特定の極性基(−CO
OH蟇、−POJz基、−3o、H基、υH 分のうちの少なくとも1種とを含有する重合体主鎖の一
方の末端にのみ結合して成る、重量平均分子量2X10
’以下のものである。
The -functional macromonomer (1'lA
) will be explained in more detail. -Functional macromonomer (MA) specifies that the polymerizable double bond group represented by general formula (1) is at least one of the polymer components represented by general formulas (na) and (nb). polar group (-CO
OH group, -POJz group, -3O, H group, and at least one of υH group, which is bonded to only one end of the polymer main chain, and has a weight average molecular weight of 2×10
'It is the following.

一般式(1)、(I[a)及び(Ilb)において、a
3、azsXo、bl、b!、X3、Q、及びVに含ま
れる炭化水素基は各々示された炭素数(未置換の炭化水
素基としての)を有するが、これら炭化水素基は置換基
を有していてもよい。
In general formula (1), (I[a) and (Ilb), a
3, azsXo, bl, b! , X3, Q, and V each have the indicated number of carbon atoms (as an unsubstituted hydrocarbon group), but these hydrocarbon groups may have a substituent.

一般式(1) におイテ、X、は、−coo−1−OC
O−1CH,0CO−2−cozcoo−1−o−−s
o□−−CO−2CONIICOO−−CONHCON
B−1−CONH5OtP、は水素原子のほか、好まし
い炭化水素基としては、炭素数1〜18の置換されても
よいアルキル基(例えば、メチル基、エチル基、プロピ
ル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基
、デシル基、ドデシル基、ヘキサデシル基、オクタデシ
ル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2−
シアンエチル基、2−メトキシカルボニルエチル基、2
−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル基等)、炭素
数4〜18の置換されてもよいアルケニル基(例えば、
2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテニル基、2−
ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル基、1−ペ
ンテニル基、1−へキセニル蟇、2−へキセニル蟇、4
メチル−2−ヘキセニル基等)、炭素数7〜12の置換
されてもよいアラルキル基(例えば、ベンジル基、フェ
ネチル基、3−フェニルプロピル基、ナフチルメチル基
、2−ナフチルエチル基、クロロベンジル基、ブロモベ
ンジル基、メチルベンジル基、エチルベンジル基、メト
キシヘンシル基、ジメチルベンジル基、ジメトキシベン
ジル基等)、炭素数5〜8の置換されてもよい脂環式基
(例えば、シクロヘキシル基、2−シクロヘキシルエチ
ル基、2−シクロペンチルエチル基等)又は炭素数6〜
12の置換されてもよい芳香族基(例えば、フェニル基
、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プロピルフェニ
ル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニル基、ドデシ
ルフェニル基、メトキシフェニル基、エトキシフェニル
基、ブトキシフェニル基−、デシルオキシフェニル基、
クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブロモフェニ
ル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル基、メトキ
シカルボニルフェニル基、エトキシカルボニルフェニル
基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセトアミドフェ
ニル基、プロピオアミドフェニル基、ドブシロイルアミ
ドフェニル基等)があげられる。
General formula (1) Niite, X, -coo-1-OC
O-1CH,0CO-2-cozcoo-1-o--s
o□--CO-2CONIICOO--CONHCON
B-1-CONH5OtP is a hydrogen atom, and preferable hydrocarbon groups include an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, Hexyl group, octyl group, decyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-
cyanethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2
-methoxyethyl group, 3-bromopropyl group, etc.), an optionally substituted alkenyl group having 4 to 18 carbon atoms (for example,
2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl group, 2-
Pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group, 1-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4
methyl-2-hexenyl group, etc.), optionally substituted aralkyl groups having 7 to 12 carbon atoms (e.g., benzyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group) , bromobenzyl group, methylbenzyl group, ethylbenzyl group, methoxyhensyl group, dimethylbenzyl group, dimethoxybenzyl group, etc.), optionally substituted alicyclic groups having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2 -cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.) or carbon number 6 or more
12 optionally substituted aromatic groups (e.g., phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxy phenyl group, decyloxyphenyl group,
Chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dobcyroylamidophenyl group, etc. ) can be given.

xoが −〇  を表わす場合、ベンゼン環は置換基を
有してもよい、置換基としては、ハロゲン原子(例えば
塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル基
、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基、
メトキシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキシ
基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等が
挙げられる。
When xo represents -〇, the benzene ring may have a substituent. Examples of the substituent include a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), an alkyl group (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, Butyl group, chloromethyl group,
methoxymethyl group, etc.), alkoxy groups (eg, methoxy group, ethoxy group, propioxy group, butoxy group, etc.), and the like.

al及びa、は、互いに同しでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えば、メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
等) 、−coo−z、又は炭化水素を介したC00Z
+ (Z+は、好ましくは水素原子又は炭素数1〜18
のアルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基
またはアリール基を表わし、これらは置換されていても
よく、具体的には、上記P、について説明したものと同
様の内容を表わす)を表わす。
al and a may be the same or different from each other,
Preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), -coo-z , or C00Z via hydrocarbon
+ (Z+ is preferably a hydrogen atom or a carbon number of 1 to 18
represents an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, or aryl group, which may be substituted, and specifically represents the same content as explained for P above) .

上記炭化水素を介したーCoo−Z、基における炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon in the -Coo-Z group via the hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and the like.

更に好ましくは、一般式(1)について、XoはCOO
OCOCHzOCOCHzCOO−−0−−CONHC
OO−−CON)ICONB−−CONHに同じでも異
なってもよく、各々水素原子、メチル基、−cooz 
、又は−CHtCOOZ+ (Z+は、より好ましくは
水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキシル基笠)
を表わす、)を表わす。更により好ましくは、al、a
2においていずれか一方が水素原子を表わす。
More preferably, in general formula (1), Xo is COO
OCOCHzOCOCHzCOO--0--CONHC
OO--CON) ICONB--CONH may be the same or different, and each hydrogen atom, methyl group, -cooz
, or -CHtCOOZ+ (Z+ is more preferably a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hexyl group)
represents, ) represents. Even more preferably al, a
In 2, either one represents a hydrogen atom.

即ち、一般弐N)で表わされる重合性二重結合基として
、具体的には、 C11tCOOCH2cazcoou 等が挙げられる。
That is, specific examples of the polymerizable double bond group represented by 2N) include C11tCOOCH2cazcoou.

一般式(na )又は(II b)において、X、は弐
(1)中のxoと同一の内容を表わす。b2、b2は互
いに同しでも異なってもよく、式(1)中のa5、a2
と同一の内容を表わす。
In the general formula (na) or (IIb), X represents the same content as xo in 2 (1). b2 and b2 may be the same or different from each other, and a5 and a2 in formula (1)
represents the same content as .

Qlは、炭素数1〜18の脂肪族基又は炭素数6〜12
の芳香族基を表わす。
Ql is an aliphatic group having 1 to 18 carbon atoms or 6 to 12 carbon atoms
represents an aromatic group.

具体的には、炭素数1−18の置換されてもよいアルキ
ル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル
基、ヘプチル基、ヘキシル基、オクチル基、デシル基、
ドデシル基、トリデシル基、ヘキサデシル基、オクタデ
シル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエチル基、2
〜ヒドロキンルエチル基、2〜メトキシエチル基、2−
エトキシエチル基、2−シアノエチル基、3−クロロプ
ロピル基、2−()リメトキシシリル)エチル基、2−
テトラヒドロフリル基、2−チエニルエチル基、2−N
、〜ジメチルアミノエチル基、2−N、Nジエチルアミ
ノエチル基等)、炭素数5〜8のフロロアルキル基(例
えばシクロヘプチル基、シクロへキシル基、シクロオク
チル基等)、炭素数7〜12の置換されてもよいアラル
キル基(例えば、ヘンシル基、フェネチル基、3−フェ
ニルプロピル基、ナフチルメチル基、2−ナフチルエチ
ル基、クロロベンジル基、ブロモヘンシル基、ジクロロ
ヘンシル基、メチルベンジル基、クロロ−メチル−ベン
ジル基、ジメチルベンジル基、トリメチルベンジル基、
メトキシベンジル基等)等の脂肪族基、更に炭素数6〜
12の置換されてもよいアリール基(例えば、フェニル
基、トリル基、キシリル基、クロロフェニル基、ブロモ
フェニル基、ジクロロフェニル基、クロロ−メチル−フ
ェニル基、メトキシフェニル基、メトキシカルボニルフ
ェニル基、ナフチル基、クロロナフチル基等)等の芳香
族基が挙げられる。
Specifically, an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, a heptyl group, a hexyl group, an octyl group, a decyl group,
Dodecyl group, tridecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2
~Hydroquinlethyl group, 2~methoxyethyl group, 2-
Ethoxyethyl group, 2-cyanoethyl group, 3-chloropropyl group, 2-()rimethoxysilyl)ethyl group, 2-
Tetrahydrofuryl group, 2-thienylethyl group, 2-N
, ~dimethylaminoethyl group, 2-N,N diethylaminoethyl group, etc.), fluoroalkyl group having 5 to 8 carbon atoms (e.g. cycloheptyl group, cyclohexyl group, cyclooctyl group, etc.), fluoroalkyl group having 7 to 12 carbon atoms Aralkyl groups that may be substituted (e.g., hensyl group, phenethyl group, 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorobenzyl group, bromohensyl group, dichlorohensyl group, methylbenzyl group, chloro- Methyl-benzyl group, dimethylbenzyl group, trimethylbenzyl group,
aliphatic groups such as methoxybenzyl groups, etc., and furthermore, carbon atoms of 6 or more.
12 optionally substituted aryl groups (e.g., phenyl group, tolyl group, xylyl group, chlorophenyl group, bromophenyl group, dichlorophenyl group, chloro-methyl-phenyl group, methoxyphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, naphthyl group, Examples include aromatic groups such as chloronaphthyl group, etc.).

式(Ila)において、好ましくはX、は−COOOC
O−−−CH,C0(1−−co、oco−1−〇−G
O−−CON)ICOO−−CON)ICONH−−−
−CONHb3、b2の好ましい例は、前記したals
 atと同様の内容を表わす。
In formula (Ila), preferably X is -COOOC
O---CH, C0(1--co, oco-1-〇-G
O--CON)ICOO--CON)ICONH--
-CONHb3, preferable examples of b2 include the above-mentioned als
Represents the same content as at.

一般式(n b) ニおイテ、VバーCN、−CONH
2又ン原子(例えば塩素原子、臭素原子等)、炭化水素
基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基
、クロロメチル基、フェニル基等)、アルコキシ基(例
えばメトキシ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキ
シ基等)又は−COOZz (Zzは好ましくは炭素数
1〜8のアルキル基、炭素数7〜12のアラルキル基又
はアリール基を表わす)を表わす。
General formula (n b) Nioiite, V bar CN, -CONH
Bifurcated atoms (e.g. chlorine atom, bromine atom, etc.), hydrocarbon groups (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, phenyl group, etc.), alkoxy groups (e.g. methoxy group, ethoxy group, (propioxy group, butoxy group, etc.) or -COOZz (Zz preferably represents an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, an aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms, or an aryl group).

マクロモノマ−(MA)は、式(II a)及び/又は
(■b)で示される重合体成分を2種以上含有していて
もよい。又、Q、が脂肪族基の場合、炭素数6〜12の
脂肪族基は、マクロモノマー(MA)中の全重合体成分
中の20重量%を越えない範囲で用いる事が好ましい。
The macromonomer (MA) may contain two or more types of polymer components represented by formulas (IIa) and/or (■b). When Q is an aliphatic group, the aliphatic group having 6 to 12 carbon atoms is preferably used in an amount not exceeding 20% by weight of the total polymer component in the macromonomer (MA).

更には、一般式(Ila)におけるに1が−COO−で
ある場合には、マクロモノマー(MA)中の全重合体成
分中、弐(Ila)で示される重合体成分が少なくとも
301量%以上含有されることが好ましい。
Furthermore, when 1 in general formula (Ila) is -COO-, the polymer component represented by 2 (Ila) is at least 301% by weight of all the polymer components in the macromonomer (MA). Preferably, it is contained.

サラに、マクロモノマー(MA)において、式(IIa
)及び/又は(I[b)で示される共重合体成分ととも
にさらなる成分として共重合する、極性基(−COOH
基、−POJ、基、−SO,H4、−OH基、−P−1
+、基)を含H 有する成分としては、前記のマクロモノマー(MA)と
共重合し得る上記極性基を含有するビニル系化合物であ
ればいずれでも用いることができる。例えば、高分子デ
ータ「高分子データ・ハンドブック〔基fl1編]」培
風館(1986刊)等に記載されている。具体的には、
アクリル酸、α及び/又はβ置換アクリル#(例えばα
−アセトキシ体、α−アセトキ7メチル体、α(2−ア
ミノ)メチル体、α−クロロ体、α−ブロモ体、α−フ
ロロ体、α−トリブチルンリル体、α−シアノ体、β−
クロロ体、β−ブロモ体、β−フロロ体、β−メンキシ
体、α、β−ジクロロ体等)、メタクリル酸、イタコン
酸、イタコン酸半エステル類、イタコン酸半アミド類、
クロトン酸、2−アルケニルカルボキンtII類(例え
ば2−ペンテン酸、2〜メチル2−ヘキセン酸、2−オ
クテン酸、4−メチル−2−ヘキセン酸、4−エチル−
2−オクテン酸等)、マレイン酸、マレイン酸半エステ
ル類、マレイン酸半アミド類、ビニルベンゼンカルボン
酸、ビニルベンゼンスルホン酸、ビニルスルホン酸、ビ
ニルホスホ酸、ジカルボン酸類、アルコール類のビニル
基又はアリル基の半エステル誘導体、及びこれらのカル
ボン酸又はスルホン酸のエステル誘導体、アミド誘導体
の置換基中に該極性基を含有する化合物が挙げられる。
Generally speaking, in the macromonomer (MA), the formula (IIa
) and/or (I[b), which is copolymerized as a further component with the copolymer component denoted by
group, -POJ, group, -SO,H4, -OH group, -P-1
As the component containing H (+, group), any vinyl compound containing the polar group that can be copolymerized with the macromonomer (MA) can be used. For example, it is described in Kobunshi Data "Kobunshi Data Handbook [edited by Kifl1]" Baifukan (published in 1986). in particular,
Acrylic acid, α and/or β substituted acrylic # (e.g. α
-acetoxy form, α-acetoxy7methyl form, α(2-amino)methyl form, α-chloro form, α-bromo form, α-fluoro form, α-tributylinyl form, α-cyano form, β-
chloro form, β-bromo form, β-fluoro form, β-menxy form, α, β-dichloro form, etc.), methacrylic acid, itaconic acid, itaconic acid half esters, itaconic acid half amides,
Crotonic acid, 2-alkenyl carboxyne tII (e.g. 2-pentenoic acid, 2-methyl-2-hexenoic acid, 2-octenoic acid, 4-methyl-2-hexenoic acid, 4-ethyl-
(2-octenoic acid, etc.), maleic acid, maleic acid half esters, maleic acid half amides, vinylbenzenecarboxylic acid, vinylbenzenesulfonic acid, vinylsulfonic acid, vinylphosphonic acid, dicarboxylic acids, vinyl or allyl groups of alcohols and half-ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, ester derivatives of these carboxylic acids or sulfonic acids, and compounds containing the polar group in the substituent of amide derivatives.

示し、kは2〜5の整数を示し、hは1〜4の整数を示
し、iは1〜12の整数を示す。
k represents an integer of 2 to 5, h represents an integer of 1 to 4, and i represents an integer of 1 to 12.

H では、式(I[a)中のΩ、にて前記したと同一の炭化
水素基を挙げることができる。 ON基としては、ビニ
ル基又はアリル基含有のアルコール類(例えばアリルア
ルコール、メタクリル酸エステル、アクリルアミド等の
エステル置換基、N−置換基中に−OH基を含有する化
合物等)、ヒドロキシフェノール又はヒドロキシフェニ
ル基を置換基として含有するメタクリル酸エステルもし
くはアミド類を挙げることができる。
Examples of H 2 include the same hydrocarbon groups as mentioned above for Ω in formula (I[a)]. Examples of the ON group include vinyl group- or allyl group-containing alcohols (for example, allyl alcohol, ester substituents such as methacrylic acid ester, acrylamide, etc., compounds containing an -OH group in the N-substituent, etc.), hydroxyphenol, or hydroxyl group. Examples include methacrylic acid esters or amides containing a phenyl group as a substituent.

例えば以下に挙げられる単量体が例として示されるが、
本発明の範囲はこれらに限定されるものではない。
For example, the following monomers are shown as examples,
The scope of the present invention is not limited thereto.

ここで、以下の各側において、aは−H1−CH3、−
CI、−Br 、−CN 、 −CHxCOOCHs又
は−Cl zcoonを示し、bは−H又は−CH5を
示し、jは2〜18の整数を(A−2) CH= CH OOH CONHC)I CHICool( (A−13) CL=CH CI(!0CO(CHり、C00H (A−17) CJl、=C CH COOCHzCHCHzooC(CHz) IC0OH
CH2=C COO(CHz) jOCOCH= CHC00H(A
−19) (A−24) 0■ (A−25) CHf=C Coo(CHz)J O−P−C,H5 CH (A−26) CH (^−27) (A−20) (A−30) (A−31) (A−43) CHs CH= tut Coo(CHi)JOH (A−46) (A−38) (A−40) (A−41) (A−47) (A−48) coz=c C)1.01( 0NHCH C11,OH (八−52) (A−53) (A−56) CL=C C0NHCOO(CL) 、OH OH CH,=C C00(C)1f)icOO(clfり、01(マクロ
モノマー(MA)中の全重合体成分中、該極性基を含有
する共重合体成分として含有される量は、全重合体成分
100重量部当り好ましくは0.5〜50重量部、より
好ましくは1〜40重量部である。
Here, on each side below, a is -H1-CH3, -
CI, -Br, -CN, -CHxCOOCHs or -Clzcoon, b represents -H or -CH5, j represents an integer from 2 to 18 (A-2) CH= CH OOH CONHC) I CHI Cool ( ( A-13) CL=CH CI(!0CO(CHri, C00H (A-17) CJl, =C CH COOCHzCHCHzooC(CHz) IC0OH
CH2=C COO(CHz) jOCOCH= CHC00H(A
-19) (A-24) 0 ■ (A-25) CHf=C Coo (CHz) J O-P-C, H5 CH (A-26) CH (^-27) (A-20) (A- 30) (A-31) (A-43) CHs CH= tut Coo (CHi) JOH (A-46) (A-38) (A-40) (A-41) (A-47) (A-48 ) coz=c C)1.01( 0NHCH C11,OH (8-52) (A-53) (A-56) CL=C C0NHCOO(CL) ,OH OH CH,=C C00(C)1f)icOO (clf, 01) The amount contained as the copolymer component containing the polar group in the total polymer components in the macromonomer (MA) is preferably 0.5 to 100 parts by weight per 100 parts by weight of the total polymer components. It is 50 parts by weight, more preferably 1 to 40 parts by weight.

これら極性基含有のランダム共重合体から構成される一
官能性マクロモノマーが共重合成分として樹脂〔A〕中
に含有された時に、樹脂〔A〕中の全グラフト部に含有
される該極性基の含有成分の総量は、樹脂〔A〕中の全
重合体成分100重量部当り0.1〜10重量部含有さ
れる事が好ましい。
When the monofunctional macromonomer composed of these polar group-containing random copolymers is contained in the resin [A] as a copolymerization component, the polar groups contained in all the graft parts in the resin [A] It is preferable that the total amount of the components is 0.1 to 10 parts by weight per 100 parts by weight of all polymer components in the resin [A].

更に好ましくは、−COOHP!E、−5(hH基及び
−Poll(。
More preferably -COOHP! E, -5(hH group and -Poll(.

基から選ばれる酸性基を含有する場合には、樹脂CAJ
中、グラフト部に存在する総量は0.1〜5重量%であ
る。
When containing an acidic group selected from the group, the resin CAJ
Among them, the total amount present in the graft portion is 0.1 to 5% by weight.

マクロモノマー(MA)中の重合体成分として、これら
以外の他の重合体成分を含をしてもよく、例えば重合し
うる他の繰り返し単位に相当する単量体として、アクリ
ロニトリル、メタクリロニトリル、アクリルアミド類、
メタクリルアミド類、スチレン及びその誘導体(例えば
ビニルトルエン、クロロスチレン、ジクロロスチレン、
ブロモスチレン、ヒドロキシメチルスチレン、N、N−
ジメチルアミノメチルスチレン等)、複素環ビニル類(
例えばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピ
ロリドン、ビニルチオフェン、ビニルビラソール、ビニ
ルジオキサン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
The polymer component in the macromonomer (MA) may include other polymer components other than these, for example, monomers corresponding to other repeating units that can be polymerized include acrylonitrile, methacrylonitrile, acrylamides,
Methacrylamides, styrene and its derivatives (e.g. vinyltoluene, chlorostyrene, dichlorostyrene,
Bromostyrene, hydroxymethylstyrene, N, N-
dimethylaminomethylstyrene, etc.), heterocyclic vinyls (
Examples include vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylvirasol, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.).

これら他の単量体が含有される場合には、マクロモノマ
ー(MA)の全重合体成分100重量部当り1〜20重
量部であることが好ましい。
When these other monomers are contained, it is preferably 1 to 20 parts by weight per 100 parts by weight of the total polymer component of the macromonomer (MA).

本発明において供されるマクロモノマーは、上述の如き
、一般式(Ila)及び/又は(II b)で示される
繰返し単位及び特定の極性基を含有する繰り返し単位か
ら少なくとも成るランダムな重合体主鎖の一方の末端に
のみ、一般式(1)で示される重合性二重結合基が、直
接結合するか、あるいは、任意の連結基で結合された化
学構造を有するものである。弐(I)成分と式(Ila
)もしくは(Ilb)成分又は極性基含有成分とを連結
する連結基としては、炭素−炭素結合(−重結合あるい
は二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子とし
ては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素
原子等)、ヘテロ原子−ヘテロ原子結合の原子団の任意
の組合せで構成されるものである。
The macromonomer provided in the present invention is a random polymer main chain consisting of at least a repeating unit represented by the general formula (Ila) and/or (IIb) and a repeating unit containing a specific polar group, as described above. has a chemical structure in which a polymerizable double bond group represented by general formula (1) is directly bonded to only one end of the bonding group or bonded to one end thereof by an arbitrary linking group. 2 (I) component and formula (Ila
) or (Ilb) component or a polar group-containing component, carbon-carbon bonds (-multiple bonds or double bonds), carbon-heteroatom bonds (heteroatoms include, for example, oxygen atoms, (sulfur atom, nitrogen atom, silicon atom, etc.), and any combination of atomic groups of heteroatom-heteroatom bonds.

〔R1□、R1,は水素原子、ハロゲン原子(例えば、
フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)、ンアノ蟇、ヒド
ロキソル基、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、
プロピル基等)等を示す]、)■4 R14 おり、水素原子、前記式(I[a)におけるQ、と同様
の内容を表わす炭化水素基等を示す〕等の原子団から選
ばれた単独の連結基もしくは任意の組合せで構成された
2以上の連結基を表わす。
[R1□, R1, is a hydrogen atom, a halogen atom (for example,
fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), hydroxol group, alkyl group (e.g. methyl group, ethyl group,
a hydrogen atom, a hydrogen atom, a hydrocarbon group having the same content as Q in the above formula (I[a)], )■4 R14 A single element selected from atomic groups such as represents a linking group or two or more linking groups composed of an arbitrary combination.

マクロモノマー(MA)の重量平均分子量が2X10’
を超えると、モノマーとの共重合性が低下するため好ま
しくない。他方、重量平均分子量が小さすぎると、感光
層の電子写真特性の向上効果が小さくなるため、lXl
0’以上であることが好ましい。
The weight average molecular weight of the macromonomer (MA) is 2X10'
Exceeding this is not preferable because the copolymerizability with the monomer decreases. On the other hand, if the weight average molecular weight is too small, the effect of improving the electrophotographic properties of the photosensitive layer will be small;
It is preferable that it is 0' or more.

本発明に供されるマクロモノマー(MA)は、従来公知
の合成力によって製造することができる。具体的には、
分子中に、カルボキシル基、カルボキシハライド基、ヒ
ドロキシル基、アミノ基、ハロゲン原子、エポキシ基等
の反応性基を含有した重合開始剤及び/又は連鎖移動剤
を用いて、ラジカル重合して得られる末端反応性基結合
のオリゴマーと種々の試薬を反応させて、マクロモノマ
ーにするラジカル重合法による方法等により合成される
The macromonomer (MA) used in the present invention can be produced by conventionally known synthetic methods. in particular,
Terminals obtained by radical polymerization using a polymerization initiator and/or chain transfer agent containing a reactive group such as a carboxyl group, a carboxyhalide group, a hydroxyl group, an amino group, a halogen atom, or an epoxy group in the molecule. It is synthesized by a method such as a radical polymerization method in which a reactive group-bonded oligomer is reacted with various reagents to form a macromonomer.

具体的には、P、Dreyfuss & R,P、Qu
irk、 Encycl。
Specifically, P, Dreyfuss & R, P, Qu
irk, Encycl.

Po1ytSci、[ing、、l、 551 (19
87)、P、F、Re+*pp。
PolytSci, [ing,,l, 551 (19
87), P, F, Re+*pp.

E、FrantaSAdu、 Polym、Sci、 
58.1 (1984)、用上雄資、化学工業、詳、5
6(1987)、山下雄也、高分子、■、988(19
82)、小林四部、高分子、皿、伊藤浩−1高分子加工
、■、262 (1986)、東貴四部、津田隆、機能
材料、坦鉦 No、10.5等の総説及びそれに引例の
文献・特許等に記載の方法に従って合成することができ
る。
E, Franta SAdu, Polym, Sci.
58.1 (1984), Yuji Yogami, Chemical Industry, details, 5
6 (1987), Yuya Yamashita, Polymer, ■, 988 (19
82), Yobe Kobayashi, Polymers, Dishes, Hiroshi Ito-1 Polymer Processing, ■, 262 (1986), Yobe Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, Tangon No. 10.5, etc. review and references thereto. It can be synthesized according to methods described in literature, patents, etc.

但し、本発明のマクロモノマー(MA)は、その繰り返
し単位の成立として該極性基を含有している事から、合
成上、例えば次の配慮をして合成される。
However, since the macromonomer (MA) of the present invention contains the polar group as a constituent of its repeating unit, it is synthesized with the following considerations in mind, for example.

その1つの方法としては、例えば反応式(1)で示され
る様に、該酸性基を保護した官能基の形で含有する単量
体を用いて上記の方法でラジカル重合及び末端反応性基
を導入するものである。
One method is, for example, as shown in reaction formula (1), using a monomer containing the acidic group in the form of a protected functional group, and carrying out radical polymerization and terminal reactive group formation using the above method. This is to be introduced.

反応式(1) 串回 ニーC0OHの保護基;例えば−C(C6H5)
3、本発明に供せられるマクロモノマー(MA)中にラ
ンダムに含有される該極性基( S(hH基、−POJz基、 加水分解 H 脱保護反応(例えば加水分解反応、加水素分解反応、酸
化分解反応等)については、従来公知の方法により行な
うことができる。具体的には、J、F。
Reaction formula (1) Protecting group for nee C0OH; e.g. -C(C6H5)
3. The polar groups randomly contained in the macromonomer (MA) provided in the present invention (S (hH group, -POJz group, hydrolysis H deprotection reaction (e.g. hydrolysis reaction, hydrolysis reaction, Oxidative decomposition reactions, etc.) can be carried out by conventionally known methods.Specifically, J, F.

W、McOmie、   “Protective  
Gvoups  in  Organic  Chem
istry 、 Plenus Press (197
3年) 、T、W、Greene。
W. McOmie, “Protective
Gvoups in Organic Chem
istry, Plenus Press (197
3 years), T., W., Greene.

”Protective Gvoups in Org
anic 5ynthesis”John Wiley
 & 5ous  (1981年)、小田良平r高分子
ファインケミカル」講談社(1976年)、岩倉義勇、
栗田恵輔「反応性高分子」講談社(1977年)、G、
Berner  etal  s  J、Radiat
ion  Curing、 1986、No、IO、P
lo 、特開昭62−212669号、特開昭6228
6064号、特開昭62−210475号、特開昭62
−195684号、特開昭62−258476号、特開
昭63−260439号、特願昭62−220510号
、特願昭62−226692号等に記載の方法を用いて
合成する事ができる。
”Protective Gvoups in Org
anic 5ynthesis"John Wiley
& 5ous (1981), Ryohei Oda's "Polymer Fine Chemicals" Kodansha (1976), Yoshiyu Iwakura,
Keisuke Kurita "Reactive Polymer" Kodansha (1977), G.
Berner et al s J, Radiat.
ion Curing, 1986, No. IO, P.
lo, JP-A-62-212669, JP-A-6228
No. 6064, JP-A-62-210475, JP-A-62
It can be synthesized using the methods described in Japanese Patent Application No. 195684, Japanese Patent Application Laid-open No. 62-258476, Japanese Patent Application Publication No. 63-260439, Japanese Patent Application No. 62-220510, Japanese Patent Application No. 62-226692, etc.

他の1つの方法としては、例えば反応式(n)で示され
る様に、前記の様にしてオリゴマーを合成した後、オリ
ゴマーの片末端に結合した「特定の反応性基」とオリゴ
マー中に含有される該極性基との反応性の差を利用して
、「特定の反応性」とのみ反応する重合二重結合性基含
有の試薬と反応させることで合成する方法である。
As another method, for example, as shown in reaction formula (n), after synthesizing an oligomer as described above, a "specific reactive group" bonded to one end of the oligomer and a This is a synthesis method that takes advantage of the difference in reactivity with the polar group and reacts it with a reagent containing a polymerizable double bonding group that reacts only with "specific reactivity."

反応式(n) CH。Reaction formula (n) CH.

反応式(n)に示した欅に、各特定の官能基の組合せに
ついての具体例を表−Aに示すと次の如くなる。しかし
、本発明はこれらに限定されるものでなく、重要なこと
は通常の有機化学反応における反応の選択性を利用する
ことで、オリゴマー中の該極性基を保護することなくマ
クロモノマー化が達成されればよいものである。
Table A shows specific examples of combinations of specific functional groups in Keyaki shown in Reaction Formula (n) as follows. However, the present invention is not limited thereto, and the important thing is that macromonomerization can be achieved without protecting the polar groups in the oligomer by utilizing the reaction selectivity in ordinary organic chemical reactions. It would be good if it were done.

8部     C00Q、   C00CIIオco、
onC部 表 用いることのできる連鎖移動側としては、例えば該極性
基あるいは、後に該極性基に誘導しうる置換基含有のメ
ルカプト化合物(例えばチオグリコール酸、チオリンゴ
酸、チオサリチル酸、2−メルカプトプロピオン酸、3
−メルカプトプロとオン酸、3−メルカプト醋酸、N−
(2−メルカプトプロピオニル)グリシン、2−メルカ
プトニコチン酸、3− (N−(2−メルカプトエチル
)カルバモイル〕プロピオン酸、3−(N−(2メルカ
プトエチル)アミン〕プロピオン酸、N(3−メルカプ
トプロピオニル)アラニン、2メルカプトエタンスルホ
ン酸、3−メルカトブタンスルホン酸、4−メルカプト
ブタンスルホン酸、2−メルカプトエタノール、3−メ
ルカプト−1,2−プロパンジオール、1−メルカプト
−2−プロパツール、3−メルカプト−2−ブタノール
、メルカプトフェノール、2−メルカプトエチルアミン
、2−メカルブトイミダゾール、2−メルカプト−3−
ビリジノール等)又はこれらメルカプト化合物の酸化体
であるジスルフィド化合物、あるいは上記極性基又は置
換基含有のヨード化アルキル化合物(例えばヨード酢酸
、ヨードプロピオン酸、2−ヨードエタノール、2−ヨ
ードエタンスルホン酸、3−ヨードプロパンスルホン酸
等)等が挙げられる。好ましくはメルカプト化合物が挙
げられる。
Part 8 C00Q, C00CII co,
As the chain transfer side that can be used in the onC section, for example, the polar group or a mercapto compound containing a substituent that can be later induced into the polar group (for example, thioglycolic acid, thiomalic acid, thiosalicylic acid, 2-mercaptopropionic acid) ,3
-Mercaptopro and onic acid, 3-mercaptoacetic acid, N-
(2-mercaptopropionyl)glycine, 2-mercaptonicotinic acid, 3-(N-(2-mercaptoethyl)carbamoyl]propionic acid, 3-(N-(2-mercaptoethyl)amine)propionic acid, N(3-mercapto propionyl)alanine, 2-mercaptoethanesulfonic acid, 3-mercaptobutanesulfonic acid, 4-mercaptobutanesulfonic acid, 2-mercaptoethanol, 3-mercapto-1,2-propanediol, 1-mercapto-2-propatol, 3-mercapto-2-butanol, mercaptophenol, 2-mercaptoethylamine, 2-mecarbutoimidazole, 2-mercapto-3-
pyridinol, etc.) or disulfide compounds which are oxidized products of these mercapto compounds, or iodized alkyl compounds containing the above polar groups or substituents (e.g. iodoacetic acid, iodopropionic acid, 2-iodoethanol, 2-iodoethanesulfonic acid, -iodopropanesulfonic acid, etc.). Preferred are mercapto compounds.

用いることのできる特定の反応性基含有の重合開始剤と
しては、例えば、2.2′−アゾビス(2−シアツブロ
バノール)、2.2′−アゾビス(2−シアノベンタノ
ール)、4.4′−アゾビス(4−シーアノ吉草MI)
、4.4′−アゾビス(4−シアノ吉草酸クロライド)
、2,2′−アゾビス〔2−(5−メチル−2−イミダ
プリン−2−イル)プロパン〕、2.2′−アゾビス(
2−(2−イミダシリン−2−イル)プロパン)、2.
2’−アゾビス[2−(3,4,5,6−テトラヒドロ
ピリミジン−2−イル)プロパン〕、2.2′−アゾビ
ス(2−(1−(2−ヒドロキシエチル)−2−イミダ
シリン−2−イル〕プロパン)、2,2′−アゾビス〔
2−メチル−N−(2−ヒドロキシエチル)−プロピオ
ンアミド〕等又はこれらの誘導体等が挙げられる。
Specific reactive group-containing polymerization initiators that can be used include, for example, 2.2'-azobis(2-cyatuburobanol), 2.2'-azobis(2-cyanobentanol), 4.4 '-Azobis (4-Shiano Valerian MI)
, 4.4'-azobis(4-cyanovaleric acid chloride)
, 2,2'-azobis[2-(5-methyl-2-imidapurin-2-yl)propane], 2,2'-azobis(
2-(2-imidacillin-2-yl)propane), 2.
2'-azobis[2-(3,4,5,6-tetrahydropyrimidin-2-yl)propane], 2'-azobis(2-(1-(2-hydroxyethyl)-2-imidacylin-2 -yl]propane), 2,2'-azobis[
2-methyl-N-(2-hydroxyethyl)-propionamide] or derivatives thereof.

これら連鎖移動剤あるいは重合開始剤は、各々全単量体
100重量部にたいして0.1〜15重量%であり、好
ましくは0.5〜10重量%である。
The amount of these chain transfer agents or polymerization initiators is 0.1 to 15% by weight, preferably 0.5 to 10% by weight, based on 100 parts by weight of the total monomers.

本発明のマクロモノマー(MA)は、具体的には、下記
の化合物を例として挙げることができる。但し、本発明
の範囲は、これらに限定されるものではない。また、以
下の各側において、bは−H又はCH3を示し、dは−
H1〜CH,又は−CHzCOOCHrを示し、Rは−
C,,)ILy++I (nは1〜18の整数を示す)
、−Br 、−CH5、−COC)13又は−COOC
H3を示す)、紳、は−CN 、 −0COCHs 、
−CONHz又は−cansを示し、112は−CI、
 −Br 、−CN又は−〇CHzを示し、eは2〜1
8の整数を示し、fは2〜12の整数を示し、gは2〜
4の整数を示す。
Specific examples of the macromonomer (MA) of the present invention include the following compounds. However, the scope of the present invention is not limited to these. In addition, on each side below, b represents -H or CH3, and d represents -
H1~CH, or -CHzCOOCHr, R is -
C,,)ILy++I (n represents an integer from 1 to 18)
, -Br, -CH5, -COC)13 or -COOC
H3), Gen, -CN, -0COCHs,
-CONHz or -cans, 112 is -CI,
-Br, -CN or -○CHz, e is 2 to 1
represents an integer of 8, f represents an integer of 2 to 12, and g represents an integer of 2 to 12.
Indicates an integer of 4.

(MA−1) (MA−5) (MA−2) (MA−6) H (MA−3) (MA−7) (MA−4) (MA−9) (MA (門A (阿A (MA (MA 0OR COO(CHz)−08 H (MA−14) (MA−15) (門A−19) (MA−22) 率Coo(CHりtoco(CH2)、COOH(MA
−23) b (MA−26) (MA−24) (MA−25) 傘−Coo(CHり、0)f 他方、前記したマクロモノマー(MA)と共重合する単
量体は一般式(I[[)で示される。式(I[l)にお
いて、CI、Ctは互いに同じでも異なってもよく、式
(1)の81、a2と同一の内容を表わす、X2は式(
I[a)中のxlと、Q2は式(I[a)中の01と各
々同一の内容を表わす。
(MA-1) (MA-5) (MA-2) (MA-6) H (MA-3) (MA-7) (MA-4) (MA-9) (MA (Mon A (A) MA (MA 0OR COO(CHz) -08 H (MA-14) (MA-15) (A-19) (MA-22) Rate Coo(CH toco(CH2), COOH(MA
-23) b (MA-26) (MA-24) (MA-25) Umbrella-Coo (CH, 0) f On the other hand, the monomer copolymerized with the macromonomer (MA) described above has the general formula (I [Indicated by parentheses. In formula (I[l), CI and Ct may be the same or different from each other and represent the same content as 81 and a2 in formula (1), and X2 is represented by formula (
xl in I[a) and Q2 each represent the same content as 01 in formula (I[a)].

本発明の樹脂において、マクロモノマー(MA)を繰り
返し単位とする共重合成分と、−1式(I[l)で示さ
れる単量体を繰り返し単位とする共重合成分の組成比は
、好ましくは5〜70/95〜30(重量組成比)、よ
り好ましくは10〜60/90〜40重量組成比である
In the resin of the present invention, the composition ratio of the copolymerization component having a macromonomer (MA) as a repeating unit and the copolymerization component having a repeating unit of a monomer represented by formula -1 (I[l) is preferably The weight composition ratio is 5-70/95-30, more preferably 10-60/90-40.

又、重合体主鎖中には、−POsH*基、−5O3H基
、−COOHM及び−PO3R1基の極性基を含有する
共重合成分を含有しないものが好ましい。
Further, it is preferable that the main chain of the polymer does not contain a copolymer component containing polar groups such as -POsH* group, -5O3H group, -COOHM, and -PO3R1 group.

また、本発明の樹脂〔A〕は、前記したマクロモノマー
(MA)及び一般式(III)の単量体とともにこれら
以外の単量体を更なる共重合成分として含有してもよい
Further, the resin [A] of the present invention may contain monomers other than these as further copolymerization components together with the above-mentioned macromonomer (MA) and the monomer of general formula (III).

例えば、α−オレフィン類、アルカン酸ビニル又はアリ
ルエステル類、アクリロニトリル、メタクリロニトリル
、ビニルエーテル類、アクリルアミド類、メタクリルア
ミド類、スチレン類、複素環ビニルIt(例えば、ビニ
ルピロリドン、ビニルピリジン、ビニルイミダゾール、
ビニルチオフェン、ビニルイミダシリン、ビニルピラゾ
ール、ビニルジオキサン、ビニルキノリン、ビニルチア
ゾール、ビニルオキサジン等)等が挙げられる。
For example, α-olefins, vinyl alkanoates or allyl esters, acrylonitrile, methacrylonitrile, vinyl ethers, acrylamides, methacrylamides, styrenes, heterocyclic vinyl It (e.g., vinylpyrrolidone, vinylpyridine, vinylimidazole,
vinylthiophene, vinylimidacilline, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinylquinoline, vinylthiazole, vinyloxazine, etc.).

ただし、マクロモノマー(MA)及び式(III)の単
量体以外のこれら他の単量体は、共重合体中20重量%
を越えることはない。
However, the amount of these other monomers other than the macromonomer (MA) and the monomer of formula (III) is 20% by weight in the copolymer.
It never exceeds.

本発明のグラフト共重合体において、マクロモノマ−(
MA)に相当する共重合成分が1重量%以下となると、
感光層塗布物としての分散が充分に行なわれなくなって
しまう、又80重量%を越えると、一般式(III)の
重合体との共重合が充分に進行しなくなり、所望のグラ
フト共重合体以外に一般式(m)の単量体あるいは他の
単量体のみの重合体が形成してしまうため好ましくない
。更には、これらの樹脂を用いて分散すると、光導電体
との凝集が発生してしまう。
In the graft copolymer of the present invention, the macromonomer (
When the copolymerization component corresponding to MA) is 1% by weight or less,
If the amount exceeds 80% by weight, the copolymerization with the polymer of general formula (III) will not proceed sufficiently, resulting in a non-desired graft copolymer. This is not preferable because a polymer consisting only of the monomer of general formula (m) or other monomers is formed. Furthermore, when these resins are used for dispersion, aggregation with the photoconductor occurs.

更に、樹脂〔A〕は、一般式(III)で示される繰り
返し単位を少なくとも1種及びマクロモノマーで示され
る繰返し単位を少なくとも1M含有する重合体主鎖の片
末端にのみ、−PChHz基、−3o31(基、及び−
COOH基、−OH基及び−P−R,基から選H ばれる少なくとも一種の酸極基を結合して成る共重合体
(樹脂(A’))であってもよい。また共重合体〔A〕
と〔A′〕を併用してもよい、ここで、L。
Furthermore, the resin [A] contains a -PChHz group, - 3o31 (group, and -
It may also be a copolymer (resin (A')) formed by bonding at least one type of acid pole group selected from COOH groups, -OH groups, and -P-R groups. Also copolymer [A]
and [A'] may be used together, where L.

金成分において前記したOH基、−P−R,基と同様H の内容を表わす。また該極性基は重合体主鎖の一方の末
端に直接結合するか、あるいは任意の連結基を介して結
合した化学構造を有する。
It represents the content of H as in the above-mentioned OH group, -P-R, group in the gold component. Further, the polar group has a chemical structure in which it is directly bonded to one end of the polymer main chain or bonded via an arbitrary linking group.

結合基としては炭素−炭素結合(−重結合あるいは二重
結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子としては例
えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ素原子等
)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任意の組合
わせで構成されるも11m のである0例えば、+C→−1−(CH=CH→、R1
雫 −C−−−N  −−−COO−−5o□ −−CON
  −R2゜                   
Rz。
Bonding groups include carbon-carbon bonds (-double bonds or double bonds), carbon-hetero atom bonds (hetero atoms include, for example, oxygen atoms, sulfur atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, etc.), and hetero atoms-hetero atoms. 11m is composed of any combination of atomic groups of atomic bonds. For example, +C→-1-(CH=CH→, R1
Shizuku-C---N ---COO--5o□ --CON
−R2゜
Rz.

(Ls−Rz。は各々前記+1+z〜R14と同一の内
容を示す)等から選ばれる原子団の単独あるいは2以上
の組合せで構成される連結基である。
(Ls-Rz. each has the same contents as +1+z to R14), etc., is a linking group composed of a single atomic group or a combination of two or more.

本発明に供される樹脂〔A〕において、重合体主鎖の末
端に該極性基を結合して成る樹脂〔A′〕を合成するに
は、少なくとも前記したマクロモノマー(MA)と一般
式(I[l)で示される単量体との重合反応時に、該極
性基又はこれに誘導できる特定の反応基を分子中に含有
した重合開始剤又は連鎖移動剤を併用することで達成さ
れる。
In the resin [A] used in the present invention, in order to synthesize the resin [A'] in which the polar group is bonded to the terminal of the polymer main chain, at least the macromonomer (MA) described above and the general formula ( This can be achieved by concurrently using a polymerization initiator or chain transfer agent containing the polar group or a specific reactive group that can be derived therefrom in the molecule during the polymerization reaction with the monomer represented by I[l).

具体的には、マクロモノマーの合成において前記した様
に片末端反応基結合のオリゴマーの方法と同様にして得
ることができる。
Specifically, it can be obtained in the same manner as the method for oligomers bonded with a reactive group at one end as described above in the synthesis of macromonomers.

本発明の結着樹脂は、上記の如き樹脂〔A〕(樹脂〔A
′〕を含む)を2種以上含有していてもよい。
The binder resin of the present invention is the resin [A] (resin [A]) as described above.
) may contain two or more types.

一方、樹脂(B)において重量平均分子量3×104〜
I XIO’ 、好ましくは5X10’〜5X10’で
ある。
On the other hand, in resin (B), the weight average molecular weight is 3 x 104 ~
I XIO', preferably 5X10' to 5X10'.

A−B型ブロンク共重合体成分からなる一官能性マクロ
モノマーの重合体中における存在割合は、好ましくは、
1〜60重量%で、より好ましくは5〜50重量%であ
る。更に、一般式(V)で示される重合体成分の存在割
合は、好ましくは40〜99重量%で、より好ましくは
50〜95重量%である。
The proportion of the monofunctional macromonomer comprising the A-B type bronc copolymer component in the polymer is preferably as follows:
The content is 1 to 60% by weight, more preferably 5 to 50% by weight. Furthermore, the proportion of the polymer component represented by general formula (V) is preferably 40 to 99% by weight, more preferably 50 to 95% by weight.

樹脂〔B〕のガラス転移点は、好ましくはO″C〜11
0°C1より好ましくは、20°C〜90°Cである。
The glass transition point of the resin [B] is preferably O″C~11
The temperature is more preferably 20°C to 90°C than 0°C.

結着樹脂〔B〕の分子量が3X10’より小さくなると
、膜強度が充分に保てず、一方分子量が1×106より
大きくなると、分散性が低下し膜平滑度が劣下し、複写
画像の画質(特に、細線・文字の再現性が悪くなる)が
悪化し、更にオフセットマスターとして用いる時に地汚
れが著しくなってしまう。
If the molecular weight of the binder resin [B] is smaller than 3 x 10', the film strength cannot be maintained sufficiently, while if the molecular weight is larger than 1 x 106, the dispersibility decreases, the film smoothness deteriorates, and the quality of the copied image deteriorates. The image quality (particularly the reproducibility of fine lines and characters deteriorates) deteriorates, and furthermore, when used as an offset master, background stains become significant.

又結着樹脂〔B〕におけるマクロモノマー含有量が1重
量%より少ないと電子写真特性(特に暗減衰率、光感度
)が低下し、又環境条件での電子写真特性の変動が特に
近赤外〜赤外光分光増感色素との組み合わせにおいて、
大きくなる。これはグラフト部となるマクロモノマーが
微かとなることで結果として従来のホモポリマーあるい
はランダム共重合体と殆んど回し組成になってしまうこ
とによると考えられる。
Furthermore, if the macromonomer content in the binder resin [B] is less than 1% by weight, the electrophotographic properties (especially dark decay rate, photosensitivity) will decrease, and the electrophotographic properties will fluctuate under environmental conditions, especially near infrared. ~In combination with an infrared spectral sensitizing dye,
growing. This is thought to be due to the fact that the amount of the macromonomer that becomes the graft portion is small, resulting in a composition that is almost the same as that of conventional homopolymers or random copolymers.

一方マクロモノマーの含有量が60重量%を越えると、
他の共重合成分に相当する単量体と本発明に従うマクロ
モノマーとの共重合性が充分でなくなり、結着樹脂とし
て用いても充分な電子写真特性が得られなくなってしま
う。
On the other hand, when the macromonomer content exceeds 60% by weight,
The copolymerizability of the macromonomer according to the present invention with monomers corresponding to other copolymerization components is insufficient, and sufficient electrophotographic properties cannot be obtained even when used as a binder resin.

次に樹脂〔B〕の好ましい態様について以下説明する。Next, preferred embodiments of the resin [B] will be described below.

本発明の樹脂〔B〕に供される一官能性マクロモノマー
(?lB)について更に具体的に説明する。
The monofunctional macromonomer (?lB) used in the resin [B] of the present invention will be explained in more detail.

マクロモノマー(MB)のA−ブロックを構成する成分
中に含有される酸性基としては、−po3n、基、−C
OOH基、−5osn蟇、フェノール性OH基、−P−
OH基(R,はR,と同一の内容を表わす)又は環R4 状酸無水物含有基が挙げられ、好ましくは−COOH基
、−5OsH基、フェノール性OH基、又は−P−OH
基である。
The acidic groups contained in the components constituting the A-block of the macromonomer (MB) include -po3n, group, -C
OOH group, -5osn, phenolic OH group, -P-
Examples include an OH group (R represents the same content as R) or a ring R4 acid anhydride-containing group, preferably a -COOH group, a -5OsH group, a phenolic OH group, or a -P-OH group.
It is the basis.

R1 −P−OH基の場合、具体的には樹脂〔A〕において説
明したと同様の内容を表わす。
In the case of R1-P-OH group, specifically, the same content as explained for resin [A] is expressed.

更に上記特定の酸性基を含有する重合成分の具体例とし
ては、前記樹脂〔A〕のものと同様のものが挙げられる
Furthermore, specific examples of the polymerization component containing the above-mentioned specific acidic group include those similar to those of the above-mentioned resin [A].

フェノール性OH基としては、ヒドロキシフェノール又
はヒドロキシフェニル基を置換基として含有するメタク
リル酸エステルもしくはアミド類を挙げることができる
Examples of the phenolic OH group include methacrylic esters or amides containing hydroxyphenol or hydroxyphenyl as a substituent.

また、環状酸無水物含有基とは、少なくとも1つの環状
酸無水物を含有する基であり、含有される環状酸無水物
としては、脂肪族ジカルボン酸無水物、芳香族ジカルボ
ン酸無水物が挙げられる。
In addition, the cyclic acid anhydride-containing group is a group containing at least one cyclic acid anhydride, and examples of the cyclic acid anhydride include aliphatic dicarboxylic acid anhydride and aromatic dicarboxylic acid anhydride. It will be done.

脂肪族ジカルボン酸無水物の例としては、コハク酸無水
物環、グルタコン酸無水物環、マレイン#無水物環、シ
ロクペンタンー1.2−ジカルボン酸無水物環、シロク
ヘキサン−1,2−ジカルボン酸無水物環、ソロクヘキ
センー1,2−ジカルボン酸無水物環、2,3−ビシク
ロC2,2゜2〕オクタンジカルボン酸無水物環等が挙
げられ、これらの環は、例えば塩素原子、臭素原子等の
ハロゲン原子、メチル基、エチル基、ブチル基、ヘキシ
ル基等のアルキル基等が置換されていてもよい。
Examples of aliphatic dicarboxylic anhydrides include succinic anhydride ring, glutaconic anhydride ring, maleic anhydride ring, silocpentane-1,2-dicarboxylic anhydride ring, and siloxhexane-1,2-dicarboxylic anhydride ring. monocycle, soloxhexene-1,2-dicarboxylic acid anhydride ring, 2,3-bicycloC2,2゜2]octanedicarboxylic acid anhydride ring, and the like. Atom, alkyl group such as methyl group, ethyl group, butyl group, hexyl group, etc. may be substituted.

又、芳香族ジカルボン酸無水物の例としては、フタル酸
無水物環、ナフタレン−ジカルボン酸無水物環、ピリジ
ン−ジカルボン酸無水物環、チオフェン−ジカルボン酸
無水物環等が挙げられ、これらの環は、例えば、塩素原
子、臭素原子等のハロゲン原子、メチル基、エチル基、
プロピル基、ブチル基等のアルキル基、ヒドロキシル基
、シアノ基、ニトロ基、アルコキシカルボニル基(アル
コキシ基としては、例えば、メトキシ基、エトキシ基等
)等が置換されていてもよい。
Examples of aromatic dicarboxylic anhydrides include phthalic anhydride rings, naphthalene-dicarboxylic anhydride rings, pyridine-dicarboxylic anhydride rings, thiophene-dicarboxylic anhydride rings, etc. For example, halogen atoms such as chlorine atom and bromine atom, methyl group, ethyl group,
It may be substituted with an alkyl group such as a propyl group or a butyl group, a hydroxyl group, a cyano group, a nitro group, an alkoxycarbonyl group (for example, a methoxy group, an ethoxy group, etc.).

上記の如き特定の酸性基を含有する重合成分は該ブロッ
ク中に2種以上含有されていてもよく、その場合におけ
る該2種以上の酸性基含有成分は該ブロック中において
ランダム共重合又はブロック共重合のいずれの態様で含
有されていてもよい。
Two or more types of polymerization components containing specific acidic groups as described above may be contained in the block, and in this case, the two or more types of acidic group-containing components are randomly copolymerized or block copolymerized in the block. It may be contained in any mode of polymerization.

また、該酸性基を含有しない成分がAブロック中に含ま
れていてもよく、該成分の例としては後述の一般式(I
V)で示される成分等があげられる。
In addition, a component not containing the acidic group may be included in the A block, and examples of the component include the general formula (I
Examples include components represented by V).

かかる酸性基非含有成分の含有量はAブロック中経まし
くは0〜50重量%、より好ましくは0〜20重量%で
あり、最も好ましくは、かかる酸性基非含有成分はAブ
ロック中に含まれない。
The content of the acidic group-free component is preferably 0 to 50% by weight, more preferably 0 to 20% by weight, and most preferably, the acidic group-free component is contained in the A block. Not possible.

次にグラフト型共重合体の一官能性マクロモノマーにお
いて、Bブロック成分を構成する重合成分について詳し
く説明する。
Next, the polymerization components constituting the B block component in the monofunctional macromonomer of the graft copolymer will be explained in detail.

本発明では、B−ブロックを構成する成分として、少な
くとも前記一般式(IV)で表わされる繰り返し単位が
含まれる。
In the present invention, at least a repeating unit represented by the general formula (IV) is included as a component constituting the B-block.

一般式(TV)におイテ、X、は−coo−、−oc。In the general formula (TV), X is -coo-, -oc.

’(CH2舅−oco−1CCH2頃COO−(ゼゴJ
、は1〜3の整数を表わす)、−O−−SO□−−〇〇
−13R23 CON−−5ozs−1−CON)ICOO−、(:0
N)IcOII)l−又はここで、RZ3は水素原子の
ほか、好ましい炭化水素基としては、炭素数1〜18の
置換されてもよいアルキル基(例えば、メチル基、エチ
ル基、プロピル基、ブチル基、ヘプチル基、ヘキシル基
、オクチル基、デジル基、ドデシル基、ヘキサデジル基
、オクタデシル基、2−クロロエチル基、2−ブロモエ
チル基、2−シアノエチル基、2−メトキシカルボニル
エチル基、2−メトキシエチル基、3−ブロモプロピル
基等)、炭素数4〜18の置換されてもよいアルケニル
基(例えば、2−メチル−1−プロペニル基、2−ブテ
ニルL2−ペンテニル基、3−メチル−2−ペンテニル
基、■−ペンテニル基、1−へキセニル基、2−ヘキセ
ニル基、4−メチル−2−ヘキセニル&、等)、炭素数
7〜12の置換されてもよいアラルキル基(例えば、ベ
ンジル基、フェネチル基、3−フェニルプロピル基、ナ
フチルメチル基、2−ナフチルエチル基、クロロヘンシ
ル基、フロモヘンジル基、メチルヘンシル基、エチルヘ
ンシル基、メトキシベンジル基、ジメチルヘンシル基、
ジメトキシヘンシル基等)、炭素数5〜8の置換されて
もよい脂環式基(例えば、シクロヘキシル基、2シクロ
ヘキシルエチル基、2−シクロペンチルエチル基等)又
は炭素数6〜12の置換されてもよい芳香族基(例えば
、フェニル基、ナフチル基、トリル基、キシリル基、プ
ロピルフェニル基、ブチルフェニル基、オクチルフェニ
ル基、ドデシルフェニル基、メトキシフェニル基、エト
キシフェニル基、ブトキシフェニル基、デシルオキシフ
ェニル基、クロロフェニル基、ジクロロフェニル基、ブ
ロモフェニル基、シアノフェニル基、アセチルフェニル
基、メトキシカルボニルフェニル基、エトキシカルボニ
ルフェニル基、ブトキシカルボニルフェニル基、アセト
アミドフェニル基、プロピオアミドフェニル基、ドブシ
ロイルアミドフェニル基等)があげられる。
'(CH2舅-oco-1CCH2aroundCOO-(Zego J
, represents an integer from 1 to 3), -O--SO□--〇〇-13R23 CON--5ozs-1-CON)ICOO-, (:0
N)IcOII)l- or Here, RZ3 is a hydrogen atom, and preferable hydrocarbon groups include an optionally substituted alkyl group having 1 to 18 carbon atoms (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group) group, heptyl group, hexyl group, octyl group, dedyl group, dodecyl group, hexadecyl group, octadecyl group, 2-chloroethyl group, 2-bromoethyl group, 2-cyanoethyl group, 2-methoxycarbonylethyl group, 2-methoxyethyl group , 3-bromopropyl group, etc.), optionally substituted alkenyl groups having 4 to 18 carbon atoms (e.g., 2-methyl-1-propenyl group, 2-butenyl L2-pentenyl group, 3-methyl-2-pentenyl group) , ■-pentenyl group, 1-hexenyl group, 2-hexenyl group, 4-methyl-2-hexenyl &, etc.), optionally substituted aralkyl group having 7 to 12 carbon atoms (e.g. benzyl group, phenethyl group) , 3-phenylpropyl group, naphthylmethyl group, 2-naphthylethyl group, chlorohensyl group, fromohensyl group, methylhensyl group, ethylhensyl group, methoxybenzyl group, dimethylhensyl group,
dimethoxyhensyl group, etc.), an optionally substituted alicyclic group having 5 to 8 carbon atoms (e.g., cyclohexyl group, 2cyclohexylethyl group, 2-cyclopentylethyl group, etc.), or a substituted alicyclic group having 6 to 12 carbon atoms. Aromatic groups (e.g. phenyl group, naphthyl group, tolyl group, xylyl group, propylphenyl group, butylphenyl group, octylphenyl group, dodecylphenyl group, methoxyphenyl group, ethoxyphenyl group, butoxyphenyl group, decyloxy Phenyl group, chlorophenyl group, dichlorophenyl group, bromophenyl group, cyanophenyl group, acetylphenyl group, methoxycarbonylphenyl group, ethoxycarbonylphenyl group, butoxycarbonylphenyl group, acetamidophenyl group, propioamidophenyl group, dobusylylamide phenyl group, etc.).

R2+ は炭化水素基を表わし、その好ましい具体例は
Ruffについて説明したものと同様の内容を示場合、
R11は水素原子又は炭化水素基を表わす。
R2+ represents a hydrocarbon group, and preferred specific examples thereof are the same as those explained for Ruff,
R11 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group.

を有してもよい。置換基としては、ハロゲン原子(例え
ば塩素原子、臭素原子等)、アルキル基(例えばメチル
基、エチル基、プロピル基、ブチル基、クロロメチル基
、メトキシメチル基等)、アルコキシ基(例えばメトキ
シ基、エトキシ基、プロピオキシ基、ブトキシ基等)等
が挙げられる。
It may have. Examples of substituents include halogen atoms (e.g., chlorine atom, bromine atom, etc.), alkyl groups (e.g., methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, chloromethyl group, methoxymethyl group, etc.), alkoxy groups (e.g., methoxy group, ethoxy group, propioxy group, butoxy group, etc.).

d、及びd2は、互いに同じでも異なっていてもよく、
好ましくは水素原子、ハロゲン原子(例えば、塩素原子
、臭素原子等)、シアノ基、炭素数1〜4のアルキル基
(例えばメチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基等
) 、−COO−R24又は炭化水素を介した一COO
−Rza (Rzaは、水素原子又は炭素数1〜1日の
アルキル基、アルケニル基、アラルキル基、脂環式基ま
たはアリール基を表わし、これらは置換されていてもよ
く、具体的には、上記R23について説明したものと同
様の内容を表わす)を表わす。
d and d2 may be the same or different from each other,
Preferably a hydrogen atom, a halogen atom (for example, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, an alkyl group having 1 to 4 carbon atoms (for example, a methyl group, an ethyl group, a propyl group, a butyl group, etc.), -COO-R24 or -COO via hydrocarbon
-Rza (Rza represents a hydrogen atom or an alkyl group, alkenyl group, aralkyl group, alicyclic group, or aryl group having 1 to 1 carbon atoms, which may be substituted, specifically, the above-mentioned represents the same content as that described for R23).

上記炭化水素を介した一COO−Rzaにおける炭化水
素としては、メチレン基、エチレン基、プロピレン基等
が挙げられる。
Examples of the hydrocarbon in 1COO-Rza via the hydrocarbon include a methylene group, an ethylene group, a propylene group, and the like.

更に好ましくは、一般式(rV)において、x4はCO
O−−0CO−−CHzOCO−1−CHzCOO−1
−〇互いに同しでも異なってもよく、水素原子、メチル
基、−COORza又は−CHzCOORza (Rz
aは、水素原子又は炭素数1〜6のアルキル基(例えば
メチル基、エチル基、プロピル基、ブチル基、ヘキXj
)L/基等)を表わす)を表わす、更により好ましくは
、dis dzにおいていずれか一方が水素原子を表わ
す。
More preferably, in the general formula (rV), x4 is CO
O--0CO--CHzOCO-1-CHzCOO-1
-〇 May be the same or different from each other, hydrogen atom, methyl group, -COORza or -CHzCOORza (Rz
a is a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 6 carbon atoms (e.g. methyl group, ethyl group, propyl group, butyl group, hex
) represents (L/group, etc.), and even more preferably, one of dis dz represents a hydrogen atom.

前記の特定の酸性基を含有する重合成分から成るAブロ
ックとは別に構成されるBブロックにおいて、前記式(
IV)で示される繰り返し単位は2種以上含有されてい
てもよく、更にこれら以外の他の重合成分を含有してい
てもよい。酸性基を含有しないBプロ、りにおいて2種
以上の重合成分が含有される場合には、該共重合成分は
該Bブロック中においてランダム共重合又はブロック共
重合のいずれの態様で含有されていてもよいが、ランダ
ムに含有されることが好ましい。
In the B block constituted separately from the A block consisting of a polymerization component containing the above-mentioned specific acidic group, the above-mentioned formula (
Two or more types of repeating units represented by IV) may be contained, and furthermore, other polymeric components other than these may be contained. When two or more types of polymerization components are contained in the B block that does not contain an acidic group, the copolymerization components are contained in either random copolymerization or block copolymerization in the B block. However, it is preferable that they be included randomly.

前記した式(IV)で示される繰り返し単位から選ばれ
た重合成分とともに他のブロック中に含有され得る他の
重合成分は、これらと共重合する成分であればいずれで
もよい。
Other polymeric components that may be contained in other blocks together with the polymeric component selected from the repeating units represented by formula (IV) described above may be any component that copolymerizes with these components.

11B−ブロック中に含有される重合体成分として、式
(TV)に示される重合体成分とともに共重合しうる他
の繰り返し単位に相当する単量体として、例えばアクリ
ロニトリル、メタクリbニトリル、複素環ビニルII(
例えばビニルピリジン、ビニルイミダゾール、ビニルピ
ロリドン、ビニルチオフェン、ビニルピラゾール、ビニ
ルジオキサ、ン、ビニルオキサジン等)等が挙げられる
。これら他の単量体はB−ブロックの全重合体成分10
0重量部中20重量部を越えない範囲で用いられる。又
、該Bブロック中には、該A−ブロックの構成成分であ
る極性基を含をする重合体成分を含有しない事が好まし
い。
As a polymer component contained in the 11B-block, examples of monomers corresponding to other repeating units that can be copolymerized with the polymer component represented by formula (TV) include acrylonitrile, methacryl b-nitrile, and heterocyclic vinyl. II (
Examples include vinylpyridine, vinylimidazole, vinylpyrrolidone, vinylthiophene, vinylpyrazole, vinyldioxane, vinyloxazine, etc.). These other monomers make up the total polymer component 10 of the B-block.
It is used in an amount not exceeding 20 parts by weight out of 0 parts by weight. Further, it is preferable that the B block does not contain a polymer component containing a polar group, which is a constituent component of the A-block.

次に本発明のマクロモノマー(MB)において、上記し
た極性基を含有する成分から成るA−ブロックと一般式
(IV)で示される重合体成分から成るB−ブロックを
A−B型で連結し且つA−ブロックと連結するB−ブロ
ックの他の末端に連結される重合性二重結合基について
説明する。
Next, in the macromonomer (MB) of the present invention, the A-block consisting of the polar group-containing component described above and the B-block consisting of the polymer component represented by general formula (IV) are connected in an A-B type. Also, the polymerizable double bond group connected to the other end of the B-block connected to the A-block will be explained.

具体的には下記一般式(Vl)で示される重合性二重結
合基が挙げられる。
Specifically, a polymerizable double bond group represented by the following general formula (Vl) may be mentioned.

一般式(Vl) 式(Vl)中、X、は式(IV)中のx4と同一の内容
を表わす。
General formula (Vl) In formula (Vl), X represents the same content as x4 in formula (IV).

dl、d、は、お互いに異なってもよく、式(IV)中
のdls dzと同一の内容を表わす。
dl and d may be different from each other and represent the same content as dls dz in formula (IV).

即ち、一般式(Vl)で示される重合性二重結合基とし
て、より具体的には、cnz=co−c−。
That is, more specifically, the polymerizable double bond group represented by the general formula (Vl) is cnz=co-c-.

0=C−O− O=C−O I−C X、− CH8・CIlCIIzhO−C−等が挙げられる。0=C-O- O=C-O I-C X, - Examples include CH8.CIlCIIzhO-C-.

本発明において供されるマクロモノマー(MB)は上述
の如きB−ブロックの片末端に、一般式(Vl)で示さ
れる重合性二重結合基が、直接結合するか、あるいは、
任意の連結基で結合された化学構造を有するものである
。連結する基としては、炭素−炭素結合(−重結合ある
いは二重結合)、炭素−へテロ原子結合(ヘテロ原子と
しては例えば、酸素原子、イオウ原子、窒素原子、ケイ
素原子等)、ヘテロ原子−へテロ原子結合の原子団の任
意の組合せで構成されるものである。
The macromonomer (MB) provided in the present invention has a polymerizable double bond group represented by the general formula (Vl) directly bonded to one end of the B-block as described above, or
It has a chemical structure bonded with an arbitrary linking group. Linking groups include carbon-carbon bonds (-double bonds or double bonds), carbon-heteroatom bonds (heteroatoms include, for example, oxygen atoms, sulfur atoms, nitrogen atoms, silicon atoms, etc.), heteroatoms - It is composed of any combination of atomic groups of heteroatom bonds.

ZS 即ち具体的には単なる結合または、−tCヒ 〔R23
、zh R1&は水素原子、ハロゲン原子(例えば、フン素原子
、塩素原子、臭素原子等)、シアノ基、ヒドロキシル基
、アルキル基(例えばメチル基、エチル基、プロピル基
等)等を示す) 、−(CIl、CH)−1R1? −COO−−C−−5Oz−2−CON−1−sotN
−1−NHCOORt、    R意。
ZS, specifically, a simple bond or -tC [R23
, zh R1 & represents a hydrogen atom, a halogen atom (e.g., a fluorine atom, a chlorine atom, a bromine atom, etc.), a cyano group, a hydroxyl group, an alkyl group (e.g., a methyl group, an ethyl group, a propyl group, etc.), - (CIl, CH)-1R1? -COO--C--5Oz-2-CON-1-sotN
-1-NHCOORt, R intention.

1tt NHCONH−1−5i−(Rzt 、Rzsは各々水
素原子、前t 記式(R/)におけるllz+ と同様の内容を表わす
炭化水素基等を示す]等の原子団から選ばれた単独の連
結基もしくは任意の組合せで構成された連結基を表わす
A single linkage selected from an atomic group such as 1tt NHCONH-1-5i- (Rzt and Rzs each represent a hydrogen atom, a hydrocarbon group, etc. representing the same content as llz+ in the formula (R/)) Represents a linking group composed of a group or an arbitrary combination.

マクロモノマ−(MB)の重量平均分子量が2×104
を超えると、他の単量体との共重合性が低下するため好
ましくない、他方、重量平均分子量が小さすぎると、感
光層の電子写真特性の向上効果が小さくなるため、lX
l0’以上であることが好ましい。
The weight average molecular weight of macromonomer (MB) is 2 x 104
If it exceeds l
It is preferable that it is l0' or more.

本発明のマクロモノマー(MB)は、従来公知の合成方
法によって製造することができる6例えば、該特定の酸
性基を含有する重合体成分に相当する単量体において、
酸性基を予め保護した官能基としておき、有機金属化合
物(例えばアルキルリチウム類、リチウムジイソプルア
ミド類、アルキルマグネシウムハライド類等)あるいは
ヨウ化水素/ヨウ素系等によるイオン重合反応、ポルフ
ィリン金属錯体を触媒とする光重合反応、あるいはグル
ープ移動重合反応等の公知のいわゆるリビング重合反応
でA−Bブロンク共重合体を合成した後、このリビング
ポリマーの末端に種々の試薬を反応させて重合性二重結
合基を導入する。
The macromonomer (MB) of the present invention can be produced by a conventionally known synthesis method.6 For example, in a monomer corresponding to the specific acidic group-containing polymer component,
The acidic group is preprotected as a functional group, and an ionic polymerization reaction with an organometallic compound (for example, alkyl lithiums, lithium diisoproamides, alkyl magnesium halides, etc.) or a hydrogen iodide/iodine system, or a porphyrin metal complex is performed. After synthesizing an A-B bronc copolymer using a known so-called living polymerization reaction such as a photopolymerization reaction using a catalyst or a group transfer polymerization reaction, various reagents are reacted at the ends of this living polymer to form a polymerizable double polymer. Introducing a bonding group.

この後、酸性基を保護した官能基を加水分解反応、加水
素分解反応、酸化分解反応あるいは光分解反応等によっ
て脱保護反応を行ない、酸性基を形成させる方法が挙げ
られる。その1つの例を下記の反応スキーム(1)に示
した。
Thereafter, the functional group with the protected acidic group is deprotected by hydrolysis reaction, hydrogenolysis reaction, oxidative decomposition reaction, photolysis reaction, etc. to form an acidic group. One example is shown in reaction scheme (1) below.

例えば、P、Lutz、 P、Masson et a
l、 Polym、 BulLl+ 79 (1984
)+ B、C,Andersor++ G、D、And
rews etal、 Macromolecules
+ 14.1601(1981)、 K、Hatada
K、Ute、 et al、 Polym、 J、 1
7.977 (1985)、 181037 (198
6)、  右手浩−1畑田耕−1高分子加工、皿、 3
66 (1987)、東村敏延、沢本光男、高分子論文
集、46.189 (1989)、 M、Kuroki
、 T、Aida、 J、Am。
For example, P. Lutz, P. Masson et a.
Polym, BullLl+ 79 (1984
)+ B, C, Andersor++ G, D, And
rews etal, Macromolecules
+ 14.1601 (1981), K. Hatada
K, Ute, et al., Polym, J., 1
7.977 (1985), 181037 (198
6), Hiroshi Miji-1 Ko Hatada-1 Polymer processing, plate, 3
66 (1987), Toshinobu Higashimura, Mitsuo Sawamoto, Collection of Polymer Papers, 46.189 (1989), M, Kuroki
, T., Aida, J. Am.

Chem、Sic、  109.4737(1987)
、相田卓三、井上祥平、有機合成化学、婬、 300(
1985)、 D、Y、SogohW、R,Hertl
er et al+ Macromolecules+
 20+ 1473(1987)等に記載の合成方法に
従って容易にリビングポリマーを合成することができる
。又、該リビングポリマーの末端に重合性二重結合基を
導入する方法としては、従来公知のマクロモノマー法の
合成法に従って容易に本発明のマクロモノマーとするこ
とができる。
Chem, Sic, 109.4737 (1987)
, Takuzo Aida, Shohei Inoue, Synthetic Organic Chemistry, Tsumu, 300 (
(1985), D. Y., Sogoh W., and R. Hertl.
er et al+ Macromolecules+
20+ 1473 (1987), etc., living polymers can be easily synthesized. Moreover, as a method for introducing a polymerizable double bond group to the terminal of the living polymer, the macromonomer of the present invention can be easily obtained by following a conventionally known synthesis method of macromonomer method.

具体的には、P、Dreyfuss & R,P、Qu
irk+ Encycl。
Specifically, P, Dreyfuss & R, P, Qu
irk+ encycle.

Poplym、  Sci、  Eng、、7 、 5
51  (1987)、  P、F、Rempp。
Poplym, Sci, Eng,, 7, 5
51 (1987), P.F. Rempp.

E、Franta   Adu、、  Polym、 
 Sci、  58. 1  (1984)、  V。
E. Franta Adu, Polym.
Sci, 58. 1 (1984), V.

Percec、 Appl、、 Po1yv+、 Sc
i、、 2fJ51.95(1984)、 R。
Percec, Appl, Po1yv+, Sc
i, 2fJ51.95 (1984), R.

Asami、  M、TakaRi、  Makvam
ol、  Chew、  5upp1. 12163 
 (1985)、P、Rempp、et al、Mak
vamol、Chew。
Asami, M., TakaRi, Makvam
ol, Chew, 5upp1. 12163
(1985), P. Rempp, et al., Mak.
vamol, Chew.

5upp1.8 、3 (1984)、用上雄資、化学
工業、共56 (1987)、  山下雄也、高分子、
3L 988 (1982)小林四部、高分子、共、 
625 (1981)、東村敏延、日本接着協会誌 1
8.536 (1982)、伊藤浩−1高分子加工、剥
、 262 (1986)、東貴四部、津田隆、機能材
料、1987 110.5等の総説及びそれに弓例の文
献・特許等に記載の方法に従って合成することができる
5upp1.8, 3 (1984), Yuji Yogami, Kagaku Kogyo, Kyou56 (1987), Yuya Yamashita, Polymer,
3L 988 (1982) Shibe Kobayashi, Kobunshi, Co., Ltd.
625 (1981), Toshinobu Higashimura, Japan Adhesive Association Journal 1
8.536 (1982), Hiroshi Ito-1 Polymer Processing, Peeling, 262 (1986), Takashi Higashi, Takashi Tsuda, Functional Materials, 1987 110.5, etc. Reviews and examples of literature and patents, etc. It can be synthesized according to the method of

又、本発明の特定の酸性基を保護する保護基及びその保
護基の脱離(脱保護反応)については、従来公知の知見
を利用して容易に行なうことができる。例えば、前記し
た引用文献にも種々記載されており、更には、岩倉義勇
、栗田恵輔、「反応性高分子」■講談社刊(1977年
) 、TJ、Greene’Protective G
roups in Organic 5ynthesi
sJJohn Wiley & 5ons (1981
年)、 J、F、W、McOmie。
Further, the protecting group that protects the specific acidic group of the present invention and the removal (deprotection reaction) of the protecting group can be easily carried out using conventionally known knowledge. For example, there are various descriptions in the above-mentioned cited documents, and furthermore, Giyu Iwakura, Keisuke Kurita, "Reactive Polymer" ■ Kodansha (1977), TJ, Greene'Protective G
roups in Organic 5ynthesi
sJJohn Wiley & 5ons (1981
), J., F., W., McOmie.

rProtective Groups in Org
anic OrganicChesistry」、 P
lenu++ Press、 (1973年)等の総説
に詳細に記載されている方法を適宜選択して行なうこと
ができる。
rProtective Groups in Org
anic Organic Chesistry”, P
This can be carried out by appropriately selecting a method described in detail in a review article such as Lenu++ Press, (1973).

他のA−B型ブロック共重合体(A]の合成法としては
、ジシオカーバメント化合物を開始剤とした光イニファ
ーター重合法によって合成することもできる0例えば、
大津隆行、高分子、37.248(1988) 、検査
後−1大津隆−1Polym、 Rep、 Jap。
As another method for synthesizing the AB type block copolymer (A), it can also be synthesized by a photoiniferter polymerization method using a dithiocarbament compound as an initiator. For example,
Takayuki Otsu, Polymer, 37.248 (1988), After Inspection-1 Takashi Otsu-1 Polym, Rep, Jap.

鉦、 3508 (1988年)、特開昭64−111
号、特開昭6426619号等に記載の合成方法に従っ
て合成され。
Gong, 3508 (1988), Japanese Patent Publication No. 1983-111
It was synthesized according to the synthesis method described in JP-A-6426619, etc.

これを上記したマクロモノマー合成法を利用して本発明
のマクロモノマーを得ることができる。
The macromonomer of the present invention can be obtained using the macromonomer synthesis method described above.

本発明のマクロモノマ−(MB)は、具体的に番よ、下
記の化合物を例として挙げることができる。但し、本発
明の範囲は、これらに限定されるものではない。
The macromonomer (MB) of the present invention can be specifically exemplified by the following compounds. However, the scope of the present invention is not limited to these.

以下の各側において、Qo、Q!及びQ、は各々−Hl
−CHs又は−CHzCOOCHsを示し、Q4は−H
又は−CH3を示し、R31は−C*Hxa++ (n
は1〜18の整数を示す)、−(CHzhCJs (m
は1〜3の整数を示す)、は1〜3の整数を示す)を示
し、R3ZはCQH2Q4(qは1〜8の整数を示す)
又は(CI(z)−CJsを示し、T は OH。
On each side below, Qo, Q! and Q, are each -Hl
-CHs or -CHzCOOCHs, Q4 is -H
or -CH3, R31 is -C*Hxa++ (n
represents an integer from 1 to 18), -(CHzhCJs (m
represents an integer of 1 to 3), R3Z represents CQH2Q4 (q represents an integer of 1 to 8)
or (CI(z)-CJs, where T is OH.

COOH O3H I P−OH又は P−OCH3を示し、T2は OH OH COOH。COOH O3H I P-OH or P-OCH3 is shown and T2 is OH OH COOH.

5ChH。5ChH.

P−OH又 OH は P−OCH3を示し、 「は2へ・12の整数を示し、 OH は2〜6の整数を示す。P-OH again OH teeth Indicates P-OCH3, ``to 2・denotes an integer of 12, OH represents an integer from 2 to 6.

(門B (−B−2) COOIh+ 0OH (−B−3) COOR。(gate B (-B-2) COOIh+ 0OH (-B-3) COOR.

Cool( (MB Hz 0OR3 COOH (MB−8) (MB−9) (MB−4) 口。Cool( (MB Hz 0OR3 COOH (MB-8) (MB-9) (MB-4) mouth.

(MB−5) (門B−6) (MB (−B (門B C1l。(MB-5) (Gate B-6) (MB (-B (gate B C1l.

0OR31 Cool T。0OR31 Cool T.

0OR31 Coo(CH,)−i−COOH COOR1+ Coo(CH2とIT2 (MB−13) (MB−14) COOR31 COOR (MB CI’13 (?fB−16) 前記したマクロモノマー(MB)と共重合する単量体は
一般式(V)で示されるものが好ましい。
0OR31 Coo(CH,)-i-COOH COOR1+ Coo(CH2 and IT2 (MB-13) (MB-14) COOR31 COOR (MB CI'13 (?fB-16) Copolymerizes with the above-mentioned macromonomer (MB) The monomers are preferably those represented by general formula (V).

式(V)において、dl、d4、X、及びLxは式(I
V)中のdl、dl、X4及びI?z+ とそれぞれ同
一の内容を表わす。特に好ましくはd、は水素原子を表
わし、d4はメチルを表わし、X、は−coo−を表わ
す。
In formula (V), dl, d4, X, and Lx are represented by formula (I
V) dl, dl, X4 and I? Each represents the same content as z+. Particularly preferably, d represents a hydrogen atom, d4 represents methyl, and X represents -coo-.

本発明の樹脂(B)において、Aプロンク/Bブロック
比は1〜30/99〜70(重量比)であることが好ま
しく、また樹脂(B)中における酸性基含有成分の存在
量は、0.1〜20重量%、特に0.5〜10重量%で
あることが好ましい、また、マクロモノマー(MB)を
繰り返し単位とする共重合成分と、一般式(V)で示さ
れる単量体を繰り返し単位とする共重合成分の組成比は
、好ましくは1〜60/99〜40(重量組成比)、よ
り好ましくは5〜50/95〜50(重量組成比)であ
る。
In the resin (B) of the present invention, the A pronk/B block ratio is preferably 1 to 30/99 to 70 (weight ratio), and the amount of the acidic group-containing component in the resin (B) is 0. .1 to 20% by weight, particularly preferably 0.5 to 10% by weight, and a copolymerization component having macromonomer (MB) as a repeating unit and a monomer represented by general formula (V). The composition ratio of the copolymer components used as repeating units is preferably 1 to 60/99 to 40 (weight composition ratio), more preferably 5 to 50/95 to 50 (weight composition ratio).

又、重合体主鎖中には、−POsHz基、−5o、!f
基、COOR基、−OR基、−5H基及び−POJaH
基の極性基を含有する共重合成分を含有しないものが好
ましい。
In addition, the main chain of the polymer contains -POsHz groups, -5o,! f
group, COOR group, -OR group, -5H group and -POJaH
Those containing no copolymerization component containing a polar group are preferred.

本発明の結着樹脂〔A〕及び〔B〕は、それぞれ相当す
る一官能性重合性化合物を所望の割合で共重合させるこ
とによって製造することができる。重合方法としては溶
液重合、懸濁重合、沈澱重合、乳化重合等の公知の方法
を用いることにより製造することができる。例えば溶液
重合ではベンゼン、トルエン等の溶媒中、単量体を所定
の割合で添加し、アゾビス系化合物、過酸化化合物、ラ
ジカル重合開始剤によって重合せしめ共重合体溶液を得
ることができる。これを乾燥または貧溶剤に添加するこ
とにより所望の共重合体を得ることができる。また、懸
濁重合ではポリビニルアルコール、ポリビニルピロリド
ン等の分散剤の存在下、単量体を懸濁させ、ラジカル重
合開始剤の存在下で共重合せしめ共重合体を得ることが
できる。
Binder resins [A] and [B] of the present invention can be produced by copolymerizing corresponding monofunctional polymerizable compounds in desired proportions. As the polymerization method, it can be produced by using known methods such as solution polymerization, suspension polymerization, precipitation polymerization, and emulsion polymerization. For example, in solution polymerization, a copolymer solution can be obtained by adding monomers at a predetermined ratio in a solvent such as benzene or toluene, and polymerizing with an azobis compound, a peroxide compound, or a radical polymerization initiator. A desired copolymer can be obtained by drying it or adding it to a poor solvent. In suspension polymerization, monomers are suspended in the presence of a dispersant such as polyvinyl alcohol or polyvinylpyrrolidone, and copolymerized in the presence of a radical polymerization initiator to obtain a copolymer.

更には、本発明の結着樹脂において、好ましい態様であ
る、低分子量体である樹脂〔A〕及び高分子量体である
樹脂〔B〕の合成は、従来公知の如く、開始剤の種類(
温度により半減期が異なる)、開始剤の量、重合開始温
度あるいは連鎖移動剤の併用等の方法により容易に調節
することができる。
Furthermore, in the binder resin of the present invention, synthesis of the low molecular weight resin [A] and the high molecular weight resin [B], which is a preferred embodiment, can be carried out using the type of initiator (
(the half-life differs depending on the temperature), the amount of initiator, the polymerization initiation temperature, or the combined use of a chain transfer agent can be easily adjusted.

本発明の光導電層の結着樹脂として、本発明の結着樹脂
とともに、従来、電子写真用結着樹脂として用いられて
いるものを組合せて使用することもできる。例えば、宮
原晴視、武井秀彦、[イメージングJ1978  N1
18 9〜12、栗田隆治、石渡次部、「高分子J 、
17.278〜284 (1968)等の総説引用の材
料が挙げられる。
As the binder resin of the photoconductive layer of the present invention, binder resins of the present invention and those conventionally used as binder resins for electrophotography can also be used in combination. For example, Harumi Miyahara, Hidehiko Takei, [Imaging J1978 N1
18 9-12, Ryuji Kurita, Tsugube Ishiwatari, “Polymer J,
17.278-284 (1968) and other review articles cited.

具体的には、オレフィン重合体及び共重合体、塩化ビニ
ル共重合体、塩化ビニリデン共重合体、アルカン酸ビニ
ル重合体及び共重合体、アルカン酸アリル重合体及び共
重合体、スチレン及びその誘導体、重合体及び共重合体
、ブタジェン−スチレン共重合体、イソプレン−スチレ
ン共重合体、ブタジエンー不飽和カルボン酸エステル共
重合体、アクリロニトリル共重合体、メタクリロニトリ
ル共重合体、アルキルビニルエーテル共重合体、アクリ
ル酸エステル重合体及び共重合体、メタクリル酸エステ
ル重合体及び共重合体、スチレンーアクリル酸エステル
共重合体、スチレン−メタクリル酸エステル共重合体、
イタコン酸ジエステル重合体及び共重合体、無水マレイ
ン酸共重合体、アクリルアミド共重合体、メタクリルア
ミド共重合体、水酸基変性シリコン樹脂、ポリカーボネ
ート樹脂、ケトン樹脂、アミド樹脂、水酸基及びカルボ
キシル基変性ポリエステル樹脂、ブチラール樹脂、ポリ
ビニルアセタール樹脂、環化ゴム−メタアクリル酸エス
テル共重合体、環化ゴム−アクリル酸エステル共重合体
、窒素原子を含有しない複素環を含有する共重合体(複
素環として例えば、フラン環、テトラヒドロフラン環、
チオフェン環、ジオキサン環、ジオキソラン環、ラクト
ン環、ベンゾフラン環、ベンゾチオフェン環、13−ジ
オキセタン環等)、エポキシ樹脂等が挙げられる。
Specifically, olefin polymers and copolymers, vinyl chloride copolymers, vinylidene chloride copolymers, vinyl alkanoate polymers and copolymers, allyl alkanoate polymers and copolymers, styrene and its derivatives, Polymers and copolymers, butadiene-styrene copolymers, isoprene-styrene copolymers, butadiene-unsaturated carboxylic acid ester copolymers, acrylonitrile copolymers, methacrylonitrile copolymers, alkyl vinyl ether copolymers, acrylics Acid ester polymers and copolymers, methacrylic ester polymers and copolymers, styrene-acrylic ester copolymers, styrene-methacrylic ester copolymers,
Itaconic acid diester polymers and copolymers, maleic anhydride copolymers, acrylamide copolymers, methacrylamide copolymers, hydroxyl-modified silicone resins, polycarbonate resins, ketone resins, amide resins, hydroxyl- and carboxyl-modified polyester resins, Butyral resin, polyvinyl acetal resin, cyclized rubber-methacrylate ester copolymer, cyclized rubber-acrylate ester copolymer, copolymer containing a heterocycle containing no nitrogen atom (for example, furan as a heterocycle) ring, tetrahydrofuran ring,
(thiophene ring, dioxane ring, dioxolane ring, lactone ring, benzofuran ring, benzothiophene ring, 13-dioxetane ring, etc.), epoxy resins, and the like.

しかし、これらの樹脂は、全結着樹脂量の30重量%を
越えない範囲で用いる事が好ましい。
However, it is preferable to use these resins in an amount not exceeding 30% by weight of the total binder resin amount.

樹脂〔A〕及び〔B〕の使用する割合は特に制限はない
が、樹脂〔A〕/ [B)比5〜50/95〜50、特
に10〜40/90〜60(重量比)であることが好ま
しい。
The ratio of resin [A] and [B] to be used is not particularly limited, but the resin [A]/[B) ratio is 5 to 50/95 to 50, particularly 10 to 40/90 to 60 (weight ratio). It is preferable.

本発明に使用する無機光導電材料としては、酸化亜鉛、
酸化チタン、硫化亜鉛、硫化カドミウム、炭酸カドミウ
ム、セレン化亜鉛、セレン化カドミウム、セレン化テル
ル、硫化鉛、等が挙げられる。
Inorganic photoconductive materials used in the present invention include zinc oxide,
Examples include titanium oxide, zinc sulfide, cadmium sulfide, cadmium carbonate, zinc selenide, cadmium selenide, tellurium selenide, lead sulfide, and the like.

無機光導電材料に対して用いる結着樹脂の総量は、光導
電体100重量部に対して、結着樹脂を10〜100重
量部なる割合、好ましくは15〜50重量部なる割合で
使用する。
The total amount of binder resin used for the inorganic photoconductive material is 10 to 100 parts by weight, preferably 15 to 50 parts by weight, per 100 parts by weight of the photoconductor.

本発明では、必要に応して各種の色素を分光増感剤とし
て併用することができる。例えば、宮本晴視、武井秀彦
、イメージング1973 (Nct8 )第12頁、C
,J、Young等、RCA Review 15 4
69 (1954)。
In the present invention, various dyes can be used in combination as spectral sensitizers, if necessary. For example, Harumi Miyamoto, Hidehiko Takei, Imaging 1973 (Nct8) p. 12, C
, J. Young et al., RCA Review 15 4
69 (1954).

清田航平等、電気通信学会論文1上国土(隘2)97 
(1980) 、原崎勇次等、工業化学雑誌並78及び
188 (1963)、谷忠昭、日本写真学会誌剥、2
08(1972) 、等の総説引例のカーボニウム系色
素、ジフェニルメタン色素、トリフェニルメタン色素、
キサンチン系色素、フタレイン系色素、ポリメチン色素
(例えば、オキソノール色素、メロシアニン色素、シア
ニン色素、ロダシアニン色素、スチリル色素等)、フタ
ロシアニン色素(金属含有してもよい)等が挙げられる
Wataru Kiyota, Institute of Electrical Communication Engineers paper 1, Kokudo (隘2) 97
(1980), Yuji Harasaki et al., Industrial Chemistry Journal 78 and 188 (1963), Tadaaki Tani, Journal of the Photographic Society of Japan, 2.
08 (1972), carbonium dyes, diphenylmethane dyes, triphenylmethane dyes,
Examples include xanthine dyes, phthalein dyes, polymethine dyes (for example, oxonol dyes, merocyanine dyes, cyanine dyes, rhodacyanine dyes, styryl dyes, etc.), phthalocyanine dyes (which may contain metal), and the like.

更に具体的には、カーボニウム系色素、トリフェニルメ
タン色素、キサンチン系色素、フタレイン系色素を中心
に用いたものとしては、特公昭51452号、特開昭5
0−90334号、特開昭50−114227号、特開
昭53−39130号、特開昭5382353号、米国
特許筒3,052,540号、米国特許筒4,054,
450号、特開昭57−16456号等に記載のものが
挙げられる。
More specifically, examples using mainly carbonium dyes, triphenylmethane dyes, xanthine dyes, and phthalein dyes include Japanese Patent Publication No. 51452 and Japanese Patent Publication No. 5
0-90334, JP 50-114227, JP 53-39130, JP 5382353, U.S. Patent No. 3,052,540, U.S. Patent No. 4,054,
450, JP-A-57-16456, and the like.

オキソノール色素、メロシアニン色素、シアニン色素、
ロダシアニン色素等のポリメチン色素としては、F、M
、Harmmar rThe Cyanine Dye
s andRelated Compour+ds J
等に記載の色素類が使用可能であり、更に具体的には、
米国特許筒3,047,384号、米国特許筒3.11
0,591号、米国特許筒3,121.008号、米国
特許筒3,125,447号、米国特許筒3.128,
179号、米国特許筒3,132,942号、米国特許
筒3,622,317号、英国特許第1,226,89
2号、英国特許第1,309,274号、英国特許第1
,405,898号、特公昭48−7814号、特公昭
55−18892号等に記載の色素が挙げられる。
oxonol dye, merocyanine dye, cyanine dye,
Polymethine dyes such as rhodacyanine dyes include F, M
,Harmmar rThe Cyanine Dye
s andRelated Compour+ds J
It is possible to use the pigments described in et al., and more specifically,
U.S. Patent No. 3,047,384, U.S. Patent No. 3.11
No. 0,591, U.S. Patent No. 3,121.008, U.S. Patent No. 3,125,447, U.S. Patent No. 3.128,
No. 179, U.S. Patent No. 3,132,942, U.S. Patent No. 3,622,317, British Patent No. 1,226,89
No. 2, British Patent No. 1,309,274, British Patent No. 1
, No. 405,898, Japanese Patent Publication No. 48-7814, Japanese Patent Publication No. 55-18892, and the like.

更に、700nm以上の長波長の近赤外〜赤外光域を分
光増感するポリメチン色素として、特開昭47840号
、特開昭47−44180号、特公昭51−41061
号、特開昭49−5034号、特開昭49−45122
号、特開昭5746245号、特開昭56−35141
号、特開昭57−157254号、特開昭61−260
44号、特開昭61−27551号、米国特許筒3.6
19.154号、米国特許筒4,175,956号、’
Re5earch Disclosurel 1982
年、216、第117〜118頁等に記載のものが挙げ
られる。本発明の感光体は種々の増悪色素を併用させて
も、その性能が増感色素により変動しにくい点において
優れている。更には、必要に応して、化学増感剤等の従
来知られている電子写真感光層用各種添加側を併用する
こともできる0例えば、前記した総説:イメージング■
例(階8)第12頁等の総説引例の電子受容性化合物(
例えば、ハロゲン、ベンゾキノン、クロラニル、酸無水
物、有機カルボン酸等)、小門宏等、「最近の光導電材
料と感光体の開発・実用化」第4章〜第6章二日本科学
情報■出版部(1986年)の総説引例のポリアリール
アルカン化合物、ヒンダードフェノール化合物、p−フ
ェニレンジアミン化合物等が挙げられる。
Furthermore, as a polymethine dye that spectrally sensitizes the near-infrared to infrared light region with a long wavelength of 700 nm or more, JP-A-47840, JP-A-47-44180, and JP-B-Sho 51-41061 are used.
No., JP-A-49-5034, JP-A-49-45122
No., JP-A-5746245, JP-A-56-35141
No., JP-A-57-157254, JP-A-61-260
No. 44, JP-A No. 61-27551, U.S. Patent No. 3.6
No. 19.154, U.S. Pat. No. 4,175,956,'
Research Disclosure 1982
216, pp. 117-118. The photoreceptor of the present invention is excellent in that its performance does not easily vary depending on the sensitizing dye, even when various sensitizing dyes are used together. Furthermore, if necessary, various conventionally known additives for electrophotographic photosensitive layers, such as chemical sensitizers, can be used in combination.
Example (Floor 8) Electron-accepting compounds cited in the review, such as page 12 (
For example, halogens, benzoquinone, chloranil, acid anhydrides, organic carboxylic acids, etc.), Hiroshi Komon et al., "Recent Development and Practical Application of Photoconductive Materials and Photoreceptors" Chapters 4 to 6 2 Japanese Scientific Information ■ Examples include polyarylalkane compounds, hindered phenol compounds, and p-phenylenediamine compounds cited in the review published by Shuppan Department (1986).

これら各種添加剤の添加量は、特に限定的ではないが、
通常光導電体100重量部に対して0.0001〜2.
0重量部である。
The amount of these various additives added is not particularly limited, but
Usually 0.0001 to 2.0 parts per 100 parts by weight of photoconductor.
It is 0 parts by weight.

光導電層の厚さは1〜100 μ、特には10〜50μ
が好適である。
The thickness of the photoconductive layer is between 1 and 100μ, in particular between 10 and 50μ.
is suitable.

また、電荷発生層と電荷輸送層の積層型感光体の電荷発
生層として光導電層を使用する場合は電荷発生層の厚さ
は0.01〜1μ、特には0.05〜0.5μが好適で
ある。
In addition, when a photoconductive layer is used as a charge generation layer in a laminated photoreceptor consisting of a charge generation layer and a charge transport layer, the thickness of the charge generation layer is 0.01 to 1μ, particularly 0.05 to 0.5μ. suitable.

感光体の保護および耐久性、暗減衰特性の改善等を主目
的として絶縁層を付設させる場合もある。
In some cases, an insulating layer is added mainly for the purpose of protecting the photoreceptor, improving its durability, dark decay characteristics, etc.

この時は絶縁層は比較的薄く設定され、感光体を特定の
電子写真プロセスに用いる場合に設けられる絶縁層は比
較的厚く設定される。
At this time, the insulating layer is set to be relatively thin, and when the photoreceptor is used for a specific electrophotographic process, the insulating layer provided is set to be relatively thick.

後者の場合、絶縁層の厚さは、5〜70μ、特には、1
0〜50μに設定される。
In the latter case, the thickness of the insulating layer is between 5 and 70μ, in particular 1
It is set to 0 to 50μ.

積層型感光体の電荷輸送材料としてはポリビニルカルバ
ゾール、オキサゾール系色素、ビラプリン系色素、トリ
フェニルメタン系色素などがある。
Charge transport materials for the laminated photoreceptor include polyvinylcarbazole, oxazole dyes, birapurin dyes, triphenylmethane dyes, and the like.

電荷輸送層の厚さとしては5〜40μ、特には10〜3
0μが好適である。
The thickness of the charge transport layer is 5 to 40 μm, particularly 10 to 3 μm.
0μ is suitable.

絶縁層あるいは電荷輸送層の形成に用いる樹脂としては
、代表的なものは、ポリスチレン樹脂、ポリエステル樹
脂、セルロース樹脂、ポリエーテル樹脂、塩化ビニル樹
脂、酢酸ビニル樹脂、塩ビー酢ビ共重合体樹脂、ポリア
クリル樹脂、ポリオレフィン樹脂、ウレタン樹脂、エポ
キシ樹脂、メラミン樹脂、シリコン樹脂の熱可塑性樹脂
及び硬化性樹脂が適宜用いられる。
Typical resins used to form the insulating layer or charge transport layer include polystyrene resin, polyester resin, cellulose resin, polyether resin, vinyl chloride resin, vinyl acetate resin, vinyl chloride vinyl acetate copolymer resin, Thermoplastic resins and curable resins such as polyacrylic resins, polyolefin resins, urethane resins, epoxy resins, melamine resins, and silicone resins are used as appropriate.

本発明による光導電層は、従来公知の支持体上に設ける
ことができる。一般に云って電子写真感光層の支持体は
、導電性であることが好ましく、導電性支持体としては
、従来と全く同様、例えば、金属、紙、プラスチックシ
ート等の基体に低抵抗性物質を含浸させるなどして導電
処理したもの、基体の裏面(感光層を設ける面と反対面
)に導電性を付与し、更にはカール防止を図る等の目的
で少なくとも1層以上をコートしたもの、前記支持体の
表面に耐水性接着層を設けたもの、前記支持体の表面層
に必要に応して少なくとも1層以上のプレコート層が設
けられたもの、AI等を蒸着した基体導電化プラスチッ
クを紙にラミネートしたもの等が使用できる。
The photoconductive layer according to the invention can be provided on a conventionally known support. Generally speaking, the support for the electrophotographic photosensitive layer is preferably electrically conductive.As the electrically conductive support, for example, a base material such as metal, paper, or plastic sheet impregnated with a low-resistance substance is used in the same manner as in the past. those that have been subjected to conductive treatment, such as those that have been coated with at least one layer for the purpose of imparting conductivity to the back surface of the substrate (the surface opposite to the surface on which the photosensitive layer is provided) and also to prevent curling, and those that have been coated with at least one layer for the purpose of preventing curling, etc. Paper with a water-resistant adhesive layer on the surface of the body, paper with at least one precoat layer as required on the surface layer of the support, and paper with conductive plastic on which AI or the like is deposited. Laminated materials can be used.

具体的に、導電性基体あるいは導電化材料の例として、
坂本幸男、「を子写真」、14 (隘1)、22〜11
 (1975) 、森賀弘之、「入門特殊紙の化学」高
分子刊行会(1975)、 M、F、Hoover、 
J。
Specifically, examples of conductive substrates or conductive materials include:
Yukio Sakamoto, “Child Photography”, 14 (No. 1), 22-11
(1975), Hiroyuki Moriga, “Introductory Chemistry of Special Papers” Kobunshi Publishing (1975), M.F., Hoover.
J.

Macromol、 Sci、 ChelW、 A−4
(6)、第1327〜第1417頁(1970)等に記
載されているもの等を用いる。
Macromol, Sci, ChelW, A-4
(6), pages 1327 to 1417 (1970), etc. are used.

(実施例) 以下に本発明の実施例を例示するが、本発明の内容がこ
れらに限定されるものではない。
(Example) Examples of the present invention are illustrated below, but the content of the present invention is not limited thereto.

マクロモノマ−(?IA)の製造例1:MM−1エチル
メタクリレート90g、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レ−Hog、チオグリコール#I5g及びトルエン20
0gの混合溶液を、窒素気流下攪拌しながら、温度75
℃に加温した。2,2′−アゾビスイソブチロニトリル
(略称A、 1.B、N、)1.0 gを加え、8時間
反応した。次にこの反応溶液にグリシジルメタクリレー
ト8g、N、N−ジメチルドデシルアミン1.0g及び
t−ブチルハイドロキノン0.5gを加え、温度100
’Cにて12時間攪拌した。冷却後この反応溶液をn−
ヘキサン21中に再沈し、白色粉末を82g得た。重合
体の重量平均分子量は3.8 XIO’であった。
Production example 1 of macromonomer (?IA): 90 g of MM-1 ethyl methacrylate, 2-hydroxyethyl methacrylate-Hog, 5 g of thioglycol #I, and 20 g of toluene.
0g of the mixed solution was heated to a temperature of 75% while stirring under a nitrogen stream.
Warmed to ℃. 1.0 g of 2,2'-azobisisobutyronitrile (abbreviated as A, 1.B, N) was added and reacted for 8 hours. Next, 8 g of glycidyl methacrylate, 1.0 g of N,N-dimethyldodecylamine and 0.5 g of t-butylhydroquinone were added to this reaction solution, and the temperature was increased to 100.
The mixture was stirred at 'C for 12 hours. After cooling, this reaction solution was
It was reprecipitated into hexane 21 to obtain 82 g of white powder. The weight average molecular weight of the polymer was 3.8 XIO'.

(MM−1) CHユ マクロモノマー(MA)の製造例2:MM−2ブチルメ
タクリレート90g、メタクリル#10g、2−メルカ
プトエタノール4g及びテトラヒドロフラン200gの
混合溶液を窒素気流下温度70゛Cに加温した。 A、
lB、N、 1.2gを加え、8時間反応した。
(MM-1) Production example 2 of CH yumacromonomer (MA): MM-2 A mixed solution of 90 g of butyl methacrylate, 10 g of methacrylic #, 4 g of 2-mercaptoethanol, and 200 g of tetrahydrofuran was heated to a temperature of 70°C under a nitrogen stream. did. A,
1.2 g of 1B and N were added and reacted for 8 hours.

次にこの反応溶液を水浴中で冷却して温度20°Cとし
、トリエチルアミン10.2 gを加え、メタクリル酸
クロライド14.5 gを温度25°C以下で撹拌下し
で滴下した。滴下後そのまま1時間更に攪拌した。
Next, this reaction solution was cooled in a water bath to a temperature of 20°C, 10.2 g of triethylamine was added, and 14.5 g of methacrylic acid chloride was added dropwise with stirring at a temperature of 25°C or less. After the dropwise addition, the mixture was further stirred for 1 hour.

その後、t−ブチルハイドロキノン0.5gを加え温度
60゛Cに加温し、4時間攪拌した。冷却後、水ll中
に撹拌しながら滴下しく約10分間)、そのまま1時間
攪拌して静置後、水をデカンテーションで除去した。水
での洗浄を更に2回行なった後、テトラヒドロフラン1
00−に溶解し、石油エーテル2!中に再沈した。沈澱
物をデカンテーションで補集し、減圧下に乾燥した。得
られた粘稠物の収量は65gで重量平均分子量5.6 
x 103であった。
Thereafter, 0.5 g of t-butylhydroquinone was added and the mixture was heated to 60°C and stirred for 4 hours. After cooling, the mixture was added dropwise to 1 liter of water with stirring for about 10 minutes), stirred as it was for 1 hour, left to stand, and then the water was removed by decantation. After two more washes with water, 1 ml of tetrahydrofuran
00-, petroleum ether 2! It sank back inside. The precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure. The yield of the obtained viscous material was 65 g, and the weight average molecular weight was 5.6.
It was x 103.

(MM−2) COOC4H9C0OH マクロモノマー(MA)の製造例3:MM−3ベンジル
メタクリレート95g1 2−ホスホノエ チルメタクリレート5g12−アミノエチルメルカプタ
ン4g及びテトラヒドロフラン200gの混合物を、窒
素気流下攪拌下に温度70″Cに加温した。
(MM-2) COOC4H9C0OH Production Example 3 of Macromonomer (MA): MM-3 95 g of benzyl methacrylate 1 5 g of 2-phosphonoethyl methacrylate 1 A mixture of 4 g of 2-aminoethyl mercaptan and 200 g of tetrahydrofuran was heated at a temperature of 70'' with stirring under a nitrogen stream. It was heated to C.

A、1.B、N、 1.5gを加え4時間反応させ、更
にA、1.B、N、 0.5gを加えて4時間反応させ
た。次に、この反応溶液を温度20゛Cに冷却し、アク
リル酸無水物10gを加えて温度20〜25゛Cで1時
間攪拌した。
A.1. B, N, 1.5g were added and reacted for 4 hours, and A, 1. 0.5 g of B and N were added and reacted for 4 hours. Next, this reaction solution was cooled to a temperature of 20°C, 10 g of acrylic anhydride was added, and the mixture was stirred at a temperature of 20 to 25°C for 1 hour.

次にt〜ブヂルハイトロキノン1.0gを加え温度50
〜60°Cで4時間攪拌した。冷却後、水1β中に攪拌
しながら、この反応混合物を約10分間で滴下し、その
まま1時間攪拌した後静置して、水をデカンテーション
で除去した。水での洗浄を更に2回繰り返した後、テト
ラヒドロフラン100dに溶解し、石油エーテル21中
に再沈した。沈澱物をデカンテーションで補集し、減圧
下に乾燥した。
Next, add 1.0 g of butylhytroquinone and bring to a temperature of 50.
Stir at ~60°C for 4 hours. After cooling, the reaction mixture was added dropwise to water 1β over about 10 minutes while stirring, and after stirring for 1 hour, it was allowed to stand, and the water was removed by decantation. After repeating the washing with water two more times, it was dissolved in 100 d of tetrahydrofuran and reprecipitated in 21 d of petroleum ether. The precipitate was collected by decantation and dried under reduced pressure.

得られた粘稠物の収量は70gで重量平均分子量7.4
 XIO’であった。
The yield of the viscous material obtained was 70g, and the weight average molecular weight was 7.4.
It was XIO'.

(MM−3) マクロモノマー(MA)の製造例4:MM−42−クロ
ロフェニルメタクリレート90g、下記構造(1)の単
量体10g、チオグリコール酸4g及びトルエン200
gの混合溶液を、窒素気流下温度70°Cに加温した。
(MM-3) Production example 4 of macromonomer (MA): 90 g of MM-42-chlorophenyl methacrylate, 10 g of the monomer of the following structure (1), 4 g of thioglycolic acid, and 200 g of toluene.
The mixed solution of g was heated to a temperature of 70°C under a nitrogen stream.

A、1.B、N、 1.5gを加え5時間反応し、更に
A、1.B、N、  0.5gを加え4時間反応した。
A.1. 1.5 g of B and N were added and reacted for 5 hours, and then A, 1. 0.5 g of B and N were added and reacted for 4 hours.

次にグリシジルメタクリレート12.4g、 )i、1
1ジメチルドデシルアミン1.0g及びも−ブチルハイ
ドロキノン1.5gを加え温度110 ’Cで8時間反
応した。冷却後この反応混合物をp−)ルエンスルホン
酸3 g 、 90vo1mテトラヒドロフラン水溶液
1O(lad!に溶液に加え、温度30〜35°Cで1
時間攪拌した。水/エタノール((1/3)容積比〕の
混合溶液2f中に、上記混合物を再沈し、デカンテーシ
ョンで沈澱物を補集した。この沈澱物をテトラヒドロフ
ラン200111に溶解しn−ヘキサン21中に再沈し
、粉末58gを得た。重量平均分子量は7.6×103
であった。
Next, 12.4 g of glycidyl methacrylate, )i, 1
1.0 g of 1-dimethyldodecylamine and 1.5 g of butylhydroquinone were added and reacted at a temperature of 110'C for 8 hours. After cooling, the reaction mixture was added to a solution of 3 g of p-)luenesulfonic acid and 1 O (lad!) of a 90 vol.
Stir for hours. The above mixture was reprecipitated in 2f of a mixed solution of water/ethanol ((1/3) volume ratio), and the precipitate was collected by decantation.The precipitate was dissolved in tetrahydrofuran 200111 and n-hexane 21. was reprecipitated to obtain 58 g of powder.The weight average molecular weight was 7.6 x 103.
Met.

単量体(1) CH3 CII2=CCL COO5i−CatlJt) CH3 (MM−4) CH。Monomer (1) CH3 CII2=CCL COO5i-CatlJt) CH3 (MM-4) CH.

呂 マクロモノマ−(MA)の製造例5:MM−52,6−
シクロロフエニルメタクリレート95g、3(2′−ニ
トロヘンシルオキシスルホニル)プロピルメタクリレー
ト5g、トルエン150g及びイソプロピルアルコール
50gの混合溶液を窒素気流下に温度80°Cに加温し
た。2.2′−アゾビス(2−シフ/吉草酸)(略称:
 A、C,V、)5.0 gを加え5時間反応し、更に
A、C,V、 1.0gを加えて4時間反応した。冷却
後、メタノール2!中にこの反応物を再沈し、粉末を濾
集し、減圧乾燥した。
Production example 5 of macromonomer (MA): MM-52,6-
A mixed solution of 95 g of cyclophenyl methacrylate, 5 g of 3(2'-nitrohensyloxysulfonyl)propyl methacrylate, 150 g of toluene and 50 g of isopropyl alcohol was heated to a temperature of 80° C. under a nitrogen stream. 2.2'-azobis(2-Schiff/valeric acid) (abbreviation:
5.0 g of A, C, V,) was added and reacted for 5 hours, and further 1.0 g of A, C, V, was added and reacted for 4 hours. After cooling, methanol 2! The reaction product was reprecipitated in the solution, and the powder was collected by filtration and dried under reduced pressure.

上記粉末50gグリシジルメタクリレート14g1N、
N−ジメチルトシルアミン0.6g、  t−ブチルハ
イドロキノン1.0g及びトルエン100gの混合物を
温度110°Cで10時間攪拌した。室温に冷却後80
Wの高圧水銀灯にて、この混合物を攪拌下に1時間光照
射した。その後反応混合物をメタノール1!中に再沈し
、粉末を濾集・減圧乾燥した。収量34gで重量平均分
子量7.3XIO3であった。
The above powder 50g glycidyl methacrylate 14g 1N,
A mixture of 0.6 g of N-dimethyltosylamine, 1.0 g of t-butylhydroquinone, and 100 g of toluene was stirred at a temperature of 110°C for 10 hours. After cooling to room temperature 80
The mixture was irradiated with light for 1 hour under stirring using a W high-pressure mercury lamp. After that, the reaction mixture was mixed with methanol 1! The powder was collected by filtration and dried under reduced pressure. The yield was 34 g and the weight average molecular weight was 7.3XIO3.

(MM−5) CH。(MM-5) CH.

樹脂〔A〕の製造例1:A−1 フェニルメタクリレート75g1マクロモノマー(MA
)の合成例2の化合物(MM−2) 25g及びトルエ
ン100gの混合溶液を、窒素気流下に温度100°C
に加温した。 A、1.B、N、、 6gを加え4時間
反応させ、更にA、1.B、N、 3 gを加え3時間
反応させた。得られた共重合体の重量平均分子量は8.
6X10″であった。
Production example 1 of resin [A]: A-1 Phenyl methacrylate 75g 1 macromonomer (MA
) A mixed solution of 25 g of the compound (MM-2) of Synthesis Example 2 and 100 g of toluene was heated at a temperature of 100°C under a nitrogen stream.
It was heated to A.1. Add 6g of B, N, and react for 4 hours, and then add A, 1. 3 g of B and N were added and reacted for 3 hours. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 8.
It was 6×10″.

(A−1) Coo(Cut)コ5OsH 樹脂〔A〕の製造例2:A−2 2−クロロフェニルメタクリレート70g、マクロモノ
マ−(MA)の合成例1の化合物(MM−1)30g、
β−メルカプトプロとオン酸3.0g及びトルエン15
0gの混合溶液を窒素気流下に温度80°Cに加温した
。 A、1.B。
(A-1) Coo(Cut) Co5OsH Resin [A] Production Example 2: A-2 70 g of 2-chlorophenyl methacrylate, 30 g of the compound (MM-1) of Synthesis Example 1 of macromonomer (MA),
β-Mercaptopro, 3.0 g of onic acid and 15 toluene
0 g of the mixed solution was heated to a temperature of 80° C. under a nitrogen stream. A.1. B.

N、 1.0gを加え4時間反応し、後A、1.B、N
、 0.5gを加え2時間、更にA、1.B、N、 0
.3gを加え3時間反応した。
After adding 1.0 g of N and reacting for 4 hours, A.1. B, N
, 0.5g was added for 2 hours, and then A.1. B, N, 0
.. 3 g was added and reacted for 3 hours.

得られた共重合体の重量平均分子量は8.5X10’で
あった。
The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 8.5×10′.

(A−2) た。得られた共重合体の重量平均分子量は8.5X10
’であった。
(A-2) Ta. The weight average molecular weight of the obtained copolymer was 8.5×10
'Met.

(A−3) 樹脂〔A〕の製造例3:A−3 2−クロロ−6−メチルフェニルメタクリレート60g
、マクロモノマー(?IA)の合成例4の化合物:(M
M−4) 25 g 、メチルアクリレート15g、 
 トルエン100g及びイン10ピルアルコール50g
の混合溶液を窒素気流下温度80℃に加温した。 A、
C,シ、、5gを加え5時間反応し更にA、C,V、、
 1 gを加え4時間反応ししl 樹脂[A)の製造例4〜13 : A−4〜A−13樹
脂[A)の製造例1 (A−1)と同様の方法で、下表
−1に示す各樹脂[A)を製造した。各樹脂[A)の重
量平均分子量は6.OXIO’〜9X10’の範囲であ
った。
(A-3) Production example 3 of resin [A]: A-3 60 g of 2-chloro-6-methylphenyl methacrylate
, compound of synthesis example 4 of macromonomer (?IA): (M
M-4) 25 g, methyl acrylate 15 g,
100g toluene and 50g in-10-pyl alcohol
The mixed solution was heated to 80° C. under a nitrogen stream. A,
Add 5g of C, C, , react for 5 hours, and then add A, C, V, ,
1 g was added and reacted for 4 hours.Production Examples 4 to 13 of Resin [A]: A-4 to A-13 Production Examples of Resin [A) 1 In the same manner as in (A-1), the following table - Each resin [A) shown in 1 was manufactured. The weight average molecular weight of each resin [A] is 6. It ranged from OXIO' to 9X10'.

樹脂〔A〕の製造例14〜27 : A−14〜A−2
7樹脂〔A〕の製造例2 (A−2)と同様の方法で下
表−2に示す各樹脂〔A〕を製造した。各市〔A〕の重
量平均分子量は5×103〜9X103の範囲であった
・ マクロモノマ−(MB)の合成例1:(M−1)トリフ
ェニルメチルメタクリレート10g及びトルエン100
 gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し一20’C
に冷却した。
Production examples 14 to 27 of resin [A]: A-14 to A-2
7 Production Example 2 of Resin [A] Each resin [A] shown in Table 2 below was produced in the same manner as in (A-2). The weight average molecular weight of each city [A] was in the range of 5 x 103 to 9 x 103. Synthesis example 1 of macromonomer (MB): (M-1) 10 g of triphenylmethyl methacrylate and 100 g of toluene
The mixed solution of g was thoroughly degassed under a nitrogen stream and heated to 20'
It was cooled to

1.1−ジフェニルブチルリチウム0.02gを加え1
0時間反応した。
1. Add 0.02g of 1-diphenylbutyllithium
Reacted for 0 hours.

更にこの混合溶液に、エチルメタクリレート90g及び
トルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気
した後添加し、更に10時間反応した。
Furthermore, a mixed solution of 90 g of ethyl methacrylate and 100 g of toluene was added to this mixed solution after sufficient degassing under a nitrogen stream, and the mixture was reacted for further 10 hours.

この混合物を0℃にした後、炭酸ガスを60d/gin
の流量で30分間通気し、重合反応を停止させた。
After this mixture was brought to 0°C, carbon dioxide gas was added at 60 d/gin.
The polymerization reaction was stopped by aerating at a flow rate of 30 minutes.

得られた反応液を、攪拌下に、温度25°Cとし、2−
ヒドロキシエチルメタクリレート6gを加え、更に、ジ
シクロへキシルカルボジイミド10g、4N、N−ジメ
チルアミノピリジン0.2g及び塩化メチレン30gの
混合溶液を30分間で滴下し、そのまま3時間撹拌した
The resulting reaction solution was brought to a temperature of 25°C with stirring, and 2-
6 g of hydroxyethyl methacrylate was added, and a mixed solution of 10 g of dicyclohexylcarbodiimide, 0.2 g of 4N,N-dimethylaminopyridine, and 30 g of methylene chloride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was stirred for 3 hours.

析出した不溶物を濾別後、この混合溶液に30重量%塩
化水素、・エタノール溶液10dを加え1時間攪拌した
0次に減圧下に反応混合物を全体量が半分になるまで溶
媒を留去した後、石油エーテルll中に再沈した。
After filtering out the precipitated insoluble matter, 10 d of 30% by weight hydrogen chloride/ethanol solution was added to this mixed solution and stirred for 1 hour.Next, the solvent was distilled off from the reaction mixture under reduced pressure until the total volume was reduced to half. After that, it was reprecipitated into 1 liter of petroleum ether.

沈澱物を捕集し、減圧乾燥して得られた重合体は、−6
,5×103で収量56gであった。
The polymer obtained by collecting the precipitate and drying it under reduced pressure is -6
, 5 x 103, yield was 56 g.

(M−1) Hz マクロモノマー(MB)の合成例1(M−2)ヘンシル
メタクリレート5g、(テトラフェニルポルフィナート
)アルミニウムメチル0.01 g及び塩化メチレン6
0gの混合溶液を窒素気流下に温度30°Cとした。こ
れに300W−キセノンランプ光をガラスフィルターを
通して25cmの距離から光照射し、12時間反応した
。この混合物に更にブチルメタクリレ−)45gを加え
、同様に8時間光照射した後、この反応混合物に4−ブ
ロモメチルスチレン5gを加え30分間攪拌し反応を停
止させた。
(M-1) Hz Synthesis example 1 of macromonomer (MB) (M-2) 5 g of hensyl methacrylate, 0.01 g of aluminum methyl (tetraphenylporphinate) and 6 methylene chloride
0 g of the mixed solution was brought to a temperature of 30° C. under a nitrogen stream. This was irradiated with 300 W xenon lamp light from a distance of 25 cm through a glass filter, and reacted for 12 hours. After further adding 45 g of butyl methacrylate to this mixture and irradiating it with light for 8 hours, 5 g of 4-bromomethylstyrene was added to the reaction mixture and stirred for 30 minutes to stop the reaction.

次にこの反応混合物にPd−Cを加え、温度25°Cで
1時間接触還元反応を行なった。
Next, Pd-C was added to this reaction mixture, and a catalytic reduction reaction was carried out at a temperature of 25°C for 1 hour.

不溶物を濾別した後、石油エーテル500d中に再沈し
、沈澱物を捕集し乾燥した。得られた重合体は収量33
gで〜7X10’であった。
After filtering off the insoluble matter, it was reprecipitated in 500 d of petroleum ether, and the precipitate was collected and dried. The obtained polymer had a yield of 33
It was ~7X10' in g.

(M−2) マクロモノマ−(MB)の合成例3 : (M−3)4
−ビニルフェニルオキシトリメチルシラン20g及びト
ルエン100gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し
、0°Cに冷却した。1.l−ジフェニル−3−メチル
ペンチルリチウム0.1gを加え、6時間攪拌した。更
にこの混合物に2−クロロ6−メチルフェニルメタクリ
レート80g及びトJレニン100gの混合溶液を窒素
気流下に充分脱気した後添加して8時間反応した。この
反応混合物に充分に攪拌しながらエチレンオキサイドを
30d/分の流量で30分間通気した後、温度15°C
に冷却しメタクリル酸クロライド8gを30分間で滴下
し、更にそのまま3時間攪拌した。
(M-2) Synthesis example 3 of macromonomer (MB): (M-3)4
A mixed solution of 20 g of -vinylphenyloxytrimethylsilane and 100 g of toluene was sufficiently degassed under a nitrogen stream and cooled to 0°C. 1. 0.1 g of l-diphenyl-3-methylpentyllithium was added and stirred for 6 hours. Further, a mixed solution of 80 g of 2-chloro 6-methylphenyl methacrylate and 100 g of ToJ renin was added to this mixture after sufficient degassing under a nitrogen stream, and the mixture was reacted for 8 hours. Ethylene oxide was bubbled through the reaction mixture at a flow rate of 30 d/min for 30 minutes with sufficient stirring, and the temperature was 15°C.
8 g of methacrylic acid chloride was added dropwise over 30 minutes, and the mixture was further stirred for 3 hours.

次にこの反応混合物に30重量%塩化水素エタノール溶
液10dを加え、25゛Cで1時間攪拌した後、石油エ
ーテル11中に再沈し、捕集した沈澱物をジエチルエー
テル300雌で2回洗浄し乾燥した。
Next, 10 d of a 30% by weight hydrogen chloride ethanol solution was added to this reaction mixture, and after stirring at 25°C for 1 hour, it was reprecipitated in 11 petroleum ether, and the collected precipitate was washed twice with diethyl ether 300. and dried.

得られた重合体は、収量55gで?1w 7.8XIO
’であった。
The obtained polymer had a yield of 55g? 1w 7.8XIO
'Met.

CH。CH.

マクロモノマー(MB)の合成例4: (M−4)トリ
フェニルメチルアクリレート15g及びトルエン100
gの混合溶液を窒素気流下に充分に脱気し一20℃に冷
却した。
Synthesis example 4 of macromonomer (MB): (M-4) 15 g of triphenylmethyl acrylate and 100 g of toluene
The mixed solution of g was thoroughly degassed under a nitrogen stream and cooled to -20°C.

5ec−ブチルリチウム0.1gを加え、10時間反応
した。
0.1 g of 5ec-butyllithium was added and reacted for 10 hours.

次に、この混合溶液にスチレン85g及びトルエン10
0gの混合溶液を充分に窒素気流下で脱気した後添加し
、12時間反応した。この混合物を0°Cにした後、ヘ
ンシルブロマイド8gを加え1時間反応し、温度25°
Cで更に2時間反応させた。
Next, add 85 g of styrene and 10 g of toluene to this mixed solution.
After sufficiently degassing under a nitrogen stream, 0 g of the mixed solution was added and reacted for 12 hours. After the mixture was cooled to 0°C, 8g of hensyl bromide was added and reacted for 1 hour, at a temperature of 25°C.
The reaction was continued for an additional 2 hours at C.

この反応混合物に30%塩化水素含有エタノール溶液1
0mを加え、2時間撹拌した。不溶物を濾別後、n−ヘ
キサンll中に再沈し、沈澱物を捕集して減圧乾燥した
。得られた重合体の収量は58gで、Fiw4.5x1
0+であった。
Add 1 part of a 30% hydrogen chloride-containing ethanol solution to this reaction mixture.
0m was added and stirred for 2 hours. After filtering off the insoluble matter, it was reprecipitated in 1 liter of n-hexane, and the precipitate was collected and dried under reduced pressure. The yield of the obtained polymer was 58g, Fiw4.5x1
It was 0+.

(M−4) CH2・C)! し、温度60″Cに加温した。(M-4) CH2・C)! and heated to a temperature of 60''C.

これに400Wの高圧水銀灯で10cmの距離からガラ
スフィルターを通して10時間光照射し光重合した。
This was irradiated with light from a 400 W high-pressure mercury lamp from a distance of 10 cm through a glass filter for 10 hours for photopolymerization.

これにアクリル酸20g及びメチルエチルケトン180
gを加えた後、窒素置換し再び10時間光照射した。
Add to this 20 g of acrylic acid and 180 g of methyl ethyl ketone.
After adding g, the atmosphere was replaced with nitrogen and light was irradiated again for 10 hours.

得られた反応混合物に、2−イソシアナートエチルメタ
クリレート6gを温度30゛Cで1時間で滴下し、さら
に2時間攪拌した。
To the resulting reaction mixture, 6 g of 2-isocyanatoethyl methacrylate was added dropwise at a temperature of 30°C over 1 hour, and the mixture was further stirred for 2 hours.

次に得られた反応物をヘキサン1.51に再沈し、捕集
し乾燥した。得られた重合体は、68gでFIl、16
、OXIO3であった。
Next, the obtained reaction product was reprecipitated in 1.5 ml of hexane, collected, and dried. The obtained polymer was 68 g FIl, 16
, OXIO3.

(M−5) マクロ七ツマ−(MB)の合成例5:(M−5)フェニ
ルメタクリレート80g、ベンジル−Nヒドロキシルエ
チル−N−エチルジチオカーハメ−)4.8gの混合物
を、窒素気流下に容器に密閉樹脂〔B〕の合成例1:l
:B−1) エチルメタクリレート80g、マクロモノマ樹脂(Bl
の合成例10〜20:  [B−10)〜[B20] 樹脂〔B〕の合成例1と同様の重合条件で、下記表−4
の共重合体を合成した。得られた重合体の〜は、各々9
X10’〜2X105であった。
(M-5) Synthesis Example 5 of Macro-Natsummer (MB): (M-5) A mixture of 80 g of phenyl methacrylate and 4.8 g of benzyl-N-hydroxylethyl-N-ethyl dithiocarboxylic acid was added under a nitrogen stream. Synthesis example 1 of resin [B] sealed in a container: l
:B-1) 80g of ethyl methacrylate, macromonomer resin (Bl
Synthesis Examples 10 to 20: [B-10) to [B20] Under the same polymerization conditions as in Synthesis Example 1 of resin [B], the following Table-4
A copolymer was synthesized. - of the obtained polymer are each 9
It was X10' to 2X105.

実施例1〜2及び比較例A−D 実施例1 樹脂CA]の合成例8で製造した樹脂CA−836g(
固形分量として)、樹脂〔B〕の製造例1で製造した樹
脂(B−1)34g(固形分量として)、酸化亜鉛20
0g、下記構造のシアニン色素(A10.018 g 
、サリチル酸0.20g及びトルエン300 gの混合
物をボールミル中で4時間分散して、感光層形成物を調
製し、これを導電処理した紙に、乾燥付着量が25 g
 / rdとなる樺に、ワイヤーバーで塗布し、110
°Cで30秒間乾燥し、ついで暗所で20°C65%R
Hの条件下で24時間放置することにより、電子写真感
光材料を作製した。
Examples 1 to 2 and Comparative Examples A to D Example 1 Resin CA] produced in Synthesis Example 8 of Resin CA-836g (
(as solid content), 34 g (as solid content) of resin (B-1) produced in Production Example 1 of resin [B], 20 g of zinc oxide
0 g, cyanine dye with the following structure (A10.018 g
, a mixture of 0.20 g of salicylic acid and 300 g of toluene was dispersed in a ball mill for 4 hours to prepare a photosensitive layer-forming product, and this was applied to conductive-treated paper with a dry adhesion amount of 25 g.
/ rd birch, apply with a wire bar, 110
Dry at °C for 30 seconds, then in the dark at 20 °C 65% R.
An electrophotographic light-sensitive material was produced by leaving it for 24 hours under H conditions.

シアニン色素〔A〕 りに樹脂(A−3〕6gを用いた他は、実施例1と同様
に操作して、電子写真感光材料を作製した。
Cyanine Dye [A] An electrophotographic light-sensitive material was prepared in the same manner as in Example 1, except that 6 g of cyanine dye [A] resin (A-3) was used.

比較例A 結着樹脂として、下記樹脂(R−1)6g及びポリ(エ
チルメタクリレート)(−一: 2.6X105) :
樹脂7R−2)34gを用いる以外は実施例1と同様の
操作で電子写真感光材料Aを製造した。
Comparative Example A As a binder resin, 6 g of the following resin (R-1) and poly(ethyl methacrylate) (-1: 2.6X105):
Electrophotographic material A was produced in the same manner as in Example 1 except that 34 g of resin 7R-2) was used.

樹脂(p−B 実施例2 実施例1において、樹脂(A−8)6gの代わ■w:8
XIQ3       C重量組成比〕比較例B 結着樹脂として、下記樹脂(、R−3)6g及び下記樹
脂(R−4)34gを用いる以外は実施例1と同様の操
作で電子写真感光材料Bを製造した。
Resin (p-B Example 2 In Example 1, instead of 6 g of resin (A-8) w: 8
XIQ3C weight composition ratio] Comparative Example B Electrophotographic photosensitive material B was prepared in the same manner as in Example 1, except that 6 g of the following resin (R-3) and 34 g of the following resin (R-4) were used as the binder resin. Manufactured.

樹脂〔R 3〕 わす)及び印刷性(地汚れ、耐剛性等)を調べた。Resin [R 3] Wash) and printability (scumming, rigidity resistance, etc.) were investigated.

以上の結果をまとめて、表−5に示す。The above results are summarized in Table-5.

Mw : 6.5 ×103 樹脂〔R 4〕 MwニアX10’ これらの感光材料の皮膜性(表面の平滑性)、膜強度、
静電特性、撮像性及び環境条件を30°C380%RH
とした時の静電特性及び撮像性を調べた。更に、これら
の感光材料をオフセ・ントマスター用原版として用いた
時の光導電性の不感脂イヒ性(不感脂化処理後の光導電
層の水との接触角で表表−5に示した評価項目の実施の
態様は以下の通りである。
Mw: 6.5 × 103 Resin [R 4] Mw Near X10' Film properties (surface smoothness), film strength,
Electrostatic properties, imaging performance, and environmental conditions at 30°C, 380%RH
The electrostatic properties and imaging performance were investigated. Furthermore, when these photosensitive materials are used as original plates for offset masters, the photoconductive resistance to fat loss (contact angle with water of the photoconductive layer after desensitization treatment is shown in Table 5). The implementation of the evaluation items is as follows.

注1)光導電層の平滑性: 得られた感光材料は、ヘック平滑度試験機(熊谷理工■
製)を用い、空気容量1ccの条件にて、その平滑度(
sec/cc)を測定した。
Note 1) Smoothness of photoconductive layer: The obtained photosensitive material was tested using a Heck smoothness tester (Kumagai Riko).
The smoothness (
sec/cc) was measured.

注2)光導電層の機械的強度: 得られた感光材料表面をヘイトン−14型表面性試験材
(新東化学■製)を用いて荷重60g/ctl+のもの
でエメリー紙(11000)で1000回繰り返し探り
摩耗粉を取り除き怒光層の重量減少から残膜率(%)を
求め機械的強度とした。
Note 2) Mechanical strength of the photoconductive layer: The surface of the photosensitive material obtained was tested with emery paper (11000) at a load of 60 g/ctl+ using Heyton-14 type surface test material (manufactured by Shinto Kagaku ■). The remaining film percentage (%) was determined from the weight loss of the irradiation layer after removing the abrasion powder and using the mechanical strength as the mechanical strength.

注3)静電特性: 温度20°C265%RHの暗室中で、各感光材料にペ
ーパーアナライザー(川口電機■製ペーパーアナライザ
ーS P−428型)を用いて一6kVで20秒間コロ
ナ放電をさせた後、10秒間放置し、この時の表面電位
■1゜を測定した。次いでそのまま暗中で180秒間静
置した後の電位VIQ。を測定し、180秒間暗減衰さ
せた後の電位の保持性、即ち、暗減衰保持率(DRI?
 (χ)を(ν1.。/νI。)×100(%)で求め
た。
Note 3) Electrostatic properties: In a dark room at a temperature of 20°C and 265% RH, each photosensitive material was subjected to corona discharge at -6 kV for 20 seconds using a paper analyzer (Paper Analyzer S P-428 model manufactured by Kawaguchi Electric). After that, it was left to stand for 10 seconds, and the surface potential (■1°) at this time was measured. The potential VIQ was then left to stand in the dark for 180 seconds. The retention of potential after dark decaying for 180 seconds, that is, the dark decay retention rate (DRI?)
(χ) was calculated as (ν1../νI.)×100(%).

又コロナ放電により光導電層表面を一400■に帯電さ
せた後、波長780nmの単色光で照射し、表面電位(
V+O)が1/lOに減衰するまでの時間を求め、これ
かみ露光量E l/It+ (erg / cffl)
を算出する。
After the surface of the photoconductive layer is charged to -400 μm by corona discharge, it is irradiated with monochromatic light with a wavelength of 780 nm to increase the surface potential (
Find the time until V+O) attenuates to 1/lO, and calculate the exposure amount E l/It+ (erg/cffl)
Calculate.

又表面電位(V+O)が1/100に減衰するまでの時
間を求め、これから露光量E l/loo (erg/
c%)を算出する。
Also, find the time until the surface potential (V+O) attenuates to 1/100, and calculate the exposure amount E l/loo (erg/
c%).

4)撮像性: 各感光材料を以下の環境条件で1昼夜放置した。4) Imaging performance: Each photosensitive material was left for one day and night under the following environmental conditions.

次に一5kVで帯電し、光源として2,0畦出力のガリ
ウムーアルミニウムーヒ素半導体レーザー(発振波長7
80na+ )を用いて、感光材料表面上で、40er
g/cdの照射量下、ピッチ25n及びスキャニング速
度330m/secのスピード露光後、液体現像剤とし
て、ELP−T  (富士写真フィルム■製)を用いて
現像し、定着することで得られた複写画像(カブリ、画
像の画質)を目視評価した。
Next, it is charged with -5 kV and used as a light source with a gallium-aluminum-arsenic semiconductor laser (oscillation wavelength 7
80na+) on the surface of the photosensitive material.
After exposure at a pitch of 25n and a scanning speed of 330m/sec under an irradiation dose of g/cd, a copy obtained by developing and fixing using ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film ■) as a liquid developer. Images (fogging, image quality) were visually evaluated.

撮像時の環境条件は20°C65%RHと30’C80
%RHHで実施した。
Environmental conditions during imaging were 20°C, 65% RH, and 30'C80.
%RHH.

注5)水との接触角: 各感光材料を不感脂化処理′fiELP−EX (富士
写真フィルム■製)を蒸留水で2倍に希釈した溶液を用
いて、エソチングプロセノサーに1回通して光導電層面
を不感脂化処理した後、これに蒸留水2μlの水滴を乗
せ、形成された水との接触角をゴニオメータ−で測定す
る。
Note 5) Contact angle with water: Each photosensitive material was desensitized using a solution prepared by diluting ``fiELP-EX'' (manufactured by Fuji Photo Film) twice with distilled water. After the surface of the photoconductive layer was desensitized by passing through the photoconductive layer, a droplet of 2 μl of distilled water was placed thereon, and the contact angle with the water formed was measured using a goniometer.

注6)耐剛性 各感光材料を上記注4)と同条件で製版してトナー画像
を形成し、上記注5)と同条件で不感脂化処理し、これ
をオフセットマスターとして、オフセント印刷機(桜井
製作所■製オリバー52型)にかけ、印刷物の非画像部
の地汚れ及び画像部の画質に問題が生しないで印刷でき
る枚数を示す(印刷枚数が多い程、耐剛性が良好なこと
を表わす)。
Note 6) Rigidity Resistance Each photosensitive material is plate-made under the same conditions as Note 4) above to form a toner image, desensitized under the same conditions as Note 5) above, and this is used as an offset master to print on an offset printing machine ( This indicates the number of sheets that can be printed without causing problems with background stains in the non-image areas of the printed matter and the image quality of the image areas (the higher the number of prints, the better the rigidity resistance). .

表−5に示す様に従来公知の樹脂を用いた比較例A、B
は光導電層の機械的強度が不充分であった。又これらの
感光体の静電特性は、D、l’1.R,かやや不満足で
高温・高湿の条件になると、その変動が更に大きくなっ
てしまった。又、El/100のE171゜からの変動
が大きすぎた。
Comparative Examples A and B using conventionally known resins as shown in Table 5
The mechanical strength of the photoconductive layer was insufficient. The electrostatic properties of these photoreceptors are D, l'1. R was somewhat unsatisfactory, and the fluctuations became even larger under high temperature and high humidity conditions. Also, the fluctuation of El/100 from E171° was too large.

これにより、低出力の半導体レーザー光によるスキャニ
ング露光方式で撮像した場合の撮像性は、特に高温・高
温条件下で複写画像の低下が見られた。
As a result, when an image is captured by a scanning exposure method using a low-power semiconductor laser beam, the image capture performance deteriorates, especially under high temperature/high temperature conditions.

即ち、低出力の光源による光照射量の制約あるいはスキ
ャニング露光方式による露光時間の間中の未露光部(画
像部分)の電位減衰が、実際の複写画像の画質低下(例
えばDイの低下、細線 文字等のカスレ発生等)をもた
らした。又半導体レーザー光が低出力となり、光照射量
が制約されてくると露光後の残留電位が重要な問題とな
り、実際の撮像性において、非画像部の地力ブリとなっ
て現われる。これは、静電特性のE、71゜。と対応し
、この値が小さい程好ましいことを表わす。比較例A−
Dは、未だ不充分であり、複写画像においても本撮像条
件の様な場合には、地力ブリの発生が見られた。
In other words, limitations on the amount of light irradiation due to a low-output light source or potential attenuation of unexposed areas (image areas) during the exposure time using the scanning exposure method may cause a decrease in the image quality of the actual copied image (for example, a decrease in D, fine lines). This resulted in blurring of letters, etc.). Furthermore, when the output of the semiconductor laser light becomes low and the amount of light irradiation is restricted, the residual potential after exposure becomes an important problem, and this appears in actual imaging performance as ground blur in non-image areas. This is the electrostatic characteristic E, 71°. The smaller this value is, the more preferable it is. Comparative example A-
D is still insufficient, and even in the copied image under the actual imaging conditions, the occurrence of ground force blur was observed.

しかし、本発明のいずれの感光材料も、静電特性、撮像
性ともに良好であった。更に、本発明の感光材料は比較
例A、Bと比らべ感光層の膜強度が向上した。
However, all of the photosensitive materials of the present invention had good electrostatic properties and good imaging properties. Furthermore, the film strength of the photosensitive layer of the photosensitive material of the present invention was improved compared to Comparative Examples A and B.

次にこれら製版後の感光体をオフセットマスター原版と
して用いた場合は、不感脂化処理液による不感脂化は、
いずれの場合も地力ブリのない非画像部分の水との接触
各が10度以下と小さく、充分に親水化されていた。し
かし、実際に大型の印刷機に相当する印刷条件で印刷し
た場合、比較例A、  Bは高温高湿の条件下で製版し
たオフセットマスター原版を用いた場合には、製版後の
複写画像の低下のために、印刷物の印刷画質にその欠点
が反映してしまい、結果として耐刷性が不充分となって
しまった。−力木発明の場合には、製版の環境条件にか
かわらず、地汚れのない鮮明な画質の印刷物が8000
枚以上得られた。
Next, when the photoreceptor after plate making is used as an offset master original plate, desensitization with a desensitization treatment liquid is as follows:
In all cases, the contact with water in the non-image area, which was free of burrs, was as small as 10 degrees or less, and was sufficiently hydrophilized. However, when printing was performed under printing conditions equivalent to those of a large-scale printing press, Comparative Examples A and B used offset master master plates made under high temperature and high humidity conditions, and the resulting image deteriorated after plate making. Therefore, the defects were reflected in the print image quality of the printed matter, resulting in insufficient printing durability. - In the case of the strength wood invention, 8,000 prints with clear image quality without background stains can be produced regardless of the environmental conditions of plate making.
I got more than one.

又、本発明の感光材料において、結着樹脂〔A〕中の主
鎖末端に極性基を含有した実施例2の方が、実施例1に
比べ静電特性及び撮像性が良好であり、更にオフセント
マスター原版としての耐刷枚数において、更に特性が向
上した。
In addition, in the photosensitive material of the present invention, Example 2 containing a polar group at the end of the main chain in the binder resin [A] has better electrostatic properties and imaging properties than Example 1, and furthermore, The printing durability as an off-cent master master plate has been further improved.

以上から、本発明の感光材料は、光導電層の平滑性、膜
強度、静電特性及び印刷性の全ての点において良好なも
のであった。
From the above, the photosensitive material of the present invention was good in all respects of the smoothness of the photoconductive layer, film strength, electrostatic properties, and printability.

実施例3〜22 実施例1において樹脂〔A−8〕6g及び樹脂(B−1
)34gの代わりに下記表−6の樹脂〔A〕を各々6g
、樹脂〔B〕を各々34g用い、又、シアニン色素〔A
〕 0.018 gの代わりに、下記構造のシアニン色
素〔B〕0.018 gを用いた他は、実施例1と同様
に操作して、各感光材料を作製した。
Examples 3 to 22 In Example 1, 6 g of resin [A-8] and resin (B-1
) 6g each of resin [A] shown in Table 6 below instead of 34g
, resin [B] were used in an amount of 34 g each, and cyanine dye [A] was used.
] Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1, except that 0.018 g of cyanine dye [B] having the following structure was used instead of 0.018 g.

シアニン色素〔B〕 表−6に示す様に、本発明では優れた結果が得られた。Cyanine dye [B] As shown in Table 6, excellent results were obtained in the present invention.

又、樹脂[A)が、末端極性基を含有する場合には静電
特性が更に向上する。又オフセットマスター原版として
、印刷した所いずれも8000枚以上の耐刷性を示した
Further, when the resin [A) contains a terminal polar group, the electrostatic properties are further improved. In addition, as an offset master original plate, it showed a printing durability of 8,000 sheets or more in all the places where it was printed.

実施例23〜34 実施例1において樹脂(A8)5g及び樹脂(B−1)
34gの代わりに下記表−7の樹脂(Allを各々6g
、樹脂(B)を各々34g用い、又シアニン色素〔A〕
 0.018 gの代わりに、下記構造のメチン色素(
C) 0.016 gを用いた他は、実施例1と同様に
操作して、各感光材料を作製した。
Examples 23 to 34 In Example 1, 5 g of resin (A8) and resin (B-1)
Instead of 34g, use 6g each of the resins (All) shown in Table 7 below.
, using 34 g each of resin (B), and cyanine dye [A]
Instead of 0.018 g, a methine dye with the following structure (
C) Each photosensitive material was produced in the same manner as in Example 1 except that 0.016 g was used.

メチン色素(C1 表−7 実施例1と同様にして各特性を測定した。Methine dye (C1 Table-7 Each characteristic was measured in the same manner as in Example 1.

本発明の各感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率
、光感度に優れ、実際の複写画像も高温高温の(30℃
80%RH)の過酷な条件においても、地力ブリの発生
のない鮮明な画像を得た。
Each of the photosensitive materials of the present invention has excellent chargeability, dark charge retention, and photosensitivity, and the actual reproduced images are also produced at high temperatures (30°C).
Even under the harsh conditions of 80% RH), clear images with no soil burr were obtained.

実施例35〜38 結着樹脂として、下記表−8に記した樹脂〔A〕6.5
g及び樹脂(B ) 33.5g、酸化亜鉛200g、
ローズベンガルo、os g 、ブロムフェノールブル
ー0.03g、ウラニン0.02 g、無水マレイン酸
0,3g及びトルエン240gの混合物をボールミル中
で4時間分散した。これを導電処理した紙に、乾燥付着
量20g/イとなる様にワイヤーバーで塗布し110℃
で30秒間加熱した0次いで20℃、65%RHの条件
下で24時間放置することにより電子写真悪光材料を作
製した。
Examples 35 to 38 As a binder resin, resin [A] 6.5 shown in Table 8 below
g and resin (B) 33.5g, zinc oxide 200g,
A mixture of Rose Bengal o, osg, bromophenol blue 0.03 g, uranine 0.02 g, maleic anhydride 0.3 g and toluene 240 g was dispersed in a ball mill for 4 hours. This was applied to conductive treated paper using a wire bar at a dry adhesion weight of 20 g/i and heated to 110°C.
An electrophotographic material was produced by heating the material for 30 seconds at 0 and then leaving it for 24 hours under conditions of 20° C. and 65% RH.

静電特性は、(30℃、80%RH)の条件下での測定
値。
Electrostatic properties are measured values under the conditions of (30°C, 80% RH).

本発明の感光材料は、いずれも帯電性、暗電荷保持率、
光感度に優れ、実際の複写画像も高温・高温の(30’
C−80%1it()の過酷な条件においても、地力ブ
リの発生のない、鮮明な画像を与えた。
The photosensitive material of the present invention has chargeability, dark charge retention,
It has excellent photosensitivity, and the actual copied images can be used even at high temperatures (30'
Even under the harsh conditions of C-80% 1it (20%), clear images were obtained with no occurrence of soil blurring.

更に、これをオフセントマスターの原版として用いて印
刷した所、表−10の耐刷枚数の所でも鮮明な画質の印
刷物を得た。
Further, when this was printed using as an original plate of an offset master, printed matter with clear image quality was obtained even at the number of prints shown in Table 10.

但し、静電特性における、El/□。はコロナ放tによ
り光導電層表面を一400νに帯電させた後、該光導電
層表面を照度2.0ルツクスの可視光で照射し、表面電
位(V、。)が1/10に減衰するまでの時間を求め、
これから露光量E1/1゜(ルックス・秒)を算出した
However, El/□ in electrostatic properties. After the surface of the photoconductive layer is charged to -400 ν by corona radiation, the surface of the photoconductive layer is irradiated with visible light at an illuminance of 2.0 lux, and the surface potential (V, .) is attenuated to 1/10. Find the time until
From this, the exposure amount E1/1° (lux/second) was calculated.

又、感光材料の製版は、全自動製版機ELP404ν(
富士写真フィルム■製)でELP−Tをトナーとして用
いて、トナー画像を形成した。
In addition, plate making of photosensitive materials is carried out using a fully automatic plate making machine ELP404ν (
A toner image was formed using ELP-T (manufactured by Fuji Photo Film ■) as a toner.

実施例39〜46 実施例35において、樹脂(A−’1 ) 6.5. 
g及び樹脂[B −1]33.5gの代わりに下記表−
10の各樹脂〔A〕6.及び樹脂(B)34gを用いた
他は、実施例35と同様にして各電子写真感光材料を作
製した。
Examples 39-46 In Example 35, resin (A-'1) 6.5.
g and the following table instead of 33.5 g of resin [B-1]-
10 each resin [A]6. Each electrophotographic light-sensitive material was produced in the same manner as in Example 35, except that 34 g of Resin (B) was used.

表−10 (発明の効果) 本発明によれば、環境条件の変動にかかわらず優れた静
電特性及び機械的強度を有する電子写真感光体を得るこ
とができる。
Table 10 (Effects of the Invention) According to the present invention, an electrophotographic photoreceptor having excellent electrostatic properties and mechanical strength can be obtained regardless of changes in environmental conditions.

又、オフセットマスター原版として、地汚れのない鮮明
な画像の印刷物を多数枚印刷することが(ほか3名) 実施例35と同様にして各測定を行なった。
In addition, as an offset master original plate, it was possible to print a large number of prints with clear images without background smudge (3 others).Each measurement was performed in the same manner as in Example 35.

本発明の感光材料は、いずれも 帯電性、暗電荷保持率
、光怒度に優れ、実際の複写画像も高温・高湿の(30
℃、 80%R+()の過酷な条件においても、地力ブ
リの発生のなに、鮮明な画像を与えた更に、これをオフ
セットマスターの原版として用いて印刷した所、いずれ
も8000枚以上の印刷が可能であった。
All of the photosensitive materials of the present invention have excellent chargeability, dark charge retention, and light intensity, and the actual reproduced images can be used under high temperature and high humidity conditions (30
Even under the harsh conditions of ℃ and 80% R + (), it produced clear images without causing any soil blurring.Furthermore, when this was used as an original plate for an offset master, more than 8,000 sheets were printed in each case. was possible.

Claims (3)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)無機光導電材料及び結着樹脂を少なくとも含有す
る光導電層を有する電子写真感光体において、該結着樹
脂が、下記に示される樹脂〔A〕の少なくとも1種と樹
脂〔B〕の少なくとも1種とを含有して成る事を特徴と
する電子写真感光体。 結着樹脂〔A〕; 下記一般式(IIa)及び(IIb)で示される重合体成分
のうちの少なくとも1種及び−COOH基、−PO_3
H_2基、−SO_3H基、−OH基及び▲数式、化学
式、表等があります▼{R_1は炭化水素基又は−OR
_2(R_2は炭化水素基を示す)を表わす}から選ば
れる少なくとも1つo極性基を含有する重合体成分のう
ちの少なくとも1種を各々含有する重合体成分の一方の
末端にのみ下記一般式( I )で示される重合性二重結
合基を結合して成る重量平均分子量2×10^4以下の
一官能性マクロモノマー(MA)と、下記一般式(III
)で示されるモノマーとから少なくとも成る重量平均分
子量1.0×10^3〜2.0×10^4の共重合体。 一般式( I ) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式( I )中、X_0は−COO−、−OCO−、−
CH_2OCO−、−CH_2COO−、−O−、−S
O_2−、−CO−、−CONHCOO−、−CONH
CONH−、−CONHSO_2−、▲数式、化学式、
表等があります▼、▲数式、化学式、表等があります▼
又は▲数式、化学式、表等があります▼を表わす(ここ
でR_1_1は水素原子又は炭化水素基を表わす)。 a_1、a_2は、互いに同じでも異なってもよく、各
々水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、炭化水素基、−
COO−Z_1又は炭化水素を介した−COO−Z_1
(Z_1は水素原子又は置換されてもよい炭化水素基を
示す)を表わす。〕 一般式(IIa) ▲数式、化学式、表等があります▼ 一般式(IIb) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(IIa)又は(IIb)中、X_1は式(1)中のX
_0と同一の内容を表わす。Q_1は、炭素数1〜18
の脂肪族基又は炭素数6〜12の芳香族基を表わす。 b_1、b_2は、互いに同じでも、異なってもよく、
式( I )中のa_1、a_2と同一の内容を表わす。 Vは−CN、−CONH_2又は▲数式、化学式、表等
があります▼を表わし、Yは水素原子、ハロゲン原子、
炭化水素基、アルコキシ基又は−COOZ_2(Z_2
はアルキル基、アラルキル基又はアリール基を示す)を
表わす。〕 一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(III)中、X_2は、式( I )中のX_0と同一
の内容を表わし、Q_2は式(IIa)中のQ_1と同一
の内容を表わす。c_1、c_2は互いに同じでも異な
ってもよく、式( I )中のa_1、a_2と同一の内
容を表わす。〕結着樹脂〔B〕: −PO_3H_2基、−COOH基、−SO_3H基、
フェノール性OH基、▲数式、化学式、表等があります
▼基(R_4はR_1と同一の内容を表わす)及び環状
酸無水物含有基から選択される少なくとも1つの酸性基
を含有する重合体成分を少なくとも1種含有するAブロ
ックと、下記一般式(IV)で示される重合体成分を少な
くとも含有するBブロックとから構成されるA・Bブロ
ック共重合体のBブロックの重合体主鎖の末端に重合性
二重結合基を結合して成る重量平均分子量1×10^3
〜2×10^4の一官能性マクロモノマー(MB)を少
なくとも1種共重合成分として含有して成る重量平均分
子量3×10^4〜1×10^6のグラフト型共重合体
。 一般式(IV) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(IV)中、d_1及びd_2は各々水素原子、ハロ
ゲン原子、シアノ基又は炭化水素基を表わす。X_4は
−COO−、−OCO−、▲数式、化学式、表等があり
ます▼、▲数式、化学式、表等があります▼ (l_3、l_4は1〜3の整数を表わす)、−O−、
−SO_2、−CO−、▲数式、化学式、表等がありま
す▼、▲数式、化学式、表等があります▼、−CONH
COO−、−CONHCONH−又は▲数式、化学式、
表等があります▼を表わす(ここでR_2_3は水素原
子又は炭化水素基を表わす)。 R_2_1は炭化水素基を表わす。但しX_4が▲数式
、化学式、表等があります▼を表わす場合、R_2_1
は水素原子又は炭化水素基を表わす。〕
(1) In an electrophotographic photoreceptor having a photoconductive layer containing at least an inorganic photoconductive material and a binder resin, the binder resin includes at least one of the following resins [A] and resin [B]. An electrophotographic photoreceptor comprising at least one of the following. Binder resin [A]; at least one polymer component represented by the following general formulas (IIa) and (IIb), -COOH group, -PO_3
There are H_2 groups, -SO_3H groups, -OH groups, and ▲mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼{R_1 is a hydrocarbon group or -OR
_2 (R_2 represents a hydrocarbon group)} The following general formula is present only at one end of each polymer component containing at least one polymer component containing at least one polar group selected from _2 (R_2 represents a hydrocarbon group). A monofunctional macromonomer (MA) with a weight average molecular weight of 2×10^4 or less, which is formed by bonding a polymerizable double bond group represented by (I), and the following general formula (III
) A copolymer having a weight average molecular weight of 1.0 x 10^3 to 2.0 x 10^4 and consisting of at least the monomers represented by: General formula (I) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In formula (I), X_0 is -COO-, -OCO-, -
CH_2OCO-, -CH_2COO-, -O-, -S
O_2-, -CO-, -CONHCOO-, -CONH
CONH-, -CONHSO_2-, ▲mathematical formula, chemical formula,
There are tables, etc. ▼, ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼
Or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (here, R_1_1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group). a_1 and a_2 may be the same or different, and each represents a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, a hydrocarbon group, -
COO-Z_1 or -COO-Z_1 via hydrocarbon
(Z_1 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group that may be substituted). ] General formula (IIa) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ General formula (IIb) ▲ There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In formula (IIa) or (IIb), X_1 is the same as in formula (1) X
Represents the same content as _0. Q_1 is carbon number 1-18
represents an aliphatic group or an aromatic group having 6 to 12 carbon atoms. b_1 and b_2 may be the same or different from each other,
Represents the same content as a_1 and a_2 in formula (I). V represents -CN, -CONH_2 or ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, and Y is a hydrogen atom, a halogen atom,
Hydrocarbon group, alkoxy group or -COOZ_2(Z_2
represents an alkyl group, an aralkyl group or an aryl group). ] General formula (III) ▲ Contains mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc. ▼ [In formula (III), Represents the same content. c_1 and c_2 may be the same or different, and represent the same contents as a_1 and a_2 in formula (I). [Binder resin [B]: -PO_3H_2 group, -COOH group, -SO_3H group,
A polymer component containing at least one acidic group selected from a phenolic OH group, a ▲ mathematical formula, a chemical formula, a table, etc. ▼ group (R_4 represents the same content as R_1), and a cyclic acid anhydride-containing group. At the end of the polymer main chain of the B block of an A/B block copolymer composed of an A block containing at least one kind and a B block containing at least a polymer component represented by the following general formula (IV), Weight average molecular weight 1 x 10^3 formed by bonding polymerizable double bond groups
A graft-type copolymer having a weight average molecular weight of 3 x 10^4 to 1 x 10^6 and comprising at least one copolymerization component of ~2 x 10^4 monofunctional macromonomer (MB). General formula (IV) ▲ Numerical formulas, chemical formulas, tables, etc. are available▼ [In formula (IV), d_1 and d_2 each represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, or a hydrocarbon group. X_4 is -COO-, -OCO-, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ (l_3 and l_4 represent integers from 1 to 3), -O-,
-SO_2, -CO-, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, -CONH
COO-, -CONHCONH- or ▲ mathematical formula, chemical formula,
There are tables, etc., which represent ▼ (here, R_2_3 represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group). R_2_1 represents a hydrocarbon group. However, if X_4 represents ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼, then R_2_1
represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group. ]
(2)該樹脂〔A〕が、更に−PO_3H_2基、−S
O_3H基、−COOH基、−OH基及び▲数式、化学
式、表等があります▼{R_3はR_1と同一の内容を
表わす)基から選択される少なくとも1種の極性基を該
グラフト共重合体主鎖の末端に結合して成ることを特徴
とする請求項(1)記載の電子写真感光体。
(2) The resin [A] further includes -PO_3H_2 groups, -S
At least one polar group selected from O_3H group, -COOH group, -OH group, and ▲ mathematical formula, chemical formula, table, etc. The electrophotographic photoreceptor according to claim 1, wherein the electrophotographic photoreceptor is bonded to the terminal end of the chain.
(3)該樹脂〔B〕において、該マクロモノマー(MB
)とともに共重合体を構成する一官能性単量体として、
下記一般式(V)で表わされる単量体を少なくとも1種
含有する事を特徴とする請求項(1)及び(2)のいず
れかに記載の電子写真感光体。 一般式(V) ▲数式、化学式、表等があります▼ 〔式(V)中、d_3、d_4、X_5及びR_2_2
は式(IV)におけるd_1、d_2、X_4及びR_2
_1とそれぞれ同様の内容を表わす。〕
(3) In the resin [B], the macromonomer (MB
) as a monofunctional monomer constituting a copolymer with
The electrophotographic photoreceptor according to any one of claims (1) and (2), characterized in that it contains at least one monomer represented by the following general formula (V). General formula (V) ▲There are mathematical formulas, chemical formulas, tables, etc.▼ [In formula (V), d_3, d_4, X_5 and R_2_2
are d_1, d_2, X_4 and R_2 in formula (IV)
Each represents the same content as _1. ]
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CN109557776A (en) * 2017-09-27 2019-04-02 富士施乐株式会社 Electrophtography photosensor, handle box and image forming apparatus

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