JPH04155690A - Semiconductor memory - Google Patents

Semiconductor memory

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JPH04155690A
JPH04155690A JP2279749A JP27974990A JPH04155690A JP H04155690 A JPH04155690 A JP H04155690A JP 2279749 A JP2279749 A JP 2279749A JP 27974990 A JP27974990 A JP 27974990A JP H04155690 A JPH04155690 A JP H04155690A
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JP
Japan
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transistors
level
transistor
digit
type
Prior art date
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Pending
Application number
JP2279749A
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Japanese (ja)
Inventor
Sumio Kuwabara
桑原 純夫
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
Original Assignee
NEC IC Microcomputer Systems Co Ltd
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Publication date
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Publication of JPH04155690A publication Critical patent/JPH04155690A/en
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Abstract

PURPOSE:To complete refreshing in a short time and to accelerate accessing by forming a transistor of a transfer gate in a depletion type. CONSTITUTION:Transistors Q5, Q6 of a transfer gate 2 are formed in P-type channel depletion type. If a control signal PHITG becomes a power source voltage V level, Trs Q5, Q6 in which drains are connected to digit lines DL1, DL2, are turned OFF, and the lines DL1, DL2 are insulated from nodes N1, N2. Here, an activated signal PHISAP becomes the power source voltage, an activated signal PHISAN becomes a ground level, a sense amplifier 1 is activated, and a differential potential of the nodes N1, N2 is amplified. In this case, since the potential of the node N2 is raised, the TrQ6 conducts, and the level of the line DL2 is raised from before refreshing, the refreshing is completed in a short time.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は半導体記憶装置に関し、特にディジット線対間
の信号を増幅するセンス増幅器を備えたMOSダイナミ
ックRAM型の半導体記憶装置に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a semiconductor memory device, and more particularly to a MOS dynamic RAM type semiconductor memory device equipped with a sense amplifier that amplifies a signal between a pair of digit lines.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

近年、この種の半導体記憶装置は、その低価格による利
用分野の拡大に伴ない、アクセスタイムの高速化及びサ
イクルタイムの短縮化が求められてきている。これらの
要求に対応する為の従来の半導体記憶装置としては、−
例として第3図に示すような回路がある。
In recent years, with the expansion of the field of use of this type of semiconductor memory device due to its low price, there has been a demand for faster access time and shorter cycle time. Conventional semiconductor memory devices that meet these demands include -
As an example, there is a circuit as shown in FIG.

この回路は、対をなす第1及び第2のディジット線DL
I、DL2と、第1及び第2のワード線WLI、WL2
と、ソース、ドレインの一方を第1のディジット1lD
L1と接続しゲートを第1のワード線WLIと接続する
Nチャネルエンハンスメント型の第1のトランジスタQ
7、及び一端をこのトランジスタQ7のソース、ドレイ
ンの他方と接続するコンデンサC1を備えた第1のメモ
リセルMCIと、ソース、ドレインの一方を第2のディ
ジット線DL2と接続しゲートを第2のワード1lWL
2と接続するNチャネルエンハンスメント型の第2のト
ランジスタQ8、及び一端をこのトランジスタQ8のソ
ース、ドレインの他方と接続するコンデンサC2を備え
た第2のメモリセルMC2と、ゲート及びドレインを互
いに交差接続するNチャネルエンハンスメント型の第3
及び第4のトランジスタQl、Q2、Pチャネルエンハ
ンスメント型のトランジスタQ3.Q4を備えこれらト
ランジスタQ1〜Q4のドレインをそれぞれ第1及び第
2の入出力端Nl、N2とし活性化信号ΦSAP lΦ
SANが活性化レベルのとき第1及び第2の入出力端N
l、N2の信号を増幅するフリップフロップ型のセンス
増幅器1と、ゲートに制御信号Φ↑GXを入力するNチ
ャネルエンハンスメント型の第5及び第6のトランジス
タQl 2゜Q13を備え第1及び第2のディジット1
DL1、DL2とセンス増幅器1の第1及び第2の入出
力端Nl、N2との間の接続を制御するトランスファゲ
ート2Aと、Nチャネルエンハンスメント型のトランジ
スタQ9〜Qllを備えプリチャージ信号ΦPに従って
ディジット線DLI、DL2のプリチャージ制御を行う
プリチャージ回路3とを有する構成となっている。
This circuit consists of a pair of first and second digit lines DL.
I, DL2 and the first and second word lines WLI, WL2
and one of the source and drain is set to the first digit 1lD.
an N-channel enhancement type first transistor Q connected to L1 and having its gate connected to the first word line WLI;
7, and a first memory cell MCI having a capacitor C1 whose one end is connected to the other of the source and drain of this transistor Q7, and one of whose source and drain is connected to a second digit line DL2 and whose gate is connected to the second digit line DL2. Word 1lWL
2, and a second memory cell MC2 having a capacitor C2 whose one end is connected to the other of the source and drain of this transistor Q8, and whose gate and drain are cross-connected to each other. N-channel enhancement type third
and fourth transistors Ql, Q2, P-channel enhancement type transistor Q3 . Q4, and the drains of these transistors Q1 to Q4 are used as first and second input/output terminals Nl and N2, respectively, and an activation signal ΦSAP lΦ
When the SAN is at the activation level, the first and second input/output terminals N
A flip-flop type sense amplifier 1 that amplifies the signals of L and N2, and fifth and sixth N-channel enhancement type transistors Ql2゜Q13 that input a control signal Φ↑GX to their gates. digit 1 of
It includes a transfer gate 2A that controls the connection between DL1, DL2 and the first and second input/output terminals Nl, N2 of the sense amplifier 1, and N-channel enhancement type transistors Q9 to Qll. The configuration includes a precharge circuit 3 that performs precharge control on lines DLI and DL2.

次に、この回路の動作について説明する。Next, the operation of this circuit will be explained.

第4図はこの回路の動作を説明するための各部信号の波
形図である。
FIG. 4 is a waveform diagram of various signals for explaining the operation of this circuit.

まずはじめに、非活性化状態においては、プリチャージ
信号ΦP及び制御信号ΦTGXは電源電圧VCCレベル
であり、センス増幅器1の入出力端N1、N2 (以下
節点Nl、N2という)及びディジット線DLI、DL
2はトランジスタQ5.Q6を介して接続され、またデ
ィジットl&1DL1゜DL2にはトランジスタQIO
,Qllを介して信号HVC1が接続される為に、節点
Nl、N2及びディジット線DLI、DL2は共に信号
HVC1と等電位(通常V cc/ 2 )となってい
る。
First of all, in the inactive state, the precharge signal ΦP and the control signal ΦTGX are at the power supply voltage VCC level, and the input/output terminals N1 and N2 (hereinafter referred to as nodes Nl and N2) of the sense amplifier 1 and the digit lines DLI and DL
2 is a transistor Q5. Q6, and the transistor QIO
, Qll, the nodes Nl, N2 and the digit lines DLI, DL2 are both at the same potential as the signal HVC1 (usually V cc/ 2 ).

また活性化信号Φ5A2.ΦSANも共に信号HVC1
と等電位に充電されている。
Also, the activation signal Φ5A2. ΦSAN is also the signal HVC1
is charged to the same potential as

次に、活性化状態になると、プリチャージ信号ΦPが接
地レベルとなり、ディジット線DLI。
Next, when activated, the precharge signal ΦP goes to the ground level, and the digit line DLI.

DL2は信号HVC1と絶縁される。DL2 is isolated from signal HVC1.

次に、選択されたワード線(WLIとする)のレベル(
ΦWLI )が高レベルになると、トランジスタQ7を
介してディジット線DLIとコンデンサC1とが接続し
、ディジット@DLIの電位がコンデンサC1の電位に
より変化する。このときトランジスタQ12を介してデ
ィジット線DLIと節点N1とは接続されている為、節
点N1もディジット線DLLと等電位となる。
Next, the level of the selected word line (WLI) (
When ΦWLI) becomes high level, digit line DLI and capacitor C1 are connected via transistor Q7, and the potential of digit@DLI changes depending on the potential of capacitor C1. At this time, since the digit line DLI and the node N1 are connected through the transistor Q12, the node N1 also has the same potential as the digit line DLL.

次に、制御信号Φ丁GXが接地レベルになるとディジッ
ト線DLI、DL2と節点Nl、N2とが絶縁され、活
性化信号ΦSAPが電源電圧VCCレベルに、活性化信
号ΦSANが接地レベルになると節点Nl、N2間の電
位差がセンス増幅器1により増幅され、はじめに節点N
1が節点N2より低電位であるとすれば節点N1は接地
レベルに、節点N2は電源電圧VCCレベルになる。こ
のときディジット線DLI、DL2の電位は節点Nl、
N2と絶縁されている為に変化しない。
Next, when the control signal ΦDing GX goes to the ground level, the digit lines DLI and DL2 and the nodes Nl and N2 are insulated, and when the activation signal ΦSAP goes to the power supply voltage VCC level and the activation signal ΦSAN goes to the ground level, the node Nl , N2 is amplified by sense amplifier 1, and first node N
1 is at a lower potential than the node N2, the node N1 becomes the ground level and the node N2 becomes the power supply voltage VCC level. At this time, the potentials of the digit lines DLI and DL2 are at the node Nl,
It does not change because it is insulated from N2.

次に、制御信号ΦTGXが高レベルになると、節点Nl
、N2とディジット線DLI、DL2とが接続され、デ
ィジット線DLIは接地レベルに、ディジット線DL2
は電源電圧VCCレベルになる。このときコンデンサC
1はディジット線DL1と接続されているので、メモリ
セルMCIはディジット線DLLと同電位の接地レベル
にリフレッシュされる。
Next, when the control signal ΦTGX becomes high level, the node Nl
, N2 and digit lines DLI, DL2 are connected, digit line DLI is at ground level, and digit line DL2 is connected to ground level.
becomes the power supply voltage VCC level. At this time, capacitor C
1 is connected to digit line DL1, memory cell MCI is refreshed to the ground level, which is the same potential as digit line DLL.

次に、ワード線WLIのレベル(ΦWLI )が接地レ
ベルとなり、プリチャージ信号Φ2が電源電圧VCCレ
ベルになると、コンデンサC1は絶縁されその電位を保
持し、ディジット線DLL、DL2は信号HVC1と等
電位となる。なお信号HVC2は信号HVC1と等電位
である。
Next, when the level of the word line WLI (ΦWLI) becomes the ground level and the precharge signal Φ2 goes to the power supply voltage VCC level, the capacitor C1 is insulated and holds that potential, and the digit lines DLL and DL2 have the same potential as the signal HVC1. becomes. Note that the signal HVC2 is at the same potential as the signal HVC1.

この回路においては、センス増幅器1が節点N1、N2
の差電位を増幅する際に、トランスファーゲート2^に
より節点Nl、N2とディジットMDL1.DL2とが
絶縁される為、センス増幅器1の容量負荷が少なくなり
、高速の増幅動作が可能となる。
In this circuit, sense amplifier 1 is connected to nodes N1, N2
When amplifying the potential difference between the nodes Nl and N2 and the digits MDL1. Since the sense amplifier 1 is insulated from the DL2, the capacitive load on the sense amplifier 1 is reduced, and high-speed amplification operation is possible.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上述した従来の半導体記憶装置は、ディジット線DLI
、DL2を節点Nl、N2から切離してからセンス増幅
器1を活性化して節点Nl、N2の差電位を高速増幅し
、しかる後、制御信号ΦTGXを高レベルにしてディジ
ット線DLI、DL2と節点N1.N2とを接続しメモ
リセルMC1をリフレッシュする構成となっているので
、制御信号ΦTGXが立上る際、ディジット線DLI。
The conventional semiconductor memory device described above has a digit line DLI.
, DL2 are disconnected from the nodes Nl, N2, the sense amplifier 1 is activated to rapidly amplify the potential difference between the nodes Nl, N2, and then the control signal ΦTGX is set to high level to connect the digit lines DLI, DL2 and the nodes N1 . Since the configuration is such that the memory cell MC1 is refreshed by connecting the digit line DLI to the digit line DLI when the control signal ΦTGX rises.

DL2のレベルは共にプリチャージレベル(Vcc/2
)付近にあり、これを−気に電源電圧VCCレベル、接
地レベルにしなければならないため時間がかかり、アク
セスタイムを短縮することができないという欠点がある
Both DL2 levels are precharge level (Vcc/2
), which must be set to the power supply voltage VCC level and ground level, which takes time and has the disadvantage that access time cannot be shortened.

本発明の目的はアクセスを高速化することができる半導
体記憶装置を提供することにある。
An object of the present invention is to provide a semiconductor memory device that can speed up access.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

本発明の半導体記憶装置は、対をなす第1及び第2のデ
ィジット線と、第1及び第2のワード線と、ソース、ド
レインの一方を前記第1のディジット線と接続しゲート
を前記第1のワード線と接続するエンハンスメント型の
第1のトランジスタ、及び一端をこの第1のトランジス
タのソース、ドレインの他方と接続する第1のコンデン
サを備えた第1のメモリセルと、ソース、ドレインの一
方を前記第2のディジット線と接続しゲートを前記第2
のワード線と接続するエンハンスメント型の第2のトラ
ンジスタ、及び一端をこの第2のトランジスタのソース
、ドレインの他方と接続する第2のコンデンサを備えた
第2のメモリセルと、ゲート及びドレインを互いに交差
接続するエンハンスメント型の第3及び第4のトランジ
スタを備えこれら第3及び第4のトランジスタのドレイ
ンをそれぞれ第1及び第2の入出力端とし活性化信号が
活性化レベルのとき前記第1及び第2の入出力端の信号
を増幅するフリップフロップ型のセンス増幅器と、ゲー
トに制御信号を入力するデプレッション型の第5及び第
6のトランジスタを備え前記第1及び第2のディジット
線と前記センス増幅器の第1及び第2の入出力端との開
の接続を制御するトランスファゲートとを有している。
In the semiconductor memory device of the present invention, a pair of first and second digit lines, first and second word lines, and one of a source and a drain are connected to the first digit line, and a gate is connected to the first digit line. A first memory cell includes a first enhancement-type transistor connected to a word line No. 1, a first capacitor whose one end is connected to the other of the source and drain of the first transistor, and one of which is connected to the second digit line, and the gate is connected to the second digit line.
a second memory cell having an enhancement-type second transistor connected to the word line of the second transistor, and a second capacitor having one end connected to the other of the source and drain of the second transistor; The third and fourth enhancement type transistors are cross-connected, and the drains of the third and fourth transistors are used as first and second input/output terminals, respectively, and when the activation signal is at the activation level, the first and fourth transistors are connected to each other. a flip-flop type sense amplifier that amplifies the signal at the second input/output terminal; and depletion type fifth and sixth transistors that input a control signal to the gates of the first and second digit lines and the sense amplifier; and a transfer gate that controls open connection with the first and second input/output terminals of the amplifier.

〔実施例〕〔Example〕

次に、本発明の実施例について図面を参照して説明する
Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

第1図は本発明の一実施例を示す回路図である。FIG. 1 is a circuit diagram showing an embodiment of the present invention.

この実施例が第3図に示された従来の半導体記憶装置と
相違する点は、トランスファゲート2を形成する第5及
び第6のトランジスタQ5.Q6をPチャネルデプレッ
ション型にし、制御信号ΦTGのレベル関係を逆にした
点にある。
This embodiment differs from the conventional semiconductor memory device shown in FIG. 3 in that the fifth and sixth transistors Q5. Q6 is of the P-channel depression type, and the level relationship of the control signal ΦTG is reversed.

次に、この実施例の動作について説明する。Next, the operation of this embodiment will be explained.

第2図はこの実施例の動作を説明するための各部信号の
波形図である。
FIG. 2 is a waveform diagram of various signals for explaining the operation of this embodiment.

まずはじめに、非活性化状態においては、制御信号ΦT
Gが接地レベルである点を除いて従来例と同様である。
First of all, in the inactive state, the control signal ΦT
This is the same as the conventional example except that G is the ground level.

次に、プリチャージ信号ΦPが接地レベルとなり活性化
状態になると、選択されたワード線WL1のレベル(Φ
IILI )が高レベルとなり、ディジット線DLIの
レベルがメモリセルMCIにより変化する。
Next, when the precharge signal ΦP reaches the ground level and becomes activated, the level of the selected word line WL1 (Φ
IILI) becomes high level, and the level of digit line DLI changes depending on the memory cell MCI.

次に、制御信号ΦTGが電源電圧Vccレベルになると
、各ドレインがディジット1DL1.DL2に接続され
各ソースが節点Nl、N2に接続されたPチャネルデプ
レッション型のトランジスタQ5、C6は、ゲートが電
源電圧VCCレベル、ソース及びドレインの電位がおお
むねV cc/ 2である為オフとなり、ディジット線
DLL、DL2と節点Nl、N2とは絶縁状態となる。
Next, when the control signal ΦTG reaches the power supply voltage Vcc level, each drain is connected to the digit 1DL1. P-channel depletion type transistors Q5 and C6, which are connected to DL2 and whose sources are connected to nodes Nl and N2, are turned off because their gates are at the power supply voltage VCC level and their source and drain potentials are approximately Vcc/2. Digit lines DLL and DL2 and nodes Nl and N2 are insulated.

ここで活性化信号ΦSAPが電源電圧vc0、活性化信
号ΦSANが接地レベルとなり、センス増幅器1が活性
化され、節点Nl、N2の差電位が増幅される。
Here, the activation signal ΦSAP becomes the power supply voltage vc0, the activation signal ΦSAN becomes the ground level, the sense amplifier 1 is activated, and the difference potential between the nodes Nl and N2 is amplified.

このとき、節点N2の方が節点N1より高電位であると
すれば、節点N2の電位が上昇し、その電位が電源電圧
V。0からトランジスタQ6のしきい値電圧を引いた電
位より高くなるとトランジスタQ6は導通状態となり、
ディジット線DL2のレベルは、従来例とは異なり、リ
フレッシュ期間に入る前から上昇を開始する。
At this time, if node N2 has a higher potential than node N1, the potential of node N2 increases and that potential becomes power supply voltage V. When the potential becomes higher than 0 minus the threshold voltage of transistor Q6, transistor Q6 becomes conductive.
Unlike the conventional example, the level of digit line DL2 starts rising before entering the refresh period.

次に、リフレッシュ期間に入り制御信号Φ丁Gが接地レ
ベルになると、節点Nl、N2とディジット線DLI、
DL2とは接続され同電位となるが、ディジット線DL
2はあらかじめレベルの上昇を開始している為に、リフ
レッシュ期間において必要な充放電電流は従来例と比較
するとごくわずかで済むことになり、短時間でリフレッ
シュを完了させることができる。従ってアクセスの高速
化をはかることができる。
Next, when the refresh period begins and the control signal ΦG reaches the ground level, the nodes Nl and N2 and the digit line DLI,
It is connected to DL2 and has the same potential, but the digit line DL
2 has already started to rise in level, the charging and discharging current required during the refresh period is very small compared to the conventional example, and the refresh can be completed in a short time. Therefore, access speed can be increased.

C発明の効果〕 以上説明したように本発明は、トランスファゲートのト
ランジスタをデプレッション型とすることにより、リフ
レッシュ期間に入る前にディジット線の充電(又は放電
)が開始されるので、リフレッシュ期間に入ってからの
ディジット線のレベルが静定するまでの時間、すなわち
リフレッシュが完了するまでの時間を短縮することがで
き、アクセスを高速化することができる効果がある。
C Effects of the Invention As explained above, in the present invention, by making the transfer gate transistor a depletion type, charging (or discharging) of the digit line is started before entering the refresh period. This has the effect of shortening the time it takes for the level of the digit line to become static after the digit line has changed, that is, the time it takes for refresh to be completed, thereby speeding up access.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of the drawing]

第1図及び第2図はそれぞれ本発明の一実施例を示す回
路図及びこの実施例の動作を説明するための各部信号の
波形図、第3図及び第4図はそれぞれ従来の半導体記憶
装置の一例を示す回路図及びこの半導体記憶装置の動作
を説明するための各部信号の波形図である。 1・・・センス増幅器、2,2A・・・トランスファゲ
ート、3・・・プリチャージ回路、C1,C2・・・コ
ンデンサ、DLL、DL2・・・ディジット線、MC1
、MC2・・・メモリセル、Q1〜Q13・・・トラン
ジスタ、WLI、WL2・・・ワード線。
1 and 2 are circuit diagrams showing an embodiment of the present invention and waveform diagrams of signals of various parts to explain the operation of this embodiment, and FIGS. 3 and 4 are diagrams of a conventional semiconductor memory device, respectively. FIG. 2 is a circuit diagram showing an example, and a waveform diagram of signals of various parts for explaining the operation of this semiconductor memory device. 1...Sense amplifier, 2,2A...Transfer gate, 3...Precharge circuit, C1, C2...Capacitor, DLL, DL2...Digital line, MC1
, MC2...memory cell, Q1-Q13...transistor, WLI, WL2...word line.

Claims (1)

【特許請求の範囲】 1、対をなす第1及び第2のディジット線と、第1及び
第2のワード線と、ソース、ドレインの一方を前記第1
のディジット線と接続しゲートを前記第1のワード線と
接続するエンハンスメント型の第1のトランジスタ、及
び一端をこの第1のトランジスタのソース、ドレインの
他方と接続する第1のコンデンサを備えた第1のメモリ
セルと、ソース、ドレインの一方を前記第2のディジッ
ト線と接続しゲートを前記第2のワード線と接続するエ
ンハンスメント型の第2のトランジスタ、及び一端をこ
の第2のトランジスタのソース、ドレインの他方と接続
する第2のコンデンサを備えた第2のメモリセルと、ゲ
ート及びドレインを互いに交差接続するエンハンスメン
ト型の第3及び第4のトランジスタを備えこれら第3及
び第4のトランジスタのドレインをそれぞれ第1及び第
2の入出力端とし活性化信号が活性化レベルのとき前記
第1及び第2の入出力端の信号を増幅するフリップフロ
ップ型のセンス増幅器と、ゲートに制御信号を入力する
デプレッション型の第5及び第6のトランジスタを備え
前記第1及び第2のディジット線と前記センス増幅器の
第1及び第2の入出力端との間の接続を制御するトラン
スファゲートとを有することを特徴とする半導体記憶装
置。 2、第1及び第2のトランジスタがそれぞれNチャネル
型、第3及び第4のトランジスタがそれぞれNチャネル
型、第5及び第6のトランジスタがそれぞれPチャネル
型である請求項1記載の半導体記憶装置。
[Scope of Claims] 1. A pair of first and second digit lines, a first and second word line, and one of the source and drain is connected to the first
digit line and a gate connected to the first word line; and a first capacitor having one end connected to the other of the source and drain of the first transistor. a second enhancement type transistor having one of its source and drain connected to the second digit line and its gate connected to the second word line; and one end connected to the source of the second transistor. , a second memory cell having a second capacitor connected to the other of the drains, and third and fourth enhancement type transistors having their gates and drains cross-connected to each other. A flip-flop type sense amplifier whose drains serve as first and second input/output terminals, respectively, and which amplifies signals at the first and second input/output terminals when an activation signal is at an activation level; and a gate having a control signal. a transfer gate comprising fifth and sixth input transistors of depletion type and controlling connections between the first and second digit lines and the first and second input/output terminals of the sense amplifier; A semiconductor memory device characterized by: 2. The semiconductor memory device according to claim 1, wherein the first and second transistors are each of N-channel type, the third and fourth transistors are each of N-channel type, and the fifth and sixth transistors are each of P-channel type. .
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Citations (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPS53108740A (en) * 1977-03-04 1978-09-21 Nec Corp Memory circuit

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