JPH04151102A - カラーフィルターの製造方法 - Google Patents
カラーフィルターの製造方法Info
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- JPH04151102A JPH04151102A JP2275579A JP27557990A JPH04151102A JP H04151102 A JPH04151102 A JP H04151102A JP 2275579 A JP2275579 A JP 2275579A JP 27557990 A JP27557990 A JP 27557990A JP H04151102 A JPH04151102 A JP H04151102A
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- color filter
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- transparent glass
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- Pending
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
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Description
【発明の詳細な説明】
［産業上の利用分野］
本発明は、カラー液晶パネル用のカラーフィルターの製
造方法に関するものである。
造方法に関するものである。
［従来の技術］
液晶パネルのカラー化のためカラーフィルターの製造方
法としては、染色法、印刷法、分散法、や電着法など、
いくつかの方法が知られている。
法としては、染色法、印刷法、分散法、や電着法など、
いくつかの方法が知られている。
分散法は例えば、フォトリソ工程を３回繰り返すことに
よって第２図（ａ）に示すように、赤色、緑色、青色の
カラーフィルターパターン２．３．４を透明ガラス基板
１上に形成する方法である。
よって第２図（ａ）に示すように、赤色、緑色、青色の
カラーフィルターパターン２．３．４を透明ガラス基板
１上に形成する方法である。
カラー画像の鮮明さを増し、また、色抜けを防ぐために
各色を重ねることによって、ブラックストライプ５を形
成している。このようにカラーフィルターを形成した後
に、第２図（ｂ）に示すようにアクリル樹脂等をカラー
フィルターの保護層６として透明ガラス基板１全面に形
成する。このように形成した保護層６の上面は、ミクロ
的にみると山形の凸部が現われる。この凸部をなくす方
法として、印刷法によってカラーフィルターを形成する
場合においては、第３図（ａ）に示すように、まず、透
明ガラス基板１上に格子状のブラックストライプ９をス
クリーン印刷する。その後、第３図（ｂ）に示すように
、スクリーン印刷によりカラーフィルターパターン１０
を形成し、さらに第３図（Ｃ）に示すように、カラーフ
ィルターパターン１０上に研磨保護層１１を設け、この
研磨保護層１１とカラーフィルターパターン１０を研磨
して、第３図（ｃｌ）に示すように、カラーフィルター
を平坦化する方法が提案されている。 く特開昭 ６３
−１７２１５） ［発明が解決しようとする課題及び目的］しかし、前述
の従来技術では、透明ガラス基板全面に保護層を形成す
るので、作業時に透明ガラス基板の外周の保護層上にバ
ターニングされた■Ｔｏ電極を傷つけ易く実装信頼性を
低下させる。
各色を重ねることによって、ブラックストライプ５を形
成している。このようにカラーフィルターを形成した後
に、第２図（ｂ）に示すようにアクリル樹脂等をカラー
フィルターの保護層６として透明ガラス基板１全面に形
成する。このように形成した保護層６の上面は、ミクロ
的にみると山形の凸部が現われる。この凸部をなくす方
法として、印刷法によってカラーフィルターを形成する
場合においては、第３図（ａ）に示すように、まず、透
明ガラス基板１上に格子状のブラックストライプ９をス
クリーン印刷する。その後、第３図（ｂ）に示すように
、スクリーン印刷によりカラーフィルターパターン１０
を形成し、さらに第３図（Ｃ）に示すように、カラーフ
ィルターパターン１０上に研磨保護層１１を設け、この
研磨保護層１１とカラーフィルターパターン１０を研磨
して、第３図（ｃｌ）に示すように、カラーフィルター
を平坦化する方法が提案されている。 く特開昭 ６３
−１７２１５） ［発明が解決しようとする課題及び目的］しかし、前述
の従来技術では、透明ガラス基板全面に保護層を形成す
るので、作業時に透明ガラス基板の外周の保護層上にバ
ターニングされた■Ｔｏ電極を傷つけ易く実装信頼性を
低下させる。
また、透明ガラス基板外周で液晶を封止するための接着
において、保護層を介しているためガラスとの直接の接
着に比べ接着信頼性が低くなりパネルの信頼性も劣る。
において、保護層を介しているためガラスとの直接の接
着に比べ接着信頼性が低くなりパネルの信頼性も劣る。
また、印刷カラーフィルターにおける平坦化方法では、
研磨保護層とカラーフィルタ一部を研磨したままの状態
ではその表面に無数の研磨スクラッチ等があり、この研
磨面に液晶駆動用の工Ｔｏｔ極を直接バターニングする
とＩＴ○の断線、浮き等が発生してしまう。また、保護
層とカラーフィルタ一部の硬さが異なるため、両方を研
磨した場合には、実際には研磨時に、新たな凹凸が生ず
る。また、透明ガラス基板自身にうねりがあり、平坦性
が悪いため通常の研磨方法では部分的に研磨されカラー
フィルター全面を均一に研磨する事ができないという課
題を有する。
研磨保護層とカラーフィルタ一部を研磨したままの状態
ではその表面に無数の研磨スクラッチ等があり、この研
磨面に液晶駆動用の工Ｔｏｔ極を直接バターニングする
とＩＴ○の断線、浮き等が発生してしまう。また、保護
層とカラーフィルタ一部の硬さが異なるため、両方を研
磨した場合には、実際には研磨時に、新たな凹凸が生ず
る。また、透明ガラス基板自身にうねりがあり、平坦性
が悪いため通常の研磨方法では部分的に研磨されカラー
フィルター全面を均一に研磨する事ができないという課
題を有する。
そこで本発明は、このような課題を解決するもので、そ
の目的とするところは、表示品質が高く、高信頼性のカ
ラーフィルターを製造できる方法を提供するところにあ
る。
の目的とするところは、表示品質が高く、高信頼性のカ
ラーフィルターを製造できる方法を提供するところにあ
る。
［課題を解決するための手段］
本発明のカラーフィルターの製造方法は、透明基板の表
面に分散法や印刷法等によりカラーフィルターパターン
を形成する工程と、前記カラーフィルターパターン上に
保護層を形成する工程と、前記保護層を弾性変形する研
磨布により研磨して平坦化する工程と、研磨後に再度、
保護層を形成する工程とを具備することを特徴とする。
面に分散法や印刷法等によりカラーフィルターパターン
を形成する工程と、前記カラーフィルターパターン上に
保護層を形成する工程と、前記保護層を弾性変形する研
磨布により研磨して平坦化する工程と、研磨後に再度、
保護層を形成する工程とを具備することを特徴とする。
［実施例］
本発明の実施例を図面を参照して説明する。第１図は、
本発明によるカラーフィルターの製造方法を示す断面図
である。まず、第１図（ａ）に示すように、透明ガラス
基板１上に赤色のカラーフィルターパターン２をフォト
リソ工程により形成する。次に緑色、さらに青色と、同
様にフォトリソ工程を繰り返し、カラーフィルターパタ
ーン３．４を形成する。この時、各色間を重ねてブラッ
クストライプ部５を形成する。なお、各色の形成順序は
任意とする。次に、第１図（ｂ）に示すように、前工程
で形成したカラーフィルターパターン上にシリコン変性
ポリイミドを第１保護層６としてフレキソ印刷によって
透明ガラス基板ｌの外周７にかからないように部分的に
形成する。この時、ブラックストライプ部５がカラーフ
ィルタ一部の倍の厚みであるため第１保護層６の上面は
ミクロ的にみると凹凸のある面となる。この第１保護層
６の厚みは、最低でも保護層形成後の表面の凹凸の大き
さよりも厚くする必要がある。このようにして得られた
カラーフィルター表面はこのままでは凹凸が大きすぎる
ため第１図（Ｃ）に示すように研磨を行い第１保護層６
の凹凸をなくす。この研磨においては、透明ガラス基板
１自身にうねりがあり平坦性にもばらつきがあるため、
空気等により膨らませた研磨布を第１保護層６に押し付
は透明ガラス基板ｌの大きなうねりは吸収し保護層全面
に均一な荷重がかかるようにし、透明ガラス基板１を回
転させ研磨剤を用いて微少な凹凸を除去する。なお、こ
の研磨は第１保護層６のみとしカラーフィルタ一部まで
は研磨しないようにすることが重要である。この研磨加
工においては、超微粒子のアルミナやコロイダルシリカ
を用いると表面の粗さやスクラッチ傷を小さくすること
ができる。しかし、研磨においてスクラッチを皆簾にす
ることは非常に困難なので、次に、第１図（ｄ）に示す
ように研Ｎ後の第１保護層６の上に再度薄く第２保護層
８を形成する。研磨上がりの第１保護層６の上にＩＴ○
の電極をバターニングすると、スクラッチ部でＩＴ○パ
ターンが断線したり、はがれたりするが（図省略）、こ
のように第２保護層８を形成すると、表面粗さが小さく
なり、しがもスクラッチもなくなるので、第２保護層８
の上面にＩＴＯ電極をバターニングしても問題はなくな
る。また、透明ガラス基板の外周には保護層がなく、し
たがってＩＴＯ電極もないので、作業時の取扱によって
傷を付けたりすることもなく、また、ガラス面への直接
の封止接着もできるので、実装及びパネルの信頼性も高
くなる。なお、保護層の材質としては、シリコン変性ポ
リイミドに限らず、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、変性
アクリル樹脂等を用いても良い。また、第１保護層と第
２保護層の材質を同一にしなくてもかまわない。
本発明によるカラーフィルターの製造方法を示す断面図
である。まず、第１図（ａ）に示すように、透明ガラス
基板１上に赤色のカラーフィルターパターン２をフォト
リソ工程により形成する。次に緑色、さらに青色と、同
様にフォトリソ工程を繰り返し、カラーフィルターパタ
ーン３．４を形成する。この時、各色間を重ねてブラッ
クストライプ部５を形成する。なお、各色の形成順序は
任意とする。次に、第１図（ｂ）に示すように、前工程
で形成したカラーフィルターパターン上にシリコン変性
ポリイミドを第１保護層６としてフレキソ印刷によって
透明ガラス基板ｌの外周７にかからないように部分的に
形成する。この時、ブラックストライプ部５がカラーフ
ィルタ一部の倍の厚みであるため第１保護層６の上面は
ミクロ的にみると凹凸のある面となる。この第１保護層
６の厚みは、最低でも保護層形成後の表面の凹凸の大き
さよりも厚くする必要がある。このようにして得られた
カラーフィルター表面はこのままでは凹凸が大きすぎる
ため第１図（Ｃ）に示すように研磨を行い第１保護層６
の凹凸をなくす。この研磨においては、透明ガラス基板
１自身にうねりがあり平坦性にもばらつきがあるため、
空気等により膨らませた研磨布を第１保護層６に押し付
は透明ガラス基板ｌの大きなうねりは吸収し保護層全面
に均一な荷重がかかるようにし、透明ガラス基板１を回
転させ研磨剤を用いて微少な凹凸を除去する。なお、こ
の研磨は第１保護層６のみとしカラーフィルタ一部まで
は研磨しないようにすることが重要である。この研磨加
工においては、超微粒子のアルミナやコロイダルシリカ
を用いると表面の粗さやスクラッチ傷を小さくすること
ができる。しかし、研磨においてスクラッチを皆簾にす
ることは非常に困難なので、次に、第１図（ｄ）に示す
ように研Ｎ後の第１保護層６の上に再度薄く第２保護層
８を形成する。研磨上がりの第１保護層６の上にＩＴ○
の電極をバターニングすると、スクラッチ部でＩＴ○パ
ターンが断線したり、はがれたりするが（図省略）、こ
のように第２保護層８を形成すると、表面粗さが小さく
なり、しがもスクラッチもなくなるので、第２保護層８
の上面にＩＴＯ電極をバターニングしても問題はなくな
る。また、透明ガラス基板の外周には保護層がなく、し
たがってＩＴＯ電極もないので、作業時の取扱によって
傷を付けたりすることもなく、また、ガラス面への直接
の封止接着もできるので、実装及びパネルの信頼性も高
くなる。なお、保護層の材質としては、シリコン変性ポ
リイミドに限らず、エポキシ樹脂、アクリル樹脂、変性
アクリル樹脂等を用いても良い。また、第１保護層と第
２保護層の材質を同一にしなくてもかまわない。
［発明の効果］
以上述べたように本発明によれば、透明ガラス基板上に
カラーフィルターを形成した後、保護層を部分的に形成
し、保護層を弾性変形する研磨布により研磨した後、再
度保護層を形成することにより、取扱性がよく、電極損
傷が無いカラーフィルターが得られ、また接着信頼性が
高い液晶パネルが得られる。しかも表面の平滑性に優れ
た高品位のカラーフィルターを供給できるという効果を
有する。
カラーフィルターを形成した後、保護層を部分的に形成
し、保護層を弾性変形する研磨布により研磨した後、再
度保護層を形成することにより、取扱性がよく、電極損
傷が無いカラーフィルターが得られ、また接着信頼性が
高い液晶パネルが得られる。しかも表面の平滑性に優れ
た高品位のカラーフィルターを供給できるという効果を
有する。
第１図（ａ）〜（ｃｌ）は本発明のカラーフィルターの
製造方法の一実施例を示す断面図。 第２図（ａ）（ｂ）、第３図（ａ）〜（ｄ）は従来のカ
ラーフィルターの製造方法を示す断面図。 １・・・透明ガラス基板 ２・・・赤色カラーフィルターパターン３・・・緑色カ
ラーフィルターパターン４・・・青色カラーフィルター
パターン５．９・・・ブラックストライプ ６・・・第１保護層 ７・・・透明ガラス基板の外周 ８・・・第２保護層 １０・・・カラーフィルターパターン １１・・・研磨保護層 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木喜三部 ｆｌ！！１名字 圓 （ｂ） に 埠 口 （Ｃ） ￥ 【 口 （ｄ） 腎 凹 （ＣＡ、） 穿 口 （シ）
製造方法の一実施例を示す断面図。 第２図（ａ）（ｂ）、第３図（ａ）〜（ｄ）は従来のカ
ラーフィルターの製造方法を示す断面図。 １・・・透明ガラス基板 ２・・・赤色カラーフィルターパターン３・・・緑色カ
ラーフィルターパターン４・・・青色カラーフィルター
パターン５．９・・・ブラックストライプ ６・・・第１保護層 ７・・・透明ガラス基板の外周 ８・・・第２保護層 １０・・・カラーフィルターパターン １１・・・研磨保護層 以上 出願人 セイコーエプソン株式会社 代理人 弁理士 鈴木喜三部 ｆｌ！！１名字 圓 （ｂ） に 埠 口 （Ｃ） ￥ 【 口 （ｄ） 腎 凹 （ＣＡ、） 穿 口 （シ）
Claims (1)
- 透明基板の表面に分散法や印刷法等によりカラーフィル
ターパターンを形成する工程と、前記カラーフィルター
パターン上に保護層を形成する工程と、前記保護層を弾
性変形する研磨布により研磨して平坦化する工程と、研
磨後に再度、保護層を形成する工程とを具備することを
特徴とするカラーフィルターの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2275579A JPH04151102A (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | カラーフィルターの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2275579A JPH04151102A (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | カラーフィルターの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH04151102A true JPH04151102A (ja) | 1992-05-25 |
Family
ID=17557424
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2275579A Pending JPH04151102A (ja) | 1990-10-15 | 1990-10-15 | カラーフィルターの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH04151102A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1336871A1 (en) * | 2002-02-19 | 2003-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Production process of a graded neutral density filter, diaphragm with graded neutral density filter and photographing apparatus comprising the diaphragm |
| US7016129B2 (en) * | 2003-05-28 | 2006-03-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical filter, method of making optical filter, light amount adjusting apparatus and optical equipment |
-
1990
- 1990-10-15 JP JP2275579A patent/JPH04151102A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| EP1336871A1 (en) * | 2002-02-19 | 2003-08-20 | Canon Kabushiki Kaisha | Production process of a graded neutral density filter, diaphragm with graded neutral density filter and photographing apparatus comprising the diaphragm |
| US7815966B2 (en) | 2002-02-19 | 2010-10-19 | Canon Kabushiki Kaisha | Production process of light amount adjustment member, light amount adjustment member, light amount adjustment device and photographing apparatus |
| US7016129B2 (en) * | 2003-05-28 | 2006-03-21 | Canon Kabushiki Kaisha | Optical filter, method of making optical filter, light amount adjusting apparatus and optical equipment |
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