JPH0792477A - 液晶表示装置 - Google Patents
液晶表示装置Info
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- JPH0792477A JPH0792477A JP5233496A JP23349693A JPH0792477A JP H0792477 A JPH0792477 A JP H0792477A JP 5233496 A JP5233496 A JP 5233496A JP 23349693 A JP23349693 A JP 23349693A JP H0792477 A JPH0792477 A JP H0792477A
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- Pending
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Abstract
法などで形成されるカラーフィルターの形成による当該
液晶表示装置のセルギャップの均一性の改善に関する。 【構成】表面に第1のITO膜(12)が平行に選択形
成され、該第1のITO膜(12)上にカラーフィルタ
ー(13)が形成され、その上面に平坦化膜(14)が
形成され、前記第1のITO膜(12)の形成領域上に
第2のITO膜(15)が形成されている第1の透明基
板(11)上に、接着層(16)を介して第2の透明基
板が接着されてなる液晶表示装置であって、前記接着層
(16)の下部の、前記第1のITO膜(12)が形成
されていない領域に、前記第1のITO膜(12)と同
一の膜厚でダミーITO膜(17)が形成されているこ
と。
Description
に詳しく言えば、電着法などで形成されるカラーフィル
ターの形成によるセルギャップの均一性の改善に関す
る。
て図面を参照しながら説明する。図3は従来例に係る液
晶表示装置の構成を示す上面図であり、図4は図3のC
−C線断面図である。図3に示すように、従来例に係る
液晶表示装置は、STN(Super Twisted Nematic )方
式によるドットマトリクス型の液晶表示装置であって、
不図示のITO膜が複数本平行に形成されている第1の
透明基板(1)上にエポキシ系の樹脂からなるメインシ
ール(6)が形成され、その上に不図示のITO膜が複
数本平行に形成されている第2の透明基板(7)が形成
され、メインシール(6)で囲われた第1の透明基板
(1)と第2の透明基板(7)との空隙に、不図示の液
晶が封入されることによって形成されている。
ら説明する。図6は図5のB−B線断面図である。図6
に示すように、第1の透明基板(1)上に第1のITO
膜(2)が形成され、その上に電着法により顔料が付着
することによってカラーフィルター(3)が形成され、
エポキシ系の樹脂で形成された平坦化層(4)が形成さ
れ、第1のITO膜(2)の形成領域上に実際の電極配
線となる第2のITO膜(5)が形成され、その上に液
晶セルの領域を確定し、かつ第1の透明基板(1)と第
2の透明基板(7)とを接着するメインシール(6)が
形成されている。
インシール(6)に圧着され、のちに液晶が封入される
ことによってSTN(Super Twisted Nematic )方式に
よるドットマトリクス型の液晶表示装置が形成される。
来の装置によると、液晶セルの形成領域においては、第
1のITO膜(2)は液晶セルの上下方向(図5のIT
O膜の延在方向)にのみ形成されており、左右方向には
形成されていない。従って、第1のITO膜(2)上に
形成されるカラーフィルター(3)は、電着法であるた
め、図5に示すように、上下方向にのみ形成されてい
る。
ター(3)が形成された領域上,すなわち液晶セルの上
下に形成されているメインシール(6A)の形成高さ
と、カラーフィルター(3)が形成されていない領域
上,すなわち液晶セルの左右に形成されているメインシ
ール(6B)の形成高さとを比較すると、液晶セルの上
下に上下に形成されたメインシール(6A)の方が、カ
ラーフィルター(3)の厚み分〔約1.2μm〕だけ高
くなっている。
(6)の形成高さが場所によって不均一になり、段差が
できてしまうので、液晶セルの上下に形成されたメイン
シール(6A)上でのセルギャップと左右に形成された
メインシール(6B)上でのセルギャップが異なってし
まい、同一セル内で領域によってセルギャップが異なる
という問題が生じてしまう。
ツキの許容量は、約0.1μmであって、カラーフィル
ターの厚みが約1.2μmであるので、このセルギャッ
プの領域による差異は無視できず、特に、STN方式の
液晶表示装置においては、非点灯時は干渉色による色ム
ラ、点灯時にはVthの違いによる表示ムラ等、画像表
示上の問題が顕著に現れていた。
に鑑み成されたもので、図1に示すように表面に第1の
ITO膜(12)が平行に選択形成され、該第1のIT
O膜(12)上にカラーフィルター(13)が形成さ
れ、その上面に平坦化膜(14)が形成され、前記第1
のITO膜(12)の形成領域上に第2のITO膜(1
5)が形成されてなる第1の透明基板(11)上に、接
着層(16)を介して第2の透明基板が接着されること
で構成される液晶表示装置であって、前記接着層(1
6)の下部の前記第1のITO膜(12)が形成されて
いない領域に、前記第1のITO膜(12)と同一の膜
厚でダミーITO膜(17)が形成されていることによ
り、液晶セル内の各形成領域においてセルギャップを一
定に保持することが可能になる液晶表示装置を提供する
ものである。
示すように本来第1のITO膜(12)を形成しない領
域である左右の接着層(16B)の下部領域に、第1の
ITO膜(12)と同一の膜厚でダミーITO膜(1
7)が形成されている。このため、かつて第1のITO
膜(12)が形成されていなかった接着層(16)の下
部領域にもダミーITO膜(17)が形成されることに
より、カラーフィルター(13)を形成する際の電着工
程において、ダミーITO膜(17)にも第1のITO
膜(12)と同じ条件で顔料が付着して第1のITO膜
(12)上に形成されるのと同じ膜厚のカラーフィルタ
ー(13)が形成される。
どの領域にも、均一な膜厚のカラーフィルター(13)
が形成されるので、接着層(16)の形成領域による形
成高さの差異がなくなる。従って、同一液晶セル内のど
の領域においてもそのセルギャップを一定にすることが
可能になり、従来セルギャップが一定でなくなることに
よって生じていた、例えば色に濃淡の差がでるなどとい
った画像表示上の諸問題を極力抑止することが可能にな
る。
製造方法について図面を参照しながら説明する。なお、
図2は図1のA−A線断面図である。図2に示すよう
に、本実施例に係る液晶表示装置は、その表面上に膜厚
0.15μmの第1のITO膜(12)とダミーITO
膜(17)がスパッタリングなどによって約100μm
のピッチで形成され、その上に電着法によって顔料を付
着させることによって膜厚1.2μm程度のカラーフィ
ルター(13)が形成され、その上にエポキシ系の樹脂
で形成された膜厚2μm程度の平坦化層(14)が形成
され、その上に実際の電極配線となる膜厚0.15μm
の第2のITO膜(15)が形成され、その上にメイン
シール(16)が形成されてなるガラス基板(11)を
具備している。
基板(11)上のメインシール(16)に圧着され、液
晶がメインシール(16)の形成領域内の上側ガラス基
板とガラス基板(11)との空隙に封入されることによ
って、セルギャップが約6.0μmのSTN(Super Tw
isted Nematic )のドットマトリクス型の液晶表示装置
が形成される。
インシール〔以下左右のメインシールと称する〕(16
B)の下部領域には第1のITO膜(12)が形成され
ていないが、そのかわりに第1のITO膜(12)と同
一のピッチ(すなわち約100μm)、同一の膜厚(す
なわち約0.15μm)でダミーITO膜(17)が形
成されている。
する際の電着工程において、ダミーITO膜(17)に
も第1のITO膜(12)と同じ条件で顔料が付着し
て、第1のITO膜(12)上に形成されるのと同じ膜
厚のカラーフィルター(13)が形成されるので、従来
のように液晶セルの上下に形成されたメインシール〔以
下上下のメインシールと称する〕と左右のメインシール
との段差がなくなる。
てもセルギャップを一定にすることが可能になり、従来
セルギャップが一定でなくなることによって生じてい
た、色に濃淡の差が出るなどといった画像表示上の問題
を極力抑止することが可能になる。なお、本実施例にお
いて、ガラス基板(11)は第1の透明基板の一例であ
って、メインシール(16)は接着層の一例である。ま
たダミーITO膜(17)は、電着用に第1のITO膜
(12)と同様に、表示領域外まで延在される。
示装置によれば、第1のITO膜(12)を形成しない
領域である左右の接着層(16)の下部領域に、第1の
ITO膜(12)と同一の形成間隔でダミーITO膜
(17)が形成されているので、接着層(16)の下部
領域のどの領域にも、均一な膜厚のカラーフィルター
(13)が形成され、接着層(16)の形成領域による
形成高さの差異がなくなる。
てもセルギャップを一定にすることが可能になり、従来
セルギャップが一定でなくなることによって生じてい
た、色ムラなどといった画像表示上の問題を極力抑止す
ることが可能になる。
上面図である。
断面図である。
ある。
ある。
する上面図である。
する断面図である。
Claims (1)
- 【請求項1】 表面に第1のITO膜(12)が平行に
選択形成され、該第1のITO膜(12)上にカラーフ
ィルター(13)が形成され、その上面に平坦化膜(1
4)が形成され、前記第1のITO膜(12)の形成領
域上に第2のITO膜(15)が形成されてなる第1の
透明基板(11)上に、接着層(16)を介して第2の
透明基板が接着されることで構成される液晶表示装置で
あって、 前記接着層(16)の下部の前記第1のITO膜(1
2)が形成されていない領域に、前記第1のITO膜
(12)と同一の膜厚でダミーITO膜(17)が形成
されていることを特徴とする液晶表示装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5233496A JPH0792477A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 液晶表示装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP5233496A JPH0792477A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 液晶表示装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0792477A true JPH0792477A (ja) | 1995-04-07 |
Family
ID=16955936
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP5233496A Pending JPH0792477A (ja) | 1993-09-20 | 1993-09-20 | 液晶表示装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0792477A (ja) |
Cited By (7)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US6476901B2 (en) | 1997-10-06 | 2002-11-05 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display including interlayer insulating layer at peripheral sealing portion |
US6738125B2 (en) | 1999-12-27 | 2004-05-18 | Sharp Kabushiki Kaisha | Liquid crystal display apparatus and method for manufacturing same |
US7075704B2 (en) | 2003-03-19 | 2006-07-11 | Seiko Epson Corporation | Test-element-provided substrate, method of manufacturing the same, substrate for electro-optical device, electro-optical device, and electronic apparatus |
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US7333172B1 (en) | 1995-12-21 | 2008-02-19 | Semiconductor Energy Laboratory Co., Ltd. | Liquid crystal display device having plurality of conductive layers between a substrate and sealing member and insulated by insulating film |
CN109581771A (zh) * | 2018-12-19 | 2019-04-05 | 惠科股份有限公司 | 阵列基板、阵列基板制造方法及显示装置 |
CN110554538A (zh) * | 2019-09-30 | 2019-12-10 | 广西天山电子股份有限公司 | 一种负显液晶显示屏 |
-
1993
- 1993-09-20 JP JP5233496A patent/JPH0792477A/ja active Pending
Cited By (12)
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---|---|---|---|---|
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Legal Events
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A977 | Report on retrieval |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A971007 Effective date: 20060821 |
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A131 | Notification of reasons for refusal |
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A521 | Written amendment |
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