JPH04147611A - 電子ビーム描画装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 【産業上の利用分野】

本発明は、電子ビーム描画装置に係り、特にビーム照射
によって試料面上のレジスト被膜等からの反応生成物が
、その対向面の反射電子検出器表面を汚染するのを防止
するのに好適な装置に関する。

【従来の技術】

電子ビーム描画装置においては第５図の様に、反射電子
検出器３は次の要領で使用される。予め描画試料６上に
設けた位置合わせ用マーク（図示なし）上を偏向板２に
より電子ビーム１を走査し、この時該マーク部から発生
してくる反射電子８を検出する。ここで得られた該マー
クの形状信号は信号処理器７によって処理され、計算機
１９に該マークの位置情報として登録する役目を持って
いる。 ここで従来から、上記反射電子検出器３に関する汚染の
問題があった。第５図で、ウェーハ１５上に予め塗布し
たレジスト１４等からなる描画試料６には、細く絞られ
た電子ビーム１を照射しながら、所望の図形を描画して
いく。その際、ビームの照射熱によってレジスト１４表
面から有機物等が蒸発し、その周囲を汚染するという問
題があった。この蒸発した有機物は、特にその最も近接
した図中の反射電子検出器３の下面側に付着してしまう
。上記の有機物等の絶縁物が該検出器３の表面に付着す
ると、電子ビーム１の真直な軌道が曲げられる。その結
果、前記マークの位置情報がずれたり、描画パターン形
状がゆがんだりして、描画精度が著しく低下してしまう
。 このような問題を解決するため、例えば従来は、第５図
中にある、接地したメツシュ状の導体９を該検出器３の
手前に設けていた（特開平ｌ−２４８５１７号公報）。 この手法では、該導体９の存在が、検出器３の表面に付
”着した有機物により生じる電界の乱れを電子ビーム１
にまで及ぼさない利点はあった。しかしながら、該導体
９はメツシュ状であるため、その隙間を抜けてくる微小
な粒子状絶縁物の付着を避けることはできず、効果に限
界があった。この現象は、大スループットの装置はど付
着量は多くなり、深刻となる。従って高価な反射電子検
出器３を短期的に交換する必要があり、描画装置全体も
分解しなければならなかった。

【発明が解決しようとする課題】

上記従来例では、反射電子検出器と描画試料の間に設け
た隙間のある接地導体により、ある程度の検出器汚染に
よる電界の乱れを防止することはできる。しかし、今後
、装置の大スループット化が盛んになれば検出器表面の
汚染速度も早まることになる。この状態では、もはや上
記の検出器汚染を積極的には防止できない。その対策と
しては、装置の分解による検出器の交換があげられるが
、これでは装置の組み立てや真空立ち上げ等に多大の時
間を要し稼働率が低下してしまう。一方、前記接地導体
の隙間を狭くする手法もあるが、それは検出器全体への
捕獲電子量を減少させることになり得策ではない。 本発明の目的は、検出器が汚染される頻度を少なくして
延命化を図り、描画装置の稼働率向上を達成することに
ある。

【課題を解決するための手段】

上記の問題を解決するには、描画試料と反射電子検出器
との間に遮蔽板を設ける。この遮蔽板は、可動式にして
おき、反射電子検出器を使用しない時は該検出器表面を
覆うように遮断しておく。また、遮蔽板に有機物が付着
した場合、それに電荷が蓄積する。この蓄積電荷の電界
は、電子ビームに対して位置変動を生じさせる。この位
置変動を防ぐため、該遮蔽板は接地して使用するか、あ
るいは、更に交換が容易な構造とする。

【作用】

上記可動式遮蔽板は、反射電子検出器の表面と描画試料
の間で自在に開閉できる。これにより、該検出器の表面
まで飛散してくる有機物の付着を大幅に防止できる。こ
れにより、検出器表面の汚染量も減少できるため、前記
マークの位置情報のずれも低減する。また、該検出器の
交換頻度を少なくすることができる。

【実施例】

以下、本発明を実施例により詳細に説明する。 第１図は、本発明による電子ビーム描画装置の検出器近
傍の概略構成図である。図で、第５図と同じ番号のもの
は、同一物であることを意味する。 第１図に示すように遮蔽板４は１反射電子検出器３と描
画試料６との間に設け、案内レール５で自在に移動でき
るようになっている。また、これには電子ビーム通過穴
１０がある、 第２図はその遮蔽板４の平面図であり、駆動回路１２に
よって制御する。反射電子検出器３を使用する場合は、
該遮蔽板４を案内レール５により図の右端位置まで移動
し、反射電子８を捕獲できるようにしている。また、該
検出器３を使用しない場合は、同図の如く上記遮蔽板４
を電子ビームｌの直下まで移動しておく。これにより、
描画試料６と反射電子検出器３０間を遮断できるため、
描画中における該検出器表面への有機物の付着が大幅に
防止できる。 また、この遮蔽板４は、描画試料６の近傍にあるため、
ＢｅやＡ１などの低い電子散乱係数の材料を使うのが好
ましい。 一方遮蔽板４は、前記第２図の移動式のほかに、本発明
の第２の実施例である第３図の様な回転円盤式でもよい
。即ち、描画時は電子ビーム１の位置に、電子ビーム通
過穴１０ａを移動しておく。 その位置決めは、位置センサー１４によって行う。 マーク検出時は、電子ビーム１の所まで大開口１１ａを
回転軸１３の回りに素早く回転して移動する０以上によ
って、描画時と、マーク検出時の遮蔽板１５の使い分け
を行う。また、図中で複数ある他の電子ビーム通過穴１
０ｂと大開口１１ｂは、それぞれの切り替え時間を短縮
するために設けたものである。 次に、第４図は本発明の第３の実施例である。 これは、ビーム通過穴１０ｃを有する遮蔽板１８が、駆
動回路１７により矢印の如く円弧状の回転をして開閉す
るものである。つまり、描画時は遮蔽板１８が電子ビー
ム１を通す八位置にあり、マーク検出時はＢ位置まで移
動するものである。 他方、遮蔽板は反射電子検出器の代わりに蒸発した有機
物を付着させることから、それ自体のチャージアップも
懸念される。そこで、同図の如く。 遮蔽板１８は交換が容易なように、試料室２０の外部へ
仕切り弁（図示略）等を介して出し入れ可能とする構造
がよい。 【発明の効果１ 以上説明した如く、本発明の構造を持つ遮蔽板は、反射
電子検出器と描画試料の間を、その開閉により遮断でき
る。従って、該検出器表面への有機物の付着を大幅に減
少させることができる。従って、マークの位置情報や描
画精度の向上に貢献できるものである。また、検出器の
交換頻度を少なくでき、経済的利点がある。その結果、
描画装置の稼働率向上に大いに貢献ができる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明における電子ビーム描画装置の反射電子
検出器近傍の概略構成図、第２〜４図はいずれも本発明
の詳細な説明する図であり、また第５図は従来技術を説
明する描画装置の構成図である。

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １、電子ビーム照射によって試料面から発生した反射電
   子または二次電子を検出する検出器の近傍において、該
   検出器と試料の間に可動式の遮蔽板を有することを特徴
   とする電子ビーム描画装置。 ２、上記の可動式遮蔽板は、導電体でできていることを
   特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画装置。 ３、上記遮蔽板は、低電子散乱係数の材質でできている
   ことを特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画装置。 ４、上記遮蔽板には、電子ビームの通過穴および、反射
   電子検出部より大きい開口部が複数設けられていること
   を特徴とする請求項１記載の電子ビーム描画装置。 ５、上記遮蔽版は、交換が容易な構造を有することを特
   徴とする請求項１記載の電子ビーム描画装置。