JPH04145094A - 新規糖誘導体及びその製造方法 - Google Patents
新規糖誘導体及びその製造方法Info
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Landscapes
- Emulsifying, Dispersing, Foam-Producing Or Wetting Agents (AREA)
- Detergent Compositions (AREA)
- Saccharide Compounds (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野]
本発明は、トイレタリー製品用の洗浄剤、乳化剤、分散
剤、湿潤剤、可溶化剤等として有用な、新規糖誘導体及
びその製造方法に関する。
剤、湿潤剤、可溶化剤等として有用な、新規糖誘導体及
びその製造方法に関する。
[従来の技術及び発明か解決しようとする課題]従来、
トイレタリー製品やハウスホールド製品の配合成分とし
て、アルキルサルフェート、アルキルエーテルサルフェ
ート等のアニオン界面活性剤が広く用いられてきた。し
かし、これらアニオン界面活性剤の多くは、蛋白質変性
能か比較的高く、皮膚に対する刺激か強いという問題が
あった。
トイレタリー製品やハウスホールド製品の配合成分とし
て、アルキルサルフェート、アルキルエーテルサルフェ
ート等のアニオン界面活性剤が広く用いられてきた。し
かし、これらアニオン界面活性剤の多くは、蛋白質変性
能か比較的高く、皮膚に対する刺激か強いという問題が
あった。
一方、分子中にオキシエチレン基、オキシプロピレン基
等の低分子量オキシアルキレン基を有するポリオキシア
ルキレンアルキルエーテルや、グリセリン、ソルビタン
、ソルビトール、ショ糖等の多価アルコール類の高級脂
肪酸エステルに代表される非イオン界面活性剤は、蛋白
質変性能か比較的低く、皮膚に対する刺激も弱いことか
知られており、現在広く使用されている。
等の低分子量オキシアルキレン基を有するポリオキシア
ルキレンアルキルエーテルや、グリセリン、ソルビタン
、ソルビトール、ショ糖等の多価アルコール類の高級脂
肪酸エステルに代表される非イオン界面活性剤は、蛋白
質変性能か比較的低く、皮膚に対する刺激も弱いことか
知られており、現在広く使用されている。
しかしながら、ポリオキシアルキレンアルキルエーテル
系非イオン界面活性剤は、一般に経時的に分解して低分
子量アルデヒドを発生しやすいという問題かあった。ま
た、多価アルコール類の高級脂肪酸エステル系非イオン
界面活性剤は、水を含む系に長時間保存・貯蔵した場合
、エステル基が加水分解しやすく、経時安定性に欠ける
という問題があった。更に、これらの非イオン界面活性
剤は、洗浄力、起泡力、泡安定性などの性能において、
実用上盛すしも満足のできるものではなかった。
系非イオン界面活性剤は、一般に経時的に分解して低分
子量アルデヒドを発生しやすいという問題かあった。ま
た、多価アルコール類の高級脂肪酸エステル系非イオン
界面活性剤は、水を含む系に長時間保存・貯蔵した場合
、エステル基が加水分解しやすく、経時安定性に欠ける
という問題があった。更に、これらの非イオン界面活性
剤は、洗浄力、起泡力、泡安定性などの性能において、
実用上盛すしも満足のできるものではなかった。
また、これらよりも起泡力等の洗浄能力の高い非イオン
界面活性剤として、アルキルグリコシド、アルキルポリ
グリコシF等の糖系非イオン界面活性剤か知られている
(米国特許第4223129号明細書、特開昭58−1
94902号公報)が、これらにおいてもその洗浄能力
は未た充分といえるものではなく、また洗浄後の感触の
点ても必すしも満足のできるものではなかった。
界面活性剤として、アルキルグリコシド、アルキルポリ
グリコシF等の糖系非イオン界面活性剤か知られている
(米国特許第4223129号明細書、特開昭58−1
94902号公報)が、これらにおいてもその洗浄能力
は未た充分といえるものではなく、また洗浄後の感触の
点ても必すしも満足のできるものではなかった。
従って、皮膚に対する刺激か弱く、経時安定性に優れ、
かつ洗浄力、起泡力、泡安定性等の洗浄能力に優れた非
イオン界面活性剤か望まれていた。
かつ洗浄力、起泡力、泡安定性等の洗浄能力に優れた非
イオン界面活性剤か望まれていた。
[課題を解決するための手段]
かかる実情において、本発明者らは従来の界面活性剤の
上記欠点を改良し、洗浄剤、乳化剤等として有用な界面
活性剤を提供すべく鋭意研究を重ねた結果、後記一般式
(I)で表わされる新規な糖誘導体が、上記要件を満た
す、優れた界面活性剤であることを見出し、本発明を完
成した。
上記欠点を改良し、洗浄剤、乳化剤等として有用な界面
活性剤を提供すべく鋭意研究を重ねた結果、後記一般式
(I)で表わされる新規な糖誘導体が、上記要件を満た
す、優れた界面活性剤であることを見出し、本発明を完
成した。
すなわち本発明は、次の一般式(I)
G(O−L−3−R)。 (I)
(式中、Gは置換基を有していてもよい炭素数5もしく
は6の還元糖、該還元糖の縮合体又は該還元糖を構成単
位とするオリゴ糖からn個の水酸基を除いた残基を示す
。
は6の還元糖、該還元糖の縮合体又は該還元糖を構成単
位とするオリゴ糖からn個の水酸基を除いた残基を示す
。
Lは直鎖又は分岐鎖の、飽和又は不飽和の、水酸基を有
していてもよい炭素数1〜24の二価炭化水素基を、R
は直鎖又は分岐鎖の、飽和又は不飽和の炭素数1〜24
の一価炭化水素基を示す。) で表わされる糖誘導体及びその製造方法を提供するもの
である。
していてもよい炭素数1〜24の二価炭化水素基を、R
は直鎖又は分岐鎖の、飽和又は不飽和の炭素数1〜24
の一価炭化水素基を示す。) で表わされる糖誘導体及びその製造方法を提供するもの
である。
上記一般式(I)において、Gは糖類からn個の水酸基
を除いた残基であるか、かかる糖類の具体例としてはペ
ントースとしてリボース、アラビノース、キシロース、
リキソース、リブロース等か;ヘキソースとしてアロー
ス、アルドロース、グルコース、マンノース、グロース
、イトース、ガラクトース、グロース、フルクトース等
が;これらの縮合体として平均重合度か10未満のもの
かホモオリゴ糖としてマルトース、イソマルトース、シ
クロデキストリン等のマルトオリゴ糖、セロビオース等
のセロオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、マンノオリゴ糖、
フラクトオリゴ糖などか;ヘテロオリゴ糖としてショ糖
、乳糖等が挙げられる。また、これら糖類か有していて
もよい置換基としては、アシル化、エーテル化、アルキ
レンオキサイド付加、アセタール化、硫酸化、リン酸化
なとによって修飾される基が挙げられる。またnは糖類
の有する水酸基数を超えない正の整数であるが、界面活
性能の点から1〜3、特に1又は2が好ましい。Gの好
ましい例としては、グルコース又はその縮合体からグリ
コシド性水酸基を除いた残基が挙げられる。
を除いた残基であるか、かかる糖類の具体例としてはペ
ントースとしてリボース、アラビノース、キシロース、
リキソース、リブロース等か;ヘキソースとしてアロー
ス、アルドロース、グルコース、マンノース、グロース
、イトース、ガラクトース、グロース、フルクトース等
が;これらの縮合体として平均重合度か10未満のもの
かホモオリゴ糖としてマルトース、イソマルトース、シ
クロデキストリン等のマルトオリゴ糖、セロビオース等
のセロオリゴ糖、ガラクトオリゴ糖、マンノオリゴ糖、
フラクトオリゴ糖などか;ヘテロオリゴ糖としてショ糖
、乳糖等が挙げられる。また、これら糖類か有していて
もよい置換基としては、アシル化、エーテル化、アルキ
レンオキサイド付加、アセタール化、硫酸化、リン酸化
なとによって修飾される基が挙げられる。またnは糖類
の有する水酸基数を超えない正の整数であるが、界面活
性能の点から1〜3、特に1又は2が好ましい。Gの好
ましい例としては、グルコース又はその縮合体からグリ
コシド性水酸基を除いた残基が挙げられる。
一般式(I)におけるしの具体例としては、直鎖アルキ
レン基としてメチレン、エチレン、トリメチレン、テト
ラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタ
メチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレ
ン、Fデカメチレン、テトラデカメチレン、ヘキサデカ
メチレン、オクタデカメチレン、エイコサメチレン、ド
コサメチレン等が;分岐鎖アルキレン基としてプロピレ
ン、メチルトリメチレン、メチルテトラメチレン、メチ
ルペンタメチレン、メチルへキサメチレン、メチルへブ
タメチレン、メチルノナメチレン、メチルウンデカメチ
レン、メチルトリデカメチレン、メチルへブタデカメチ
レン、エチルへキサメチレン等が;ヒドロキシアルキレ
ン基としてヒドロキシメチレン、ヒドロキシエチレン、
ヒドロキシトリメチレン、ヒドロキシテトラメチレン、
ヒドロキシペンタメチレン、ヒドロキシへキサメチレン
、ヒドロキシオクタメチレン、ヒドロキシデカメチレン
、ヒドロキシドデカメチレン、ヒドロキンテトラデカメ
チレン、ヒドロキシヘキサデカメチレン、ヒドロキシオ
クタデカメチレン、ヒドロキシドコサメチレン等が;直
鎖アルケニレン基としてビニレン、プロペニレン、ブテ
ニレン、ペンテニレン、ヘキセニレン、オクテニレン、
デセニレン、ドデセニレン、テトラデセニルン、ヘキサ
デセニルン、オクタデセニルン等か;分岐鎖アルケニレ
ン基としてメチルビニレン、メチルプロペニレン、メチ
ルブテニレン、メチルオクテニルン、メチルヘキセニレ
ン、メチルへブテニレン、メチルオクテニルン、メチル
デセニルン、メチルウンデセニルン、メチルウンデセニ
ルン、メチルへブタデセニルン等か:ヒドロキシアルケ
ニレン基としてヒドロキシビニレン、ヒドロキシプロペ
ニレン、ヒドロキシブテニレン、ヒトロキンペンテニレ
ン、ヒドロキシヘキセニレン、ヒドロキンへブテニレン
、ヒドロキシブテニレン、ヒドロキシエチレン、ヒドロ
キシデカメレン、ヒドロキシテトラメチレン、ヒドロキ
シへキサメチレン、ヒドロキシオクタメチレン等が挙げ
られる。Lの炭素数は1〜24の範囲であるが、特に1
〜4の範囲が好ましい。
レン基としてメチレン、エチレン、トリメチレン、テト
ラメチレン、ペンタメチレン、ヘキサメチレン、ヘプタ
メチレン、オクタメチレン、ノナメチレン、デカメチレ
ン、Fデカメチレン、テトラデカメチレン、ヘキサデカ
メチレン、オクタデカメチレン、エイコサメチレン、ド
コサメチレン等が;分岐鎖アルキレン基としてプロピレ
ン、メチルトリメチレン、メチルテトラメチレン、メチ
ルペンタメチレン、メチルへキサメチレン、メチルへブ
タメチレン、メチルノナメチレン、メチルウンデカメチ
レン、メチルトリデカメチレン、メチルへブタデカメチ
レン、エチルへキサメチレン等が;ヒドロキシアルキレ
ン基としてヒドロキシメチレン、ヒドロキシエチレン、
ヒドロキシトリメチレン、ヒドロキシテトラメチレン、
ヒドロキシペンタメチレン、ヒドロキシへキサメチレン
、ヒドロキシオクタメチレン、ヒドロキシデカメチレン
、ヒドロキシドデカメチレン、ヒドロキンテトラデカメ
チレン、ヒドロキシヘキサデカメチレン、ヒドロキシオ
クタデカメチレン、ヒドロキシドコサメチレン等が;直
鎖アルケニレン基としてビニレン、プロペニレン、ブテ
ニレン、ペンテニレン、ヘキセニレン、オクテニレン、
デセニレン、ドデセニレン、テトラデセニルン、ヘキサ
デセニルン、オクタデセニルン等か;分岐鎖アルケニレ
ン基としてメチルビニレン、メチルプロペニレン、メチ
ルブテニレン、メチルオクテニルン、メチルヘキセニレ
ン、メチルへブテニレン、メチルオクテニルン、メチル
デセニルン、メチルウンデセニルン、メチルウンデセニ
ルン、メチルへブタデセニルン等か:ヒドロキシアルケ
ニレン基としてヒドロキシビニレン、ヒドロキシプロペ
ニレン、ヒドロキシブテニレン、ヒトロキンペンテニレ
ン、ヒドロキシヘキセニレン、ヒドロキンへブテニレン
、ヒドロキシブテニレン、ヒドロキシエチレン、ヒドロ
キシデカメレン、ヒドロキシテトラメチレン、ヒドロキ
シへキサメチレン、ヒドロキシオクタメチレン等が挙げ
られる。Lの炭素数は1〜24の範囲であるが、特に1
〜4の範囲が好ましい。
また、−数式(I)におけるRの具体例としては、直鎖
アルキル基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デ
シル、Fデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタ
デシル、エイコシル、トコシル等が;分岐鎖アルキル基
としてメチルエチル、メチルフロビル、メチルブチル、
メチルペンチル、メチルヘキシル、メチルヘプチル、メ
チルノニル、メチルウンデシル、メチルトリデシル、メ
チルヘプタデシル、エチルヘキシル等が;直鎖アルケニ
ル基としてビニル、1−プロペニル、アリル、フチニル
、ペンテニル、ヘキセニル、オクテニル、デセニル、ド
デセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデ
セニル等か;分岐鎖アルケニル基としてメチルビニル、
メチルプロペニル、メチルブテニル、メチルペンテニル
、メチルへキセニル、メチルへブテニル、メチルオクテ
ニル、メチルデセニル、メチルウンデセニル、メチルト
リデセニル、メチルへブタデセニル等が挙げられる。
アルキル基としてメチル、エチル、プロピル、ブチル、
ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デ
シル、Fデシル、テトラデシル、ヘキサデシル、オクタ
デシル、エイコシル、トコシル等が;分岐鎖アルキル基
としてメチルエチル、メチルフロビル、メチルブチル、
メチルペンチル、メチルヘキシル、メチルヘプチル、メ
チルノニル、メチルウンデシル、メチルトリデシル、メ
チルヘプタデシル、エチルヘキシル等が;直鎖アルケニ
ル基としてビニル、1−プロペニル、アリル、フチニル
、ペンテニル、ヘキセニル、オクテニル、デセニル、ド
デセニル、テトラデセニル、ヘキサデセニル、オクタデ
セニル等か;分岐鎖アルケニル基としてメチルビニル、
メチルプロペニル、メチルブテニル、メチルペンテニル
、メチルへキセニル、メチルへブテニル、メチルオクテ
ニル、メチルデセニル、メチルウンデセニル、メチルト
リデセニル、メチルへブタデセニル等が挙げられる。
Rの炭素数は1〜24の範囲であるか、特に4〜18の
範囲か好ましい。
範囲か好ましい。
本発明の糖誘導体(1)は、例えば次の反応式に従って
製造することができる。
製造することができる。
す
(n)
(I)
(rV) (
I )(式中、G、n、L及びRは前記と同し意味を示
し、Xはハロゲン原子を、Mは直鎖又は分岐鎖の、飽和
又は不飽和の、水酸基を有していてもよい炭素数1〜2
2の二価炭化水素基を示す。)すなわち、−数式(II
)又は(III)で表わされる化合物にチオール(TV
)をアルカリ物質の存在下に反応させることにより、本
発明の糖誘導体(I)か製造される。また、他の方法と
して、まずチオール(TV)とアルカリ物質とを反応さ
せてチオラートを得、これと化合物(II)又は(If
f)とを反応させることによっても本発明の糖誘導体(
I)を製造することかできる。ここで、原料である化合
物(II)又は(m)は、公知の方法に従って、例えば
対応する糖類とω−ハロアルコール、グリセロールモノ
ハロヒドリン、エピハロヒドリン等との反応により、容
易に製造することができる。
I )(式中、G、n、L及びRは前記と同し意味を示
し、Xはハロゲン原子を、Mは直鎖又は分岐鎖の、飽和
又は不飽和の、水酸基を有していてもよい炭素数1〜2
2の二価炭化水素基を示す。)すなわち、−数式(II
)又は(III)で表わされる化合物にチオール(TV
)をアルカリ物質の存在下に反応させることにより、本
発明の糖誘導体(I)か製造される。また、他の方法と
して、まずチオール(TV)とアルカリ物質とを反応さ
せてチオラートを得、これと化合物(II)又は(If
f)とを反応させることによっても本発明の糖誘導体(
I)を製造することかできる。ここで、原料である化合
物(II)又は(m)は、公知の方法に従って、例えば
対応する糖類とω−ハロアルコール、グリセロールモノ
ハロヒドリン、エピハロヒドリン等との反応により、容
易に製造することができる。
本反応においては、化合物(n)又は(III)に対し
てO】〜10倍モル、特に05〜3倍モルのチオール(
TV)を用いるのか好ましい。また、アルカリ物質とし
ては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリ
ウムメチラート、ナトリウムエチラート、水素化ナトリ
ウム等が好ましいものとして挙げられ、これらは化合物
(II)又は(III)に対して001〜20重量%の
範囲で用いるのか好ましい。本反応の反応温度は、40
〜150℃、特に70〜120°Cの範囲が好ましく、
また反応時間は反応時間、原料の種類等により異なるが
、数分〜数十時間、特に1〜10時間の範囲が好ましい
。
てO】〜10倍モル、特に05〜3倍モルのチオール(
TV)を用いるのか好ましい。また、アルカリ物質とし
ては例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、ナトリ
ウムメチラート、ナトリウムエチラート、水素化ナトリ
ウム等が好ましいものとして挙げられ、これらは化合物
(II)又は(III)に対して001〜20重量%の
範囲で用いるのか好ましい。本反応の反応温度は、40
〜150℃、特に70〜120°Cの範囲が好ましく、
また反応時間は反応時間、原料の種類等により異なるが
、数分〜数十時間、特に1〜10時間の範囲が好ましい
。
本反応は、無溶媒にて行うことができるが、原料化合物
の混合を助長せしめるために不活性溶媒を使用してもよ
い。不活性溶媒としては、例えば水;メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール;
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の極性溶媒;これらの混合溶媒が挙げ
られる。
の混合を助長せしめるために不活性溶媒を使用してもよ
い。不活性溶媒としては、例えば水;メタノール、エタ
ノール、イソプロピルアルコール等の低級アルコール;
ジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、ジメチ
ルスルホキシド等の極性溶媒;これらの混合溶媒が挙げ
られる。
また、場合によっては反応を促進せしめる目的で、テト
ラエチルアンモニウムブロマイド、テトラフロビルアン
モニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムプロマ
イト、テトラヘキシルアンモニウムブロマイド、トリメ
チルオクタデシルアンモニウムクロライド、ジメチルジ
オクタデシルアンモニウムクロライF等の相間移動触媒
を使用することができる。相間移動触媒の使用量は、化
合物(IT)又は(III)に対して001〜IO重量
%か好ましい。
ラエチルアンモニウムブロマイド、テトラフロビルアン
モニウムブロマイド、テトラブチルアンモニウムプロマ
イト、テトラヘキシルアンモニウムブロマイド、トリメ
チルオクタデシルアンモニウムクロライド、ジメチルジ
オクタデシルアンモニウムクロライF等の相間移動触媒
を使用することができる。相間移動触媒の使用量は、化
合物(IT)又は(III)に対して001〜IO重量
%か好ましい。
本反応の反応生成物には、本発明の糖誘導体(1)のほ
か、未反応の化合物(II)、(III)、(TV)や
化合物(I[I)のエポキシ開環物などが含まれる場合
があるが、使用目的によっては、精製することなく反応
生成物をそのまま使用することもてきる。
か、未反応の化合物(II)、(III)、(TV)や
化合物(I[I)のエポキシ開環物などが含まれる場合
があるが、使用目的によっては、精製することなく反応
生成物をそのまま使用することもてきる。
また、より高純度なものが必要とされる場合には、分配
クロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、
吸着クロマトグラフィー、溶媒分別法、再結晶法等の公
知の精製法によって精製することができる。
クロマトグラフィー、イオン交換クロマトグラフィー、
吸着クロマトグラフィー、溶媒分別法、再結晶法等の公
知の精製法によって精製することができる。
かくして得られた本発明の糖誘導体(1)は、トイレタ
リー製品やハウスホールド製品の配合成分、例えば洗浄
剤、乳化剤、分散剤、湿潤剤、可溶化剤等として使用す
ることができる。
リー製品やハウスホールド製品の配合成分、例えば洗浄
剤、乳化剤、分散剤、湿潤剤、可溶化剤等として使用す
ることができる。
[実施例コ
以下、実施例を挙げて更に詳細に説明するか、本発明は
これらに限定されるものではない。
これらに限定されるものではない。
合成例1
(3−クロロ−2−ヒドロキンプロピル)−D−グルコ
ピラノシドの合成: 反応器にグルコース160g (O,88モル)、3−
り四ロー1,2−プロパンジオール956g (8,8
モル)及び酸触媒としてダウエックス50WX8(H型
、50〜100メツシユ、室町化学工業社製)40gを
入れ、攪拌しながら60°Cまて昇温し、16時間反応
させた。反応終了後、ろ過により酸触媒を除き、更に未
反応の3〜クロロ−1,2−プロパンジオールを減圧下
に留去した。得られた残渣を500gのアセトンで計3
回洗浄した後、減圧下で乾燥して、(3−クロロ−2−
ヒドロキシプロピル)−D−グルコピラノシド80gを
得た(収率33%)。
ピラノシドの合成: 反応器にグルコース160g (O,88モル)、3−
り四ロー1,2−プロパンジオール956g (8,8
モル)及び酸触媒としてダウエックス50WX8(H型
、50〜100メツシユ、室町化学工業社製)40gを
入れ、攪拌しながら60°Cまて昇温し、16時間反応
させた。反応終了後、ろ過により酸触媒を除き、更に未
反応の3〜クロロ−1,2−プロパンジオールを減圧下
に留去した。得られた残渣を500gのアセトンで計3
回洗浄した後、減圧下で乾燥して、(3−クロロ−2−
ヒドロキシプロピル)−D−グルコピラノシド80gを
得た(収率33%)。
実施例1
反応器に合成例1で得た(3−クロロ−2−ヒドロキシ
プロピル)−D−グルコピラノシド27.3g(O,1
モル)、ドデカンチオール40.4g (O,2モル)
、水酸化ナト’) ’y L 6.Og (O,15モ
ル)、テトラブチルアンモニウムフロマイト05g及び
ジメチルホルムアミド500gを入れ、攪拌溶解後、窒
素雰囲気下100 ’Cで5時間反応させた。反応終了
後、反応液よりジメチルホルムアミドを減圧下で留去し
、得られた反応物に水500g及び酢酸エチル500g
を加えて激しく振とうし、次いで静置分層して酢酸エチ
ル層を得た。この酢酸エチル層を減圧下で濃縮した後、
シリカゲルカラムにより薄層クロマトグラフィーで単一
スポットを与えるまで精製して、1−〇−クルコピラノ
シルー3−3−ドデシルチオグリセロール120gを得
た(単離収率274%)。
プロピル)−D−グルコピラノシド27.3g(O,1
モル)、ドデカンチオール40.4g (O,2モル)
、水酸化ナト’) ’y L 6.Og (O,15モ
ル)、テトラブチルアンモニウムフロマイト05g及び
ジメチルホルムアミド500gを入れ、攪拌溶解後、窒
素雰囲気下100 ’Cで5時間反応させた。反応終了
後、反応液よりジメチルホルムアミドを減圧下で留去し
、得られた反応物に水500g及び酢酸エチル500g
を加えて激しく振とうし、次いで静置分層して酢酸エチ
ル層を得た。この酢酸エチル層を減圧下で濃縮した後、
シリカゲルカラムにより薄層クロマトグラフィーで単一
スポットを与えるまで精製して、1−〇−クルコピラノ
シルー3−3−ドデシルチオグリセロール120gを得
た(単離収率274%)。
’)l−NMR(CDCfl 2/D20)δ(ppm
、TMS) (図1):0.90(t、 3H,a) 1.29(brord s 18Hb)1.56(b
rord s、 2H,c)2.57(brord s
、 2H,d)2.66(brord s、 2H,e
)3.21〜4.03(m 9)1. f)4.91
(brord s、 LH,g)(以下余白) H20D H’ 0D TR(液膜、cm−’)(図2): 3450、 2950 1660 1520〜12
201200〜980 質■分析(FABイオン化法)m/z: 439(M
+H)”実施例2 反応器に合成例1て得た(3−クロロ−2−ヒト0キシ
プロピル)−D−グルコピラノシド27.3g(O,1
モル)、オクタンチオール21.9g (O,15モル
)、水酸化ナトリウム6.0g (O,15モル)、テ
トラブチルアンモニウムブロマイド05g及びジメチル
ホルムアミド300gを入れ、攪拌溶解後、窒素雰囲気
下100°Cて5時間反応させた。反応終了後、反応液
よりジメチルホルムアミドを減圧下で留去し、得られた
反応物に飽和硫酸ナトリウム水溶液500g及び酢酸エ
チル500gを加えて激しく振とうし、次いて静置分層
して酢酸エチル層を得た。この酢酸エチル層を減圧下で
濃縮した後、シリカゲルカラムにより薄層クロマトグラ
フィーで単一スポットを与えるまで精製して、1−〇−
グルコピラノシルー3−3−オクチルチオグリセロール
14 、1gを得た(単離収率36.9%)。
、TMS) (図1):0.90(t、 3H,a) 1.29(brord s 18Hb)1.56(b
rord s、 2H,c)2.57(brord s
、 2H,d)2.66(brord s、 2H,e
)3.21〜4.03(m 9)1. f)4.91
(brord s、 LH,g)(以下余白) H20D H’ 0D TR(液膜、cm−’)(図2): 3450、 2950 1660 1520〜12
201200〜980 質■分析(FABイオン化法)m/z: 439(M
+H)”実施例2 反応器に合成例1て得た(3−クロロ−2−ヒト0キシ
プロピル)−D−グルコピラノシド27.3g(O,1
モル)、オクタンチオール21.9g (O,15モル
)、水酸化ナトリウム6.0g (O,15モル)、テ
トラブチルアンモニウムブロマイド05g及びジメチル
ホルムアミド300gを入れ、攪拌溶解後、窒素雰囲気
下100°Cて5時間反応させた。反応終了後、反応液
よりジメチルホルムアミドを減圧下で留去し、得られた
反応物に飽和硫酸ナトリウム水溶液500g及び酢酸エ
チル500gを加えて激しく振とうし、次いて静置分層
して酢酸エチル層を得た。この酢酸エチル層を減圧下で
濃縮した後、シリカゲルカラムにより薄層クロマトグラ
フィーで単一スポットを与えるまで精製して、1−〇−
グルコピラノシルー3−3−オクチルチオグリセロール
14 、1gを得た(単離収率36.9%)。
1H−NMR(CDCff 3/D20)δ(ppm、
TMS) :0.88(t、3H) 1.28(brord s、l0H) 1.57(brord s、 2H) 2.56(brord s、 2H) 2.66(brord s 2H) 3.19〜4.00(m、9H) 4.90(brord s、 IH) IR(液膜、cTn−’): 3450 2900 1660 1540〜12101
190〜980 質量分析(FABイオン化法)m/z : 383(
M+H)”試験例1 起泡力試験 実施例2で得られた1−0−グルコピラノシル−3−S
−オクチルチオグリセロールの10%水溶液30m1を
スクリュー栓付きの20諧容試験管に採り、試験管を密
閉後1分間激しく振とうし、30秒間静置した後の起泡
量を測定した(測定温度25°C)。比較例としてオク
チル−β−D−グルコピラノシド(シグマ社製)及びデ
シル−β−D−グルコピラノシド(シグマ社製)につい
ても同様の条件て起泡力を測定した。この結果を表1に
示す。
TMS) :0.88(t、3H) 1.28(brord s、l0H) 1.57(brord s、 2H) 2.56(brord s、 2H) 2.66(brord s 2H) 3.19〜4.00(m、9H) 4.90(brord s、 IH) IR(液膜、cTn−’): 3450 2900 1660 1540〜12101
190〜980 質量分析(FABイオン化法)m/z : 383(
M+H)”試験例1 起泡力試験 実施例2で得られた1−0−グルコピラノシル−3−S
−オクチルチオグリセロールの10%水溶液30m1を
スクリュー栓付きの20諧容試験管に採り、試験管を密
閉後1分間激しく振とうし、30秒間静置した後の起泡
量を測定した(測定温度25°C)。比較例としてオク
チル−β−D−グルコピラノシド(シグマ社製)及びデ
シル−β−D−グルコピラノシド(シグマ社製)につい
ても同様の条件て起泡力を測定した。この結果を表1に
示す。
表1
試験例2 泡安定性試験
実施例2て得られた1−0−グルコピラノシル−3−S
−オクチルチオグリセロールの10%水溶液3.0mf
lをスクリュー栓付きの20−容試験管に採り、試験管
を密閉後1分間激しく振とうし、30秒間及び更に10
分間静置した後の起泡量を測定した。上記30秒後の起
泡量を100%とし、10分後の泡残存率を求めた(測
定温度256C)。比較例としてオクチルβ−D−グル
コピラノシト(シグマ社製)及びデンルーβ−D−グル
コピラノシト(シグマ社製)についても同様の条件で泡
残存率を測定した。この結果を表2に示す。
−オクチルチオグリセロールの10%水溶液3.0mf
lをスクリュー栓付きの20−容試験管に採り、試験管
を密閉後1分間激しく振とうし、30秒間及び更に10
分間静置した後の起泡量を測定した。上記30秒後の起
泡量を100%とし、10分後の泡残存率を求めた(測
定温度256C)。比較例としてオクチルβ−D−グル
コピラノシト(シグマ社製)及びデンルーβ−D−グル
コピラノシト(シグマ社製)についても同様の条件で泡
残存率を測定した。この結果を表2に示す。
表2
[発明の効果]
以上のように、本発明の糖誘導体(1)は皮膚に対する
刺激か弱く、経時安定性に優れ、かつ洗浄能力に優れた
非イオン界面活性剤であり、トイレタリー製品やハウス
ホールド製品の配合成分として有用である。
刺激か弱く、経時安定性に優れ、かつ洗浄能力に優れた
非イオン界面活性剤であり、トイレタリー製品やハウス
ホールド製品の配合成分として有用である。
図1及び図2は、それぞれ実施例1て得られた1−0−
グルコピラノシル−3−3−ドデシルチオグリセロール
のフロトンNMRスペクトル及びTRスペクトルを示す
。 以 上
グルコピラノシル−3−3−ドデシルチオグリセロール
のフロトンNMRスペクトル及びTRスペクトルを示す
。 以 上
Claims (4)
- (1)次の一般式( I ) G(O−L−S−R)_n( I ) (式中、Gは置換基を有していてもよい炭素数5もしく
は6の還元糖、該還元糖の縮合体又は該還元糖を構成単
位とするオリゴ糖からn個の水酸基を除いた残基を示す
。 Lは直鎖又は分岐鎖の、飽和又は不飽和の、水酸基を有
していてもよい炭素数1〜24の二価炭化水素基を、R
は直鎖又は分岐鎖の、飽和又は不飽和の炭素数1〜24
の一価炭化水素基を示す。) で表わされる糖誘導体。 - (2)一般式( I )においてGがグルコース又はその
縮合体からグリコシド性水酸基を除いた残基である請求
項1記載の糖誘導体。 - (3)一般式( I )においてLの炭素数が1〜4であ
り、Rの炭素数が4〜18である請求項1又は2記載の
糖誘導体。 - (4)次の一般式(II) G(O−L−X)_n(II) (式中、Gは置換基を有していてもよい炭素数5もしく
は6の還元糖、該還元糖の縮合体又は該還元糖を構成単
位とするオリゴ糖からn個の水酸基を除いた残基を示す
。 Lは直鎖又は分岐鎖の、飽和又は不飽和の、水酸基を有
していてもよい炭素数1〜24の二価炭化水素基を、X
はハロゲン原子を示す。)で表わされる化合物又は次の
一般式(III) ▲数式、化学式、表等があります▼(III) (式中、G及びnは上記と同じ意味を示し、Mは直鎖又
は分岐鎖の、飽和又は不飽和の、水酸基を有していても
よい炭素数1〜22の二価炭化水素基を示す。) で表わされる化合物を、アルカリ物質の存在下、次の一
般式(IV) RSH(IV) (式中、Rは直鎖又は分岐鎖の、飽和又は不飽和の炭素
数1〜24の一価炭化水素基を示す。)で表わされる化
合物とを反応させることを特徴とする請求項1記載の糖
誘導体( I )の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2267600A JPH04145094A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 新規糖誘導体及びその製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2267600A JPH04145094A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 新規糖誘導体及びその製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH04145094A true JPH04145094A (ja) | 1992-05-19 |
Family
ID=17446986
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2267600A Pending JPH04145094A (ja) | 1990-10-05 | 1990-10-05 | 新規糖誘導体及びその製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH04145094A (ja) |
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995022551A1 (de) * | 1994-02-16 | 1995-08-24 | Basf Aktiengesellschaft | 1-(2'-hydroxy- und 2'-sulfatoalkyl)glykoside |
EP1657288A1 (en) | 2004-10-08 | 2006-05-17 | Air Products And Chemicals, Inc. | 2-Hydroxy-3-alkoxypropyl sulfides, sulfones, and sulfoxides: new surface active agents |
-
1990
- 1990-10-05 JP JP2267600A patent/JPH04145094A/ja active Pending
Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1995022551A1 (de) * | 1994-02-16 | 1995-08-24 | Basf Aktiengesellschaft | 1-(2'-hydroxy- und 2'-sulfatoalkyl)glykoside |
EP1657288A1 (en) | 2004-10-08 | 2006-05-17 | Air Products And Chemicals, Inc. | 2-Hydroxy-3-alkoxypropyl sulfides, sulfones, and sulfoxides: new surface active agents |
KR100699294B1 (ko) * | 2004-10-08 | 2007-03-26 | 에어 프로덕츠 앤드 케미칼스, 인코오포레이티드 | 2-히드록시-3-알콕시프로필 설파이드, 설폰 및 설폭사이드:새로운 계면활성제 |
US7341985B2 (en) | 2004-10-08 | 2008-03-11 | Air Products And Chemicals, Inc. | 2-Hydroxy-3-alkoxypropyl sulfides, sulfones, and sulfoxides: new surface active agents |
EP2246407A1 (en) * | 2004-10-08 | 2010-11-03 | Air Products And Chemicals, Inc. | 2-Hydroxy-3-alkoxypropyl sulfides, sulfones, and sulfoxides: new surface active agents |
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