JPH04124289A

JPH04124289A - 洗浄方法および洗浄装置

Info

Publication number: JPH04124289A
Application number: JP2241974A
Authority: JP
Inventors: Minoru Inada; 実稲田; Yasutaka Imashiro; 康隆今城; Masahide Uchino; 正英内野
Original assignee: Toshiba Corp; Japan Field Co Ltd
Current assignee: Toshiba Corp; Japan Field Co Ltd
Priority date: 1990-09-12
Filing date: 1990-09-12
Publication date: 1992-04-24
Anticipated expiration: 2014-06-02
Also published as: JP2901090B2

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】［発明の目的コ（産業上の利用分野）本発明は、環境破壊が少なく、かつ安全性の高い洗浄方
法および洗浄装置に関する。

（従来の技術）金属部品、メツキ部品、塗装部品、電子部品、半導体部
品等の各種の部品には、その製造工程や組立て工程等に
おいて、機械油をはじめとして様々な汚れが付着する。

このような汚れを有する各種部品は、フロン系溶剤や塩
素系溶剤等によって洗浄した後、同様な溶剤の蒸気を用
いて乾燥することが一般的に行われている。しかし、最
近、上述したようなフロン系溶剤や塩素系溶剤の人体や
環境に対する影響が問題視されてきていることから、フ
ロン系溶剤や塩素系溶剤に代り得る洗浄剤として、水系
、非水系を問わず各種の洗浄剤が提案されている。例え
ば、現状のフロン系溶剤よりオゾン破壊係数の低いフロ
ン系物質の開発が進められており、また水系洗浄や非塩
素系有機溶剤を用いた洗浄が検討されている。

しかし、これらの洗浄剤の多くは、洗浄それ自体は可能
であっても、洗浄後に水洗いが必要であったり、人体に
対する毒性が無視できない場合が多いという難点がある
。また、新しいフロン系物質も、環境破壊が皆無ではな
いことから、好ましい代替洗浄剤や乾燥手段とは目され
ていない。

一方、特殊な洗浄対象部品として、半導体ウェハやＬＣ
Ｄ用基板等、極端に水しみ（ウォーターマーク）を嫌う
超精密洗浄部品がある。従来、この分野には、フロン１
１３等による蒸気洗浄（乾燥工程）が洗浄の最終工程と
して採用されてきたが、上述したような理由からフロン
による蒸気洗浄に代わる洗浄方法が求められている。

（発明が解決しようとする課題）上述したように、従来、フロン系溶剤や塩素系溶剤の代
替洗浄剤として提案されているものは、水洗が必要であ
ったり、人体に対する毒性が無視できない等の難点を有
することから、全洗浄工程を通じて非水系洗浄が可能で
あり、かつ環境破壊が少なく、人体に対する悪影響もな
い洗浄方法が強く望まれている。

また、超精密洗浄を必要とする分野においては、フロン
による蒸気洗浄と同等の洗浄効果（耐水しみ性）が得ら
れ、かつ環境破壊を招くことのない洗浄方法が強く望ま
れている。

本発明は、上述したような課題に対処するためになされ
たもので、環境破壊を低減し、人体に対する悪影響もな
く、かつ非水系洗浄により十分な洗浄効果が得られる洗
浄方法および洗浄装置を提供することを目的としており
、さらにはフロンに匹敵するような超精密洗浄が可能な
洗浄方法および洗浄装置を提供することを目的としてい
る。

［発明の構成］（課題を解決するための手段と作用）すなわち、本発明の洗浄方法は、少なくともシリコーン
系洗浄剤を含む洗浄剤で被洗浄物を洗浄する工程と、前
記被洗浄物を不燃性不活性液体の蒸気を用いて乾燥させ
る工程とを有することを特徴としている。

また、本発明の洗浄装置は、被洗浄物の搬送機構か配設
され、該搬送機構の出入口部を有する装置本体と、前記
装置本体内における前記搬送機構の入口部側に設けられ
、少なくともシリコーン系洗浄剤を含む洗浄剤による洗
浄手段と、前記装置本体内における前記搬送機構の出口
部側に設けられ、不燃性不活性液体の蒸気による乾燥手
段とを具備することを特徴とするものである。

本発明において用いるシリコーン系洗浄剤としては、例
えば（式中、Ｒは同一または異なる置換または非置換の１価
の炭化水素基、這は０〜５の整数を示す）で表される直
鎖状ポリジオルガノシロキサンや、（以下余白）（式中、Ｒは同一または異なる置換または非置換の１価
の炭化水素基、ｎは３〜７の整数を示す）で表される環
状ポリジオルガノシロキサン等が例示される。

上記したような低分子量ポリオルガノシロキサンは、こ
れら単独でも良好な洗浄性能を示すものであり、上記（
１）式で表される直鎖状構造を有するポリジオルガノシ
ロキサンおよび上記（ｎ）式で表される環状構造を有す
るポリジオルガノシロキサンをそれぞれ単独で用いても
よいし、これらを共用することも可能である。

上記（Ｉ）式および（ＩＩ）式中のＲは、置換または非
置換の１価の炭化水素基であり、たとえばメチル基、エ
チル基、プロピル基、ブチル基等のアルキル基、フェニ
ル基等の１価の非置換炭化水素基、トリフロロメチル基
等の１価の置換炭化水素基等が例示されが、系の安定性
、揮発性の維持等からメチル基が好ましい。

また、本発明において用いる洗浄性能向上剤としては、
上記シリコーン系洗浄剤に添加し、洗浄性能を付与、向
上させ得る界面活性剤や親水性溶剤等が例示される。

界面活性剤は、活性を発揮する化学構造により、カチオ
ン系、アニオン系、ノニオン系、両性系およびこれらの
複合系に分類されるが、本発明においてはそれらのいず
れをも使用することが可能である。これら界面活性剤は
、特に洗浄性の向上に寄与するものである。

これら界面活性剤のうち、本発明において好ましく用い
られるものとしては、ポリオキシアルキレンアルキルエ
ーテルスルホン酸塩、リン酸エステル等のアニオン系界
面活性剤、多価アルコール脂肪酸エステル、ポリオキシ
アルキレン脂肪酸エステル、ポリオキシアルキレンアル
キルエーテル等のノニオン系界面活性剤、イミダシリン
誘導体等の両性界面活性剤、アルキルアミン塩、アルキ
ル第４級アンモニウム塩等のカチオン系界面活性剤等が
例示され、その他には単一物質で存在することは少ない
が、天然物から抽出されるテルペン系化合物や高級脂肪
酸エステル等が挙げられる。

また、上述したような各種化合物の化学構造の一部をフ
ッ素原子やケイ素原子で置き換えた合成化合物を用いる
ことも可能である。

また親水性溶剤は、上記シリコーン系洗浄剤に対して相
溶性を有するものが用いられ、特に引火点が４０℃以上
のものが実用上好適である。

このような親水性溶剤としては、エチレングリコールモ
ノメチルエーテル、エチレングリコールモノエチルエー
テル、エチレングリコールモノプロビルエーテル、エチ
レングリコールモノブチルエーテル、エチレングリコー
ルモノブチルエーテルアセテート、ジエチレングリコー
ルモノブチルエーテル等の多価アルコールとその誘導体
等が例示され、低分子量ポリオルガノシロキサンとの相
溶性、人体への安全性等の点からジエチレングリコール
モノブチルエーテルが特に好ましい。これら化合物は、
低分子量ポリオルガノシロキサンとの共存下で揮発性が
向上するために、この配合品のみでの水置換、乾燥も可
能である。

本発明における洗浄工程は、上記シリコーン系洗浄剤単
独、もしくは上記シリコーン系洗浄剤に洗浄性能向上剤
を添加した洗浄剤で行うものであり、具体的な洗浄手段
としては浸漬槽やシャワー槽等が用いられる。また必要
に応じて、超音波、揺動、機械的撹拌等を併用すること
も可能である。

上記洗浄性能向上剤を添加した洗浄剤を用いる場合にお
いて、洗浄性能向上剤の配合比は特に限定されるもので
はないが、上記したような界面活性剤では、シリコーン
系洗浄剤１００重量部に対して２０重量部以下、さらに
３重量部以下であることが好ましく、上記親水性溶剤で
はシリコーン系洗浄剤１００重量部に対して１００重量
部以下、さらに５０重量部以下であることが好ましい。

また、洗浄性能向上剤を含有するシリコーン系洗浄剤を
用いる際には、洗浄工程の後に、上記したシリコーン系
洗浄剤、後述する不燃性不活性液体、親水性溶剤から選
ばれた少なくとも　１種のすすぎ洗浄剤によって、すす
ぎ洗浄することが好ましい。このすすぎ洗浄の実施によ
り、不燃性不活性液体の蒸気による乾燥がより容易とな
る。上記すすぎ洗浄剤として用いる親水性溶剤としては
、メタノール、エタノール等の低級アルコール類、アセ
トン、メチルエチルケトン等の一般的な親水性溶剤が例
示される。

本発明で用いるシリコーン系洗浄剤は、非水溶性である
ことから、このシリコーン系洗浄剤中に混入したイオン
性の汚れや、さらには洗浄性能向上剤等は水により抽出
することかできる。すなわち、洗浄性能向上剤を含有す
るシリコーン系洗浄剤による洗浄工程と、シリコーン系
洗浄剤単独によるすすぎ洗浄工程とを組み合わせた際に
、すすぎ洗浄工程に持ち込まれた洗浄性能向上剤やイオ
ン性の汚れを水抽出することで、シリコーン系洗浄剤の
再使用が可能となる。また、他のすすぎ洗浄剤を用いた
場合においても、シリコーン系洗浄剤は同様に再使用が
可能である。

上述した洗浄工程によれば、フロン系溶剤や塩素系有機
溶剤による洗浄に匹敵する洗浄能力が得られると共に、
環境破壊や人体に対する悪影響を招くことなく洗浄を実
施することが可能となる。

また、本発明における乾燥工程は、不燃性不活性液体の
蒸気を用いて行うものである。ここで、本発明における
不燃性不活性液体とは、通常の大気雰囲気中において、
付近に反応性あるいは触媒性金属がない状態で、４００
℃〜７００℃の範囲では、好ましくは４５０℃〜７００
℃の範囲では、より好ましくは５００℃〜７００℃の範
囲では分解しない、あるいは他の元素と反応しない液体
をいう。

このような不燃性不活性液体としては、不燃性、無毒、
無臭で、非常に安全性の高いフッ素系不活性液体が例示
される。このようなフッ素系不活性液体のうち、特に塩
素を実質的に含まないパーフルオロカーボン等は、環境
破壊をほとんど招くことがないことから好適である。こ
こで、上記パーフルオロカーボンとは、構造中の炭素原
子に結合し得る全ての置換基がフッ素原子である化合物
のことであり、通常常温では液状体である。ただし、工
業的に得られるパーフルオロカーボンは、置換基の全て
がフッ素原子であるとは限らず、一部不純物として水素
、塩素あるいは臭素等であるものも含まれる。これは、
製造上避けることができない不純物であって、パーフル
オロカーボンに０．５〜５．０％程度含まれるものであ
り、このような不純物を含むパーフルオロカーボンで実
用上の支障はない。よって、本発明のパーフルオロカー
ボンとは、上述したようなものを含むものとする。また
、本発明におけるパーフルオロカーボンは、主鎖が炭素
であるものに限られるものでなく、一部エーテル結合の
ような酸素を含むものや窒素を含むものを用いることも
可能である。

パーフルオロカーボンのようなフッ素系不活性液体は、
上述したシリコーン系洗浄剤と相互に溶解しないことか
ら、それぞれを分離回収して再使用することが可能であ
る。また、パーフルオロカーボンは、その化学構造によ
って各種の沸点のものが得られるが、本発明においては
、洗浄工程に用いる洗浄剤より沸点が２０℃以上低いも
のを使用することが好ましい。これにより、乾燥工程に
おける洗浄剤の再付着が防止される。より好ましい沸点
の差は、５０℃以上であり、さらには１００℃以上とす
ることが望ましい。

上述したようなフッ素系不活性液体は、それ単独で用い
てもよいが、補助剤を併用することも可能である。ここ
で、上記補助剤とは、フッ素系不活性液体単独では被洗
浄物に残留する汚れに対し、洗浄力が不足する場合に洗
浄力向上を目的に加える溶剤、あるいはフッ素系不活性
液体単独では被洗浄物に残留する水分に対し、水切り能
力が不足する場合に水切り能力向上を目的に加える溶剤
である。なお、上記すすぎ洗浄工程に用いる不燃性不活
性液体も同様のものが例示される。

また、乾燥工程に用いる不燃性不活性液体としては、例
えばフロン１１３のようなフロン系溶剤、！、１．１−
トリクロロエタンのような塩素系有機溶剤等を用いるこ
ともできる。これは、環境破壊等の点からは当然ながら
、上述したパーフルオロカーボン等を用いることが好ま
しいが、洗浄工程においてフロン系溶剤をシリコーン系
洗浄剤に置き換えることにより、環境に対する影響を大
幅に低減することができるため、比較的溶剤使用量が少
ない乾燥工程においてフロン系溶剤等を使用したとして
も、洗浄工程全体としては大幅に環境に対する悪影響を
低減することができるためである。また、上述したよう
なフロン系溶剤や塩素系有機溶剤、さらにはＩＰＡのよ
うな親水性溶剤とパーフルオロカーボンとの混合物を使
用してもよい。

なお、被洗浄物によっては、温風乾燥等を使用すること
か可能な場合もある。

本発明の洗浄方法および洗浄装置の対象物となる被洗浄
物としては、金属、セラミックス、プラスチック等であ
り、さらに具体的には金属部品、表面処理部品、電子部
品、半導体部品、電気部品、精密機械部品、光学部品、
ガラス部品、セラミックス部品等である。

（実施例）次に、本発明の実施例について説明する。

第１図は、本発明の一実施例の洗浄装置の構成を示す図
である。

同図に示す洗浄装置は、被洗浄物１の搬送手段１０とし
て例えばベルトコンベアが内設された装置本体２０内に
、洗浄性能向上剤を含有するシリコーン系洗浄剤を用い
たシャワー洗浄工程３０と、シリコーン系洗浄剤単独に
よるすすぎ洗浄工程４０と、不燃性不活性液体の蒸気要
用いた乾燥工程５０とが、上記搬送手段１０の搬送順路
にした゛がって順に配設されて構成されている。

上記装置本体２０は、搬送手段１０の入口部２１および
出口部２２を除いて密閉構造とされており、また装置本
体２０内はすすぎ洗浄工程４０上に設けられた仕切り板
２３によって、２室（２０ｇ、２０ｂ）に分離されてい
る。この仕切り板２３によって分離された前室２０ｇお
よび後室２０ｂには、それぞれ排気系２４．２５が接続
されており、装置本体２０の開放部（入口部２１および
出口部２２）それぞれから独立して外気を吸引すること
により、前室２０ａおよび後室２０ｂそれぞれを負圧と
し、装置本体２０から洗浄剤等の蒸気が漏洩することを
防止している。

また、上記排気系２４．２５は、第２図および第３図に
示すように、洗浄剤成分等を抽出するための水と吸引気
体とを接触させるためのシャワー機構６１を有する洗浄
剤回収装置６０に接続されている。

第２図に示す前室２Ｏａ側の排気系２４に接続された洗
浄剤回収装置６０では、吸引された気体Ｇに水Ｗを吹き
付け、洗浄性能向上剤を水抽出することによって、水に
不溶のシリコーン系洗浄剤のみを分離回収し、再使用す
ることを可能としている。シリコーン系洗浄剤の水から
の分離は、遠心分離や沈降分離により行われる。また、
第３図に示す後室２Ｏｂ側の排気系２５に接続された洗
浄剤回収装置６０では、同様に洗浄性能向上剤を水抽出
することによって、水に不溶のシリコーン系洗浄剤およ
び不燃性不活性液体を分離回収し、再使用することを可
能としている。これらの分離は、遠心分離や沈降分離に
より行われる。なお、装置本体２０の入口部２１側には
、洗浄剤等の回収効率を高めるために別途排気系２６が
接続されている。

上記シャワー洗浄工程３０は、入口側コンベア１１に接
続された洗浄工程用コンベア１２によって搬送される被
洗浄物１に対して、その両側から洗浄剤を吹き付けるよ
う配設された複数のシャワーノズル３１を有するシャワ
ー洗浄槽３２により構成されており、このシャワー洗浄
によって被洗浄物１に付着している油系や水系等の汚れ
が除去される。上記洗浄剤としては、シリコーン系洗浄
剤に界面活性剤を添加した洗浄剤、例えばテクノケアＦ
Ｒｗ−１３（商品名、株式会社東芝製；沸点−１７８℃
）、シリコーン系洗浄剤に多価アルコールを添加した洗
浄剤、例えばテクノケアＰＲＷ−１４（商品名、株式会
社東芝製；沸点−１７６℃）、同ＦＲＷ−１５（沸点−
１７８℃）等が用いられる。

また、上記シャワー洗浄槽３２は、配管系３３を介して
リザーブタンク３４に接続されており、このリザーブタ
ンク３４からポンプ３５によって、洗浄剤は循環使用さ
れる。また、配管系３３にはフィルタ３６が介挿されて
おり、このフィルタ３６によって洗浄液中に持ち込まれ
た固体物、未溶解物質等の汚れは除去される。

また、すすぎ洗浄工程４０は、シリコーン系洗浄剤か単
独で収容された浸漬すすぎ槽４１を有しており、この浸
漬すすぎ槽４１内を被洗浄物１が通過するように、すす
ぎ工程用コンベア１３が配設されている。シャワー洗浄
工程３０が終了した被洗浄物１に付着している洗浄液や
イオン性の汚れは、上記浸漬すすぎ槽４１内を被洗浄物
１が通過することによりすすぎ落とされる。上記すすぎ
洗浄剤としては、シリコーン系洗浄剤例えばテクノケア
ＦＲＷ−１（商品名、株式会社東芝製；沸点−１７６℃
）等が使用される。

上記浸漬すすぎ槽４１には、図示を省略した循環系が接
続されており、第３図に示した洗浄液回収装置と同様な
原理の洗浄液浄化装置により、すすぎ洗浄液の浄化が行
われる。すなわち、シリコーン系洗浄剤単独のすすぎ洗
浄液中に混入した洗浄性能向上剤やイオン性の汚れを水
によって抽出することにより、シリコーン系洗浄剤の浄
化を行っている。これによりすすぎ洗浄液は、たえず清
浄な状態が保たれる。

乾燥工程５０は、用いる不燃性不活性液体の沸点に応じ
て、不燃性不活性液体を蒸気として維持する乾燥炉５１
と、この乾燥炉５１内から不燃性不活性液体の蒸気が揮
散することを防止するように、乾燥炉５１の上部に設け
られた冷却パイプ５２とから構成されており、上記不燃
性不活性液体の蒸気が充満された乾燥炉５１内を被洗浄
物１が通過するように乾燥工程用コンベア１４が配設さ
れている。また、不燃性不活性液体は、第４図に示すよ
うに加熱用ヒータ７１を有する気化器７０によって蒸気
化され、蒸気注入口５３を介して乾燥炉５１内に供給さ
れる。

上記不燃性不活性液体としては、パーフルオロカーボン
等の塩素を含まないフッ素系不活性液体、例えばフロリ
ナートＰＣ−７２（商品名、住友スリーエム株式会社製
；沸点−５６℃）、同ＰＣ−８４（沸点−８０℃）、同
ＰＣ−７７（沸点−９７℃）、同ＰＣ−７５（沸点−１
０２℃）等が用いられる。

上記不燃性不活性液体の蒸気が充満している乾燥炉５１
内に乾燥工程用コンベア１４によって搬送される被処理
物１は、不燃性不活性液体の沸点に至るまでは不燃性不
活性液体の蒸気が結露し、被処理物１の表面に付着し残
留しているすすぎ洗浄剤が洗い落とされる。被処理物１
が不燃性不活性液体の沸点を超えると、被処理物１の表
面にはもはや何ものも付着せず乾燥状態となり、出口側
コンベア１５により装置外部に搬出される。

上記蒸気洗浄によって除去されたすすぎ洗浄剤は、乾燥
炉５１下部に設けられたドレン配管５４から排出され、
第３図に示した洗浄液回収装置と同様な原理の分離回収
装置により、すすぎ洗浄液と不燃性不活性液体とに分離
され、それぞれ再使用される。

次に、上記構成の洗浄装置によるフラックス系汚れの洗
浄評価結果について述べる。

まず、シャワー洗浄工程３０において、多価アルコール
を添加したシリコーン系洗浄剤としてテクツケアＦＲＹ
−１４およびＰＲＷ−１５を、またすすぎ洗浄工程４０
において、シリコーン系洗浄剤としてテクノケアＦＩ？
Ｗ−１を用い、さらに乾燥工程において、フロリナート
　ＰＣ−７５を使用し、シャワー洗浄３分、すすぎ洗浄
３分、乾燥工程６分の条件により各種フラックスが付着
した回路基板を洗浄した。その洗浄結果をフラックスの
種類と共に第１表に示す。

第　　１　　表なお、洗浄結果は目視により行い、◎−十分、〇−はぼ
良好、△−甘いの評価により判定した。

また、シリコーン系洗浄剤ＰＲＩＩＩ−１中に混入した
洗浄性能向上剤（多価アルコール類）およびイオン性汚
れ（塩素イオン）の水抽出による除去効率を評価した。

評価方法は、それぞれの所定濃度の試料を作製し、各試
料にイオン交換水を添加し超音波撹拌を行った後、遠心
分離によりシリコーン系洗浄剤層を分離し、ガスクロマ
トグラフッによって残留濃度を定量した。その結果を第
２表および第３表に示す。

第　　２　　表（以下余白）第表以上の評価結果からも明らかなように、上記洗浄装置に
よれば、フラックス系汚れを非水系洗浄によって洗浄す
ることができ、フロン系溶剤等の代替洗浄として十分に
使用し得ることが分る。また洗浄工程において、フロン
系溶剤に代えて環境破壊を起こすことがないシリコーン
系洗浄剤を使用しており、さらに乾燥工程において環境
破壊を起こすことがないパーフルオロカーボン系の洗浄
剤を使用していることから、環境に対する悪影響を大幅
に低減することが可能となると共に、人体に対する悪影
響もなく、高安全性の下で洗浄を実施することが可能と
なる。

また、上記構成の洗浄装置においては、装置本体内を排
気して負圧状態とし、外部への洗浄剤や不燃性不活性液
体の漏洩を防止していると共に、排気気体からそれらの
成分を回収しているため、外部環境への影響を最小限に
することができ、かつ洗浄剤や不燃性不活性液体の無用
な損失を防止している。よって、安全性に優れると共に
、洗浄剤等を効率よくかつ有効に使用することができる
ことから、洗浄剤等の使用量の大幅な削減が可能となり
、ランニングコストの低減にも寄与する。

また、他の実施例として、上記実施例における浸漬すす
ぎ槽４１にシャワー洗浄工程３０と同様な洗浄剤を収容
し、すすぎ洗浄を省略した洗浄工程において、上記実施
例と同様にして洗浄性の評価を行ったところ、はぼ同等
な効果が得られた。

次に、本発明の他の実施例について、第５図を参照して
説明する。

第５図に示す洗浄装置においては、洗浄性能向上剤を含
有するシリコーン系洗浄剤を用いた洗浄工程として、超
音波浸漬洗浄工程８０を適用しており、他の構成は第１
図に示した洗浄装置と同様な構成を有している。

上記超音波浸漬洗浄工程８０は、洗浄工程用コンベア１
２が通過配置された超音波浸漬槽８１を有しており、こ
の超音波浸漬槽８１内を被洗浄物１か通過することによ
って、被洗浄物１に付着している部系や水系等の汚れが
除去される。上記洗浄剤としては、前述の実施例と同様
なものが使用される。

また、上記超音波浸漬槽８１には、たえず洗浄剤がオー
バーフローするように、配管系８２を介してリザーブタ
ンク８３から洗浄剤がポンプ８４によって供給されてお
り、オーバーフローした洗浄剤はバッファタンク８５か
らリザーブタンク８３へと戻される。また１、配管系８
２に介挿されたフィルタ８６によって、洗浄剤中に持ち
込まれた固体物、未溶解物質等の汚れは除去される。

上記実施例の洗浄装置についても、前述した実施例と同
様な洗浄評価を行ったところ、同様な効果が得られた。

なお、上記実施例においては、洗浄性能向上剤を含有す
るシリコーン系洗浄剤による洗浄工程と、シリコーン系
洗浄剤単独によるすすぎ洗浄工程とを組み合せたものに
ついて説明したが、被処理物や汚れの種類によっては、
シリコーン系洗浄剤単独の洗浄工程やすすぎ洗浄工程を
省いた洗浄工程によっても十分にその効果が発揮される
。また、すすぎ洗浄剤として、不燃性不活性液体や親水
性溶剤を使用した場合も同様である。

［発明の効果コ以上説明したように本発明によれば、シリコーン系洗浄
剤によってフロン系溶剤に匹敵するような洗浄効果が得
られるため、環境破壊を低減することができ、また人体
に対する悪影響もなく、高安全性の下で非水系洗浄によ
る十分な洗浄効果が得られる。

【図面の簡単な説明】

第１図は本発明の一実施例の洗浄装置の構成を示す図、
第２図および第３図は第１図の洗浄装置で用いた洗浄剤
回収装置の概略構成を示す図、第４図は第１図の洗浄装
置で用いた不燃性不活性液体の気化装置の概略構成を示
す図、第５図は本発明の他の実施例の洗浄装置の構成を
示す図である。１・・・・・・被洗浄物、１０・・・・・・搬送機構、
２０・・・・・・装置本体、２０ａ・・・・・・前室、
２０ｂ・・・・・・後室、２１・・・・・・入口部、２
２・・・・・・出口部、２３・・・・・・仕切り板、２
４．２５・・・・・・排気系、３０・・・・・・シャワ
ー洗浄工程、３２・・・・・・シャワー洗浄槽、３３．
８２・・・・・・配管系、３４．８３・・・・・・リザ
ーブタンク、３６．８６・・・・・・フィルタ、４０・
・・・・・すすぎ洗浄工程、４１・・・・・・浸漬すす
ぎ槽、５０・・・・・・乾燥工程、５１・・・・・・乾
燥炉、５２・・・・・・冷却バイブ、６０・・・・・・
洗浄剤回収装置、７０・・・・・・気化器、８０・・・
・・・超音波浸漬洗浄工程、８１・・・・・・超音波浸
漬槽。出願人　　　　　株式会社　東芝

Claims

【特許請求の範囲】

（１）少なくともシリコーン系洗浄剤を含む洗浄剤で被
洗浄物を洗浄する工程と、前記被洗浄物を不燃性不活性液体の蒸気を用いて乾燥さ
せる工程とを有することを特徴とする洗浄方法。
（２）請求項１記載の洗浄方法において、前記洗浄工程で用いる洗浄剤は、洗浄性能向上剤を含有
する前記シリコーン系洗浄剤であることを特徴とする洗
浄方法。
（３）請求項２記載の洗浄方法において、前記洗浄工程の後に、前記被洗浄物を前記シリコーン系
洗浄剤、不燃性不活性液体および親水性溶剤から選ばれ
た少なくとも１種のすすぎ洗浄剤ですすぎ洗浄する工程
を有することを特徴とする洗浄方法。
（４）請求項１または請求項３記載の洗浄方法において
、前記不燃性不活性液体は、フッ素系不活性液体または該
フッ素系不活性液体と補助剤との混合液体であることを
特徴とする洗浄方法。
（５）被洗浄物の搬送機構が配設され、該搬送機構の出
入口部を有する装置本体と、前記装置本体内における前記搬送機構の入口部側に設け
られ、少なくともシリコーン系洗浄剤を含む洗浄剤によ
る洗浄手段と、前記装置本体内における前記搬送機構の出口部側に設け
られ、不燃性不活性液体の蒸気による乾燥手段とを具備することを特徴とする洗浄装置。
（６）請求項５記載の洗浄装置において、前記洗浄手段で用いる洗浄剤は、前記シリコーン系洗浄
剤に洗浄性能向上剤を添加した洗浄剤であることを特徴
とする洗浄装置。
（７）請求項６記載の洗浄装置において、前記洗浄手段と乾燥手段との間に、前記シリコーン系洗
浄剤、不燃性不活性液体および親水性溶剤から選ばれた
少なくとも１種のすすぎ洗浄剤によるすすぎ洗浄手段を
有することを特徴とする洗浄装置。
（８）請求項７記載の洗浄装置において、前記すすぎ洗浄手段は、前記すすぎ洗浄剤中に混入した
前記洗浄剤成分を除去する手段を有することを特徴とす
る洗浄装置。
（９）請求項５記載の洗浄装置において、前記不燃性不活性液体は、フッ素系不活性液体または該
フッ素系不活性液体と補助剤との混合液体であることを
特徴とする洗浄装置。
（１０）請求項５記載の洗浄装置において、前記装置本
体を密閉構造とすると共に、該装置本体内を２室に分離
する仕切り手段を設け、該装置本体内が負圧となるよう
に前記分離された２室それぞれに排気手段を設けたこと
を特徴とする洗浄装置。
（１１）請求項１０記載の洗浄装置において、前記排気
手段による吸引気体から、前記シリコーン系洗浄剤およ
び不燃性不活性液体それぞれを回収する手段を設けたこ
とを特徴とする洗浄装置。