JPH0399419A - 電子ビーム描画装置 - Google Patents
電子ビーム描画装置Info
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- JPH0399419A JPH0399419A JP23627989A JP23627989A JPH0399419A JP H0399419 A JPH0399419 A JP H0399419A JP 23627989 A JP23627989 A JP 23627989A JP 23627989 A JP23627989 A JP 23627989A JP H0399419 A JPH0399419 A JP H0399419A
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- electron beam
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- circular arc
- arc pattern
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- 238000000609 electron-beam lithography Methods 0.000 title claims abstract description 14
- 238000010894 electron beam technology Methods 0.000 claims abstract description 54
- 239000000758 substrate Substances 0.000 abstract description 9
- 238000001459 lithography Methods 0.000 abstract description 3
- 238000000034 method Methods 0.000 abstract description 2
- 230000005055 memory storage Effects 0.000 abstract 6
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 9
- 239000004065 semiconductor Substances 0.000 description 2
- 238000006243 chemical reaction Methods 0.000 description 1
- 238000007796 conventional method Methods 0.000 description 1
- 238000004806 packaging method and process Methods 0.000 description 1
- 230000004044 response Effects 0.000 description 1
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
この発明は、電子ビームを照射して基板上に図形を描画
する電子ビーム描画装置に関するものである。
する電子ビーム描画装置に関するものである。
第７図は例えば特開昭６２−１５４７２９号公報に示さ
れた従来の電子ビーム描画装置を示す断面構成図である
。図において、（１）は電子ビーム（２）を放出する電
子銃で、ブランキング電極（８）により電子ビーム（２
）がオンオフされる。（４）は電子ビーム（２）を基板
（６）の表面付近に収束させる収束レンズ、曜６）は電
子ビーム（２）を所定の位置に偏向して走査させる電子
ビーム走査装置で、電子ビーム（２）の偏向データは描
画する図形に基づいてコンピュータ（テ）で作成されて
メモリ（８）に記憶されている。
れた従来の電子ビーム描画装置を示す断面構成図である
。図において、（１）は電子ビーム（２）を放出する電
子銃で、ブランキング電極（８）により電子ビーム（２
）がオンオフされる。（４）は電子ビーム（２）を基板
（６）の表面付近に収束させる収束レンズ、曜６）は電
子ビーム（２）を所定の位置に偏向して走査させる電子
ビーム走査装置で、電子ビーム（２）の偏向データは描
画する図形に基づいてコンピュータ（テ）で作成されて
メモリ（８）に記憶されている。
次に動作について説明する。電子銃（１）から放出され
良電子ビーム（２）は、収束レンズ（４）により基板（
６）の表面付近に収束され、メモリ（８）に記憶された
偏向データに基づいて電子ビーム走査装置（６）によシ
所定の位置に偏向されて基板（６）上を走査される。
良電子ビーム（２）は、収束レンズ（４）により基板（
６）の表面付近に収束され、メモリ（８）に記憶された
偏向データに基づいて電子ビーム走査装置（６）によシ
所定の位置に偏向されて基板（６）上を走査される。
従来、電子ビーム描画装置は主に半導体の基板に用いら
れ、任意角度を有する図形の描画が課題であった。例え
ば三角図形は第８図に示されるように１予めコンピュー
タ（７）によシミ子ビーム（２）の幅の短冊図形に分割
されて、各短冊の長さ等のデータがメモリ（８）に記憶
される。次にメモリ（８）から送シ込まれた短冊のデー
タに従って電子ビーム走査装置（６）が電子ビーム（２
）を走査して、短冊図形の集合として三角図形を描画す
るう 最近、電子ビーム描画装置をプリント基板の精細な配線
パターン描画に用いて、高密度実装を実現する試みが行
われている。半導体の基板と異なシブリント基板の場合
、円形や半円形等の円弧を含む図形の描画が重要課題で
ある。上で説明した従来行われている三角図形の描画方
法を用いて、円弧図形を電子ビームＣ２）の幅で短冊図
形に分割して描画する場合、分割した短冊図形の少なく
とも半数の長さを求め、その長さ分だけ電子ビーム（２
）を不連続に走査して短冊図形を一つづつ描き、短冊図
形の集合として円弧図形を描画する。また、複数の円弧
図形を描く場合、同一の図形を繰υ返し描く時は、最初
に短冊図形に分割したデータを記憶させたメモリ（８）
から読み出すだけでよいが、形状と描く方向が同じでも
大きさが異なる図形・と描く時は、図形ごとに分割処理
が必要となる。
れ、任意角度を有する図形の描画が課題であった。例え
ば三角図形は第８図に示されるように１予めコンピュー
タ（７）によシミ子ビーム（２）の幅の短冊図形に分割
されて、各短冊の長さ等のデータがメモリ（８）に記憶
される。次にメモリ（８）から送シ込まれた短冊のデー
タに従って電子ビーム走査装置（６）が電子ビーム（２
）を走査して、短冊図形の集合として三角図形を描画す
るう 最近、電子ビーム描画装置をプリント基板の精細な配線
パターン描画に用いて、高密度実装を実現する試みが行
われている。半導体の基板と異なシブリント基板の場合
、円形や半円形等の円弧を含む図形の描画が重要課題で
ある。上で説明した従来行われている三角図形の描画方
法を用いて、円弧図形を電子ビームＣ２）の幅で短冊図
形に分割して描画する場合、分割した短冊図形の少なく
とも半数の長さを求め、その長さ分だけ電子ビーム（２
）を不連続に走査して短冊図形を一つづつ描き、短冊図
形の集合として円弧図形を描画する。また、複数の円弧
図形を描く場合、同一の図形を繰υ返し描く時は、最初
に短冊図形に分割したデータを記憶させたメモリ（８）
から読み出すだけでよいが、形状と描く方向が同じでも
大きさが異なる図形・と描く時は、図形ごとに分割処理
が必要となる。
従来の電子ビーム描画装置は以上のように溝底されてい
るので、円弧図形２描く時間が長くかかるという問題点
があった。
るので、円弧図形２描く時間が長くかかるという問題点
があった。
この発明は上記のような課題を解決するためになされた
もので、円弧図形を短時間で描くことのできる電子ビー
ム描画装置を得ることを目的とする。
もので、円弧図形を短時間で描くことのできる電子ビー
ム描画装置を得ることを目的とする。
この発明に係る電子ビーム描画装置は、円弧パターンを
描画用の電子ビームの直径以下の間隔を保つ円弧に分け
て記憶する円弧パターン記憶装置と、上記円弧パターン
記憶装置から取り出した円弧パターンに基づいて最内の
円弧から最外の円弧又はその逆に各円弧に沿って電子ビ
ームを走査はせる電子ビーム走査装置を備えたものであ
る。
描画用の電子ビームの直径以下の間隔を保つ円弧に分け
て記憶する円弧パターン記憶装置と、上記円弧パターン
記憶装置から取り出した円弧パターンに基づいて最内の
円弧から最外の円弧又はその逆に各円弧に沿って電子ビ
ームを走査はせる電子ビーム走査装置を備えたものであ
る。
また、この発明に係る別の電子ビーム描画装置は、上記
円弧パターン記憶装置と、上記電子ビーム走査装置と、
上記円弧パターン記憶装置から取シ出した円弧パターン
と描画する円弧図形の円弧の直径を比較して上記円弧パ
ターンが描画する円弧図形の円弧の直径を越えた時は電
子ビームの走査を停止させる比較装置を備えたものであ
る。
円弧パターン記憶装置と、上記電子ビーム走査装置と、
上記円弧パターン記憶装置から取シ出した円弧パターン
と描画する円弧図形の円弧の直径を比較して上記円弧パ
ターンが描画する円弧図形の円弧の直径を越えた時は電
子ビームの走査を停止させる比較装置を備えたものであ
る。
この発明における電子ビーム描画装置は、円弧図形を連
続的に描画する。
続的に描画する。
また、この発明における別の電子ビーム描画装置は、形
状と描く方向が同じ複数の円弧図形を１種類の円弧パタ
ーンに基づいて連続的に描画する。
状と描く方向が同じ複数の円弧図形を１種類の円弧パタ
ーンに基づいて連続的に描画する。
以下、この発明の一実施例を第１図について説明する。
第１図はこの発明による電子ビーム描画装置の断面構成
図である。図において、（９）α０１（ｌυ（１２はそ
れぞれコンピュータ（γ）から送り込まれた円弧図形の
円弧の中心位置を記憶する円弧位置の記憶装置、円弧図
形の形状を記憶する形状記憶装置、円弧図形の描く方向
を記憶する描く方向の記憶装置及び円弧図形の円弧の直
径を記憶する円弧の直径記憶装置、α３は円弧図形に対
応する円弧パターンを記憶する円弧パターン記憶装置、
■はカウンタで、円弧図形の形状の記憶装置（至）、描
く方向の記憶装置ａυ及び円弧の直径記憶装置α２から
の情報に対応して円弧パターン記憶装置０から円弧を順
に呼び出す。（１５）は円弧位置の記憶装置（９）から
送り込まれた円弧図形の円弧の中心位置の情報とカウン
タＩから送り込まれた円弧パターンの情報を加算する加
算装置、叫はＤ／Ａ変換装置である。他は第７図の従来
装置の相当部分と同じである、次に動作について説明す
る。先ず円弧パターン記憶装置α３に記憶させる円弧パ
ターンの求め方を第３図及び第４図を用いて説明する。
図である。図において、（９）α０１（ｌυ（１２はそ
れぞれコンピュータ（γ）から送り込まれた円弧図形の
円弧の中心位置を記憶する円弧位置の記憶装置、円弧図
形の形状を記憶する形状記憶装置、円弧図形の描く方向
を記憶する描く方向の記憶装置及び円弧図形の円弧の直
径を記憶する円弧の直径記憶装置、α３は円弧図形に対
応する円弧パターンを記憶する円弧パターン記憶装置、
■はカウンタで、円弧図形の形状の記憶装置（至）、描
く方向の記憶装置ａυ及び円弧の直径記憶装置α２から
の情報に対応して円弧パターン記憶装置０から円弧を順
に呼び出す。（１５）は円弧位置の記憶装置（９）から
送り込まれた円弧図形の円弧の中心位置の情報とカウン
タＩから送り込まれた円弧パターンの情報を加算する加
算装置、叫はＤ／Ａ変換装置である。他は第７図の従来
装置の相当部分と同じである、次に動作について説明す
る。先ず円弧パターン記憶装置α３に記憶させる円弧パ
ターンの求め方を第３図及び第４図を用いて説明する。
所定の円弧図形が円図形の場合、第３図のように電子ビ
ーム（２）の直径以下の間隔を保つ同心円に分ける。そ
の同心円の中心を原点とする座標を描き、各同心円の円
周の最近接格子点の座標ａ８を求めて第４図のように円
弧パターン記憶装置ａ３の各番地に記憶させる。所定の
円弧図形が他の円弧図形の場合は、上と同様にしてその
円弧図形の内側にある各同心円の円周に対応する座標を
記憶させる。
ーム（２）の直径以下の間隔を保つ同心円に分ける。そ
の同心円の中心を原点とする座標を描き、各同心円の円
周の最近接格子点の座標ａ８を求めて第４図のように円
弧パターン記憶装置ａ３の各番地に記憶させる。所定の
円弧図形が他の円弧図形の場合は、上と同様にしてその
円弧図形の内側にある各同心円の円周に対応する座標を
記憶させる。
また、コンピュータ（７）から円弧図形の円弧の位置、
形状、描く方向及び円弧の直径の情報がそれぞれ円弧位
置の記憶装置（９）、形状の記憶装置（転）、描く方向
の記憶装置ａυ及び円弧の直径記憶装置ａｚに送られて
記憶される。
形状、描く方向及び円弧の直径の情報がそれぞれ円弧位
置の記憶装置（９）、形状の記憶装置（転）、描く方向
の記憶装置ａυ及び円弧の直径記憶装置ａｚに送られて
記憶される。
次にカウンタａ４は、形状の記憶装置叫、描く方向の記
憶装置ａυ及び円弧の直径の記憶装置αりからの円弧図
形の情報に対応して、円弧パターン記憶装置αＪから円
弧パターンを順に呼び出して、加算装置σ９に送る。加
算装置ａ９は、円弧パターンの情報と、円弧位置の記憶
装置（９）から送シ込まれた円弧図形の円弧の中心位置
の情報とを加算して、Ｄ／Ａ変換変換装置弁して電子ビ
ーム走査装置（６）に送り、基板（５）上で電子ビーム
（２）を円弧パターンに沿って走査させる。この操作を
繰り返して所定の円弧図形を描画する。
憶装置ａυ及び円弧の直径の記憶装置αりからの円弧図
形の情報に対応して、円弧パターン記憶装置αＪから円
弧パターンを順に呼び出して、加算装置σ９に送る。加
算装置ａ９は、円弧パターンの情報と、円弧位置の記憶
装置（９）から送シ込まれた円弧図形の円弧の中心位置
の情報とを加算して、Ｄ／Ａ変換変換装置弁して電子ビ
ーム走査装置（６）に送り、基板（５）上で電子ビーム
（２）を円弧パターンに沿って走査させる。この操作を
繰り返して所定の円弧図形を描画する。
さらに１この発明の別の実施例を第２、図について説明
する。第２図において、 （１７）は円弧の直径記憶装
置ａりから呼び出した円弧図形の円弧の直径とカウンタ
α４から送り込まれた円弧パターンの直径を比較して円
弧パターンの直径が円弧図形の円弧の直径を越えた時に
電子ビームの走査を停止させる比較装置である。他は第
７図の従来の装置及び第１図のこの発明による一実施例
の装置の相当部分と同じである。
する。第２図において、 （１７）は円弧の直径記憶装
置ａりから呼び出した円弧図形の円弧の直径とカウンタ
α４から送り込まれた円弧パターンの直径を比較して円
弧パターンの直径が円弧図形の円弧の直径を越えた時に
電子ビームの走査を停止させる比較装置である。他は第
７図の従来の装置及び第１図のこの発明による一実施例
の装置の相当部分と同じである。
次に動作について説明する。円弧位置の記憶装置（９）
、形状の記憶装置（至）、描く方向の記憶装置（１１）
及び円弧の直径記憶装置（Ｉ２への情報の記憶は、上記
一実施例と同様にして行われる。円弧パターン記憶装置
０に記憶させる円弧パターンは、形状と描く方向が同じ
円弧図形の内で最も大きな直径の円弧を持つ円弧図形に
対して、上記一実施例と同様にして求められる。
、形状の記憶装置（至）、描く方向の記憶装置（１１）
及び円弧の直径記憶装置（Ｉ２への情報の記憶は、上記
一実施例と同様にして行われる。円弧パターン記憶装置
０に記憶させる円弧パターンは、形状と描く方向が同じ
円弧図形の内で最も大きな直径の円弧を持つ円弧図形に
対して、上記一実施例と同様にして求められる。
次にカウンタ（１４１は、形状の記憶装置（至）及び描
く方向の記憶装置ｆｌυからの円弧図形の情報に対応し
て、円弧パターン記憶装置ｕ３から円弧パターンを順に
呼び出して、比較装置αηに送る。比較装置（１７）は
、円弧パターンを円弧の直径記憶装置醤から呼び出した
円弧図形の円弧の直径と比較して、円弧図形の円弧の直
径以下の場合その円弧パターンに沿って電子ビームを走
査させる信号を加算装置（１５１に送る。加算装置ａ９
は、円弧位置の記憶装置（９）から呼び出した円弧図形
の円弧の中心位置の情報を加算して、Ｄ／Ａ変換装置σ
Ｑを介して電子ビーム走査装置（６）に情報を送り電子
ビーム（２）を走査させる。比較装置（Ｉ７）における
比較操作で円弧パターンの直径が円弧図形の円弧の直径
よシ大きくなると、加算装置〔Ｓへの円弧パターン信号
の送り込みが中止される。
く方向の記憶装置ｆｌυからの円弧図形の情報に対応し
て、円弧パターン記憶装置ｕ３から円弧パターンを順に
呼び出して、比較装置αηに送る。比較装置（１７）は
、円弧パターンを円弧の直径記憶装置醤から呼び出した
円弧図形の円弧の直径と比較して、円弧図形の円弧の直
径以下の場合その円弧パターンに沿って電子ビームを走
査させる信号を加算装置（１５１に送る。加算装置ａ９
は、円弧位置の記憶装置（９）から呼び出した円弧図形
の円弧の中心位置の情報を加算して、Ｄ／Ａ変換装置σ
Ｑを介して電子ビーム走査装置（６）に情報を送り電子
ビーム（２）を走査させる。比較装置（Ｉ７）における
比較操作で円弧パターンの直径が円弧図形の円弧の直径
よシ大きくなると、加算装置〔Ｓへの円弧パターン信号
の送り込みが中止される。
第５図及び第６図はこの発明による第１図及び第２図の
装置で描かれた描画パターンの例を示しており、プリン
ト基板の配線パターンのランド部及び直線端部にそれぞ
れ相当する円及び半円図形を描く場合の電子ビームの中
心の軌跡を表す。電子ビームは矢印の方向に連続的に走
査される。
装置で描かれた描画パターンの例を示しており、プリン
ト基板の配線パターンのランド部及び直線端部にそれぞ
れ相当する円及び半円図形を描く場合の電子ビームの中
心の軌跡を表す。電子ビームは矢印の方向に連続的に走
査される。
なお、四角形等円弧図形以外の図形は、コンピュータ（
γ）からのこれら図形の情報を記憶するメモリを第１図
及び第２図の装置に付加することによって、従来の方法
で描くことができる。
γ）からのこれら図形の情報を記憶するメモリを第１図
及び第２図の装置に付加することによって、従来の方法
で描くことができる。
以上のように、この発明の第１の請求項によれば電子ビ
ーム描画装置を、円弧パターンを描画用の電子ビームの
直径以下の間隔−を保つ円弧に分けて記憶する円弧パタ
ーン記憶装置と、上記円弧パターン記憶装置から取り出
した円弧パターンに基づいて最内の円弧から最外の円弧
又はその逆延各円弧に沿って電子ビームを走査式せる電
子ビーム走査装置を備えるように構成したので、また、
この発明の第２の請求項によれば円弧パターンを描画用
の電子ビームの直径以下の間隔を保つ円弧に分けて記憶
する円弧パターン記憶装置と、上記円弧パターン記憶装
置から取り出した円弧パターンに基づいて最内の円弧か
ら最外の円弧又はその逆に各円弧に沿って電子ビームを
走査させる電子ビーム走査装置と、上記円弧パターン記
憶装置から取転出した円弧パターンと描画する円弧図形
の円弧の直径を比較して上記円弧パターンが描画する円
弧図形の円弧の直径を越えた時は電子ビームの走査を停
止させる比較装置を備えるように構成したので、いずれ
も円弧図形を短時間で描くことができる電子ビーム描画
装置が得られる効果がある。
ーム描画装置を、円弧パターンを描画用の電子ビームの
直径以下の間隔−を保つ円弧に分けて記憶する円弧パタ
ーン記憶装置と、上記円弧パターン記憶装置から取り出
した円弧パターンに基づいて最内の円弧から最外の円弧
又はその逆延各円弧に沿って電子ビームを走査式せる電
子ビーム走査装置を備えるように構成したので、また、
この発明の第２の請求項によれば円弧パターンを描画用
の電子ビームの直径以下の間隔を保つ円弧に分けて記憶
する円弧パターン記憶装置と、上記円弧パターン記憶装
置から取り出した円弧パターンに基づいて最内の円弧か
ら最外の円弧又はその逆に各円弧に沿って電子ビームを
走査させる電子ビーム走査装置と、上記円弧パターン記
憶装置から取転出した円弧パターンと描画する円弧図形
の円弧の直径を比較して上記円弧パターンが描画する円
弧図形の円弧の直径を越えた時は電子ビームの走査を停
止させる比較装置を備えるように構成したので、いずれ
も円弧図形を短時間で描くことができる電子ビーム描画
装置が得られる効果がある。
第１図はこの発明の一実施例による電子ビーム描画装置
を示す断面構成図、第２図はこの・発明の他の実施例を
示す電子ビーム描画装置の断面構成図、第３図は円弧パ
ターンの求め方の一例を示す説明図、第４図は記憶装置
に記憶される円弧パターンデータの一例を示す説明図、
第５図及び第６図はそれぞれ円図形及び半円図形を描い
た時の電子ビームの中心の軌跡を示す図、第７図は従来
の電子ビーム描画装置を示す断面構成図、第８図は三角
図形を描〈従来の方法の説明図である。 図において、（２）は電子ビーム、（６）は電子ビーム
走査装置、１１３は円弧バタ 装置である。 なお、図中、 示す。 同一符号は同一、 一ン記憶装置、 αηは比較 又は相当部分を
を示す断面構成図、第２図はこの・発明の他の実施例を
示す電子ビーム描画装置の断面構成図、第３図は円弧パ
ターンの求め方の一例を示す説明図、第４図は記憶装置
に記憶される円弧パターンデータの一例を示す説明図、
第５図及び第６図はそれぞれ円図形及び半円図形を描い
た時の電子ビームの中心の軌跡を示す図、第７図は従来
の電子ビーム描画装置を示す断面構成図、第８図は三角
図形を描〈従来の方法の説明図である。 図において、（２）は電子ビーム、（６）は電子ビーム
走査装置、１１３は円弧バタ 装置である。 なお、図中、 示す。 同一符号は同一、 一ン記憶装置、 αηは比較 又は相当部分を
Claims (2)
- （１）円弧パターンを描画用の電子ビームの直径以下の
間隔を保つ円弧に分けて記憶する円弧パターン記憶装置
と、上記円弧パターン記憶装置から取り出した円弧パタ
ーンに基づいて最内の円弧から最外の円弧又はその逆に
各円弧に沿つて電子ビームを走査させる電子ビーム走査
装置を備えたことを特徴とする電子ビーム描画装置。 - （２）円弧パターンを描画用の電子ビームの直径以下の
間隔を保つ円弧に分けて記憶する円弧パターン記憶装置
と、上記円弧パターン記憶装置から取り出した円弧パタ
ーンに基づいて最内の円弧から最外の円弧又はその逆に
各円弧に沿つて電子ビームを走査させる電子ビーム走査
装置と、上記円弧パターン記憶装置から取り出した円弧
パターンと描画する円弧図形の円弧の直径を比較して上
記円弧パターンが描画する円弧図形の円弧の直径を越え
た時は電子ビームの走査を停止させる比較装置を備えた
ことを特徴とする電子ビーム描画装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23627989A JPH0399419A (ja) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | 電子ビーム描画装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP23627989A JPH0399419A (ja) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | 電子ビーム描画装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0399419A true JPH0399419A (ja) | 1991-04-24 |
Family
ID=16998434
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP23627989A Pending JPH0399419A (ja) | 1989-09-12 | 1989-09-12 | 電子ビーム描画装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0399419A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100278045B1 (ko) * | 1996-10-25 | 2001-01-15 | 미다라이 후지오 | 전자빔노광장치 및 전자빔노광방법 |
| KR20160013234A (ko) * | 2016-01-15 | 2016-02-03 | 주식회사 젬 | 철도차량 조명등을 이용한 하자 모니터링 시스템 |
-
1989
- 1989-09-12 JP JP23627989A patent/JPH0399419A/ja active Pending
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR100278045B1 (ko) * | 1996-10-25 | 2001-01-15 | 미다라이 후지오 | 전자빔노광장치 및 전자빔노광방법 |
| US6225637B1 (en) | 1996-10-25 | 2001-05-01 | Canon Kabushiki Kaisha | Electron beam exposure apparatus |
| KR20160013234A (ko) * | 2016-01-15 | 2016-02-03 | 주식회사 젬 | 철도차량 조명등을 이용한 하자 모니터링 시스템 |
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