JPH0396899A - 電子放射またはｘ線放射発生装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は、電子放射もしくはＸ線放射を発生する装置
に対する安全インターロックシステムに関するものであ
る。このような装置はたとえば患者の医療上の処置のた
めに使用される。

〔従来の技術〕

予め定められた放射線量に到達すると直ちに放射が与え
られる電Ｍ箱を利用することにより望まれない放射ビー
ムをスイッチオフすることは放射システムの分野で知ら
れている。米国特許第４，３４７，５４７号明細書には
、このような放射システムであって、直線加速器がχ線
パルスの発生のためにターゲットに向けられる電子パル
スを放出する放射システムが記載されている。電離箱は
Ｘ線パルスの強度分布を測定するためＸ線パルスに露出
されている。弁別器がＸｖＡパルス中のエネルギーの道
のなかに置かれているならば、前記の予め定められた高
いエネルギーレベルを越えるエネルギーレベルを有する
電子ビームの発生が阻止されることを特徴とする請求項
１５記載の方法。

１７）　　前記電子ビームが、電子銃のなかへインジェ
クターパルスをインジェクトし、電圧源に結合された電
子銃により放出される電子を高周波源のなかで発生され
た高周波信号により発生される電界により導波路のなか
で加速することにより発生され、電圧源に結合された電
子ビームの発生が前記インジエクターパルスおよび前記
高周波信号を禁止することにより阻止されることを特徴
とする請求項１５記載の方法。

１８）　　前記電子ビームのエネルギーレベルが前記イ
ンジェクターパルスの振幅を検出することにより測定さ
れることを特徴とする請求項１５記載の方法。

１９）　　前記の検出されたインジェクターパルスの振
幅が前記の予め定められたエネルギーレヘ不均等性を検
出するため電離箱に接続されている。

もしＸ線放射のエネルギーが予め定められた最大値と予
め定められた最小値との間になければ、スイッチが弁別
器により作動され、また加速器の電力供給を禁止するこ
とにより加速器をスイッチオフする。同時に、加速器へ
の高電圧供給、高周波源の高閤波電圧および（または）
加速器の導波路のなかへの電子のインジェクションも停
止されてよい。

米国特許第４．３４２，０６０号明細書には直線加速器
に対する別の安全インターロックシステムが開示されて
いる。測定装置が、粒子ビームに露出されているターゲ
ットを通して加速器により放出されるＦＥ子ビームパル
スのレベルを測定する。弁別器が、粒子パルスのレベル
が予め定められた値よりも高いか否かを判定する。もし
判定の結果が肯定であれば、スイッチが作動され、加速
器の電力供給、高周波電力源の高周波信号および（また
は）加速器の電子銃の電子の放出をスイッチオフする。

米国特許第４，１１５．８３０号明細書から、電離箱の
１０ 高電圧供給に対するモニタリングシステムが知られてい
る。このシステムは好ましくは放射にさらされる電離箱
の電離電流を介して放射強度または放射出力を調節する
ために粒子加速器をモニタするために使用されている。

電子放射もしくはＸ線放射を発生し得るシステムは知ら
れている。電子放射を発生する場合には、散乱箔が加速
器の出口窓に放出される電子ビームの軌道のなかに配置
されている。Ｘ線放射を発生する場合には、ターゲット
が加速器の出口窓に放出される電子ビームの軌道のなか
に配置されており、また加速器により放出される粒子は
χ線の発生のために十分な制動放射を発生し得るように
高いエネルギーを有する。このようなシステムはたとえ
ば電子放射またはＸ線放射による患者の医療上の処置の
ために使用されてきた。

もし故障がこのようなシステムの作動中に生起し、Ｘ線
放射の発生中のような高いエネルギーを有する粒子が加
速器により放出され、またターゲットが置かれるべき電
子ビームの軌道のなかに散１１ この課題は本発明によれば、電子放射またはＸ線放射を
発生するための装置において、前記電子放射の発生のた
めの予め定められた低いエネルギーレベルまたは前記Ｘ
線放射の発生のための予め定められた高いエネルギーレ
ベルを有する電子ビームを形成するべく電子を発生しか
つ加速するための加速器手段と、散乱箔またはターゲッ
トを支持するた６、また選択的に前記箔への前記電子の
衝突時に前記電子放射を発生するための低いエネルギー
レベルを有する前記電子ビームの軌道のなかへ前記箔を
動かし、もしくは前記ターゲントへの前記電子の衝突時
に前記Ｘ線放射を発生するための高いエネルギーレベル
を有する前記電子ビームの軌道のなかへ前記ターゲット
を動かすための支持手段と、前記電子ビームの軌道に対
して相対的な前記ターゲットの位置を検出するため前記
支持手段により作動可能な検出手段と、もし前記箔が前
記電子ビームの軌道のなかに置かれており、電圧源に結
合されたターゲットが前記電子ビームの軌道のなかに置
かれていないならば、前記の高いレベルを乱箔が置かれ
ていると、患者は非常に高い電位放射に露出され、この
ことは患者に非常に危険であり得る。

もし放射が上記の従来の技術に従って電離箱により測定
されると、患者が過大な放射を受ける或る程度の危険が
まだ存在する。なぜならば、放射が加速器を去って、既
に患者への経路上にある間に測定され、また過大である
と判定されるまで、加速器がスイッチオフされていない
からである。

〔発明が解決しようとする課題〕

本発明の課題は、高エネルギーの電子放射の発生を阻止
し、こうして患者への安全性を改善する安全インターロ
ックシステムを提供することである。

本発明の他の課題は、もしターゲットが高いエネルギー
レベルを有する電子ビームの軌道のなかに正しく置かれ
ていないならば、高エネルギーの電子放射の発生を禁止
する安全のための方法を提供することである。

〔課題を解決するための手段〕

■２ 有する電子ビームの発生を阻止するため前記加速器手段
および前記検出手段に結合された禁止手段とを含んでい
ることにより解決される。

〔作用効果〕

本発明によれば、電子放射もしくはＸ線放射を発注する
装置に対する安全インターロックシステムが提供される
。電子を発生しかつ加速し、かつ電子により形成され、
また電子放射の発生のための予め定められた低いエネル
ギーレベルまたはＸ線放射の発生のための予め定められ
た高いエネルギーレベルを有する電子ビームを放出する
ための加速器手段が設けられている。さらに、低いエネ
ルギーレベルを有する電子ビームの衝突時に電子放射を
発生するための散乱箔を可動に支持するため、また高い
エネルギーレベルを有する電子ビームの衝突時にＸ線放
射を発生するためのターゲットを可動に支持するため、
また電子ビームの軌道のなかの予め定められた位置へ散
乱箔およびターゲットの１つを選択的に動かすための支
持手段が設けられている。支持手段の運動により作動可
能１４ な検出手段が電子ビームの軌道に対して相対的なターゲ
ットの物理的位置を検出し、また加速器手段および検出
手段に結合された禁止手段が、もしターゲットが電子ビ
ームの軌道のなかの前記の予め定められた位置に置かれ
ていないならば、予め定められた低い工不ルギーレヘル
を越えるエネルギーレベルを有する電子の発生を阻止す
る。

検出手段はスイッチ、特に機械的スイッチを含むが、光
電的又は磁気的スイッチ等の非機械的スイソチを含むこ
ともできる。

電子ビームのエネルギーが前記の予め定められた低いエ
ネルギーレベルを越える時に、もし前記ターゲットが前
記電子ビームの軌道のなかに正しく置かれていないなら
ば、禁止手段が加速器の電力源をスイッチオフする。通
常、このような加速器は、インジェクターパルスを放出
するための電子インジェクターと、これらのインジェク
ターパルスを受けまた電子を発生ずるための電子銃と、
これらの電子を受けるための導波路と、電子ビームを発
生するため導波路のなかでこれらの電子の１５ の軌道のなかに正しく置かれていないならば、予め定め
られた低いエネルギーレベルを越えるエネルギーレベル
を有する電子ビームの発生が禁止手段により阻止される
。

〔実施例〕

以下図面について本発明の実施例を詳細に説明する。

第１図に示されている装置は電子放射もしくはＸ線放射
の発生のための加速器を設けられており、またたとえば
処置台（図示せず）上で患者の医療上の処置のために使
用される。スタンド１は郭定ヘッド３を有するガントリ
２を支持する。スタンド１の次に、装置の種々の作動モ
ードを制御するための制御エレクトロ二ックスを含んで
いる制御ユニット４が配置されている。スタンド１には
、ガントリ２のなかに配置されている電子銃１２にイン
ジェクターパルス５を供給する電子インジエクター■１
が設けられている。電子は加速のために電子銃１２から
排気された導波路１０のなかへ放出される。この目的で
、導波路１０に供給され加速のための高周波信号を発生
するための高周波源とを含んでいる。この場合、禁止手
段は好ましくはインジェクターパルスを検出するため電
子インジェククーに結合された検出手段を含んでおり、
また禁止手段は、電子のエネルギーレベルが予め定めら
れた低いエネルギーレベルを越える時に、もしターゲッ
トが電子ビームの軌道のなかに正しく置かれていないな
らば、インジェクターパルスおよび高周波信号をディス
エーブルする。加速器の高電圧、高周波源により発生さ
れる高周波信号および（または）導波路のなかへの電子
のインジェクションをスイッチオフすることも可能であ
る。

大発明によれば、散乱箔への予め定められた低いエネル
ギーレベルを有する電子ビームの衝突時に電子放射を発
生し、もしくはターゲートへの予め定められた高いエネ
ルギーレベルを有する電子ビームの衝突時にＸ線放射を
発生するための装置において過剰な電子放射の発生を阻
止するための方法において、ターゲートの位置が検出手
段により検出され、また、もしターゲートが電子ビーム
１６ る電磁場の発生のための高周波信号を供給する高周波源
（図示せず）が設けられている。インジエクタ−１１に
よりインジエクトされまた電子銃１２により放出された
電子は導波路１０のなかのこの電磁場により加速され、
また電子ビーム１５として電子銃１２と反対側の端部か
ら導波路１０を出る。電子ビーム１５は次いで、電子ビ
ーム１５を２７０゜屈曲させる排気されたエンヘロープ
１３に入る。電子ビームＩ５は次いで窓１７を通ってエ
ンベロープ１３を去る。

もし電子放射が発生されるべきであれば、散乱箔が電子
ビーム１５の軌道のなかへ動かされる。

もしＸ線放射が発生されるべきであれば、ターゲートが
電子ビーム１５の軌道のなかへ動かされ、また電子ビー
ム１５のエネルギーレベルが電子放射の発生中よりも高
くされる。ターゲートのなかでの電子の減速に起因して
、より多くのエネルギーがＸ線放射の発生のために必要
である。電子ビーム１５のエネルギーレベルは、電子イ
ンジェクタ−１１により供給されるインジェククーパル
スｌ８ ５の振幅を相応に増大させることにより増大される。

散乱箔およびターゲート（共に第２図および第３図中に
示されている）は、窓１７の下に可動に配置されたキャ
リッジまたはスライドとして形成されていてよい可動の
支持手段１９の上に配置されている。もしＸ線放射が発
生されるべきであれば、クーゲートが電子ビーム１５の
軌道のなかへ動かされ、また電子放射が発生されるべき
であれば、散乱箔が電子ビーム１５の軌道のなかへ動か
される。検出手段（第１図中には示されていない）が支
持手段１９の位置を検出し、また支持手段１９の位置、
従ってまたターゲートおよび散乱箔の位置に応答する位
置信号を発生する。

検出手段２１は電子インジェクク−１１により供給され
るインジェクターパルス５の振幅を検出し、またインジ
ェクターバルス５の振幅に相当ずる検出信号２０を発生
する。

もしインジェクターバルス５の振幅が、箔が所定の位置
にあるときの電子放射の発生またはター１９ １およびＸ線放射の発生のためのターゲット３２を支持
する可動支持手段■９の概要が示されている。支持手段
１９はさらに種々の形式の電子またはＸ線放射を与える
ために箔および（または）ターゲットをも支持し得るし
、またそれは小さい車またはローラーを有するキャリン
ジとして形成されていてよい。第２図中に示されている
実施例では、支持手段１９はスライド３０として形或さ
れており、またラックーピニオン駆動機構を形成する歯
車３４および歯付きラック３５を通じて電動機３３によ
り駆動される。第２図中にはターゲット３２がＸ線放射
の発生のためにエンヘローブ１３の窓１７を通して放出
される電子ビーム１５の軌道のなかに正しく置かれてい
るものとして示されている。検出手段３６は、ターゲッ
ト３２の位置が正しいか否かを判定するため、スライド
３０の位置を検出する。検出手段３６は機械的スイッチ
として形成されているが、それは光電的または磁気的ス
イッチとして形成されていてもよい。ターゲット３２が
電子ビーム１５の軌道のなかに正９１ ゲットが所定の位置にあるときのＸ線放射の発生のため
の作動に割り当てられている参照電圧を越えると、スイ
ッチングユニット２２が電子ビームｌ５の発生を直ちに
停止するために制御ユニット４に与えられる安全インタ
ーロック信号２３を発生する。

望まれない放射の発生を可能なかぎり速やかに阻止する
ため、スイッチングユニッ１・２２は、層迅速に放射を
停止し、また望まれない放射への患者の暴露を最小化す
るためにインジェクターパルス５および高周波信号の同
期化をディスエーブルするため制御ユニット４に与えら
れるディスエーブリング信号２４をも発生する。

郭定ヘッド３のなかには、ターゲットから放出されるＸ
線放射を平坦化するための少なくとも１つの平坦化フィ
ルタと、Ｘ線放射および電子放射を測定するためのドー
ズチャンハ（いわゆる電離箱）とが設けられている。加
えて、コリメータが放射軌道のなかに設けられている。

第２図には、電子放射の発生のための散乱箔３２０ しく置かれている時には、スイッチ３６は閉しられてお
り、また位置信号２５がスイッチングユニット２２に供
給される。

もし電子ビーム１５のエネルギーレベルが予め定められ
た高い値を越えないならば、スイッチングユニット２２
は安全インターロック信号２３もディスエーブリング信
号２４も発生せず、また加速器手段が高いエネルギーレ
ベルを有する電子ビーム１５を発生し得る。スイッチ３
６の利用により、Ｘ線放射の発生のためのターゲット３
２がその正しい位置にあるときにのみ高いレヘルを有す
る電子ビーム１５が発生され得ることが保証されている
。これは装置が非常に安全であることを意味する。なぜ
ならば、もしターゲット３２がその正しい位置になけれ
ば高いエネルギーレベルを有する電子放射が発生され得
ないからである。たとえターゲント３２がその正しい位
置にあっても、過度に高いエネルギーレベルの放出が阻
止されることがさらに確実にされている。なぜならば、
電子ビーム１５のエネルギーがＸ線放射の発生のた２２ めに割り当てられた−ヒ記の予め定められた高いレベル
を越えると直ちに、スイッチングユニット２２が安全イ
ンターロンク信号２３およびディスエーブリング信号２
４を発生するからである。

第３図には、電子放射が発生されるときのスライド３０
の位置が示されている。この場合、散乱箔３１は電動機
３３により電子ビームＩ５の軌道のなかへ置かれる。ス
イッチ３６はいま開いており、また位置信号２５がスイ
ンチングユニット２２に、散乱箔３１が電子ビーム■５
の軌道のなかにあり、またターゲット３２が電子ビーム
１５の軌道のなかにないことを指示する。電子インジェ
クタ−１１はいま、低いエネルギーレベルを有する電子
ビーム１５を発生ずるため、低い振幅を有するインジェ
クターパルス５を発生する。スイッチングユニット２２
は、検出手段２１により検出されかつ検出信号２０によ
り伝達されたインジェクターバルス５の振幅を電子放射
の発生に割り当てられている参暉値と比較する。もしイ
ンジェクターパルス５の振幅がこの参唄値を越えていな
い２３ 第４図には、安全インターロック信号２３および（また
は）ディスエーブリング信号２４を発生するためのスイ
ソチングユニッｌ・２２のブロック図が示されている。

好ましくは変流器として形成された検出手段２１がイン
ジェクターパルス５を検出し、また検出信号２０を増幅
器４０を通して増幅された検出信号４１としてコンバレ
ータ４２へ供給する。コンバレータ４２は増幅された検
出信号４１の振幅を参照電圧４３と比較する。参照電圧
４３は、アナログスイッチとして形成されておりスイッ
チ３６から発生された位置信号２５により作動されるス
イッチ４５から供給される。スイッチ３６は、Ｘ線放射
の発生に割り当てられており高い電圧値を有する第ｔの
参照電圧４６、もしくは電子放射の発生に割り当てられ
ており低い電圧値を有する第２の参照電圧４７をコンバ
レータ４２に通す。参照電圧４６および４７は参照電圧
源４８のなかで発生される。

もし装置がχ線放射のために作動するべくセットされて
おり、また位置信号２５がターゲート３ならば、加速器
手段は低いエネルギーレベルを有する電子ビームを発生
し始める。もし不良な作動の場合にインジェクターｌ１
がたとえばＸ線放射の場合のような高い振幅を有ずるイ
ンジェクターバルス５を発生したならば、可能なかぎり
速やかに装置をスイッチオフするために、スイッチング
ユニット２２が直ちに安全インターロック信号２３を発
生する。またスイッチングユニット２２は、インジェク
ターパルス５および高周波信号をディスエーブルするた
めに、ディスエーブリング信号２４を発生する。これら
の手段により、患者の健康に危険であり得るヘッド３か
らの高いエネルギーの電子放射の放出が最小化されてい
ることが保証されている。

もし複数個の散乱箔および（または）ターゲットがスラ
イド３０の上に設けられているならば、たとえばスライ
ド３ｏ上の突起により制御され、また箔またはターゲッ
トが電子ビームＩ５の軌道のなかに正しく置かれている
ことを指示する複数個のスイッチが設けられていてよい
。

２　４一 ２が電子ビーム１５の軌道のなかの正しい位置にあるこ
とを指示すれば、高い参照電圧４６がスイッチ４５を通
してコンバレータ４２に供給される。

もし次いでオペレータがＸ線放射の発生のために装置を
作動させるべく装置の制御パネルをセットすれば、イン
ジェクタ−１１が高い振幅を有するインジェクターパル
ス５を発生する。検出手段２１がインジェクターパルス
５を検出し、また検出信号２０を増幅器４０を通してコ
ンバレータ４２に供給する。コンパレータ４２は増幅さ
れた検出信号４１の振幅を第１の参照電圧４６と比較す
る。

増幅された検出信号４１の振幅がこの第１の参照電圧４
６を越えないかぎり、加速器は高いエネルギーレベルを
有する電子ビームを発生し、また装置はＸ線放射を発生
する。しかし、増幅された検出信号４ｌの振幅がこの第
１の参照電圧４６を越えると直ちに、コンパレータ４２
がその後の放射の発生を阻止する安全インターロンク信
号２３を発生する。安全インターロック信号２３はラッ
チ４９のセント入力端Ｓに供給され、またそれをそ２　
６〜 のセント位置に置く。ランチ４９の出力端からディスエ
ーブリング信号２４がインジエクターバルス５および高
周波信号の発生のためにトリガに供給される。ラッチ４
９はそのリセット人力端Ｒに供給される信号５０により
リセットされる。信号５０は、放射がスイッチオフされ
た後にのみ制御ユニット４により発生される。こうして
Ｘ線放射の発生は、装置が再び最初から再始動されると
きにしか継続され得ない。

電子放射を発生する場合には、電動機３３が散乱箔３１
を電子ビーム１５の軌道のなかの正しい位置へ動かし、
またインジェクタ−１１が、低いエネルギーレベルを有
する電子ビーム１５を発生ずるために、低い振幅を有す
るインジェクターバルス５を発生する。箔３ｌが正しい
位置にある時にはスイッチ３６は開いており、また対応
する位置信号２５を発生する。この位置信号２５はスイ
ッチ４５を作動させ、従って低い参照電圧４７が参照電
圧４３としてコンバレータ４２に供給される。増幅され
た検出信号４１が参唄電圧４３よりも小さい振幅を有す
るかぎり、安全インターロンク信号２３もディスエーブ
リング信号２４も発生されない。しかし、もしたとえば
構成要素の故障の場合に、増幅された検出信号４１の振
幅が参照電圧４３を越えると、その後直ちに、望まれな
い放射の放出を阻止するために安全インターロック信号
２３もディスエーブリング信号２４も発生される。

箔３１が電子ビーム１５の軌道のなかにあるときの作動
の場合に、加速器が低いエネルギーレベルを有する電子
ビーム１５しか発生し得ないことは非常に重要である。

なぜならば、さもなければ患者が危険な放射に暴露され
るからである。もし、故障の場合に、たとえば加速器が
χ線放射の発生のためのエネルギーレベルのような高い
エネルギーレベルを有する電子ビーム１５を発生し、ま
た箔３１がターゲート３２の代わりに電子ビーム１５の
軌道のなかにあったならば、過度に高い電子放射が放出
されるであろう。しかし、本発明によるスイッチ３６の
利用により、このような放射の２７ 放出は安全に阻止されている。

スイッチ４５は位置信号２５とは異なる信号または位置
信号とこのような信号とを組み合わせた信号によっても
切換えられ得る。このような信号はたとえば、正しい平
坦化フィルタおよび（または）正しいドーズチャンバが
電子放射またはＸ線放射の軌道のなかの正しい位置にあ
ることを指示する信号である。このような信号の発生は
当業者に一般に知られている。さらに、もしオペレータ
が電子放射およびＸ線放射の発生の間を選択するならば
、オペレータにより発生される信号によりスイッチ４５
の位置を変更することも可能である。

第５図の回路図には、第４図中に示されているスイッチ
ングユニット２２の詳細が示されている。

検出信号２０は通常のＢＮＣコネクタ５１を通して、ま
た抵抗器５５および５６を通して、帰還回路内にキャパ
シタおよび抵抗キャパシタンスを有する差動増幅器５２
を含んでいる増幅器４０に供給される。他の抵抗器６９
は増幅器５２の非反転入力端を接地電位に接続する。増
幅器５２は検出２８ 信号２０を近似的に６．７倍に増幅し、また増幅された
検出信号４１を、コンバレータ４２を形成する高速コン
バレータ５７の反転入力端に与える。

このような高速コンパレータ５７はＬＭ３　１　１の名
称で集積回路として市販されている。

スライド３０の位置、従ってまた箔３１およびターゲー
ト３２の位置を検出する位置信号２５は、増幅器６６と
抵抗器６４およびキャパシタ６５を含んでいる低域通過
フィルタと一緒にスイッチ４５を形或するアナログスイ
ッチ６３のゲートに供給される。アナログスイッチ６３
は集積回路として形成されており、またＡＤ７　５　１
　２の名称で市販されている。

約−２Ｖの負の位置信号２５は、ターゲット３２が所定
の位置にあることを指示し、また約＋５Ｖの正の位置信
号２５は、箔３１が所定の位置にあることを指示する。

アナログスイッチ６３は参照電圧源４８により供給され
る２つの参照電圧４６および４７の間を選択する。参照
電圧源４８はそれぞれ２対の抵抗器５９、６０および６
１、６３０ ２から形成された２つの分圧器を含んでいる。参照電圧
４６は約＋９■であり、またＸ線放射の発生のための近
似的に１．３Ａのインジェクターパルス５の最大振幅を
表す。参照電圧４７は近似的に約１．３■であり、また
近似的に１８０ｍＡのインジエクターバルス５の最大振
幅を表す。スイッチ６３の出力端は低域通過フィルタお
よび増幅器６６を通してコンパレータ５７の非反転入力
端に接続されている。

増幅された検出信号４１の振幅が選択された参照電圧４
３よりも高いときには常に、コンパレーク５７の出力は
低く、また安全インターロック信号２３は能動的であり
、また２つの交差接続されたノアゲート６７および６８
から形成されたフリップフロップ４９のなかにラッチさ
れており、反転された安全インターロック信号２３はノ
アゲート６７の人力端に供給される。安全インターロッ
ク信号２３は、もし１８０ｍＡよりも大きい振幅を有す
るインジェクターパルス５が、電子箔３１が電子ビーム
１５の軌道のなかにあるときに、電子銃１２にインジェ
クトされる第１またははもし１．３Ａよりも大きい振幅
を有するインジェクターパルス５が、ターゲット３２が
所定の位置にあるときに、電子銃ｌ２にインジェクトさ
れるならば、能動的である。

フリップフロップ４９は、放射が自動的にもしくはオペ
レータによりスイッチオフされた後に初めて、リセット
信号によりリセットされ得る。この場合には信号５０が
発生され、またフリップフロップ４９をリセットするた
めにノアゲート６８の入力端に供給される。

【図面の簡単な説明】

第１図はＸ線放射もしくは電子放射を発生するための装
置を示す図、第２図はＸ線放射を発生するための第１の
位置で散乱箔およびターゲートを支持するキャリッジを
示す図、第３図は電子放射を発生するための第２の位置
で第２図によるキャリッジを示す図、第４図は望まれな
い放射の発生を禁止するための安全インターロック回路
のブロック図、第５図は第４図の安全インターロック回
３１ 路の回路図である。 １・・・スタンド ２・・・ガントリ ３・・・郭定ヘッド ４・・・制御ユニット ５・・・インジェクターパルス １０・・・導波路 １ｌ・・・電子インジェクター １２・・・電子銃 １３・・・エンベローブ １５・・・電子ビーム １７・・・窓 １９・・・支持手段 ２０・・・検出信号 ２１・・・検出手段 ２２・・・スイッチングユニット ２３・・・安全インターロック信号 ２４・・・ディスエーブリング信号 ２５・・・位置信号 ３０・・・スライド ３２ １・・・散乱箔 ２・・・ターゲット ３・・・電動機 ６・・・スイッチ ０・・・増幅器 １・・・増幅器された検出信号 ２・・・コンパレータ ３・・・参照電圧 ５・・・スイッチ ６・・・第１の参照電圧 ７・・・第１の参照電圧 ８・・・参照電圧源 ９・・・フリップフロップ ０・・・リセット信号 ２・・・差動増幅器 ７・・・高速コンパレータ ３・・・アナログスイッチ ８・・・ノアゲート ３４

Claims (1)

1. 【特許請求の範囲】 １）電子放射またはＸ線放射を発生するための装置にお
   いて、 前記電子放射の発生のための予め定められ た低いエネルギーレベルまたは前記Ｘ線放射の発生のた
   めの予め定められた高いエネルギーレベルを有する電子
   ビームを形成するべく電子を発生しかつ加速するための
   加速器手段と、 散乱箔またはターゲットを支持するため、 また選択的に前記箔への前記電子の衝突時に前記電子放
   射を発生するための低いエネルギーレベルを有する前記
   電子ビームの軌道のなかへ前記箔を動かし、もしくは前
   記ターゲットへの前記電子の衝突時に前記Ｘ線放射を発
   生するための高いエネルギーレベルを有する前記電子ビ
   ームの軌道のなかへ前記ターゲットを動かすための支持
   手段と、 前記電子ビームの軌道に対して相対的な前 記ターゲットの位置を検出するため前記支持手段により
   作動可能な検出手段と、 もし前記箔が前記電子ビームの軌道のなか に置かれており、また前記ターゲットが前記電子ビーム
   の軌道のなかに置かれていないならば、前記の高いレベ
   ルを有する電子ビームの発生を阻止するため前記加速器
   手段および前記検出手段に結合された禁止手段と を含んでいることを特徴とする電子放射ま たはＸ線放射発生装置。 ２）もし前記箔が前記電子ビームの軌道のなかに置かれ
   ているならば、前記禁止手段が前記の予め定められた低
   いエネルギーレベルを越えるエネルギーレベルを有する
   電子ビームの発生を阻止することを特徴とする請求項１
   記載の装置。 ３）もし前記ターゲットが前記電子ビームの軌道のなか
   に置かれているならば、前記禁止手段が前記の予め定め
   られた高いエネルギーレベルを越えるエネルギーレベル
   を有する電子ビームの発生を阻止することを特徴とする
   請求項１記載の装置。 ４）前記加速器手段が電力源を含んでおり、また、もし
   前記ターゲットが前記電子ビームの軌道のなかに置かれ
   ていないならば、また前記電子ビームのエネルギーが前
   記の予め定められた低いエネルギーレベルを越えるなら
   ば、前記禁止手段が前記電力源をスイッチオフすること
   を特徴とする請求項１記載の装置。 ５）前記検出手段が機械的スイッチから形成されている
   ことを特徴とする請求項１記載の装置。 ６）前記加速器手段がインジェクターパルスを放出する
   ための電子インジェクターと、前記インジェクターパル
   スを受けまた電子を発生するための電子銃と、前記電子
   を受けるために適合した導波路と、前記電子ビームを発
   生するため前記導波路のなかで前記電子の加速のための
   高周波信号を発生するための高周波源とを含んでおり、
   前記禁止手段が前記インジェクターパルスの振幅を検出
   するため前記電子インジェクターに結合された検出手段
   を含んでおり、また、もし前記ターゲットが前記電子ビ
   ームの軌道のなかに置かれていないならば、また前記の
   検出されたインジェクターパルスの振幅が前記の予め定
   められた低いエネルギーレベルに割り当てられた予め定
   められた値を越えるならば、前記禁止手段が前記の予め
   定められた低いエネルギーレベルを越えるエネルギーレ
   ベルを有する電子ビームの発生を阻止することを特徴と
   する請求項１記載の装置。 ７）前記禁止手段が前記インジェクターパルスおよび前
   記高周波信号をディスエーブルすることにより電子ビー
   ムの発生を阻止することを特徴とする請求項６記載の装
   置。 ８）前記禁止手段が前記検出手段および前記の予め定め
   られた低いエネルギーレベルに割り当てられた第１の参
   照電圧を供給する参照電圧源に結合されたコンパレータ
   を含んでおり、また前記コンパレータが前記検出手段に
   より検出されたインジェクターパルスを前記第１の参照
   電圧と比較し、また、もし前記ターゲットが前記電子ビ
   ームの軌道のなかに置かれていないならば、またもし前
   記の検出されたインジェクターパルスが前記第１の参照
   電圧を越えるならば、前記電子ビームの発生を阻止する
   ため前記加速器にディスエーブリング信号を供給するこ
   とを特徴とする請求項６記載の装置。 ９）前記参照電圧源が前記の予め定められた低いエネル
   ギーレベルに割り当てられた第１の参照電圧および前記
   の予め定められた高いエネルギーレベルに割り当てられ
   た第２の参照電圧を供給し、前記参照電圧源が、前記検
   出手段により制御されており、また、もし前記ターゲッ
   トが前記電子ビームの軌道のなかにそれぞれ正しく置か
   れていないならば、または置かれているならば、前記第
   １または前記第２の参照電圧を前記コンパレータに接続
   するスイッチを介して前記コンパレータに接続されてい
   ることを特徴とする請求項８記載の装置。 １０）前記スイッチがアナログスイッチとして形成され
   ていることを特徴とする請求項９記載の装置。 １１）増幅器が前記検出手段と前記コンパレータとの間
   に配置されていることを特徴とする請求項６記載の装置
   。 １２）前記禁止手段がラッチング手段を含んでおり、そ
   のセット入力端が前記コンパレータに結合されており、
   そのリセット入力端が、もし放射がスイッチオフされて
   いるならば信号を供給するスイッチに結合されており、
   またその出力端が前記加速器手段に結合されていること
   を特徴とする請求項６記載の装置。 １３）前記支持手段が電動機により運動可能なスライド
   として形成されていることを特徴とする請求項１記載の
   装置。 １４）前記検出手段が前記インジェクターパルスを検出
   するための電流コイルとして形成されていることを特徴
   とする請求項６記載の装置。 １５）正しく置かれた散乱箔への予め定められた低いエ
   ネルギーレベルを有する電子ビームの衝突時に電子放射
   を発生し、もしくは正しく置かれたターゲートへの予め
   定められた高いエネルギーレベルを有する電子ビームの
   衝突時にＸ線放射を発生するための装置において過剰な
   電子放射の発生を阻止するための方法において、 前記ターゲートの位置を検出する過程と、 もし前記ターゲートが前記電子ビームの軌 道のなかに正しく置かれていないならば、前記の予め定
   められた高いエネルギーレベルを有する電子ビームの発
   生を禁止する過程と を含んでいることを特徴とする過剰な電子 放射の発生の阻止方法。 １６）もし前記ターゲートが前記電子ビームの軌道のな
   かに置かれているならば、前記の予め定められた高いエ
   ネルギーレベルを越えるエネルギーレベルを有する電子
   ビームの発生が阻止されることを特徴とする請求項１５
   記載の方法。 １７）前記電子ビームが、電子銃のなかへインジェクタ
   ーパルスをインジェクトし、また前記電子銃により放出
   される電子を高周波源のなかで発生された高周波信号に
   より発生される電界により導波路のなかで加速すること
   により発生され、また前記電子ビームの発生が前記イン
   ジェクターパルスおよび前記高周波信号を禁止すること
   により阻止されることを特徴とする請求項１５記載の方
   法。 １８）前記電子ビームのエネルギーレベルが前記インジ
   ェクターパルスの振幅を検出することにより測定される
   ことを特徴とする請求項１５記載の方法。 １９）前記の検出されたインジェクターパルスの振幅が
   前記の予め定められたエネルギーレベルに割り当てられ
   た予め定められた参照電圧と比較されることを特徴とす
   る請求項１８記載の方法。