JPH0395796A - Voltage generating circuit - Google Patents

Voltage generating circuit

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JPH0395796A
JPH0395796A JP1233510A JP23351089A JPH0395796A JP H0395796 A JPH0395796 A JP H0395796A JP 1233510 A JP1233510 A JP 1233510A JP 23351089 A JP23351089 A JP 23351089A JP H0395796 A JPH0395796 A JP H0395796A
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JP
Japan
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voltage
memory cell
cell array
mos transistor
operated
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JP1233510A
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Japanese (ja)
Inventor
Keiji Fukumura
慶二 福村
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Ricoh Co Ltd
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Ricoh Co Ltd
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Abstract

PURPOSE:To reduce current consumption at standby by preventing a first voltage setting means from being operated when a memory cell array is not operated, namely, at the standby, and supplying a bias voltage to the memory cell array based on a divided voltage from a second voltage setting means. CONSTITUTION:A first voltage set part 1 to make the current flowing and to set a prescribed voltage V1 only when a chip enable signal CE is set to a low level 'L', namely, when a memory cell array 52 is operated, and a second voltage set part 2 is provided to divide a power supply voltage Vcc and to set a prescribed voltage V2 while being interlocked with the voltage set part 1 only when the chip enable signal CE is set to a high level 'H', namely, when the memory cell array 52 is not operated, a voltage supply part 3 to set the voltages V1 and V2 from the first and second voltage set parts 1 and 2 to prescribed voltages VPC1 and VPC2 and to supply these voltages to be memory cell array 52 as the bias voltage are provided. Thus, the current does not flow at the standby time and the optimum bias voltage can be always generated.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 本発明は、メモリセルアレイにバイアス電圧として印加
される一定電圧を発生する電圧発生回路に関する。
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION [Field of Industrial Application] The present invention relates to a voltage generation circuit that generates a constant voltage applied as a bias voltage to a memory cell array.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

MOSメモリのメモリセルアレイの読出しを安定させ高
速化させるため、一般にメモリセルアレイに一定のバイ
アス電圧を印加する必要がある。
In order to stabilize and speed up reading from a memory cell array of a MOS memory, it is generally necessary to apply a constant bias voltage to the memory cell array.

この一定電圧を発生させるのに、従来では第2図に示す
ような電圧発生回路が用いられている。第2図の電圧発
生回路は、所定の電圧V。を与える電圧設定部50と、
電圧設定部50からの電圧■ を電圧V,。にしこれを
バイアス電圧としてメO モリセルアレイ52に供給する電圧供給部51とを備え
ている。電圧V,。は、トランジスタアレイTR1乃至
TR,を介してメモリセルアレイ52に印加されるよう
になっており、トランジスタアレイTR1乃至TRnは
、信号PCがハイレベル“H″のときに電圧”PCをそ
のままメモリセルアレイ52のビットラインに印加する
よう制御するようになっている。なお第2図において、
容量CsはトランジスタアレイTR1乃至TRnのソー
ス,基板間容量などからなり、メモリセルアレイの大き
さに比例した大きさのものとなっている.電圧設定部5
0は、nチャネルエンハンスメント型MOSトランジス
タQ21,Q22,Q24と、nチャネルデプレッショ
ン型MOSトランジスタQ23とで構或され、また電圧
供給部51は、nチャネルエンハンスメント型MOSト
ランジスタQ25で構成されている。
Conventionally, a voltage generating circuit as shown in FIG. 2 has been used to generate this constant voltage. The voltage generating circuit shown in FIG. 2 generates a predetermined voltage V. a voltage setting section 50 that gives
The voltage ■ from the voltage setting section 50 is the voltage V. The memory cell array 52 is provided with a voltage supply section 51 which supplies this as a bias voltage to the memory cell array 52. Voltage V,. are applied to the memory cell array 52 via the transistor arrays TR1 to TR, and the transistor arrays TR1 to TRn directly apply the voltage "PC" to the memory cell array 52 when the signal PC is at a high level "H". It is controlled so that the voltage is applied to the bit line of .
The capacitance Cs consists of the source and substrate capacitance of the transistor arrays TR1 to TRn, and has a size proportional to the size of the memory cell array. Voltage setting section 5
0 is composed of n-channel enhancement type MOS transistors Q21, Q22, Q24 and an n-channel depletion type MOS transistor Q23, and the voltage supply section 51 is composed of an n-channel enhancement type MOS transistor Q25.

このような構成の電圧発生回路では、電圧設定部50の
前段のMOSトランジスタQ  .Q  に2122 よって端子N21に電圧V。 が先づ設定される。
In the voltage generating circuit having such a configuration, the MOS transistors Q. 2122 to Q, so the voltage V at terminal N21. is set first.

この電圧V。′はメモリセルアレイ52を駆動するには
僅かの大きさのものであるが、この電圧Vo が電圧設
定部50のMOSトランジスタQ24のゲートに加わっ
てインバータ構成の後段のMOSトランジスタQ23,
Q24により端子N22がら電圧V。として出力される
。すなわち、MOSトランジスタQ23はインバータの
負荷部としての機能を有ルており、電圧V は、電源電
圧V。0と0 MOSトランジスタQ の閾値電圧V  とによ23 
      THLO って、所定の大きさ(V−V)に定められCC   T
HLO る。なお、電圧V。を保持するためにはMOSトランジ
スタQ21からMOSトランジスタQ22に向かって電
流が常に流れて電圧V  をMOSトラ0 ンジスタQ24のゲートに常時与え、またMOShラン
ジスタQ23からMOSトランジスタQ24に向かって
電流が常に流れている必要がある。
This voltage V. ' is small enough to drive the memory cell array 52, but this voltage Vo is applied to the gate of the MOS transistor Q24 of the voltage setting section 50, and the voltage Vo is applied to the gate of the MOS transistor Q24 of the inverter configuration.
Q24 causes voltage V to be applied to terminal N22. is output as That is, the MOS transistor Q23 has a function as a load section of the inverter, and the voltage V is the power supply voltage V. 0 and 0 MOS transistor Q threshold voltage V and 23
THLO is set to a predetermined size (V-V) and CC T
HLO Ru. Note that the voltage V. In order to maintain this, a current always flows from MOS transistor Q21 to MOS transistor Q22 to always apply voltage V to the gate of MOS transistor Q24, and a current always flows from MOS transistor Q23 to MOS transistor Q24. need to be.

電圧設定部50からの電圧V。は、電圧供給部51すな
わちMOSトランジスタQ25のゲートに加えられ、こ
れによりMOS}ランジスタQ25のドレインすなわち
端子N23から電圧■,。とじて出力される.すなわち
MOSトランジスタQ25の閾値電圧をVTEとすると
、電圧V,。は、VPC=Vo−VT[       
  ・・・・・・(1)として出力される。
Voltage V from voltage setting section 50. is applied to the voltage supply unit 51, that is, the gate of the MOS transistor Q25, and thereby the voltage 2, from the drain of the MOS transistor Q25, that is, the terminal N23. The output is closed. That is, if the threshold voltage of MOS transistor Q25 is VTE, the voltage is V. is VPC=Vo-VT[
. . . Output as (1).

メモリセルアレイ52のビットラインへのこの電圧VP
cの印加は、メモリセルアレイ52のセンシングに先立
って行なわれ、これによりメモリセルアレイ52に対す
るアクセス時間を向上させることができる。
This voltage VP to the bit lines of memory cell array 52
The application of c is performed prior to sensing the memory cell array 52, thereby making it possible to improve the access time to the memory cell array 52.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

ところで上述した従来の電圧発生回路では、電圧V  
, Vpcを所定値に保持するためには、電圧0 設定部50の各MOSトランジスタQ  .Q  ,2
122 Q  ,Q  に常時電流を流しておかねばならない。
By the way, in the conventional voltage generating circuit described above, the voltage V
, Vpc at a predetermined value, each MOS transistor Q . Q, 2
122 It is necessary to keep current flowing through Q and Q at all times.

2324 このような電圧発生回路は、NMOSメモリのようにス
タンバイ電流を意識せずども良いメモリセルアレイに適
用する場合には問題ないが、CMOSメモリのようにス
タンバイ電流がほとんど流れないことを要求されるメモ
リセルアレイに適用する場合には、スタンバイ時に電流
が流れないような構成に変更する必要がある。例えばス
タンバイ時には、電圧■ を電源電圧V。0または接地
電位0 ■  に固定する必要がある。しかしながら、スGND タンバイ時に電圧■ をV またはV  に固定O  
 CC     GND した場合には、電圧■ は、(■CC−■TE”まPC たはvGNDの値をとり、メモリセルアレイ52に印加
されるべき所定の電圧値(VCC−VTIILOVTE
)と大きく異なったものとなって、スタンバイ状態から
アクティブ状態に復帰する場合のアクセス時間が電圧V
,。の復帰に依存して遅くなるという欠点があった。
2324 Such a voltage generation circuit has no problem when applied to a good memory cell array such as an NMOS memory where standby current is not considered, but it is required that almost no standby current flows as in a CMOS memory. When applied to a memory cell array, it is necessary to change the configuration so that no current flows during standby. For example, during standby, the voltage ■ is the power supply voltage V. 0 or the ground potential 0 ■. However, during standby, the voltage is fixed at V or V.
In the case of CC GND, the voltage ■ takes the value of (■CC-■TE" or PC or vGND, and the predetermined voltage value (VCC-VTIILOVTE) to be applied to the memory cell array 52.
), and the access time when returning from the standby state to the active state is
,. The disadvantage was that it was slow depending on the return of .

本発明は、スタンバイ時に電流が流れずかつ最適なバイ
アス電圧を常に発生させることの可能な電圧発生回路を
提供することを目的としている。
SUMMARY OF THE INVENTION An object of the present invention is to provide a voltage generating circuit that does not allow current to flow during standby and can always generate an optimal bias voltage.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記目的を達成するために本発明は、メモリセルアレイ
の非動作時には作動せずメモリセルアレイの動作時に所
定の電圧を出力する第1の電圧設定手段と、メモリセル
アレイの非動作時に分圧された所定の電圧を出力する第
2の電圧設定手段と、メモリセルアレイの非動作時には
前記第2の電圧設定手段からの電圧が加わり、メモリセ
ルアレイの動作時には前記第1の電圧設定手段からの電
圧が加わってメモリセルアレイに所定のバイアス電圧を
供給する電圧供給手段とを備えていることを特徴とした
ものである。
To achieve the above object, the present invention provides a first voltage setting means that does not operate when the memory cell array is not in operation and outputs a predetermined voltage when the memory cell array is in operation; a second voltage setting means for outputting a voltage of The memory cell array is characterized by comprising voltage supply means for supplying a predetermined bias voltage to the memory cell array.

〔作用〕[Effect]

上記のような梢或の電圧発生回路では、メモリセルアレ
イの非動作時には、第2の電圧設定手段で分圧された所
定の電圧が電圧供給手段に加わり、メモリセルアレイに
所定のバイアス電圧として供給される.このときには、
第1の電圧設定手段は作動せず全体として電流は流れな
い。メモリセルアレイの動作時には、第1の電圧設定手
段に電流が流れて第1の電圧設定手段からは所定の電圧
が電圧供給手段に加わり、メモリセルアレイに所定のバ
イアス電圧として供給される. 〔実施例〕 以下、本発明の一実施例を図面に基づいて説明する。
In the above-mentioned voltage generating circuit, when the memory cell array is not in operation, a predetermined voltage divided by the second voltage setting means is applied to the voltage supply means, and is supplied to the memory cell array as a predetermined bias voltage. Ru. At this time,
The first voltage setting means does not operate and no current flows as a whole. During operation of the memory cell array, a current flows through the first voltage setting means, and a predetermined voltage is applied from the first voltage setting means to the voltage supply means, and is supplied to the memory cell array as a predetermined bias voltage. [Example] Hereinafter, an example of the present invention will be described based on the drawings.

第1図は本発明に係る電圧発生回路の一実施例の構成図
である.なお第1図において第2図と同様の箇所には同
じ符号を付している。
FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of a voltage generating circuit according to the present invention. Note that in FIG. 1, the same parts as in FIG. 2 are given the same reference numerals.

第1図を参照すると、本実施例の電圧発生回路は、チヅ
プイネーブル信号CEがロウレベル“L″のときすなわ
ちメモリセルアレイ52の動作時にのみ電流が流れ所定
の電圧V1を設定する第1の電圧設定部1と、第1の電
圧設定部1と連動し、チップイネーブル信号CBがハイ
レベル“H”のときすなわちメモリセルアレイ52の非
動作時に電源電圧V を分圧して所定の電圧V2を設定
すCC る第2の電圧設定部2と、第lの電圧設定部1,第2の
電圧設定部2からの電圧V ,■ を所定12 の電圧v  ,■  にし、これをバイアス電圧PCI
   PC2 としてメモリセルアレイ52に供給する電圧供給部3と
を備えている。
Referring to FIG. 1, in the voltage generating circuit of this embodiment, a current flows only when the chip enable signal CE is at a low level "L", that is, when the memory cell array 52 is operating. The setting section 1 works in conjunction with the first voltage setting section 1 to divide the power supply voltage V to set a predetermined voltage V2 when the chip enable signal CB is at a high level "H", that is, when the memory cell array 52 is not operating. The voltages V,■ from the second voltage setting section 2, the lth voltage setting section 1, and the second voltage setting section 2 are set to a predetermined voltage v,■ of 12, and this is set as the bias voltage PCI.
The memory cell array 52 is provided with a voltage supply unit 3 serving as a PC2.

第1の電圧設定部1は、nチャネルエンハンスメント型
MOS}ランジスタQ11,Q12” 14,Q17と
、pチャネルエンハンスメント型MOSトランジズタQ
  .Q  とで構成されている,なお1316 MOSトランジスタQ11,Q1−2,Q13,Q14
は、第2図に示したMOS}ランジスタQ21” 22
’Q  ,Q  とそのR能がそれぞれ対応したものと
2324 なっている。
The first voltage setting unit 1 includes n-channel enhancement type MOS transistors Q11, Q12'' 14, Q17, and a p-channel enhancement type MOS transistor Q.
.. It is composed of 1316 MOS transistors Q11, Q1-2, Q13, Q14.
is the MOS} transistor Q21"22 shown in FIG.
'Q, Q and their R capabilities are 2324 corresponding to each other.

また第2の電圧設定部2は、コンデンサC1?2によっ
て構成されており、第1の電圧設定部1が作動しておら
ず第1の電圧設定部1に電流が流れていないときに、電
源電圧vccをコンデンサC1,C  によって分圧し
た電圧v2を出力する2 ようになっている. また電圧供給部3は、nチャネルエンハンスメント型M
OSトランジスタで構成されている。
The second voltage setting section 2 is constituted by a capacitor C1?2, and when the first voltage setting section 1 is not operating and no current is flowing through the first voltage setting section 1, the second voltage setting section 2 is configured with a capacitor C1? The voltage vcc is divided by capacitors C1 and C to output a voltage v2. Further, the voltage supply unit 3 is an n-channel enhancement type M
It is composed of OS transistors.

次にこのような構成の電圧発生回路の動作について説明
する。
Next, the operation of the voltage generating circuit having such a configuration will be explained.

先づチップイネーブル信号CBがハイレベル“H″であ
るときすなわちメモリセルアレイ52が非動作時には、
第1の電圧設定部1では、MOSトランジスタQ13が
オフでMOSトランジスタQ がオンとなっており、こ
れにより端子N12の17 電圧”12は零電位に近い値となり、MOSトランジス
タQ11がオフとなっているので、MOSトランジスタ
Q1■もオフとなる.この状態では、前段のMOSトラ
ンジスタQ  .Q  には電流が流れ1112 ず、またインバータ構或の後段のMOS}−ランジスタ
Q  .Q  にも電流が流れない。さらにチツ13 
   14 プイネーブル信号CEがハイレベル“ト【”のときには
、MOSトランジスタQ16がオフとなるため、端予N
 の電圧V13は、第2の電圧設定部2のコ13 ンデンサC  ,C2で分圧された電圧■2となる。
First, when the chip enable signal CB is at a high level "H", that is, when the memory cell array 52 is not operating,
In the first voltage setting section 1, the MOS transistor Q13 is off and the MOS transistor Q is on, so that the voltage at the terminal N12 is close to zero potential, and the MOS transistor Q11 is off. Therefore, the MOS transistor Q1 is also turned off. In this state, no current flows through the previous stage MOS transistor Q.Q, and current also flows through the subsequent stage MOS transistor Q.Q of the inverter structure. No. In addition, Chitu 13
14 When the enable signal CE is at a high level "T", the MOS transistor Q16 is turned off, so the terminal N
The voltage V13 becomes the voltage 2 divided by the capacitors C and C2 of the second voltage setting section 2.

1 すなわち電圧V13は、 ■ =v =〔C /《C +C2)〕・Vcc132
11 ・・・・・・(2) となり、電圧供給部3すなわちMOSトランジスタQ1
5のゲートに加えられて、MOSトランジスタQ のド
レインすなわち端子N14から一定の電15 ランジスタQ の閾値電圧をvTEとすると、電圧15 ■PC2”− V=V−V              ・・・・・・
(3)PC2     2     7E として出力される.このようにして本実施例では、メモ
リセルアレイ52の動作前のスタンバイ時にMOSトラ
ンジスタQ11’ Q12,Q13,Q14に電流を流
さずに、コンデンサC  ,C2の分圧で定1 まる一定の電圧V  をメモリセルアレイ52にPC2 印加することができる。
1 In other words, the voltage V13 is: ■=v=[C/<C+C2)]・Vcc132
11...(2) The voltage supply section 3, that is, the MOS transistor Q1
If the threshold voltage of transistor Q is vTE, then the voltage 15 PC2''-V=V-V...
(3) Output as PC2 2 7E. In this way, in this embodiment, during standby before operation of the memory cell array 52, no current flows through the MOS transistors Q11', Q12, Q13, and Q14, and a constant voltage V determined by the divided voltages of the capacitors C and C2 is maintained. PC2 can be applied to the memory cell array 52.

次にチヅブイネーブル信号CEをロウレベル“L”にし
てメモリセルアレイ52を動作させるときには、第1図
の電圧設定部1においてMOSトランジスタQ13がオ
ンとなりMOSトランジスタQ がオフとなる。MOS
トランジスタQ13が17 オンとなることにより、MOSトランジスタQ11もオ
ンとなり、前段のMOSトランジスタQ11.Q12に
は電流が流れるとともに、後段のMOSトランジスタQ
Q  にも電流が流れ、MOSト13I14 ランジスタQ,QQ,Q  は、第2図に1112・ 
1314 おいて前述したMOSトランジスタQ  ,Q2122 Q23’ Q24と同様に動作する。すなわち、端子N
11にはメモリセルアレイ52を駆動するには僅かの大
きさの電圧V1 が設定され、この電圧V1 がMOS
トランジスタQ14のゲートに加わって、端子N12に
は、インバータ構成のMOSトランジスタQQ  によ
りMOSトランジスタ13・ 14 Q の閾値電圧V  によって定まる電圧V1が13 
        THLI V1 =■CC  ’TIIL1        ””
”(4)のように設定される。
Next, when the chip enable signal CE is set to low level "L" to operate the memory cell array 52, the MOS transistor Q13 is turned on and the MOS transistor Q1 is turned off in the voltage setting section 1 of FIG. M.O.S.
When the transistor Q13 turns on, the MOS transistor Q11 also turns on, and the previous stage MOS transistor Q11. Current flows through Q12, and the subsequent stage MOS transistor Q
Current also flows through Q, and MOS transistors Q, QQ, and Q are connected to transistors 1112 and 1112 in FIG.
1314 operates in the same manner as the aforementioned MOS transistors Q, Q2122, Q23' and Q24. That is, terminal N
11 is set with a voltage V1 which is small enough to drive the memory cell array 52, and this voltage V1 is set to the MOS
In addition to the gate of the transistor Q14, a voltage V1 determined by the threshold voltage V of the MOS transistors 13 and 14 Q is applied to the terminal N12 by the MOS transistor QQ having an inverter configuration.
THLI V1 = ■CC 'TIIL1 ""
”(4).

チップイネーブル信号CEがロウレベル゛′L”である
ときには、MOSトランジスタQ16もオンとなるので
、端子N の電圧V13は、端子N12の13 電圧V1と同じ値になり、電圧供給部3すなわちMOS
トランジスタQ15のゲートに加えられて、MQSトラ
ンジスタQ15のドレインすなわち端子N から所定の
電圧V  として出力される。す14        
 PC1 なわち電圧■  は、 PCI V=V−V          ・・・・・・(5)P
C1   1   TE として出力される。このようにしてメモリセルアレイ5
2を動作させるときには、MOSトランジスタQQQ,
Q  に電流を流して設定11=  12’  13 
  14 される所定の電圧V  をメモリセルアレイ52PCI に印加することができる。
When the chip enable signal CE is at the low level "L", the MOS transistor Q16 is also turned on, so the voltage V13 at the terminal N has the same value as the voltage V1 at the terminal N12, and the voltage supply section 3, that is, the MOS transistor
It is applied to the gate of the transistor Q15 and output as a predetermined voltage V 2 from the drain of the MQS transistor Q15, that is, the terminal N 2 . Su14
PC1, that is, the voltage ■ is PCI V=V-V ・・・・・・(5)P
It is output as C1 1 TE. In this way, the memory cell array 5
When operating MOS transistors QQQ,
Apply current to Q and set 11 = 12' 13
14 can be applied to the memory cell array 52PCI.

ところで、本実施例では、第2の電圧設定部2のコンデ
ンサC  ,C2の容量比を適切なものに1 することにより、スタンバイ時に印加するパイアス電圧
V  をアクティブ状態時に印加するパイPC2 アス電圧V  と同じ値にすることができる。
By the way, in this embodiment, by setting the capacitance ratio of the capacitors C and C2 of the second voltage setting section 2 to an appropriate value, the bias voltage V applied during standby is changed from the bias voltage V applied during the active state to the bias voltage V applied during the active state. can be set to the same value.

PCI 例えば、ゲートに電源電圧V。0が加わりソース,ドレ
インが端子N13と接続されたnチャネルエンハンスメ
ント型MOSトランジスタでコンデンサC1を構成し、
拡散接合容量,配線間容量などでコンデンサC2を構成
することができる。この場合には、コンデンサC1を梢
或するnチャネルエンハンスメント型MOSトランジス
タのゲート酸化膜厚を変えることにより、このMOSト
ランジスタの相互コンダクタンスglmlを変化させ、
コンデンサC1の容量を相互コンダクタンスg1の増減
方向と同じ向きに変化させることができる。このように
相互コンダクタンスg を調整して、ス■ タンバイ時のバイアス電圧■  をアクティブ状PC2 態時のバイアス電圧V  と同じにすることかでPCI きて、これにより常に最適なバイアス電圧をメモリセル
アレイ52に与え、イネーブルアクセス時間をアドレス
アクセス時間と同じにすることができる。
PCI For example, power supply voltage V at the gate. The capacitor C1 is composed of an n-channel enhancement type MOS transistor whose source and drain are connected to the terminal N13.
The capacitor C2 can be configured by diffusion junction capacitance, inter-wiring capacitance, and the like. In this case, by changing the gate oxide film thickness of the n-channel enhancement type MOS transistor with capacitor C1 on top, the mutual conductance glml of this MOS transistor is changed,
The capacitance of the capacitor C1 can be changed in the same direction as the direction in which the mutual conductance g1 increases or decreases. By adjusting the mutual conductance g in this way and making the bias voltage during standby the same as the bias voltage V during the active PC2 state, PCI can be achieved. 52 to make the enable access time the same as the address access time.

またチップイネーブル信号CEをスタンバイ時にクロツ
ク信号とすることにより、バイアス電圧V  ,■  
はより安定する。但し、MOSトPCI   PC2 ランジスタQ,QQ,Q  のアクティブ11   1
2’  13   14 期間を短かくする必要はある。
Also, by using the chip enable signal CE as a clock signal during standby, the bias voltage V,
becomes more stable. However, MOS transistor PCI PC2 transistor Q, QQ, Q active 11 1
2' 13 14 There is a need to shorten the period.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

以上に説明したように本発明によれば、メモリセルアレ
イの非動作時すなわちスタンバイ時には第1の電圧設定
手段は作動せず、第2の電圧設定手段からの分圧された
電圧に基づくバイアス電圧をメモリセルアレイに供給す
るようにしているので、スタンバイ時の消費電流を著し
く少なくし、かつ最適なバイアス電圧を常に発生させメ
モリセルアレイに供給することかできる。
As explained above, according to the present invention, the first voltage setting means does not operate when the memory cell array is inactive, that is, during standby, and the bias voltage based on the divided voltage from the second voltage setting means is set. Since the voltage is supplied to the memory cell array, current consumption during standby can be significantly reduced, and an optimal bias voltage can always be generated and supplied to the memory cell array.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図は本発明に係る電圧発生回路の一実施例の構成図
、第2図は従来の電圧発生回路の構成図である。 1・・・第1の電圧設定部、 2・・・第2の電圧設定部、 3・・・電圧供給部、 5 2・・・メモリセルアレイ
FIG. 1 is a configuration diagram of an embodiment of a voltage generation circuit according to the present invention, and FIG. 2 is a configuration diagram of a conventional voltage generation circuit. DESCRIPTION OF SYMBOLS 1... First voltage setting section, 2... Second voltage setting section, 3... Voltage supply section, 5 2... Memory cell array

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims]  メモリセルアレイの非動作時には作動せずメモリセル
アレイの動作時に所定の電圧を出力する第1の電圧設定
手段と、メモリセルアレイの非動作時に分圧された所定
の電圧を出力する第2の電圧設定手段と、メモリセルア
レイの非動作時には前記第2の電圧設定手段からの電圧
が加わり、メモリセルアレイの動作時には前記第1の電
圧設定手段からの電圧が加わってメモリセルアレイに所
定のバイアス電圧を供給する電圧供給手段とを備えてい
ることを特徴とする電圧発生回路。
a first voltage setting means that does not operate when the memory cell array is not in operation and outputs a predetermined voltage when the memory cell array is in operation; and a second voltage setting means that outputs a divided predetermined voltage when the memory cell array is not in operation. When the memory cell array is not in operation, the voltage from the second voltage setting means is applied, and when the memory cell array is in operation, the voltage from the first voltage setting means is added to supply a predetermined bias voltage to the memory cell array. A voltage generating circuit comprising: supply means.
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Cited By (1)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
KR100293628B1 (en) * 1998-06-12 2001-07-12 박종섭 Circuit for decreasing a standby current in a semiconductor memory device

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* Cited by examiner, † Cited by third party
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KR100293628B1 (en) * 1998-06-12 2001-07-12 박종섭 Circuit for decreasing a standby current in a semiconductor memory device

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