JPH0388703A - 過酸化水素組成物 - Google Patents
過酸化水素組成物Info
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Landscapes
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、安定化された過酸化水素組成物に関する。
過酸化水素水溶液は繊維の漂白、電子工業用ウェハーの
洗浄および殺菌消毒液などの多くの分野において使用さ
れているが、使用迄の輸送、保存期間において過酸化水
素の分解による過酸化水素の濃度低下を防ぐために通常
は安定剤が添加されている。
洗浄および殺菌消毒液などの多くの分野において使用さ
れているが、使用迄の輸送、保存期間において過酸化水
素の分解による過酸化水素の濃度低下を防ぐために通常
は安定剤が添加されている。
過酸化水素の濃度低下は主として、微量に混入している
鉄および銅などの金属不純物による過酸化水素の分解に
起因するものであり、このため、安定剤としてこれらの
金属不純物を封鎖するキレート剤や吸着除去する錫酸塩
などが使用されている。
鉄および銅などの金属不純物による過酸化水素の分解に
起因するものであり、このため、安定剤としてこれらの
金属不純物を封鎖するキレート剤や吸着除去する錫酸塩
などが使用されている。
特に有効とされるキレート剤は、ホスホン酸系のキレー
ト剤であり、たとえば、特開昭４６−６０１２号公報で
はアミノトリ（メチレンホスホン酸）が、特開昭４７−
１０６２号公報ではアルキリデンジホスホン酸が、また
、特公昭５０−３６８３８号公報ではエチレンジアミン
テトラ（メチレンホスホン酸）が開示されている。
ト剤であり、たとえば、特開昭４６−６０１２号公報で
はアミノトリ（メチレンホスホン酸）が、特開昭４７−
１０６２号公報ではアルキリデンジホスホン酸が、また
、特公昭５０−３６８３８号公報ではエチレンジアミン
テトラ（メチレンホスホン酸）が開示されている。
〔本発明が解決しようとする問題点および作用〕これら
のホスホン酸系キレート剤は実用上、過酸化水素の安定
剤として次の様な欠点を有している。
のホスホン酸系キレート剤は実用上、過酸化水素の安定
剤として次の様な欠点を有している。
すなわち、アルキリデンジホスホン酸は、安定化作用が
不十分で比較的多量に使用するか、錫酸塩などの他の安
定剤の併用が必要である。また、アミノトリ（メチレン
ホスホン酸）およびエチレンジアミンテトラ（メチレン
ホスホン酸）はそれぞれ安定化作用は十分であるものの
窒素原子を含む為に、時間の経過に伴って過酸化水素に
より徐々に酸化されて劣化し作用が低下するという欠点
がある。
不十分で比較的多量に使用するか、錫酸塩などの他の安
定剤の併用が必要である。また、アミノトリ（メチレン
ホスホン酸）およびエチレンジアミンテトラ（メチレン
ホスホン酸）はそれぞれ安定化作用は十分であるものの
窒素原子を含む為に、時間の経過に伴って過酸化水素に
より徐々に酸化されて劣化し作用が低下するという欠点
がある。
これらは安定剤を比較的多量に添加すれば解決される問
題ではあるが、過酸化水素の最近の用途である電子工業
向はウェハーの処理液およびコンタクトレンズの殺菌溶
液などにおいては、安定剤の使用量をできるかぎり少な
くすることが望まれており、それ故、安定化作用が高く
、かつ、持続性の大きい新規な安定剤の開発が要望され
ているが、このような要望に応えるような安定剤は、ま
だ、見出されていない。
題ではあるが、過酸化水素の最近の用途である電子工業
向はウェハーの処理液およびコンタクトレンズの殺菌溶
液などにおいては、安定剤の使用量をできるかぎり少な
くすることが望まれており、それ故、安定化作用が高く
、かつ、持続性の大きい新規な安定剤の開発が要望され
ているが、このような要望に応えるような安定剤は、ま
だ、見出されていない。
本発明者らは前記の事情に鑑み、種々検討を行なった結
果、窒素原子を含むホスホン酸であるにも拘わらず１．
２−プロピレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）
が過酸化水素によって分解されず、この目的に使用し得
るという驚くべき事実を見出だし、この新知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
果、窒素原子を含むホスホン酸であるにも拘わらず１．
２−プロピレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）
が過酸化水素によって分解されず、この目的に使用し得
るという驚くべき事実を見出だし、この新知見に基づい
て本発明を完成するに至った。
すなわち、本発明は、過酸化水素および１，２プロピレ
ンシアξンテトラ（メチレンホスホン酸）またはその塩
を含有し過酸化水素が安定化されたことを特徴とする過
酸化水素組成物である。
ンシアξンテトラ（メチレンホスホン酸）またはその塩
を含有し過酸化水素が安定化されたことを特徴とする過
酸化水素組成物である。
１．２−プロピレンジアミンテトラ（メチレンホスホン
酸）は、 なる構造式で表される化合物であり、この１，２−ブロ
ビレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）の使用形
態は、遊離酸でもよく、また、塩の形でもよい。塩の形
で添加される場合は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金
属塩、アンモニウム塩および有機アミン塩などが使用で
きる。これらのうちの代表例としてナトリウム塩、カリ
ウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩およびトリエタ
ノールアミン塩などがあり、就中、ナトリウム塩、カリ
ウム塩およびアンモニウム塩などが好ましい。
酸）は、 なる構造式で表される化合物であり、この１，２−ブロ
ビレンジアミンテトラ（メチレンホスホン酸）の使用形
態は、遊離酸でもよく、また、塩の形でもよい。塩の形
で添加される場合は、アルカリ金属塩、アルカリ土類金
属塩、アンモニウム塩および有機アミン塩などが使用で
きる。これらのうちの代表例としてナトリウム塩、カリ
ウム塩、カルシウム塩、アンモニウム塩およびトリエタ
ノールアミン塩などがあり、就中、ナトリウム塩、カリ
ウム塩およびアンモニウム塩などが好ましい。
安定化される過酸化水素水溶液の濃度には特に制限はな
いが、通常は１〜９０ｔｍ ｔχの過酸化水素水溶液に
対して適用される。
いが、通常は１〜９０ｔｍ ｔχの過酸化水素水溶液に
対して適用される。
１．２−一−プロピレンジアミンテトラ（メチレンホス
ホン酸）またはその塩の使用量は、過酸化水素水溶液の
金属不純物の種類および濃度などによって異なり、−概
に特定しえないが、過酸化水素の濃度とは無関係に、過
酸化水素水溶液に対して、実用上、通常は、０．５〜＝
ｓｏｏｏ■／ｉ程度、好ましくは、１〜１０００ｍｇ／
ｆ程度とされる。この過酸化水素水溶液中の金属不純物
濃度が極めて少なく、また、保存中の汚染も殆どない場
合には、使用量が０．５ｍｇ／ｆｆ未満でも有効な場合
もある。
ホン酸）またはその塩の使用量は、過酸化水素水溶液の
金属不純物の種類および濃度などによって異なり、−概
に特定しえないが、過酸化水素の濃度とは無関係に、過
酸化水素水溶液に対して、実用上、通常は、０．５〜＝
ｓｏｏｏ■／ｉ程度、好ましくは、１〜１０００ｍｇ／
ｆ程度とされる。この過酸化水素水溶液中の金属不純物
濃度が極めて少なく、また、保存中の汚染も殆どない場
合には、使用量が０．５ｍｇ／ｆｆ未満でも有効な場合
もある。
本発明において、１．２−プロピレンジアミンテトラ（
メチレンホスホン酸）またはその塩を用いることにより
、従来公知のホスホン酸系キレート剤に較べて、少量の
添加でしかも長期間の過酸化水素水溶液の安定化が可能
となる。通常は、単独の安定剤として使用するのが好ま
しいが、必要に応じて従来の安定剤を併用する事を妨げ
ない。
メチレンホスホン酸）またはその塩を用いることにより
、従来公知のホスホン酸系キレート剤に較べて、少量の
添加でしかも長期間の過酸化水素水溶液の安定化が可能
となる。通常は、単独の安定剤として使用するのが好ま
しいが、必要に応じて従来の安定剤を併用する事を妨げ
ない。
本発明の過酸化水素Ｍｉ戒物は、その安定剤濃度を低く
することができるので、電子工業用および医薬用として
好適に使用することができる。さらに、本発明の過酸化
水素組成物は、各種コンタクト・レンズを損傷せず、他
の添加剤に対して不活性であり１、しかも、目に対する
毒性が低いなどから、燐酸系のｐＨ調節剤および等張化
剤などの他の添加剤を添加して各種コンタクト・レンズ
の殺菌・消毒液として極めて好適に使用される。
することができるので、電子工業用および医薬用として
好適に使用することができる。さらに、本発明の過酸化
水素組成物は、各種コンタクト・レンズを損傷せず、他
の添加剤に対して不活性であり１、しかも、目に対する
毒性が低いなどから、燐酸系のｐＨ調節剤および等張化
剤などの他の添加剤を添加して各種コンタクト・レンズ
の殺菌・消毒液として極めて好適に使用される。
本発明の効果を実施例によりさらに具体的に説明する。
実施例１
金属不純物として硫酸第二鉄０．５ｐｐｍ （重量）を
含有している３１．２ｗｔχの過酸化水素水溶液を用い
て、４０°Ｃで６力月間の保存安定性試験を行い、木発
明における１、２−プロピレンジアミンテトラ（メチレ
ンホスホン酸）またはその塩と他の安定剤とについて安
定化の比較を行なった。
含有している３１．２ｗｔχの過酸化水素水溶液を用い
て、４０°Ｃで６力月間の保存安定性試験を行い、木発
明における１、２−プロピレンジアミンテトラ（メチレ
ンホスホン酸）またはその塩と他の安定剤とについて安
定化の比較を行なった。
結果を第１表に示す。 （以下余白）第１−
表 実施例においても同様〕 実施例２ 過酸化水素水溶液をコンタクトレンズ殺菌用の３．０ｗ
ｔ！過酸化水素水溶液に替えた以外は実施例１と同様に
して試験した。結果を第２表に示す。
表 実施例においても同様〕 実施例２ 過酸化水素水溶液をコンタクトレンズ殺菌用の３．０ｗ
ｔ！過酸化水素水溶液に替えた以外は実施例１と同様に
して試験した。結果を第２表に示す。
なお、この水溶液は、目に装着した時の目への影響を少
なくする為に、りん酸塩系のｐＨ調節剤を０．０７ｗｔ
％、および等張化剤として食塩を０．９ｗｔＸ含有して
いる。 （以下余白）第２表 〔発明の効果〕 本発明において、１．２−プロピレンジアミン（テ、ト
ラホスホン酸）またはその塩を用いることにより、少な
い使用量で、かつ、長期間に亙り過酸化水素水溶液を安
定化することができる。これにより、電子工業向けの過
酸化水素水溶液、殺菌・消毒用過酸化水素水溶液および
各種コンタクトレンズ殺菌・消毒液などの、出来るだけ
少ない量での安定剤の使用が望まれている用途において
効果的な過酸化水素の安定化が可能となる。
なくする為に、りん酸塩系のｐＨ調節剤を０．０７ｗｔ
％、および等張化剤として食塩を０．９ｗｔＸ含有して
いる。 （以下余白）第２表 〔発明の効果〕 本発明において、１．２−プロピレンジアミン（テ、ト
ラホスホン酸）またはその塩を用いることにより、少な
い使用量で、かつ、長期間に亙り過酸化水素水溶液を安
定化することができる。これにより、電子工業向けの過
酸化水素水溶液、殺菌・消毒用過酸化水素水溶液および
各種コンタクトレンズ殺菌・消毒液などの、出来るだけ
少ない量での安定剤の使用が望まれている用途において
効果的な過酸化水素の安定化が可能となる。
Claims (1)
- 過酸化水素および１，２−プロピレンジアミンテトラ（
メチレンホスホン酸）またはその塩を含有し過酸化水素
が安定化されたことを特徴とする過酸化水素組成物。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22578789A JP2850395B2 (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 過酸化水素組成物 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP22578789A JP2850395B2 (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 過酸化水素組成物 |
Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0388703A true JPH0388703A (ja) | 1991-04-15 |
| JP2850395B2 JP2850395B2 (ja) | 1999-01-27 |
Family
ID=16834772
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP22578789A Expired - Lifetime JP2850395B2 (ja) | 1989-08-31 | 1989-08-31 | 過酸化水素組成物 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2850395B2 (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5302311A (en) * | 1991-02-28 | 1994-04-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Cleaning solution of semiconductor substrate |
| DE10242221B4 (de) * | 2002-09-12 | 2009-10-15 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Verfahren zum Bleichen von Aniontensidsäuren |
-
1989
- 1989-08-31 JP JP22578789A patent/JP2850395B2/ja not_active Expired - Lifetime
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| US5302311A (en) * | 1991-02-28 | 1994-04-12 | Mitsubishi Gas Chemical Company, Inc. | Cleaning solution of semiconductor substrate |
| DE10242221B4 (de) * | 2002-09-12 | 2009-10-15 | Henkel Ag & Co. Kgaa | Verfahren zum Bleichen von Aniontensidsäuren |
Also Published As
| Publication number | Publication date |
|---|---|
| JP2850395B2 (ja) | 1999-01-27 |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
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