JPH0376247A - Transfer of wafer - Google Patents

Transfer of wafer

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JPH0376247A
JPH0376247A JP1213198A JP21319889A JPH0376247A JP H0376247 A JPH0376247 A JP H0376247A JP 1213198 A JP1213198 A JP 1213198A JP 21319889 A JP21319889 A JP 21319889A JP H0376247 A JPH0376247 A JP H0376247A
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JP
Japan
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cassette
wafer
wafers
section
belt
Prior art date
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Pending
Application number
JP1213198A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Minoru Ametani
雨谷 稔
Keigo Funakoshi
船越 啓吾
Akihiko Kira
吉良 秋彦
Takao Matsushita
孝夫 松下
Keizo Shirokura
白倉 敬三
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Nitto Denko Corp
Original Assignee
Nitto Denko Corp
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Publication date
Application filed by Nitto Denko Corp filed Critical Nitto Denko Corp
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Publication of JPH0376247A publication Critical patent/JPH0376247A/en
Pending legal-status Critical Current

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Abstract

PURPOSE:To make it unnecessary to transfer a wafer from one cassette to another after the wafer is processed by a method wherein processed wafers are housed in the cassettes of a pool section one by one from the top cassette, then the wafers are taken out one by one from the bottom and then housed in a cassette of an unload section one by one from the top first. CONSTITUTION:Wafers 3a, 3b, 3c,... are successively taken out in this sequence from the lower part of a cassette 2, which is made to descend by one pitch at each delivery of a wafer, and processed, and then the processed wafers 3a, 3b, 3c,... are successively housed in this order in a cassette 105 on a table 101, which is made to ascend from the lowermost position pitch by pitch, from the top first. During this operation, the cassette 2 which becomes empty at a load section is placed on a table 90 at the lowermost position at an unload section, the processed wafers in the cassette 105 are taken out from the lower part of the cassette 105, which is made to descend from the uppermost position, and then successively housed in the cassette 2 on the table 90, which ascends pitch by pitch, from the top first. The processed wafers are housed in the cassette 2 at an unload section in the same order with the wafers in the cassette 2 loaded at a load section at first.

Description

【発明の詳細な説明】 〔産業上の利用分野〕 この発明は例えば集積回路の基板となるシリコンウェハ
のような円形などの任意形状のウェハの上部に粘着テー
プを貼り付け、このテープをウェハの外周に沿ってカッ
トしたのち、ウェハ上に貼着された部分以外のテープを
剥離する装置のようなウェハの処理装置におけるウェハ
の移し替え方法に関する。
[Detailed Description of the Invention] [Industrial Application Field] The present invention involves attaching an adhesive tape to the top of a wafer of any shape, such as a circular shape, such as a silicon wafer that serves as a substrate for an integrated circuit, and applying this tape to the top of the wafer. The present invention relates to a method for transferring a wafer in a wafer processing apparatus, such as an apparatus that peels off tape other than the portion stuck on the wafer after cutting along the outer periphery.

〔従来の技術〕[Conventional technology]

従来のウェハ処理装置として、例えば特開昭64−43
458号公報により開示されているものは、巾の広い粘
着テープをウェハに貼着して、この貼着したテープをウ
ェハの周縁に沿ってカットするものである。
As a conventional wafer processing apparatus, for example, Japanese Patent Application Laid-Open No. 64-43
In the method disclosed in Japanese Patent No. 458, a wide adhesive tape is attached to a wafer, and the attached tape is cut along the periphery of the wafer.

この公知技術では上記のような処理を行う処理部の両端
前部にロード部とアンロード部を設け、ロード部のカセ
ットの下部から一枚づつ取出したウェハを処理部で処理
したのち、この処理ずみのウェハをアンロード部の後方
まで移送し、アンロード部のカセット内の上部から一枚
づつ収容せしめるものである。
In this known technology, a loading section and an unloading section are provided at the front of both ends of a processing section that performs the above-mentioned processing, and the wafers are taken out one by one from the lower part of a cassette in the loading section and are processed in the processing section. The finished wafers are transferred to the rear of the unloading section, and loaded one by one into a cassette in the unloading section from the top.

〔発明が解決しようとする課題〕[Problem to be solved by the invention]

上記のような公知の技術では、ロード部のカセットの下
部から一枚づつ取出したウェハをアンロード部のカセッ
トの上部から一枚づつ収容せしめるものであるから、ロ
ード部のカセットの最下部のウェハがアンロード部のカ
セット内においては最上部となって、カセットの収容順
序が逆になり、このままのカセットをつぎの工程に送る
と都合が悪い場合、元の順序にするためには移し替え装
置が必要となる。
In the above-mentioned known technology, the wafers taken out one by one from the bottom of the cassette in the loading section are stored one by one from the top of the cassette in the unloading section. is at the top of the cassette in the unloading section, and the order in which the cassettes are stored is reversed. If it is inconvenient to send the cassette as it is to the next process, use the transfer device to restore the original order. Is required.

また、ロード部とアンロード部のカセットは別のもので
あるため、処理後のウェハをロード部のカセットに戻す
ためには特殊な移し替え装置が必要である。
Furthermore, since the cassettes for the loading section and the unloading section are separate, a special transfer device is required to return the processed wafer to the cassette of the loading section.

この発明の課題は上記のような従来技術の問題点を解決
するために、処理後にカセット間でウェハを移し替える
必要のないウェハの移し替え方法を提供することである
An object of the present invention is to provide a method for transferring wafers that does not require transferring wafers between cassettes after processing, in order to solve the problems of the prior art as described above.

〔課題を解決するための手段〕[Means to solve the problem]

上記の課題を解決するために、この発明は、カセットに
収容した複数のウェハを下部から一枚づつ取出して処理
部に送り出すロード部と、上記処理部において処理ずみ
のウェハをカセットに上部から一枚づつ収容するアンロ
ード部とを設けたウェハの処理装置において、アンロー
ド部の後方にプール部を設けて、ロード部のカセ−/ 
トの下部から一枚づつ取出して、処理部において処理し
たのちのウェハを一たんプール部のカセットに上部から
一枚づつ収容せしめたのち、このプール部のカセットを
下部から一枚づつ取出してアンロード部のカセットに上
部から一枚づつ収容せしめるウェハの移し替え方法を提
供する。
In order to solve the above problems, the present invention includes a loading section that takes out a plurality of wafers housed in a cassette one by one from the bottom and sends them out to a processing section, and a loading section that takes out a plurality of wafers housed in a cassette one by one from the bottom and sends them to a processing section, and a load section that takes out a plurality of wafers housed in a cassette one by one and sends them to a processing section, and a loading section that loads processed wafers into the cassette from the top in the processing section. In a wafer processing apparatus equipped with an unloading section for accommodating wafers one by one, a pool section is provided behind the unloading section, and a wafer cassette/
The wafers are taken out one by one from the bottom of the pool and processed in the processing section.The wafers are then stored one by one in the cassettes of the pool section from the top, and then the cassettes of the pool section are taken out one by one from the bottom and unloaded. To provide a method for transferring wafers by storing them one by one in a cassette of a loading part from the top.

〔実施例〕〔Example〕

以下にこの発明方法を実施する処理装置の一例としての
ウェハにテープを貼着する装置について説明する。
An apparatus for attaching tape to a wafer as an example of a processing apparatus for carrying out the method of the present invention will be described below.

第1図の1はロード部でウェハ3を入れたカセット2を
載せる左右一対の台14を有する。第3図のようにこの
左右の台14上のカセット2には多数のウェハ3が素子
形成面を上にして適当間隔で積み上げられ、無端搬送ベ
ルト4.5.6によりカセット2内の最下位のウェハ3
をガイド台7上に送り込む、ガイド台7は第1図のよう
に複数に分割され、その間に前記ベルト6とこのベルト
6に直交する方向の無端搬送ベルト8を配置し、かつ複
数のガイドバー9を固定しである。
1 in FIG. 1 is a loading section and has a pair of left and right stands 14 on which cassettes 2 containing wafers 3 are placed. As shown in FIG. 3, a large number of wafers 3 are stacked at appropriate intervals in the cassette 2 on the left and right stands 14 with the element formation side facing up, and are moved to the lowest position in the cassette 2 by an endless conveyor belt 4.5.6. wafer 3
The guide table 7 is divided into a plurality of parts as shown in FIG. 9 is fixed.

上記ベルト8は第2図に示すように複数のプーリにより
屈曲されてベルト6と干渉しないようにし、ベルト6に
より台7上へ送り込まれてベルト6が停止し、ベルト8
がモータ10および伝動ベルト11より第2図の矢印の
方向に駆動されるとウェハ3はつぎのウェハアライメン
ト手段15に送り込まれる。
The belt 8 is bent by a plurality of pulleys to prevent it from interfering with the belt 6, as shown in FIG.
When the wafer 3 is driven by the motor 10 and the transmission belt 11 in the direction of the arrow in FIG. 2, the wafer 3 is fed into the next wafer alignment means 15.

前記各台14は図示省略しである昇降手段により昇降す
るもので、ウェハ3が1枚取り出される毎にカセット2
を下げてつぎのウェハ3をベルト4上に載せる。
Each table 14 is raised and lowered by a lifting means (not shown), and every time one wafer 3 is taken out, the cassette 2
is lowered and the next wafer 3 is placed on the belt 4.

左右に台14を設けたのは一方の台14上のカセット2
が空になると、他方のカセット2内のウェハ3を取り出
して運転を続行し、この間に空のカセット2をウェハ3
の入ったカセット2と交換し、装置の稼動率を上げるた
めである。
The cassette 2 on one of the stands 14 is provided with stands 14 on the left and right sides.
When the cassette 2 becomes empty, the wafer 3 in the other cassette 2 is taken out and the operation continues, and during this time the empty cassette 2 is transferred to the wafer 3
This is to increase the operating rate of the device by replacing it with the cassette 2 containing the .

ロード部に1カセツトのみをセットするようにした装置
の場合は、台14は1ケ所でよく、その位置はベルト8
上に対向する部分の任意の位置とすればよい。
In the case of a device in which only one cassette is set in the load section, only one stand 14 is required, and that position is located at the belt 8.
It may be placed at any position on the upper facing portion.

ウェハアライメント手段15には左右の受台16の外側
上部にガイドバー17を設け、両受台16間には左右一
対の無端搬送ベルト18を配置しである。
The wafer alignment means 15 is provided with a guide bar 17 on the outer upper part of the left and right pedestals 16, and a pair of left and right endless conveyor belts 18 are arranged between both the pedestals 16.

上記搬送ベルト18は第2図に示すように伝動ベルト2
0.21によって前記搬送ベルト8と同期走行するがベ
ルト18は機台22上の昇降フレーム23上に設けてあ
り、このフレーム23はエアシリンダ19により昇降す
る。
The conveyor belt 18 is a transmission belt 2 as shown in FIG.
0.21, the belt 18 runs in synchronism with the conveyor belt 8. The belt 18 is provided on an elevating frame 23 on a machine stand 22, and this frame 23 is raised and lowered by an air cylinder 19.

ウェハアライメント手段15は、第2図および第4図な
いし第6図に示すようなものである。
The wafer alignment means 15 is as shown in FIG. 2 and FIGS. 4 to 6.

すなわち、前記フレーム23に横軸24を中心に揺動す
るレバー25を設け、このレバー25上に、モータによ
り縦軸の回りに回転する溝プーリ27を設け、レバー2
5上の取付台28には第6図のように3本の回転棒31
−532.33を設け、これら各棒の下端の溝プーリと
前記溝プーリ27に無端ベルト26を係合させて、回転
棒31.32.33が第6図矢印のように回転するよう
に構威し、中央の回転棒32を若干前寄りにしておく。
That is, a lever 25 that swings around a horizontal axis 24 is provided on the frame 23, and a groove pulley 27 that is rotated around a vertical axis by a motor is provided on this lever 25.
As shown in Fig. 6, three rotating rods 31 are attached to the mounting base 28 on the top of the mount 5.
-532, 33 are provided, and the endless belt 26 is engaged with the groove pulley at the lower end of each of these rods and the groove pulley 27, so that the rotary rods 31, 32, 33 rotate as shown by the arrows in FIG. The center rotating rod 32 is moved slightly forward.

また、前記レバー25はエアシリンダ35により上下に
揺動させ得るようにする。
Further, the lever 25 can be swung up and down by an air cylinder 35.

第2図、第5図の36は前記横軸24と同軸で、かつレ
バー25とは別個に揺動するレバーで、このレバー36
にストッパ37が取付けである。
Reference numeral 36 in FIGS. 2 and 5 is a lever that is coaxial with the horizontal shaft 24 and swings separately from the lever 25.
A stopper 37 is attached.

このストッパ37はウェハ3の直線縁すなわち、オリフ
ラ12の精密な位置決めを行なうもので、回転軸39を
中心に回転して任意の角度に固定することにより当たり
面を微調整できる機構を有している。
This stopper 37 precisely positions the straight edge of the wafer 3, that is, the orientation flat 12, and has a mechanism that allows fine adjustment of the contact surface by rotating around the rotation axis 39 and fixing it at an arbitrary angle. There is.

また、上記のレバー36はエアシリンダ38で上下に揺
動される。
Further, the lever 36 mentioned above is swung up and down by an air cylinder 38.

上記のアライメント手段15において、最初は第2図、
第4図のように3本の回転棒31.32.33およびス
トッパ37はベルト18の搬送面上に突出している。従
ってベルト18で搬送されてきたウェハ3の外周が棒3
1.32.33の外周に接する。ウェハ3の弧状の縁の
場合は全ての捧31.32.33がウェハ3に接するが
ウェハ3は、同じ方向に回っている隣接した2本の棒3
2.33との摩擦により回される。こうしてウェハ3が
回り、そのオリフラ12が棒31.32.33の部分へ
くると中央の捧32は第6図のようにオリフラ12から
離れ、オリフラ12には相反する方向に回転している棒
31.33が接するのでウェハ3はオリフラ12を前向
きとして停止する。
In the above alignment means 15, initially as shown in FIG.
As shown in FIG. 4, three rotating rods 31, 32, 33 and a stopper 37 protrude above the conveying surface of the belt 18. Therefore, the outer circumference of the wafer 3 transported by the belt 18 is
1.32.Touches the outer circumference of 33. In the case of an arcuate edge of the wafer 3, all the rods 31, 32, 33 are in contact with the wafer 3, but the wafer 3 has two adjacent rods 3 rotating in the same direction.
2.33 It is turned by friction with 33. When the wafer 3 rotates and its orientation flat 12 comes to the rods 31, 32, and 33, the central support 32 separates from the orientation flat 12 as shown in FIG. 31 and 33 are in contact with each other, the wafer 3 stops with the orientation flat 12 facing forward.

前記のようにウェハ3がアライメント手段15の位置に
あることを検出し、回転棒31.32.33を回転させ
、ウェハ3のオリフラ合わせ完了、すなわち、オリフラ
12が回転棒31.33に接したことを検出して、回転
棒31.32.33の回転を止め、同時にシリンダ35
により下降させる。このときウェハ3はベルト18に乗
って前進し、その前部のオリフラ12を第1図の鎖線お
よび第5図のようにストッパ37に接触してここでさら
に精密に位置決めされる。
As described above, it is detected that the wafer 3 is at the position of the alignment means 15, and the rotating rods 31, 32, 33 are rotated, and the alignment of the orientation flat of the wafer 3 is completed, that is, the orientation flat 12 is in contact with the rotating rod 31, 33. Detecting this, the rotation of the rotating rods 31, 32, 33 is stopped, and at the same time the cylinder 35 is stopped.
lower it by At this time, the wafer 3 moves forward on the belt 18, and its front orientation flat 12 contacts the stopper 37 as shown by the chain line in FIG. 1 and FIG. 5, and is positioned more precisely here.

このストッパ37は前記した微調整機能によりきわめて
精度の高い角度合せができる。
This stopper 37 has the above-mentioned fine adjustment function and can perform angle adjustment with extremely high precision.

ウェハ3がここまできたことを光電検出器などで検出す
るとエアシリンダ1Sが働いてフレーム23とともにベ
ルト18を下げ、ウェハ3を移動ステージ40上に移す
、ステージ40でウェハ確認後にエアシリンダ38を作
用させてストッパ37を第5図鎖線のように下降させる
When a photoelectric detector or the like detects that the wafer 3 has reached this point, the air cylinder 1S operates to lower the belt 18 together with the frame 23 and move the wafer 3 onto the moving stage 40. After confirming the wafer on the stage 40, the air cylinder 38 is activated. Then, the stopper 37 is lowered as shown by the chain line in FIG.

移動ステージ40は第1図に示すように左右のベルト1
8間にあって上面に多数の真空吸引孔を有する中空の真
空吸引式で、送りネジ41の正逆転により進退するアー
ム42の先端に取付けたものである。
The moving stage 40 has left and right belts 1 as shown in FIG.
It is a hollow vacuum suction type having a large number of vacuum suction holes on the upper surface, and is attached to the tip of an arm 42 that moves forward and backward by forward and reverse rotation of a feed screw 41.

また、送りネジ41は基台22上の軸受により支持され
、正逆転モータ43により駆動される。
Further, the feed screw 41 is supported by a bearing on the base 22 and is driven by a forward/reverse motor 43 .

従って前記のようにベルト18が下りウェハ3が移動ス
テージ40上に移されて真空吸引されストッパ37が下
った条件でモータ43によりネジ41が正転し、アーム
42を第1図に向かって左方に移動させてウェハ3をつ
ぎの貼り合わせローラ45.46間へ移動させる。
Therefore, under the condition that the belt 18 is lowered and the wafer 3 is moved onto the moving stage 40, vacuum suction is performed, and the stopper 37 is lowered as described above, the screw 41 is rotated forward by the motor 43, and the arm 42 is rotated to the left as seen in FIG. The wafer 3 is then moved between the bonding rollers 45 and 46.

上記貼り合わせローラ45.46はゴムのような柔軟な
弾性体からなり、上部のローラ45は図示省略しである
バランスウェイト機構により適宜の圧下刃が加えられ、
下部のローラ46はモータを含む駆動制御ユニット47
で駆動または制動する。すなわち、ローラ46の駆動軸
には図示省略しである電磁クラッチとトルクダンパを設
けてクラッチをつなぐとローラ46にブレーキがかかる
ようにしてあり、また、クラッチとモータを設置するこ
とにより間歇駆動も可能となる。
The bonding rollers 45 and 46 are made of a flexible elastic body such as rubber, and the upper roller 45 is provided with an appropriate reduction blade by a balance weight mechanism (not shown).
The lower roller 46 is connected to a drive control unit 47 including a motor.
drive or brake. That is, an electromagnetic clutch and a torque damper (not shown) are provided on the drive shaft of the roller 46, so that when the clutch is connected, a brake is applied to the roller 46, and intermittent drive is also possible by installing a clutch and a motor. becomes.

また、第2図のように、機台22上の機箱48には、粘
着テープ51の繰り出しリール50と、同巻取り−ル5
2を設け、リール50から繰り出されたテープ51はガ
イドローラ53を経て粘着面を下にした状態で上下のロ
ーラ45.46間を通り、後記するテープ剥離手段54
の下部のピーリングローラ55と上下一対のピーリング
ローラ66間を通り機箱48に設けたガイドローラ57
、テンシランローラ58を経て巻取リール52に巻取ら
れる。
In addition, as shown in FIG.
2 is provided, and the tape 51 fed out from the reel 50 passes through the guide roller 53 and between the upper and lower rollers 45 and 46 with the adhesive side facing down, and then passes through the tape peeling means 54 to be described later.
A guide roller 57 provided in the machine box 48 passes between the lower peeling roller 55 and the pair of upper and lower peeling rollers 66.
, and is wound onto a take-up reel 52 via a tension roller 58.

また、セパレータ60はセパレータ巻上ローラ61、ピ
ンチローラ62を経て巻取リール63に巻取らせる。
Further, the separator 60 is wound onto a take-up reel 63 via a separator winding roller 61 and a pinch roller 62.

上記のように移動ステージ40で貼り合わせローラ45
.46間にウェハ3が挿入されると同時に、同ステージ
40の真空吸引は解除されモータ43は逆転してステー
ジ40を元に戻し、フレーム23やレバー25.36も
元の位置まで上がってつぎのウェハ受人状態となる。
As described above, the bonding roller 45 is mounted on the moving stage 40.
.. At the same time as the wafer 3 is inserted between the spaces 46 and 46, the vacuum suction of the stage 40 is released, the motor 43 is reversed and the stage 40 is returned to its original position, and the frame 23 and levers 25 and 36 are also raised to their original positions to move on to the next stage. It enters the wafer receiving state.

一方、上記のように貼り合わせローラ45.46間に送
り込まれたウェハ3はその上面に粘着テープ51が貼着
されてテープカット手段65へ移動し、出没自在のアー
ム68の先端に設けた複数の光電検出器69により位置
決めされて停止する。
On the other hand, the wafer 3 fed between the bonding rollers 45 and 46 as described above is moved to the tape cutting means 65 with the adhesive tape 51 affixed to its upper surface, and the wafer 3 is moved to the tape cutting means 65, which is cut by a plurality of It is positioned by the photoelectric detector 69 and stopped.

テープカット手段65は機箱48の側壁内面に固定した
垂直のエアシリンダで昇降される第2図の昇降枠67に
設けられる。
The tape cutting means 65 is provided on a lifting frame 67 shown in FIG. 2 that is raised and lowered by a vertical air cylinder fixed to the inner surface of the side wall of the machine box 48.

昇降枠67の下部にはエアシリンダによりウェハ3の搬
送方向と直交する方向に進退する可動台71を設け、こ
の可動台71には下方に向けて垂直の筒体72を固定す
る。
A movable table 71 that moves forward and backward in a direction perpendicular to the conveying direction of the wafer 3 is provided at the lower part of the elevating frame 67 using an air cylinder, and a vertical cylinder 72 is fixed to the movable table 71 facing downward.

75は前記筒体72の下端に設けた回転支持板で、この
支持板75の下部にガイドに沿って水平方向に移動可能
の調節板76を設ける。この調節板76を水平方向に移
動させて任意の個所で固定することによりカット寸法に
合わせるものである。
Reference numeral 75 denotes a rotary support plate provided at the lower end of the cylindrical body 72, and an adjustment plate 76 movable in the horizontal direction along a guide is provided at the bottom of this support plate 75. The adjustment plate 76 is moved horizontally and fixed at an arbitrary position to match the cut size.

上記調節板76の下部に送りネジにより移動する摺動体
77を設け、この摺動体77の側部に枠78を設け、こ
の枠78の下端に刃物79を設けて、真空吸引式のステ
ージ80上のウェハ3に貼着された粘着テープ51をウ
ェハ3の周囲に沿ってカットするものである。上記ステ
ージ80は上面に多数の吸引孔または吸引溝を設けて、
その上に移動してきたウェハ3を真空吸引により固定す
るものであり、第2図のエアシリンダ81により昇降す
ることもできるが固定でもよい。
A sliding body 77 that is moved by a feed screw is provided at the bottom of the adjustment plate 76, a frame 78 is provided on the side of this sliding body 77, a cutter 79 is provided at the lower end of this frame 78, and a vacuum suction type stage 80 is mounted. The adhesive tape 51 attached to the wafer 3 is cut along the periphery of the wafer 3. The stage 80 has a large number of suction holes or suction grooves on its upper surface,
The wafer 3 that has been moved thereon is fixed by vacuum suction, and although it can be raised and lowered by an air cylinder 81 shown in FIG. 2, it may also be fixed.

また、ステージ80の上面にはウェハ3の進行方向と平
行の2条の溝85を設け、ウニへの搬送用の無端搬送ベ
ルト82がこの溝85内に入るようにし、第2図のよう
に、この搬送ベルト82を取付けた可動フレーム83を
エアシリンダ84により昇降させるようにしてベルト8
2の搬送面がステージ80の上面に出没するようにしで
ある。
In addition, two grooves 85 are provided on the upper surface of the stage 80 parallel to the direction of movement of the wafer 3, and an endless conveyor belt 82 for conveying the wafer to the sea urchin is inserted into the grooves 85, as shown in FIG. The movable frame 83 to which this conveyor belt 82 is attached is raised and lowered by an air cylinder 84, and the belt 8
The conveying surface of No. 2 is arranged to appear and retract from the upper surface of the stage 80.

ただし、エアの浮力による搬送方式を用いる場合には溝
85は不要となり、ベルト82も短いものでよい、この
場合、ステージ80には吸引孔とは別の搬送用のエア吹
出ノズルを設けるか、吸引孔とエア吹き出しノズルを兼
用にしてエア回路で切り替えるようにする。
However, if a conveyance method using the buoyancy of air is used, the groove 85 is not necessary and the belt 82 may be short. In this case, the stage 80 may be provided with an air blowing nozzle for conveyance other than the suction hole The suction hole and air blowing nozzle can be used together and switched by the air circuit.

また、ステージ80の周囲には第1図のようにガイド台
29.30を設け、ガイド台30の両側にはガイドバー
34を設ける。
Further, guide stands 29 and 30 are provided around the stage 80 as shown in FIG. 1, and guide bars 34 are provided on both sides of the guide stand 30.

前記テープ剥離手段54は第1図に示すように送りネジ
86の正逆転により進退する移動台87に前記ピーリン
グローラ55と上下のピーリングローラ56を設けたも
ので、上下のローラ56はギヤにより相反する方向に回
転するように連動される。
As shown in FIG. 1, the tape peeling means 54 is provided with the peeling roller 55 and upper and lower peeling rollers 56 on a movable table 87 that moves forward and backward by forward and reverse rotation of a feed screw 86. The upper and lower rollers 56 are rotated in opposite directions by gears. It is interlocked so that it rotates in the direction of rotation.

また、前記送りネジ86は正逆転モータ(図示省略)に
より駆動する。
Further, the feed screw 86 is driven by a forward/reverse motor (not shown).

第1図、゛第2図のように、剥離手段54が位置決め停
止位置で停止し、貼り合わせローラ45.46とピーリ
ングローラ55間に貼られたテープ51の下部にウェハ
3が貼着され、かつ、このウェハ3が、上昇中のステー
ジ80上に載っており、ベルト82は下降中でその搬送
面がステージ40の上面より下にある条件で、図示省略
のエアシリンダが働いて昇降枠67を下げ、枠78が旋
回して刃物79によりウェハ3上のテープをカットする
As shown in FIGS. 1 and 2, the peeling means 54 stops at the positioning stop position, and the wafer 3 is stuck to the lower part of the tape 51 stuck between the bonding roller 45, 46 and the peeling roller 55, In addition, under the condition that this wafer 3 is placed on the rising stage 80 and the belt 82 is falling and its conveying surface is below the upper surface of the stage 40, an air cylinder (not shown) works to move the lifting frame 67. is lowered, the frame 78 turns, and the cutter 79 cuts the tape on the wafer 3.

上記の作用により刃物79がテープ51を完全にカット
し、昇降枠67とともに刃物79を上昇させると同時に
刃物79が原点に戻り、ローラ46にブレーキをかけて
テープ51の移動を止めた条件で、送りネジ86が正転
し、剥離手段54を第1図、第2図に向かって右方へ移
動させる。
With the above action, the blade 79 completely cuts the tape 51, and at the same time as the blade 79 is raised together with the lifting frame 67, the blade 79 returns to its origin, and the roller 46 is braked to stop the movement of the tape 51. The feed screw 86 rotates normally and moves the peeling means 54 rightward toward FIGS. 1 and 2.

これにより、テープ51はウェハ3上に貼着されたテー
プを残して剥離される。
As a result, the tape 51 is peeled off leaving the tape stuck on the wafer 3.

ついで、シリンダ81.84が働きステージ80が下り
、フレーム83が上昇してウェハ3がステージ80から
ベルト82上へ移される。同時にベルト82が駆動され
てウェハ3をつぎのアンロード部88とプール部89の
間へ搬送する。
Then, the cylinders 81 and 84 are actuated to lower the stage 80 and raise the frame 83 to transfer the wafer 3 from the stage 80 onto the belt 82. At the same time, the belt 82 is driven to transport the wafer 3 between the next unload section 88 and pool section 89.

アンロード部88は前記ロード部1の逆の作用を有して
いるもので、第1図のようにロード部1からのカセット
2を載せる左右一対の台90とその昇降装置からなり、
後方にはガイド台91を有する。
The unloading section 88 has a function opposite to that of the loading section 1, and as shown in FIG. 1, it consists of a pair of left and right platforms 90 on which the cassettes 2 from the loading section 1 are placed, and an elevating device therefor.
A guide stand 91 is provided at the rear.

ガイド台91は複数に分割され、その間に前記無端搬送
ベルト82に続く左右一対の無端搬送ベルト92を設け
、さらに、このベルトS2と前記各台90間にはベル)
92と直交する左右一対の無端搬送ベルト93.94.
95を順次配置してその上のウェハ3を台90上のカセ
ット2へ送り込むようにする。
The guide stand 91 is divided into a plurality of parts, and a pair of left and right endless conveyor belts 92 following the endless conveyor belt 82 are provided between them, and a belt (belt) is provided between the belt S2 and each stand 90.
A pair of left and right endless conveyor belts 93, 94, perpendicular to 92.
95 are arranged one after another, and the wafers 3 thereon are fed into the cassette 2 on the table 90.

上記ベルト92はその搬送側を第2図に示すように複数
のプーリにより屈曲させて、ベルト93と干渉しないよ
うにし、モータ86により伝動ベルト97を介して第2
図の矢印方向に駆動する。
The conveyance side of the belt 92 is bent by a plurality of pulleys as shown in FIG.
Drive in the direction of the arrow in the figure.

また、前記無端搬送ベルト82は無端の伝動ベル)98
.99によりベルト92に連動さ炊る。
In addition, the endless conveyor belt 82 is an endless transmission belt) 98
.. 99 is linked to the belt 92.

上記プール部89応も第1図のように左右一対の台10
1を設ける。そして前記各ベルト93の後方に左右一対
の無端搬送ベルト102.103を順次配置してベルト
93上のウェハ3を台101上のカセット105へ送り
込むようにする。
The pool section 89 also has a pair of left and right stands 10 as shown in Figure 1.
1 will be provided. A pair of left and right endless conveyor belts 102 and 103 are sequentially arranged behind each of the belts 93 so that the wafers 3 on the belts 93 are conveyed to the cassette 105 on the table 101.

上記の、各ベルト93.94.95.102.103の
駆動装置は正逆転自在とする。
The drive device for each of the belts 93, 94, 95, 102, and 103 described above is capable of forward and reverse rotation.

上記カセット105はウェハ3を一時収容する目的のも
のであるからこのカセット105は移動する必要がない
ので、台101と一体のカセット状収容部としてもよい
Since the cassette 105 is intended to temporarily accommodate the wafers 3, there is no need to move the cassette 105, so it may be a cassette-like accommodating portion integrated with the table 101.

上記のようにアンロード部88とプール部89間に送り
こまれてきたウェハ3が、第1図、第2図に向って右ま
たは左の所定のベルト93上にきた条件で、ベルト92
が停止し、ベルト93、S4.102.103.104
が後方へ回転を始めて、ウェハ3を所定の台101上の
カセット105へ送り込む。
The wafer 3 sent between the unloading section 88 and the pool section 89 as described above is placed on the predetermined belt 93 on the right or left side as shown in FIGS.
stops, belt 93, S4.102.103.104
starts rotating backward and feeds the wafer 3 into a cassette 105 on a predetermined table 101.

番台101はカセット105内にウェハ3が1枚送り込
まれる毎に上昇していく公知のもので、例えば第1図の
左側の台101上のカセッ)105が−ばいになると、
右側の台101上のカセット105ヘウエハ3を送り込
み、その間に左側の台101に属するベルト103.1
02.93.94.95が逆に走行を始め、左側の台1
01内のウェハ3を下側のものから一枚づつ取出し、最
下降位置の左側の手前の台90上のカセット2内に上部
から一枚づつ送り込む。
The platform 101 is a known device that increases each time one wafer 3 is fed into the cassette 105. For example, if the cassette 105 on the platform 101 on the left side of FIG.
The wafer 3 is fed into the cassette 105 on the right stand 101, while the belt 103.1 belonging to the left stand 101 is fed.
02.93.94.95 started running in the opposite direction, leaving platform 1 on the left.
The wafers 3 in 01 are taken out one by one starting from the bottom, and fed one by one from the top into the cassette 2 on the stand 90 on the left side of the lowest position.

右側の台101上のカセット105が−ばいになった場
合は、左側の台101上のカセット105に収納する動
作と干渉する場合がある。
If the cassette 105 on the right stand 101 becomes unstable, it may interfere with the operation of storing the cassette 105 on the left stand 101.

このときは、ロフト終了時に一時的にワークの処理を停
止して移し替えを行う。
In this case, processing of the work is temporarily stopped and the work is transferred at the end of the loft.

従って右側の台101はウェハ3をカセット105の下
部から一枚取り出す毎に一ピッチ下降し、右側の台90
はカセット2内の上部に一枚送り込まれる毎に一ピッチ
上昇する。
Therefore, each time a wafer 3 is taken out from the bottom of the cassette 105, the right stage 101 moves down one pitch, and the right stage 90
increases by one pitch each time a sheet is fed into the upper part of the cassette 2.

左llの台101上のカセット105へのウェハ3の送
り込みや、左側のカセット105内のウェハ3を左側の
カセット2内へ送り込む作用も上記と同様とする。
The operation of feeding the wafer 3 into the cassette 105 on the left stage 101 and feeding the wafer 3 in the left cassette 105 into the left cassette 2 is also the same as described above.

上記のようにウェハ3が右または左の台105上のカセ
ット105へ正しく送り込まれるようにするために、左
右のベルト92間にはエアシリンダ106で昇降するス
トッパ107を設け、さらに左端のガイド台91上にス
トッパ108を設けるとともに、左右のガイド台91上
にはガイドバー109を設け、左側のカセット105に
ウェハ3を送り込む場合はストッパ107を下げること
によりウェハ3がストッパ10?上を素通りしてストッ
パ108で止められ、右側のカセット105に送り込む
ときはストッパ107を上げてウェハ3がストッパ10
7で止められるようにする。
In order to ensure that the wafer 3 is correctly fed into the cassette 105 on the right or left stand 105 as described above, a stopper 107 is provided between the left and right belts 92 that is moved up and down by an air cylinder 106, and a stopper 107 is provided between the left and right belts 92, and a stopper 107 is provided between the left and right belts 92, and a A stopper 108 is provided on the left and right guide stands 91, and a guide bar 109 is provided on the left and right guide stands 91. When sending the wafer 3 to the left cassette 105, the wafer 3 is moved to the stopper 10 by lowering the stopper 107. When feeding the wafer 3 into the cassette 105 on the right side, the stopper 107 is raised and the wafer 3 is stopped by the stopper 108.
Make it possible to stop at 7.

上記アンロード部88やプール部89も前記ロード部1
と同様に、1カセツトのみの場合はベルト92上に対向
する部分の任意の位置の1個所に台90,101を設け
ることができる。
The unloading section 88 and the pool section 89 are also connected to the loading section 1.
Similarly, in the case of only one cassette, the stands 90, 101 can be provided at one arbitrary position on the opposing portions of the belt 92.

上記の装置によるウェハの移し替えの方法を第7図の■
、■、■にもとづいてさらに詳しく説明する。
The method of transferring wafers using the above device is shown in Figure 7.
A more detailed explanation will be given based on , ■, and ■.

すなわち、第7図の■のように、最上昇位置にあるロー
ド部の台14上のカセット2内にウェハが下から3a、
3b、3C・・・・・・の順序で収容されている場合、
−枚のウェハを送り出す毎に−ピッチ下降するカセット
2の下部から3a、3b、3C・・・・・・の順序でウ
ェハが順次取出されて処理されたのち、第7図■のよう
に最下降位置から−ピッチ毎に上昇する台101上のカ
セット105内に3a、3b、3C・・・・・・の順序
で上から順次収容されていく。
That is, as shown by ■ in FIG. 7, the wafers are placed in the cassette 2 on the table 14 of the load section at the highest position from the bottom 3a,
If they are stored in the order of 3b, 3C...
- Every time a wafer is sent out - The wafers are sequentially taken out from the bottom of the cassette 2 in the order of 3a, 3b, 3C, etc., which moves down in pitch, and are processed. 3a, 3b, 3C, . . . are stored in the order of cassettes 3a, 3b, 3C, .

この間にロード部で空になったカセット2をアンロード
部の最下降位置の台90上に載せておき、前記カセット
105内の処理ずみのウェハを、最上昇位置から下降し
ていくカセット105の下から一枚づつ取出して、−ピ
ッチづつ上昇していく台90上のカセット2内に上から
順に収容せしめていくと、第7図■のように最初ロード
部にあったカセット2内のウェハと同じ順序でアンロー
ド部のカセット2内に処理ずみのウェハが収容される。
During this time, the empty cassette 2 in the loading section is placed on the platform 90 at the lowest position of the unloading section, and the processed wafers in the cassette 105 are transferred to the cassette 105 that is descending from the highest position. When the wafers are taken out one by one from the bottom and placed in the cassette 2 on the table 90 that rises by - pitch from the top, the wafers in the cassette 2 that were initially in the loading section are removed as shown in Fig. 7 (■). The processed wafers are stored in the cassette 2 of the unloading section in the same order.

〔発明の効果〕〔Effect of the invention〕

この発明は上記のようにロード部のカセットの下部から
一枚づつ取出したウェハに粘着テープの貼着およびカッ
トなどの処理を施したのち、処理ずみのウェハを一たん
プール部のカセット内に上部から一枚づつ順次送り込み
、プール部のカセットが−ばいになると、プール部の下
部から一枚づつ取出した処理ずみのウェハをアンロード
部のカセット内に上部から順次送り込むことにより別の
移し替え装置を用いずに、最初のカセット内に収容しで
ある処理前のウェハと同じ順序で同じカセット内に処理
ずみのウェハを収容できるものである。
In this invention, as described above, the wafers are taken out one by one from the lower part of the cassette in the loading section, processed by applying adhesive tape and cut, and then the processed wafers are placed in the upper part of the cassette in the pool section. When the cassette in the pool section becomes empty, the processed wafers taken out one by one from the lower part of the pool section are sequentially fed into the cassette in the unloading section from the top to another transfer device. Processed wafers can be stored in the same cassette in the same order as unprocessed wafers stored in the first cassette without using a cassette.

従って、従来方法のように別の移し替え装置やアンロー
ド部専用のカセットが不要になるなどの効果がある。
Therefore, there are advantages such as no need for a separate transfer device or a cassette dedicated to the unloading section as in the conventional method.

【図面の簡単な説明】[Brief explanation of drawings]

第1図はこの発明方法を実施する装置の一実施例を示す
平面図、第2図は同上の正面図、第3図はロード部にお
けるカセット付近の拡大縦断側面図、第4図、第5図は
アライメント手段の各状態を示す一部縦断拡大正面図、
第6図は同上要部の平面図、第7図■、■、■はウェハ
移し替えの順序を示す縦断側面図である。 1・・・・・・ロード部、    2.105・・・・
・・カセット、3・・・・・・ウェハ、 15・・・・・・ウェハアライメント手段、51・・・
・・・粘着テープ、 54・・・・・・テープ剥離手段
、65・・・・・・テープカット手段、 88・・・・・・アンロード部、89・・・・・・プー
ル部。
FIG. 1 is a plan view showing an embodiment of the apparatus for carrying out the method of the present invention, FIG. 2 is a front view of the same, FIG. 3 is an enlarged longitudinal sectional side view of the vicinity of the cassette in the loading section, FIGS. The figure is a partially longitudinal enlarged front view showing each state of the alignment means.
FIG. 6 is a plan view of the essential parts of the same, and FIGS. 7 (2), (2), and (3) are longitudinal sectional side views showing the order of wafer transfer. 1... Load section, 2.105...
...Cassette, 3...Wafer, 15...Wafer alignment means, 51...
... Adhesive tape, 54 ... Tape peeling means, 65 ... Tape cutting means, 88 ... Unloading section, 89 ... Pool section.

Claims (1)

【特許請求の範囲】[Claims] (1)カセットに収容した複数のウェハを下部から一枚
づつ取出して処理部に送り出すロード部と、上記処理部
において処理ずみのウェハをカセットに上部から一枚づ
つ収容するアンロード部とを設けたウェハの処理装置に
おいて、アンロード部の後方にプール部を設けて、ロー
ド部のカセットの下部から一枚づつ取出して、処理部に
おいて処理したのちのウェハを一たんプール部のカセッ
トに上部から一枚づつ収容せしめたのち、このプール部
のカセットを下部から一枚づつ取出してアンロード部の
カセットに上部から一枚づつ収容せしめることを特徴と
するウェハの移し替え方法。
(1) A loading section that takes out a plurality of wafers housed in a cassette one by one from the bottom and sends them to the processing section, and an unloading section that stores the wafers processed in the processing section one by one into the cassette from the top. In a processing device for wafers, a pool section is provided behind the unload section, the wafers are taken out one by one from the bottom of the cassette in the loading section, and the wafers processed in the processing section are placed into the cassette in the pool section from the top. A method for transferring wafers, which comprises storing the wafers one by one, then taking out the wafers one by one from the lower part of the cassette in the pool part, and storing the wafers one by one in the cassette of the unloading part from the upper part.
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH07329601A (en) * 1994-06-14 1995-12-19 Nippondenso Co Ltd Constant-speed travel control device for vehicle
JPH0817889A (en) * 1994-06-24 1996-01-19 Lg Semicon Co Ltd Chip automatic loading device
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