JPH0374558A - ガス噴射装置 - Google Patents
ガス噴射装置Info
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- JPH0374558A JPH0374558A JP20795989A JP20795989A JPH0374558A JP H0374558 A JPH0374558 A JP H0374558A JP 20795989 A JP20795989 A JP 20795989A JP 20795989 A JP20795989 A JP 20795989A JP H0374558 A JPH0374558 A JP H0374558A
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- gas
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- chamber
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Landscapes
- Output Control And Ontrol Of Special Type Engine (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は、吸入空気流量に応じて供給すべきガス流量を
精度良く計量するようにした、内燃機関における圧力バ
ランス型のガス噴射装置に関する。
精度良く計量するようにした、内燃機関における圧力バ
ランス型のガス噴射装置に関する。
〔従来の技術及び発明が解決しようとする課題〕ＣＮＧ
（圧縮天然ガス）やＬＮＧ （液化天然ガス）等を燃
料として用いた内燃機関のガス噴射装置においては、従
来は吸入空気流量により発生する圧力とガスの圧力とを
夫々別個に制御してガス流量を調整し、混合気の空燃比
を制御するようにしていた。
（圧縮天然ガス）やＬＮＧ （液化天然ガス）等を燃
料として用いた内燃機関のガス噴射装置においては、従
来は吸入空気流量により発生する圧力とガスの圧力とを
夫々別個に制御してガス流量を調整し、混合気の空燃比
を制御するようにしていた。
ところが吸気管内へ漏れ出すブローバイガスに含まれて
いるガム質やカーボン等が、燃料であるガスの吐出口に
付着するため、時間の経過により吐出口の面積が小さく
なってガス噴射量が減少し、供給される混合気の混合比
が変動してしまうという問題があった。
いるガム質やカーボン等が、燃料であるガスの吐出口に
付着するため、時間の経過により吐出口の面積が小さく
なってガス噴射量が減少し、供給される混合気の混合比
が変動してしまうという問題があった。
本発明はこのような課題に鑑み、本出願人の提案による
実開平１−７４３６２号公報に記載された圧力バランス
型の燃料噴射装置の原理を採用して、精度が良好で劣化
の少ないガス噴射装置を提供することを目的とする。
実開平１−７４３６２号公報に記載された圧力バランス
型の燃料噴射装置の原理を採用して、精度が良好で劣化
の少ないガス噴射装置を提供することを目的とする。
本発明によるガス噴射装置は、吸入空気流量に応じた負
圧が印加される第一ダイアフラムと、ガス供給源とベン
チュリに設けられた吐出口とを連通すると共に途中にガ
ス計量ベンチュリが設けられているガス通路と、ガス計
量ベンチュリを流れるガス流量に応じた負圧が印加され
る第二ダイアフラムと、第一及び第二ダイアフラムを連
結すると共に吐出口を開閉し得るバルブが設けられてい
る連結部材とを備えている。
圧が印加される第一ダイアフラムと、ガス供給源とベン
チュリに設けられた吐出口とを連通すると共に途中にガ
ス計量ベンチュリが設けられているガス通路と、ガス計
量ベンチュリを流れるガス流量に応じた負圧が印加され
る第二ダイアフラムと、第一及び第二ダイアフラムを連
結すると共に吐出口を開閉し得るバルブが設けられてい
る連結部材とを備えている。
又、ガス計量ベンチュリの上流側のガス通路にぞの下流
側の圧力を調整するレギュレータが設けられていてもよ
い。
側の圧力を調整するレギュレータが設けられていてもよ
い。
ベンチュリを流れる吸入空気流量に応じた負圧が印加さ
れると、その荷重により第一ダイアフラムが変位して連
結部材と第二ダイアフラムを移動せしめ、ガス計量ベン
チュリを通過するガス流量が、バルブが退いた吐出口か
ら噴射され、同時にこのガス流量に応じた負圧が第二ダ
イアフラムに印加され、第一ダイアフラムと反対方向の
荷重が生じて両ダイアフラムの荷重がバランスし、吸入
空気流量に応じたガス流量が吐出され、混合気の空燃比
が一定に制御される。
れると、その荷重により第一ダイアフラムが変位して連
結部材と第二ダイアフラムを移動せしめ、ガス計量ベン
チュリを通過するガス流量が、バルブが退いた吐出口か
ら噴射され、同時にこのガス流量に応じた負圧が第二ダ
イアフラムに印加され、第一ダイアフラムと反対方向の
荷重が生じて両ダイアフラムの荷重がバランスし、吸入
空気流量に応じたガス流量が吐出され、混合気の空燃比
が一定に制御される。
又、レギュレータによってガス計量ベンチュリの上流側
のガス通路の圧力が一定になるから、ガス計量ベンチュ
リにおけるガスの計量のバラツキが防止される。
のガス通路の圧力が一定になるから、ガス計量ベンチュ
リにおけるガスの計量のバラツキが防止される。
以下、本発明の好適な一実施例を添付図面に基づいて説
明する。
明する。
図中、１は吸気管、２は吸気管ｌに設けられたベンチュ
リ、３はベンチュリ２の下流側に配設されたスロットル
バルブ、４はベンチュリ２に設けられたガス噴射手段で
ある。ガス噴射手段４において、６はベンチュリ２の上
流側に連通していて例えばエアホーンの大気圧Ｐｏが印
加される大気圧室、７は開口７ａを介してベンチュリ２
に連通していて吸入空気流量に応じた負圧Ｐｏが印加さ
れる負圧室、８は両室６，７を仕切る第一ダイアフラム
、９は一端が負圧室７に連通し且つ他端が調整口９ａを
介して分岐されてスロットルバルブ３の上流側及び下流
側で吸気管ｌに連通ずる連通路、１０は調整口９ａに対
して進退して負圧室７の負圧Ｐｏの大きさを調整し得る
アイドルアジャストスクリューである。
リ、３はベンチュリ２の下流側に配設されたスロットル
バルブ、４はベンチュリ２に設けられたガス噴射手段で
ある。ガス噴射手段４において、６はベンチュリ２の上
流側に連通していて例えばエアホーンの大気圧Ｐｏが印
加される大気圧室、７は開口７ａを介してベンチュリ２
に連通していて吸入空気流量に応じた負圧Ｐｏが印加さ
れる負圧室、８は両室６，７を仕切る第一ダイアフラム
、９は一端が負圧室７に連通し且つ他端が調整口９ａを
介して分岐されてスロットルバルブ３の上流側及び下流
側で吸気管ｌに連通ずる連通路、１０は調整口９ａに対
して進退して負圧室７の負圧Ｐｏの大きさを調整し得る
アイドルアジャストスクリューである。
又、１２はガスボンベ即ちガス供給源、１３はガスボン
ベ１２から供給されるガスをベンチュリ２に設けられた
吐出口１３ａから吐出させるガス通路、１４はガス通路
１３の途中に設けられたガス計量ベンチュリ、１５はガ
ス計量ベンチュリ１４の上流側のガス通路１３に接続さ
れていてその下流側のガス圧を所定の大きさＰ、に制御
するレギュレータであって、ガス通路１３のガスが流入
及び流出する室１６と、大気圧Ｐｏが印加される室１７
とがダイアフラム１９によって仕切られ、このダイアフ
ラム１９には室１６のガス流入口１６ａの開口量を制御
し得るバルブ１８が連結されていると共に、スプリング
２０の弾力によってバルブ１８の開弁方向に弾圧されて
いる。２２はレギュレータ１５とガス計量ベンチュリ１
４との間でガス通路１３に連通していて圧力Ｐ２に制御
される上室、２３はガス計量ベンチュリ１４に連通して
いてこのベンチュリ１４部分のガス流量に応じて発生す
る負圧Ｐ３（＜Ｐ２）が印加される下室、２４は上室２
２と下室２３を仕切る第二ダイアフラム、２５は開口７
ａ及び吐出口１３ａを貫通すると共に両端で第一及び第
二ダイアフラム８゜２４を連結せしめるロッド即ち連結
部材、２６はロッド２５に形成されていてロッド２５に
連動して吐出口１３ａを開閉し得るバルブ、２７は下室
２３と吐出口１３ａに面したガス通路１３とを仕切る隔
壁、２８は隔壁２７に穿設されていてロッド２５が摺動
可能に貫挿されている摺動孔であり、ガス計量ベンチュ
リ１４で計量される対象が液体でなく気体であるため、
上述の先行技術（実開平１−７４３６２号公報）と異な
って、下室２３と吐出口１３ａとは仕切られていないと
ガス流量の正確な計量ができない。従って、摺動孔２８
とロッド２５とのクリアランスは、ロッド２５の摺動を
妨げない範囲で極力小さくして気密状態を保つことが必
要であり、これが計量精度の向上につながる。
ベ１２から供給されるガスをベンチュリ２に設けられた
吐出口１３ａから吐出させるガス通路、１４はガス通路
１３の途中に設けられたガス計量ベンチュリ、１５はガ
ス計量ベンチュリ１４の上流側のガス通路１３に接続さ
れていてその下流側のガス圧を所定の大きさＰ、に制御
するレギュレータであって、ガス通路１３のガスが流入
及び流出する室１６と、大気圧Ｐｏが印加される室１７
とがダイアフラム１９によって仕切られ、このダイアフ
ラム１９には室１６のガス流入口１６ａの開口量を制御
し得るバルブ１８が連結されていると共に、スプリング
２０の弾力によってバルブ１８の開弁方向に弾圧されて
いる。２２はレギュレータ１５とガス計量ベンチュリ１
４との間でガス通路１３に連通していて圧力Ｐ２に制御
される上室、２３はガス計量ベンチュリ１４に連通して
いてこのベンチュリ１４部分のガス流量に応じて発生す
る負圧Ｐ３（＜Ｐ２）が印加される下室、２４は上室２
２と下室２３を仕切る第二ダイアフラム、２５は開口７
ａ及び吐出口１３ａを貫通すると共に両端で第一及び第
二ダイアフラム８゜２４を連結せしめるロッド即ち連結
部材、２６はロッド２５に形成されていてロッド２５に
連動して吐出口１３ａを開閉し得るバルブ、２７は下室
２３と吐出口１３ａに面したガス通路１３とを仕切る隔
壁、２８は隔壁２７に穿設されていてロッド２５が摺動
可能に貫挿されている摺動孔であり、ガス計量ベンチュ
リ１４で計量される対象が液体でなく気体であるため、
上述の先行技術（実開平１−７４３６２号公報）と異な
って、下室２３と吐出口１３ａとは仕切られていないと
ガス流量の正確な計量ができない。従って、摺動孔２８
とロッド２５とのクリアランスは、ロッド２５の摺動を
妨げない範囲で極力小さくして気密状態を保つことが必
要であり、これが計量精度の向上につながる。
３０は上室２２において第二ダイアフラム２４をバルブ
２６の閉弁方向に弾圧するスプリング、３１はスプリン
グ３０の弾力を調整する初期荷重セットスクリューであ
る。アイドルアジャストスクリュー１０と初期荷重セッ
トスクリュー３１とによって夫々第一及び第二ダイアフ
ラム８，２４にかかる荷重を調整してバルブ２６の位置
即ち開口面積を制御し、吸入空気流量に対するガス流量
の混合比の初期誤差を調整できるようになっている。
２６の閉弁方向に弾圧するスプリング、３１はスプリン
グ３０の弾力を調整する初期荷重セットスクリューであ
る。アイドルアジャストスクリュー１０と初期荷重セッ
トスクリュー３１とによって夫々第一及び第二ダイアフ
ラム８，２４にかかる荷重を調整してバルブ２６の位置
即ち開口面積を制御し、吸入空気流量に対するガス流量
の混合比の初期誤差を調整できるようになっている。
本実施例は上述のように構成されており、次に作用を説
明する。
明する。
吸入空気がベンチュリ２を通過すると、ベンチュリ２に
空気流量に応じた負圧Ｐｌが発生し、これが負圧室７に
印加される。すると大気圧室６の圧力Ｐ。とＰｌとの差
圧（Ｐａ Ｐｌ）が第一ダイアフラム８に印加されて
下向きの荷重が生じるため、第一ダイアフラム８の下方
への変位によってロッド２５はバルブ２６を開弁せしめ
る方向へ移動し、第二ダイアフラム２４も下方へ変位し
て下室２３の容積が増大する。バルブ２６が開くことに
よって吐出口１３ａからガスがベンチュリ２へ噴射され
、このガスがガス計量ベンチュリ１４を通過するために
、ガス計量ベンチュリ１４にこのガス流量に応じた負圧
Ｐｌが発生し、下室２３へ印加される。そして第二ダイ
アフラム２４に上室２２の圧力Ｐ２とＰ、との差圧（Ｐ
２ ＰＩ）が印加され、しかもこの差圧（Ｐ、−Ｐ、
）は第一ダイアフラム８にかかる差圧（Ｐｏ−Ｐ、）
による荷重と逆方向（上向き）の荷重であり、両ダイア
フラム８，２４の圧力がバランスする位置で吐出口１３
ａとバルブ２６との開口面積が決定され、吐出口１３ａ
から噴射されるガス流量が決定される。このガス流量は
吸入空気流量に対応するものであるから、混合気の空燃
比を一定に制御することができる。
空気流量に応じた負圧Ｐｌが発生し、これが負圧室７に
印加される。すると大気圧室６の圧力Ｐ。とＰｌとの差
圧（Ｐａ Ｐｌ）が第一ダイアフラム８に印加されて
下向きの荷重が生じるため、第一ダイアフラム８の下方
への変位によってロッド２５はバルブ２６を開弁せしめ
る方向へ移動し、第二ダイアフラム２４も下方へ変位し
て下室２３の容積が増大する。バルブ２６が開くことに
よって吐出口１３ａからガスがベンチュリ２へ噴射され
、このガスがガス計量ベンチュリ１４を通過するために
、ガス計量ベンチュリ１４にこのガス流量に応じた負圧
Ｐｌが発生し、下室２３へ印加される。そして第二ダイ
アフラム２４に上室２２の圧力Ｐ２とＰ、との差圧（Ｐ
２ ＰＩ）が印加され、しかもこの差圧（Ｐ、−Ｐ、
）は第一ダイアフラム８にかかる差圧（Ｐｏ−Ｐ、）
による荷重と逆方向（上向き）の荷重であり、両ダイア
フラム８，２４の圧力がバランスする位置で吐出口１３
ａとバルブ２６との開口面積が決定され、吐出口１３ａ
から噴射されるガス流量が決定される。このガス流量は
吸入空気流量に対応するものであるから、混合気の空燃
比を一定に制御することができる。
これを式によって説明すると、
Ｑ、：吸入空気流量、Ｑ、：ガス流量、Ｎｌ ；第一ダ
イアフラム８の荷重、 Ｎ２ ：第二ダイアフラム２４の荷重、Ｋ、；ベンチュ
リ２の流量係数※ベンチュリ２の面積、 Ｋ「 ：ガス計量ベンチュリ１４の流量係数Ｘガス計量
ベンチュリ１４の面積、 Ａｏ ：第一及び第二ダイアフラム８，２４の夫々の有
効面積、Ａ／Ｆ ：空燃比、 とした場合、 Ａ／Ｆ＝Ｑ、／Ｑ＋であるから、 Ｑ、＝に、ｒ丁子＝７了 Ｑ＋＝に＋ ｔ Ｐａ−１又、 Ｎｌ ＝Ａｏ Ｘｉ （ｐｏ −ＰＩ ）。
イアフラム８の荷重、 Ｎ２ ：第二ダイアフラム２４の荷重、Ｋ、；ベンチュ
リ２の流量係数※ベンチュリ２の面積、 Ｋ「 ：ガス計量ベンチュリ１４の流量係数Ｘガス計量
ベンチュリ１４の面積、 Ａｏ ：第一及び第二ダイアフラム８，２４の夫々の有
効面積、Ａ／Ｆ ：空燃比、 とした場合、 Ａ／Ｆ＝Ｑ、／Ｑ＋であるから、 Ｑ、＝に、ｒ丁子＝７了 Ｑ＋＝に＋ ｔ Ｐａ−１又、 Ｎｌ ＝Ａｏ Ｘｉ （ｐｏ −ＰＩ ）。
Ｎ！ ＝Ａｏ Ｈ（Ｐ ２ Ｐ ｇ ）であり、今、
Ｎ １＝ Ｎ ａとなる位置で第一及び第二ダイアフラ
ム８，２４がバランスするので、 Ｐ、−Ｐ、 ＝Ｐ、−Ｐ、 １ 、・、Ｑ、＝に、ｖ’丁］−：ゴーとなり、結局、Ａ／
Ｆ＝Ｑ、／Ｑｌ ＝に、［丁子／に、７下下＝に、／
Ｋｌ ＝ 一定、 となる。
Ｎ １＝ Ｎ ａとなる位置で第一及び第二ダイアフラ
ム８，２４がバランスするので、 Ｐ、−Ｐ、 ＝Ｐ、−Ｐ、 １ 、・、Ｑ、＝に、ｖ’丁］−：ゴーとなり、結局、Ａ／
Ｆ＝Ｑ、／Ｑｌ ＝に、［丁子／に、７下下＝に、／
Ｋｌ ＝ 一定、 となる。
そして、吸入空気流量が増大すれば負圧Ｐ、も大きくな
り、第一ダイアフラム８にかかる圧力差（Ｐ、−Ｐ、）
が増大して、第一及び第二ダイアフラム８，２４の下方
への変位量及びバルブ２６の開口面積も増大する。する
と、吐出口１３ａ及びガス計量ベンチュリ１４のガス流
量が増大して負圧Ｐ、も大きくなり、第二ダイアフラム
２４にかかる上向きの圧力差（ＰＩ−Ｐ、 ）が増大す
るので、結局バランス状態を維持し、混合気の空燃比も
一定に維持される。
り、第一ダイアフラム８にかかる圧力差（Ｐ、−Ｐ、）
が増大して、第一及び第二ダイアフラム８，２４の下方
への変位量及びバルブ２６の開口面積も増大する。する
と、吐出口１３ａ及びガス計量ベンチュリ１４のガス流
量が増大して負圧Ｐ、も大きくなり、第二ダイアフラム
２４にかかる上向きの圧力差（ＰＩ−Ｐ、 ）が増大す
るので、結局バランス状態を維持し、混合気の空燃比も
一定に維持される。
尚、吐出口１３ａにガス質やカーボン等が付着する等し
て吐出口１３ａの開口面積が小さくなると、ガス流量が
減少して圧力差（Ｐ２−Ｐ、”）が（Ｐ、−Ｐ、）より
小さくなるために第二ダイアフラム２４が更に下方へ変
位せしめられ、バルブ２６が更に吐出口１３ａから退い
て開口面積が増大し、ガス流量も増大するように補正さ
れるから、結局両ダイアフラム８，２４はバランス状態
を維持し、空燃比も一定に制御される。
て吐出口１３ａの開口面積が小さくなると、ガス流量が
減少して圧力差（Ｐ２−Ｐ、”）が（Ｐ、−Ｐ、）より
小さくなるために第二ダイアフラム２４が更に下方へ変
位せしめられ、バルブ２６が更に吐出口１３ａから退い
て開口面積が増大し、ガス流量も増大するように補正さ
れるから、結局両ダイアフラム８，２４はバランス状態
を維持し、空燃比も一定に制御される。
又、ロッド２５は両ダイアフラム８，２４によって常に
互いに反対方向へ押圧されているから、両ダイアフラム
８，２４との接続位置が精密でなでもよい。
互いに反対方向へ押圧されているから、両ダイアフラム
８，２４との接続位置が精密でなでもよい。
上述のように本実施例によれば、精度の良い空燃比の混
合気を得ることが出来、しかもガスの吐出口１３ａにガ
ム質やカーボン等が付着して開口面積が小さくなったと
しても、自動的に補正することが出来、混合比の変動を
抑制することができる。
合気を得ることが出来、しかもガスの吐出口１３ａにガ
ム質やカーボン等が付着して開口面積が小さくなったと
しても、自動的に補正することが出来、混合比の変動を
抑制することができる。
又、ガス通路１３において、上室２２の上流側にレギュ
レータ１５を接続して上室２２及びガス計量ベンチュリ
１４上流側の圧力を一定の大きさＰ２に制御するように
したから、ガスボンベ１２から供給されるガスの密度が
一定でなくても、ガス計量ベンチュリ１４で計量される
ガス流量の計量のバラツキを防止することができる。
レータ１５を接続して上室２２及びガス計量ベンチュリ
１４上流側の圧力を一定の大きさＰ２に制御するように
したから、ガスボンベ１２から供給されるガスの密度が
一定でなくても、ガス計量ベンチュリ１４で計量される
ガス流量の計量のバラツキを防止することができる。
尚、大気圧室６の圧力は負圧Ｐｌより大きい一定圧力で
あれば、大気圧Ｐｏでなくてもよい。
あれば、大気圧Ｐｏでなくてもよい。
上述の如く本発明に係るガス噴射装置は、空気流量に応
じて発生する負圧が印加される第一ダイアフラムと、噴
射されるガス流量に応じて発生する負圧が印加される第
二ダイアフラムと、両ダイアフラムを低圧側で連結し且
つバルブが設けられた連結部材とを備えていて、バルブ
によってガスの吐出口の開口面積を制御し得るようにし
たから、劣化が少なく、精度の良い空燃比の混合気を供
給することが出来、ガスの吐出口にガム質やカーボン等
が付着して開口面積が小さくなったとしても、開口面積
を自動的に補正して、混合比の変動を抑制することがで
きる。
じて発生する負圧が印加される第一ダイアフラムと、噴
射されるガス流量に応じて発生する負圧が印加される第
二ダイアフラムと、両ダイアフラムを低圧側で連結し且
つバルブが設けられた連結部材とを備えていて、バルブ
によってガスの吐出口の開口面積を制御し得るようにし
たから、劣化が少なく、精度の良い空燃比の混合気を供
給することが出来、ガスの吐出口にガム質やカーボン等
が付着して開口面積が小さくなったとしても、開口面積
を自動的に補正して、混合比の変動を抑制することがで
きる。
又、ガス通路にレギュレータを接続したから、ガス流量
の計量のバラツキを防止することができる。
の計量のバラツキを防止することができる。
添付図面は本発明によるガス噴射装置の一実施例を示す
概略断面図である。 １・・・・吸気管、２・・・・ベンチュリ、４・・・・
ガス噴射手段、６・・・・大気圧室、７・・・・負圧室
、８・・・・第一ダイアフラム、１２・・・・ガスボン
ベ、１３・・・・ガス通路、１３ａ・・・・吐出口、１
４・・・・ガス計量ベンチュリ、１５・・・・レギュレ
ータ、２２・・・・上室、２３・・・・下室、２４・・
・・第二ダイアフラム、２５・・・・ロッド、２６・・
・・バルブ。
概略断面図である。 １・・・・吸気管、２・・・・ベンチュリ、４・・・・
ガス噴射手段、６・・・・大気圧室、７・・・・負圧室
、８・・・・第一ダイアフラム、１２・・・・ガスボン
ベ、１３・・・・ガス通路、１３ａ・・・・吐出口、１
４・・・・ガス計量ベンチュリ、１５・・・・レギュレ
ータ、２２・・・・上室、２３・・・・下室、２４・・
・・第二ダイアフラム、２５・・・・ロッド、２６・・
・・バルブ。
Claims (2)
- （１）吸入空気流量に応じた量のガスを噴射するように
した内燃機関のガス噴射装置において、大気圧室と吸気
管のベンチュリに開口する負圧室とを仕切る第一ダイア
フラムと、ガス供給源と前記ベンチュリに開口する吐出
口とを連通すると共にその間にガス計量ベンチュリが設
けられたガス通路と、該ガス計量ベンチュリの上流側で
ガス通路に連通する上室とガス計量ベンチュリに連通す
る下室とを仕切る第二ダイアフラムと、前記第一及び第
二ダイアフラムを連結すると共に吐出口を開閉し得るバ
ルブが設けられた連結部材とを備えたことを特徴とする
ガス噴射装置。 - （２）前記ガス計量ベンチュリの上流側のガス通路にそ
の下流側の圧力を調整するレギュレータが設けられてい
ることを特徴とする特許請求の範囲（１）に記載のガス
噴射装置。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20795989A JPH0374558A (ja) | 1989-08-14 | 1989-08-14 | ガス噴射装置 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP20795989A JPH0374558A (ja) | 1989-08-14 | 1989-08-14 | ガス噴射装置 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0374558A true JPH0374558A (ja) | 1991-03-29 |
Family
ID=16548363
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP20795989A Pending JPH0374558A (ja) | 1989-08-14 | 1989-08-14 | ガス噴射装置 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0374558A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040017643A (ko) * | 2002-08-23 | 2004-02-27 | 염병준 | 엘피지 차량의 연료혼합기 |
-
1989
- 1989-08-14 JP JP20795989A patent/JPH0374558A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| KR20040017643A (ko) * | 2002-08-23 | 2004-02-27 | 염병준 | 엘피지 차량의 연료혼합기 |
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