JPH0373432U - - Google Patents
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- Publication number
- JPH0373432U JPH0373432U JP13383689U JP13383689U JPH0373432U JP H0373432 U JPH0373432 U JP H0373432U JP 13383689 U JP13383689 U JP 13383689U JP 13383689 U JP13383689 U JP 13383689U JP H0373432 U JPH0373432 U JP H0373432U
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- cooling plate
- electrode
- support
- tube bolt
- cooling
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Pending
Links
- 238000001816 cooling Methods 0.000 claims description 8
- 239000011810 insulating material Substances 0.000 claims 1
- 238000010586 diagram Methods 0.000 description 1
Landscapes
- Drying Of Semiconductors (AREA)
- ing And Chemical Polishing (AREA)
Description
第１図は本考案の一実施例の断面図、第２図は
同前断面図で第１図のＡ−Ａ矢視図、第３図は従
来例の説明図である。 １１……ウエーハ、１８……冷却盤、１９……
電極、２３……冷却水路、２８……支持ピン、３
０……チユーブボルトを示す。
同前断面図で第１図のＡ−Ａ矢視図、第３図は従
来例の説明図である。 １１……ウエーハ、１８……冷却盤、１９……
電極、２３……冷却水路、２８……支持ピン、３
０……チユーブボルトを示す。
Claims (1)
- 静電チヤツクを兼ねるプラズマ発生用電極を冷
却盤に載置し、該電極と冷却盤との間に冷却水路
を形成し、ウエーハを支持可能に配した少なくと
も３本以上の支持ピンを下方より前記冷却盤、電
極に貫通させ、該支持ピンと電極、冷却盤との間
に支持ピンが挿通する絶縁材のチユーブボルトを
介在させると共に該チユーブボルトにより前記電
極と冷却盤とを固着したことを特徴とするウエー
ハ処理装置に於ける電極構造。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13383689U JPH0373432U (ja) | 1989-11-17 | 1989-11-17 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP13383689U JPH0373432U (ja) | 1989-11-17 | 1989-11-17 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JPH0373432U true JPH0373432U (ja) | 1991-07-24 |
Family
ID=31681225
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP13383689U Pending JPH0373432U (ja) | 1989-11-17 | 1989-11-17 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JPH0373432U (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019135749A (ja) * | 2018-02-05 | 2019-08-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
-
1989
- 1989-11-17 JP JP13383689U patent/JPH0373432U/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2019135749A (ja) * | 2018-02-05 | 2019-08-15 | 株式会社日立ハイテクノロジーズ | プラズマ処理装置 |
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