JPH0365529A - 液晶表示素子用ガラス基板の製造方法 - Google Patents
液晶表示素子用ガラス基板の製造方法Info
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- JPH0365529A JPH0365529A JP20198189A JP20198189A JPH0365529A JP H0365529 A JPH0365529 A JP H0365529A JP 20198189 A JP20198189 A JP 20198189A JP 20198189 A JP20198189 A JP 20198189A JP H0365529 A JPH0365529 A JP H0365529A
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Landscapes
- Liquid Crystal (AREA)
- Surface Treatment Of Glass (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
(イ)産業上の利用分野
この発明は、液晶表示素子用ガラス基板の製造方法に関
する。例えば、ワープロOA機器などに利用される大・
中型のスーパーツイスト型LCD等に使用されるもので
ある。
する。例えば、ワープロOA機器などに利用される大・
中型のスーパーツイスト型LCD等に使用されるもので
ある。
(ロ)従来の技術
従来、主に大・中型の液晶表示素子に採用されるスーパ
ーツイスト型LCDは、サイズが大きい事と急峻な光学
的特性を有する事から、使用するガラス基、板の表面凹
凸がそのままLCD表示面の色調ムラあるいは、点灯ム
ラとして顕著に認識されてしまう為、研摩(ポリッシュ
のみ)を施したガラスを用いて作製されている。このL
CD用未研摩ガラス元板は、0.55〜flamの厚さ
の表面高精度のフロートガラス元板か使用されている(
表面あらさは、うねり= 0.3μra/ 20xx以
下、脈理〜0゜1741/ 2 x*以下)。この表面
高精度フロートガラス元板は、第3図〜第4図に示す様
にガラスの流れ方向にマイクロコルゲーション(脈理)
及びバンドディストーション(うねり)の線状表面凹凸
を有しているので研摩することにより、うねり及び脈理
のいずれに対しても解消した良好な表面あらさとして加
工し使用している。
ーツイスト型LCDは、サイズが大きい事と急峻な光学
的特性を有する事から、使用するガラス基、板の表面凹
凸がそのままLCD表示面の色調ムラあるいは、点灯ム
ラとして顕著に認識されてしまう為、研摩(ポリッシュ
のみ)を施したガラスを用いて作製されている。このL
CD用未研摩ガラス元板は、0.55〜flamの厚さ
の表面高精度のフロートガラス元板か使用されている(
表面あらさは、うねり= 0.3μra/ 20xx以
下、脈理〜0゜1741/ 2 x*以下)。この表面
高精度フロートガラス元板は、第3図〜第4図に示す様
にガラスの流れ方向にマイクロコルゲーション(脈理)
及びバンドディストーション(うねり)の線状表面凹凸
を有しているので研摩することにより、うねり及び脈理
のいずれに対しても解消した良好な表面あらさとして加
工し使用している。
(ハ)発明が解決しようとする課題
主にスーパーツイスト型LCDに使用されるガラス基板
は、高価な表面高精度フロートガラス元板を使用し、か
つ研摩(ポリッシングのみ)を実施している為、非常に
高価なものになってしまう問題を有している。
は、高価な表面高精度フロートガラス元板を使用し、か
つ研摩(ポリッシングのみ)を実施している為、非常に
高価なものになってしまう問題を有している。
この発明は、前記問題を解決するためになされたもので
あって、表示面の色調ムラあるいは点灯ムラの無い大・
中型のスーパーツイスト型LCDを、汎用フロートガラ
ス元板を用いて低コストで作製しうる液晶表示素子用ガ
ラス基板の製造方法を提供しようとするものである。
あって、表示面の色調ムラあるいは点灯ムラの無い大・
中型のスーパーツイスト型LCDを、汎用フロートガラ
ス元板を用いて低コストで作製しうる液晶表示素子用ガ
ラス基板の製造方法を提供しようとするものである。
(ニ)課題を解決するための手段
この発明者らは、安価な汎用の表面低精度フロートガラ
スを用いて表示面に色調ムラあるいは点灯ムラを生じな
い液晶表示素子用ガラス基板を作製するため鋭意研究を
行ったところ、うねりは、研摩(ポリッシュ)によって
除去され難く、また色ムラとして認識され難いという事
実、脈理は、研摩によって除去され易く、またLCDの
色ムラとして認識され易いという事実を見出し、この発
明に至った。
スを用いて表示面に色調ムラあるいは点灯ムラを生じな
い液晶表示素子用ガラス基板を作製するため鋭意研究を
行ったところ、うねりは、研摩(ポリッシュ)によって
除去され難く、また色ムラとして認識され難いという事
実、脈理は、研摩によって除去され易く、またLCDの
色ムラとして認識され易いという事実を見出し、この発
明に至った。
この発明によれば、0.2〜0.7μIl/20mmの
うねりで、かつQ、l〜0.35μm/2mmの脈理で
表わされる表面あらさを有するフロートガラスを主体と
する汎用フロートガラスの群から、0.3μm/20a
oy以下のうねり゛で、かつ0.258m72mm以下
の脈理で表わされろ表面あらさを有するフロートガラス
を、触針計によって選択し、脈理を0.03μw/ 2
my以下で表わされる表面あらさに研摩することを特
徴とする液晶表示素子用ガラス基板の製造方法が提供さ
れる。
うねりで、かつQ、l〜0.35μm/2mmの脈理で
表わされる表面あらさを有するフロートガラスを主体と
する汎用フロートガラスの群から、0.3μm/20a
oy以下のうねり゛で、かつ0.258m72mm以下
の脈理で表わされろ表面あらさを有するフロートガラス
を、触針計によって選択し、脈理を0.03μw/ 2
my以下で表わされる表面あらさに研摩することを特
徴とする液晶表示素子用ガラス基板の製造方法が提供さ
れる。
この発明におけるガラス基板は、大又は中型表示に適用
できろスーパーツイスト型の液晶表示素子を構成する液
晶材料を封入するためのらのであって、通常縦100〜
600mm、横100〜600xx、厚さ0.55〜l
***の外形を有し、特定の表面あらさを有するフロ
ートガラスを用いることができる。この表面あらさば、
「うねり」と「脈理」によって表わすことができ、触針
計(例えば東京精密社製、サーフコム等)によって測定
することかできる。
できろスーパーツイスト型の液晶表示素子を構成する液
晶材料を封入するためのらのであって、通常縦100〜
600mm、横100〜600xx、厚さ0.55〜l
***の外形を有し、特定の表面あらさを有するフロ
ートガラスを用いることができる。この表面あらさば、
「うねり」と「脈理」によって表わすことができ、触針
計(例えば東京精密社製、サーフコム等)によって測定
することかできる。
この測定条件は、うねりがWCAモード、Cut of
f=0.8〜25xxとして行い、脈理が、WCAモー
ド、Cut off=0.8〜8uとして行うことがで
きる。このガラス基板は、表面あらさが、0.3μ−/
20u以下のうねりで、かつ0.1μIII/2I!J
I以下の脈理で表わされるものを用いることができろ。
f=0.8〜25xxとして行い、脈理が、WCAモー
ド、Cut off=0.8〜8uとして行うことがで
きる。このガラス基板は、表面あらさが、0.3μ−/
20u以下のうねりで、かつ0.1μIII/2I!J
I以下の脈理で表わされるものを用いることができろ。
この範囲外では液晶表示素子の表示面に色調ムラあるい
は点灯ムラが発生するので好ましくない。また、このガ
ラス基板は、汎用フロートガラスの群から、所定の表面
あらさを有するフロートガラスを選択し、このフロート
ガラスの脈理を0.03μm/2xx以下で表わされる
表面あらさに研摩して作製することができる。汎用フロ
ートガラスは、0.2〜0.7μm/20Uのうねりで
、かつ0.1〜0.35μrA/2肩lの脈理で表わさ
れる表面あらさを有するフロートガラスを主体とし、通
常99%以上がこの範囲の表面あらさを有する。
は点灯ムラが発生するので好ましくない。また、このガ
ラス基板は、汎用フロートガラスの群から、所定の表面
あらさを有するフロートガラスを選択し、このフロート
ガラスの脈理を0.03μm/2xx以下で表わされる
表面あらさに研摩して作製することができる。汎用フロ
ートガラスは、0.2〜0.7μm/20Uのうねりで
、かつ0.1〜0.35μrA/2肩lの脈理で表わさ
れる表面あらさを有するフロートガラスを主体とし、通
常99%以上がこの範囲の表面あらさを有する。
前記選択は、この汎用フロートガラスの群から、触針計
によってうねりと脈理を測定し、0.3μm/20!l
R以下のうねりで、かつ0.258m72mm以下の脈
理で表わされる表面あらさを有するものを摘出して行う
ことができる。この範囲外では後工程の研摩工程におい
て研摩所要時間が長くなり、生産効率が低かするので好
ましくない。
によってうねりと脈理を測定し、0.3μm/20!l
R以下のうねりで、かつ0.258m72mm以下の脈
理で表わされる表面あらさを有するものを摘出して行う
ことができる。この範囲外では後工程の研摩工程におい
て研摩所要時間が長くなり、生産効率が低かするので好
ましくない。
この発明における液晶表示素子の製造方法を具体的に説
明すると、前述のようにして形成したガラス基板の上に
、透明電極と配向膜を順に積層し、このガラス基板の1
対を対向配置してこのガラス基板の間に液晶材料を封入
し、更に液晶材料が封入されたガラス基板の上に偏光板
を配置してt液晶表示素子を形成することができる。こ
の透明電極は、例えばtTo等を、例えば電子ビーム蒸
着、去等によって前記ガラス基板の上に積層し、ホトリ
ソグラフィ法によって所定のパターンにエツチングして
形成することができる。配向膜は、例えばポリイミド膜
を、例えば印刷法等によってコーティングして形成する
ことができる。
明すると、前述のようにして形成したガラス基板の上に
、透明電極と配向膜を順に積層し、このガラス基板の1
対を対向配置してこのガラス基板の間に液晶材料を封入
し、更に液晶材料が封入されたガラス基板の上に偏光板
を配置してt液晶表示素子を形成することができる。こ
の透明電極は、例えばtTo等を、例えば電子ビーム蒸
着、去等によって前記ガラス基板の上に積層し、ホトリ
ソグラフィ法によって所定のパターンにエツチングして
形成することができる。配向膜は、例えばポリイミド膜
を、例えば印刷法等によってコーティングして形成する
ことができる。
(ホ)作用
うねりの小さいフロートガラスの選別は、研摩作業の効
率を上げ、脈理の範囲を広げた選別は、コストを低減す
ると共に、脈理が研摩によって効率的に除去される。
率を上げ、脈理の範囲を広げた選別は、コストを低減す
ると共に、脈理が研摩によって効率的に除去される。
(へ)実施例
0.2〜0.7μm/2o關のうねりで、かつ0.12
〜0.35μm/2xxの脈理で表わされろ表面あらさ
を有するものがグ9%以上含まれる多数の汎用フロート
ガラス元板(セントラル硝子社製、汎用フロートガラス
、縦300yx、横300xx、厚さ1.1RR)の群
から、触針計(東京精密社製、サーフコム)によって0
゜3μm/20關以下のうねりで、かつ0.25μm7
/2馴以下の脈理で表わされる表面あらさを有するフロ
ートガラスを選定する。この結果、選定される確率は9
0%であった。
〜0.35μm/2xxの脈理で表わされろ表面あらさ
を有するものがグ9%以上含まれる多数の汎用フロート
ガラス元板(セントラル硝子社製、汎用フロートガラス
、縦300yx、横300xx、厚さ1.1RR)の群
から、触針計(東京精密社製、サーフコム)によって0
゜3μm/20關以下のうねりで、かつ0.25μm7
/2馴以下の脈理で表わされる表面あらさを有するフロ
ートガラスを選定する。この結果、選定される確率は9
0%であった。
次に、公知の研摩(ポリッシング)方法によって表面を
研摩して、うねりを実質的に変化させずに脈理を0゜L
um/ 2 xi以下で表わされる表面あらさを有する
フロートガラス基板を作製する。尚研摩時間は5〜10
分間であった。このフロートガラス基板は、第「図に示
すようにNaランプ(単色光)を光源とした干渉縞が滑
らかなパターンを呈し、また製造効率が著しく高いこと
が認められた。
研摩して、うねりを実質的に変化させずに脈理を0゜L
um/ 2 xi以下で表わされる表面あらさを有する
フロートガラス基板を作製する。尚研摩時間は5〜10
分間であった。このフロートガラス基板は、第「図に示
すようにNaランプ(単色光)を光源とした干渉縞が滑
らかなパターンを呈し、また製造効率が著しく高いこと
が認められた。
次に、第5図に示すように前述のようにして得られたフ
ロートガラス基板1の上に、電子ビーム蒸着法によって
I T O(Indium Tin 0xide)膜を
形成し、ホトリソグラフィ法によって所定のパターンの
透明電極4を形成し、この上にポリイミド膜を塗布して
配向膜5を形成する。次に1対のこのガラス基板の間に
液晶材料7を入れ、シール剤6で封入する。次にガラス
基板1の外測の面に偏光板を取付は液晶表示素子を作製
する。
ロートガラス基板1の上に、電子ビーム蒸着法によって
I T O(Indium Tin 0xide)膜を
形成し、ホトリソグラフィ法によって所定のパターンの
透明電極4を形成し、この上にポリイミド膜を塗布して
配向膜5を形成する。次に1対のこのガラス基板の間に
液晶材料7を入れ、シール剤6で封入する。次にガラス
基板1の外測の面に偏光板を取付は液晶表示素子を作製
する。
この液晶表示素子は、表示面の色弱ムラ及び点灯ムラが
なく良好な表示特性を有することが認められた。
なく良好な表示特性を有することが認められた。
(ト)発明の効果
この発明によれば、表示面の色弱ムラ及び点灯ムラがな
く、良好な表示特性を有する液晶表示素子を構成しうる
ガラス基板を効率的に作製することのできる液晶表示素
子用ガラス基板の製造方法を提供することができる。
く、良好な表示特性を有する液晶表示素子を構成しうる
ガラス基板を効率的に作製することのできる液晶表示素
子用ガラス基板の製造方法を提供することができる。
また、この発明により脈理が大きくても(例えば0.2
μta/ 2 xx>特にウネリが小さい(例えばo、
1μm/20mx以下)のフロートガラス元板を用いる
ことにより、短時間研摩が可能(安fd5)でかっ、超
高精度表面を有するガラス基板(脈理が0.01μI+
1/2zx以下)を実現することが出来る。
μta/ 2 xx>特にウネリが小さい(例えばo、
1μm/20mx以下)のフロートガラス元板を用いる
ことにより、短時間研摩が可能(安fd5)でかっ、超
高精度表面を有するガラス基板(脈理が0.01μI+
1/2zx以下)を実現することが出来る。
第り図は、この発明の実施例で作製した液晶表示素子に
用いたフロートガラス基板の表面あらさの説明図、第2
図〜第3図は、この発明の実施例で用いた汎用フロート
ガラス元板のうねり及び脈理の説明図、第4図は、この
発明の実施例で作製した液晶表示素子の説明図である。 l・・・・・・フロートガラス基板、2・・・・・・う
ねり、3・・・・・・脈理、 4・・・・・・透
明電極、5・・・・・・配向膜、 6・・・・・・
シール材、7・・・・・・液晶材料、 8・・・・・
・偏光板。
用いたフロートガラス基板の表面あらさの説明図、第2
図〜第3図は、この発明の実施例で用いた汎用フロート
ガラス元板のうねり及び脈理の説明図、第4図は、この
発明の実施例で作製した液晶表示素子の説明図である。 l・・・・・・フロートガラス基板、2・・・・・・う
ねり、3・・・・・・脈理、 4・・・・・・透
明電極、5・・・・・・配向膜、 6・・・・・・
シール材、7・・・・・・液晶材料、 8・・・・・
・偏光板。
Claims (1)
- 1、0.2〜0.7μm/20mmのうねりで、かつ0
.1〜0.35μm/2mmの脈理で表わされる表面あ
らさを有するフロートガラスを主体とする汎用フロート
ガラスの群から、0.3μm/20mm以下のうねりで
、かつ0.25μm/2mm以下の脈理で表わされる表
面あらさを有するフロートガラスを、触針計によって選
択し、うねりを実質的に変化させずに脈理を0.03μ
m/2mm以下で表わされる表面あらさに研摩すること
を特徴とする液晶表示素子用ガラス基板の製造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20198189A JPH0365529A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 液晶表示素子用ガラス基板の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP20198189A JPH0365529A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 液晶表示素子用ガラス基板の製造方法 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0365529A true JPH0365529A (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=16449960
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP20198189A Pending JPH0365529A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 液晶表示素子用ガラス基板の製造方法 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0365529A (ja) |
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275258A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
EP1143483A1 (de) * | 2000-04-08 | 2001-10-10 | Schott Glas | Transparente Abdeckung der Strahlungsquelle von Lampen |
JP2012212156A (ja) * | 2006-06-30 | 2012-11-01 | Nippon Sheet Glass Co Ltd | 液晶パネル用ガラス基板、及び該ガラス基板を備える液晶パネル |
KR20170096944A (ko) | 2016-02-17 | 2017-08-25 | 아사히 가라스 가부시키가이샤 | 유리판 및 유리판의 제조 방법 |
CN107721156A (zh) * | 2017-03-31 | 2018-02-23 | 旭硝子株式会社 | 无碱玻璃基板 |
KR20220159902A (ko) | 2021-05-26 | 2022-12-05 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 유리 기판, 전자 디바이스, 및 유리 기판의 제조 방법 |
-
1989
- 1989-08-02 JP JP20198189A patent/JPH0365529A/ja active Pending
Cited By (11)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JPS62275258A (ja) * | 1986-01-30 | 1987-11-30 | Fuji Photo Film Co Ltd | ハロゲン化銀カラ−写真感光材料の処理方法 |
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JP2001354445A (ja) * | 2000-04-08 | 2001-12-25 | Carl Zeiss:Fa | ランプの輻射源用透明カバー |
US6629768B2 (en) | 2000-04-08 | 2003-10-07 | Schott Glas | Lamp with an unpolished surface and radiant source lamps with a transparent cover for the radiant source |
DE10017696B4 (de) * | 2000-04-08 | 2006-05-11 | Schott Ag | Transparente Abdeckung der Strahlungsquelle von Leuchten |
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US10640416B2 (en) | 2017-03-31 | 2020-05-05 | AGC Inc. | Alkali-free glass substrate |
KR20220159902A (ko) | 2021-05-26 | 2022-12-05 | 에이지씨 가부시키가이샤 | 유리 기판, 전자 디바이스, 및 유리 기판의 제조 방법 |
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