JPH0364823A - 陰極構体 - Google Patents
陰極構体Info
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- JPH0364823A JPH0364823A JP1200669A JP20066989A JPH0364823A JP H0364823 A JPH0364823 A JP H0364823A JP 1200669 A JP1200669 A JP 1200669A JP 20066989 A JP20066989 A JP 20066989A JP H0364823 A JPH0364823 A JP H0364823A
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Landscapes
- Electrodes For Cathode-Ray Tubes (AREA)
- Solid Thermionic Cathode (AREA)
Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
[産業上の利用分野コ
本発明は陰極構体に関する。さらに詳しくは、インライ
ン型カラーブラウン管に用いられる積層状の陰極構体に
関する。
ン型カラーブラウン管に用いられる積層状の陰極構体に
関する。
[従来の技術]
従来よりインライン型カラーブラウン管には、第4〜6
図に示すような積層状陰極構体が用いられている。第4
図は電子放射側の拡大平面図、第5図は加熱側の拡大平
面図、第6図は陰極構体の拡大断面図である。第4〜6
図において、(1)は耐熱性絶縁基板で、たとえばO、
L = 0 、3 +am程度の厚さのサファイアある
いはアルミナなどからできている。(2a)、(2b)
、(2c)は直線状に配設された基体金属で、前記耐熱
性絶縁基板(1)の表面にたとえば還元性不純物を微量
含有するニッケルなどがたとえば、スパッタリングなど
の方法で被着形成されている。(4)はたとえば(Ba
、 Sr、 Ca) 0なとのアルカリ土類金属酸化物
からなる電子放射物質で、前記金属基体(2a)、(2
b)、(2c〉上にスプレーなどの方法で被着形成され
ている。(3)はリード線であり基体金属(2)と同様
の方法で一体的に前記耐熱性絶縁基板(1)上に被着形
成されている。(3a)はリード線(3)の先端にある
陰極端子で、図示はしていないが外部と導線により接続
される。(5a)、(5b)、〈5c)は発熱体で、耐
熱性絶縁基板(1)の裏面の前記基体金属(2a〉、(
2b〉、(2C〉に対応する部位にスパッタリングなど
によりタングステンなどが蛇行状に被着形成されている
。(5d)は3個の発熱体(5a)、(5b)、(5C
)を直列接続する導線であり発熱体(5a)、(5b)
、(5C)と一体向に被着形成されている。(6)はヒ
ータ端子で外部導線(図示せず)と接続され、発熱体(
5)を加熱するための電圧が印加される。
図に示すような積層状陰極構体が用いられている。第4
図は電子放射側の拡大平面図、第5図は加熱側の拡大平
面図、第6図は陰極構体の拡大断面図である。第4〜6
図において、(1)は耐熱性絶縁基板で、たとえばO、
L = 0 、3 +am程度の厚さのサファイアある
いはアルミナなどからできている。(2a)、(2b)
、(2c)は直線状に配設された基体金属で、前記耐熱
性絶縁基板(1)の表面にたとえば還元性不純物を微量
含有するニッケルなどがたとえば、スパッタリングなど
の方法で被着形成されている。(4)はたとえば(Ba
、 Sr、 Ca) 0なとのアルカリ土類金属酸化物
からなる電子放射物質で、前記金属基体(2a)、(2
b)、(2c〉上にスプレーなどの方法で被着形成され
ている。(3)はリード線であり基体金属(2)と同様
の方法で一体的に前記耐熱性絶縁基板(1)上に被着形
成されている。(3a)はリード線(3)の先端にある
陰極端子で、図示はしていないが外部と導線により接続
される。(5a)、(5b)、〈5c)は発熱体で、耐
熱性絶縁基板(1)の裏面の前記基体金属(2a〉、(
2b〉、(2C〉に対応する部位にスパッタリングなど
によりタングステンなどが蛇行状に被着形成されている
。(5d)は3個の発熱体(5a)、(5b)、(5C
)を直列接続する導線であり発熱体(5a)、(5b)
、(5C)と一体向に被着形成されている。(6)はヒ
ータ端子で外部導線(図示せず)と接続され、発熱体(
5)を加熱するための電圧が印加される。
(5e)はヒータ端子(6)と両側の発熱体(5a)、
(5C)とを接続する導線である。
(5C)とを接続する導線である。
このように構成された陰極構体において、ヒータ端子(
6)に電圧を印加すると発熱体(5a)、(5b)、(
5C〉に電流が流れ式(I): Q、12xRxt (1)(式中、Qは発
生熱量、iは電流、Rは抵抗、tは時間を表わす)で表
わされるジュール熱が発生する。
6)に電圧を印加すると発熱体(5a)、(5b)、(
5C〉に電流が流れ式(I): Q、12xRxt (1)(式中、Qは発
生熱量、iは電流、Rは抵抗、tは時間を表わす)で表
わされるジュール熱が発生する。
発生したジュール熱は熱伝導および熱輻射によって耐熱
性絶縁基板(1)を通して3個の基体金属(2a〉、(
2b)、(2C〉を加熱する。そして、基体金属(2a
)、(2b)、(2C)が約800℃の動作温度まで加
熱されると電子放射物質(4)から電子ビームが発射さ
れ、カラーブラウン管の3色の蛍光面を光らせる。
性絶縁基板(1)を通して3個の基体金属(2a〉、(
2b)、(2C〉を加熱する。そして、基体金属(2a
)、(2b)、(2C)が約800℃の動作温度まで加
熱されると電子放射物質(4)から電子ビームが発射さ
れ、カラーブラウン管の3色の蛍光面を光らせる。
[発明が解決しようとする課題]
しかしながら、このように構成した陰極構体において、
発熱体(5a)、(5b)、(5C)に電圧を印加(通
電)して基体金属(2a〉、(2b)、〈2C〉を約8
00℃の動作温度にして電子放射を行なわせるが、陰極
構体の構成上、耐熱性絶縁基板(1)に比較的熱容量(
質量×比熱)の大きいものであるため、電圧を印加して
から電子放射が開始するまでの時間、すなわち画像が出
現するまでの時間に約lO秒程度要し、電子放射が開始
するまでやや時間がかかりすぎるという問題があった。
発熱体(5a)、(5b)、(5C)に電圧を印加(通
電)して基体金属(2a〉、(2b)、〈2C〉を約8
00℃の動作温度にして電子放射を行なわせるが、陰極
構体の構成上、耐熱性絶縁基板(1)に比較的熱容量(
質量×比熱)の大きいものであるため、電圧を印加して
から電子放射が開始するまでの時間、すなわち画像が出
現するまでの時間に約lO秒程度要し、電子放射が開始
するまでやや時間がかかりすぎるという問題があった。
また、前述のように各発熱体(5a)、(5b)、(5
C〉に電圧を印加して基体金属〈2a)、(2b〉、(
2C〉を約800℃の動作温度にする際、中央の基体金
属(2b)の温度がその両側に配置されている基体金属
(2a)、(2c)の温度よりも高温になる。この理由
は、両側の発熱体(5a)、(5C)はヒータ端子(6
)を通しての熱伝導損失が大きいため温度が上がりにく
いことによる。そのため、この中央の発熱体(5b)に
対応して配設されている中央の基体金属(2b)の温度
がその両側に配置されている基体金属(2a)、(2c
)の温度よりも高くなる。一般に基体金属(2)の温度
が所定の動作温度よりも高くなればなるほど、基体金属
(2)に微量含まれていて、電子放射物質(4)を活性
化する作用を有する還元性元素である81やMgの拡散
蒸発速度を加速することになる。その結果、長時間動作
を行なうと温度の高い中央の基体金属(2b)からの電
子放射特性が両側の基体金属(2a)、(2C)のそれ
に比べ早期に劣化し始め、3個の基体金属(3からの電
子放射特性のバランスが崩れ、いわゆるホワイトバラン
ス崩れと称される蛍光面上での色調の変化が生じる欠点
もあった。さらに、同じ基体金属(2)の中でも第4図
に示すV方向での温度差があり、たとえば基体金属(2
)の最中央部と置局縁部とでは約15℃の温度差が生じ
ている。これは、耐熱性絶縁基板(1)の長辺側に陰極
端子(3)があり、これに接続された外部リード線を通
して熱伝導損失が発生するためである。このような温度
差があると同一基体金属(z内で電子放射特性のムラを
生ずることにもなる。
C〉に電圧を印加して基体金属〈2a)、(2b〉、(
2C〉を約800℃の動作温度にする際、中央の基体金
属(2b)の温度がその両側に配置されている基体金属
(2a)、(2c)の温度よりも高温になる。この理由
は、両側の発熱体(5a)、(5C)はヒータ端子(6
)を通しての熱伝導損失が大きいため温度が上がりにく
いことによる。そのため、この中央の発熱体(5b)に
対応して配設されている中央の基体金属(2b)の温度
がその両側に配置されている基体金属(2a)、(2c
)の温度よりも高くなる。一般に基体金属(2)の温度
が所定の動作温度よりも高くなればなるほど、基体金属
(2)に微量含まれていて、電子放射物質(4)を活性
化する作用を有する還元性元素である81やMgの拡散
蒸発速度を加速することになる。その結果、長時間動作
を行なうと温度の高い中央の基体金属(2b)からの電
子放射特性が両側の基体金属(2a)、(2C)のそれ
に比べ早期に劣化し始め、3個の基体金属(3からの電
子放射特性のバランスが崩れ、いわゆるホワイトバラン
ス崩れと称される蛍光面上での色調の変化が生じる欠点
もあった。さらに、同じ基体金属(2)の中でも第4図
に示すV方向での温度差があり、たとえば基体金属(2
)の最中央部と置局縁部とでは約15℃の温度差が生じ
ている。これは、耐熱性絶縁基板(1)の長辺側に陰極
端子(3)があり、これに接続された外部リード線を通
して熱伝導損失が発生するためである。このような温度
差があると同一基体金属(z内で電子放射特性のムラを
生ずることにもなる。
本発明は前記問題点に鑑みなされたものであって、通電
開始から電子放射開始まで時間を短縮し画像の早期出現
が達成され、3個の基体金属(2の動作中の温度を均一
化して長時間の動作でも色調の変化を抑制することが可
能であるとともに、同−基体金属内での温度の均一化が
され電子放射特性が安定化された陰極構体を提供するこ
とを目的とする。
開始から電子放射開始まで時間を短縮し画像の早期出現
が達成され、3個の基体金属(2の動作中の温度を均一
化して長時間の動作でも色調の変化を抑制することが可
能であるとともに、同−基体金属内での温度の均一化が
され電子放射特性が安定化された陰極構体を提供するこ
とを目的とする。
[課題を解決するための手段]
本発明の陰極構体は、
(A)第1耐熱性絶縁基板、前記第1耐熱性絶縁基板上
の一方の面に配設された3個の基体金属、前記各基体金
属上に被覆形成された電子放射物質および前記第1耐熱
性絶縁基板の他方の面に配設された薄膜リボン状の発熱
体を有する陰極部と、(B)前記第1耐熱性絶縁基板の
発熱体が配設された面に対向して所定間隔をおいて配設
された第2耐熱性絶縁基板、前記第2耐熱性絶縁基板の
前記発熱体と対向する面に形成された反射膜および前記
第2耐熱性絶縁基板の前記反射膜が形成された面と反対
の面に配設された副発熱体を有する副発熱部 とからなることを特徴としている。
の一方の面に配設された3個の基体金属、前記各基体金
属上に被覆形成された電子放射物質および前記第1耐熱
性絶縁基板の他方の面に配設された薄膜リボン状の発熱
体を有する陰極部と、(B)前記第1耐熱性絶縁基板の
発熱体が配設された面に対向して所定間隔をおいて配設
された第2耐熱性絶縁基板、前記第2耐熱性絶縁基板の
前記発熱体と対向する面に形成された反射膜および前記
第2耐熱性絶縁基板の前記反射膜が形成された面と反対
の面に配設された副発熱体を有する副発熱部 とからなることを特徴としている。
[作 用]
本発明の陰極構体は、従来の陰極構体に相当する陰極部
に対向して副発熱部が設けられているので、陰極構体の
熱効率の改善が図れるとともに陰極部の温度分布を均一
にすることができる。
に対向して副発熱部が設けられているので、陰極構体の
熱効率の改善が図れるとともに陰極部の温度分布を均一
にすることができる。
[実施例〕
以下、本発明の実施例を図面に基づいて説明するが、本
発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
発明はかかる実施例のみに限定されるものではない。
第1図は本発明の側面断面図である。第1図において従
来例と同一または類似の構成要素については同一符号を
付してその説明を省略する。第1図において陰極部■は
従来の陰極構体と同様の構成がなされている。すなわち
、0.2+ma+厚さを有するサファイアからなる第1
耐熱性絶縁基板(la)の裏面上に3個のタングステン
の薄膜からなる蛇行状の発熱体(5a)、(5b〉、(
5C)が配設されており、これらの発熱体(5a〉、(
5b)、(5c〉は導線(5d)により直列接続されて
いる。発熱体(5a〉、(5b)、(5C〉、導線(5
d)およびヒータ端子(6)はすべてスパッタリング法
により一体的に形成される。発熱体(5a)、(5b)
、(5c)および導線(5d)の膜厚および幅はそれぞ
れ3ミクロンおよび0.2mmである。第1耐熱性絶縁
基板(la)の表面(電子放射側)には3個の基体金属
(2a)、(2b〉、(2C)が被着形成されこの上に
電子放射物質(4)が塗布されている。
来例と同一または類似の構成要素については同一符号を
付してその説明を省略する。第1図において陰極部■は
従来の陰極構体と同様の構成がなされている。すなわち
、0.2+ma+厚さを有するサファイアからなる第1
耐熱性絶縁基板(la)の裏面上に3個のタングステン
の薄膜からなる蛇行状の発熱体(5a)、(5b〉、(
5C)が配設されており、これらの発熱体(5a〉、(
5b)、(5c〉は導線(5d)により直列接続されて
いる。発熱体(5a〉、(5b)、(5C〉、導線(5
d)およびヒータ端子(6)はすべてスパッタリング法
により一体的に形成される。発熱体(5a)、(5b)
、(5c)および導線(5d)の膜厚および幅はそれぞ
れ3ミクロンおよび0.2mmである。第1耐熱性絶縁
基板(la)の表面(電子放射側)には3個の基体金属
(2a)、(2b〉、(2C)が被着形成されこの上に
電子放射物質(4)が塗布されている。
前記第1耐熱性絶縁基板(la)の裏面に対向して副発
熱部(30)が配設されている。副発熱部(30)の第
2耐熱性絶縁基板(1b)と第1耐熱性絶基板(la)
の間隔は0.1〜0.3m+1の範囲にあれば実用上問
題はないが、熱効率および組立の容易性の点より0.2
mm+程度のが好ましい。間隔が0.1mm未満であれ
ば組立が困難となり、また0、lsmを超えると熱効率
の効果がなくなり問題がある。
熱部(30)が配設されている。副発熱部(30)の第
2耐熱性絶縁基板(1b)と第1耐熱性絶基板(la)
の間隔は0.1〜0.3m+1の範囲にあれば実用上問
題はないが、熱効率および組立の容易性の点より0.2
mm+程度のが好ましい。間隔が0.1mm未満であれ
ば組立が困難となり、また0、lsmを超えると熱効率
の効果がなくなり問題がある。
前記第2耐熱性絶縁基板(lb)は、第1耐熱性絶縁基
板(la)と同様の基質が使用でき、たとえばサファイ
ヤなどが利用できる。サイズは板厚を0.3同とし第1
耐熱性絶縁基板の1.5倍の厚さとして熱容量を大きく
している。第2耐熱性絶縁基板(lb)の陰極部■に対
向している面(表面)には反射膜(刀が形成されている
。反射膜(7)は第2耐熱性絶縁基板(lb)の第1耐
熱性絶縁基板(1a)のヒータに対向する部分の範囲に
形成されていれば実用上問題はないが、反射効率の点よ
り全面に形成されているのが好ましい。反射膜(7)の
材質は耐熱性の点よりタングステン、モリブデン、ニッ
ケルなどを用いることができる。形成方法は、均一な鏡
面膜をえる点よりスパッタリング、真空蒸着によるのが
好ましい。反射Jli(7)の膜厚は1〜10ミクロン
の範囲にあれば実用上問題はないが、量産性の点より1
〜3ミクロンの範囲にあるのが好ましい。
板(la)と同様の基質が使用でき、たとえばサファイ
ヤなどが利用できる。サイズは板厚を0.3同とし第1
耐熱性絶縁基板の1.5倍の厚さとして熱容量を大きく
している。第2耐熱性絶縁基板(lb)の陰極部■に対
向している面(表面)には反射膜(刀が形成されている
。反射膜(7)は第2耐熱性絶縁基板(lb)の第1耐
熱性絶縁基板(1a)のヒータに対向する部分の範囲に
形成されていれば実用上問題はないが、反射効率の点よ
り全面に形成されているのが好ましい。反射膜(7)の
材質は耐熱性の点よりタングステン、モリブデン、ニッ
ケルなどを用いることができる。形成方法は、均一な鏡
面膜をえる点よりスパッタリング、真空蒸着によるのが
好ましい。反射Jli(7)の膜厚は1〜10ミクロン
の範囲にあれば実用上問題はないが、量産性の点より1
〜3ミクロンの範囲にあるのが好ましい。
第2耐熱性絶縁基板(1b)の反射膜(7)が形成され
た面と反対の面(裏面)には副発熱体(8)が形成され
ている。副発熱体(8)は第2耐熱性絶縁基板(1b)
の裏面の全面にわたって形成し、形状は蛇行状とすれば
実用上問題はないが、とくに限定されるものではない。
た面と反対の面(裏面)には副発熱体(8)が形成され
ている。副発熱体(8)は第2耐熱性絶縁基板(1b)
の裏面の全面にわたって形成し、形状は蛇行状とすれば
実用上問題はないが、とくに限定されるものではない。
膜厚の一例をあげれば3ミクロンであり、また幅の一例
をあげれば0.3a+a+である。第1耐熱性絶縁基板
(1a)と第2耐熱性絶縁基板(lb)とを前記間隔に
維持するため、両端部にスペーサ□□□が配設されてい
る。スペーサ(財)の材質は耐熱性物質ならいかなるも
のをも使用しうるが、耐熱性の点よりアルミナなどを用
いるのが好ましい。スペーサMの耐熱性絶縁基板(la
)、(lb)への固着のための接着剤は、耐熱性無機接
着剤などを用いるのが好ましい。
をあげれば0.3a+a+である。第1耐熱性絶縁基板
(1a)と第2耐熱性絶縁基板(lb)とを前記間隔に
維持するため、両端部にスペーサ□□□が配設されてい
る。スペーサ(財)の材質は耐熱性物質ならいかなるも
のをも使用しうるが、耐熱性の点よりアルミナなどを用
いるのが好ましい。スペーサMの耐熱性絶縁基板(la
)、(lb)への固着のための接着剤は、耐熱性無機接
着剤などを用いるのが好ましい。
陰極部囚の発熱体(5)と副発熱部(至)の副発熱体(
8)とは、接続線(9)によって直列接続されている。
8)とは、接続線(9)によって直列接続されている。
ヒータ端子(6)、(6)には、リード線(図示せず)
が接続されている。
が接続されている。
このように構成された陰極構体において、ヒ−夕端子(
6)、(6)から電圧が印加されると、発熱体(5a)
、(5b)、(5c)および副発熱体(8)にジュール
熱が発生する。基体金属(2a)、(2b)、(2c)
が約800℃の温度になると、電子放射が安定して行な
われるようになる。本実施例においては、副発熱体(8
)が前記のように構成されているので、基体金属(2a
)、(2b)、(2C)が800℃程度になると、副発
熱部■は550℃程度になる。
6)、(6)から電圧が印加されると、発熱体(5a)
、(5b)、(5c)および副発熱体(8)にジュール
熱が発生する。基体金属(2a)、(2b)、(2c)
が約800℃の温度になると、電子放射が安定して行な
われるようになる。本実施例においては、副発熱体(8
)が前記のように構成されているので、基体金属(2a
)、(2b)、(2C)が800℃程度になると、副発
熱部■は550℃程度になる。
また前述したように副発熱部のには、反射膜(7)が設
けられているので、陰極部■は副発熱部■の昇温に伴う
加熱に加え、反射膜(7)からの熱輻射によっても加熱
される。すなわち、発熱体(5a)、(5b)、(5c
)からの輻射熱が反射膜(刀により反射されて、陰極部
囚に再入射して陰極部を加熱する。
けられているので、陰極部■は副発熱部■の昇温に伴う
加熱に加え、反射膜(7)からの熱輻射によっても加熱
される。すなわち、発熱体(5a)、(5b)、(5c
)からの輻射熱が反射膜(刀により反射されて、陰極部
囚に再入射して陰極部を加熱する。
このため、陰極部■が均一に加熱されるとともに、加熱
効率も向上する。
効率も向上する。
第2図は、本実施例の基体金属(2a)、(2b)、(
2C)の温度分布を示すグラフである。第2図には比較
のために従来例の基体金属(2a)、(2b)、(2C
)の温度分布も併せて示しである。第2図より従来30
℃程度あった中央の基体金属(2b)と両側の基体金属
(2a)、(2c)の温度差もほとんどなくなり、また
従来15℃程度あった基体金属(2)の中心部と最周辺
部との温度差も5℃程度にすることができ、実用上問題
はなくなった。
2C)の温度分布を示すグラフである。第2図には比較
のために従来例の基体金属(2a)、(2b)、(2C
)の温度分布も併せて示しである。第2図より従来30
℃程度あった中央の基体金属(2b)と両側の基体金属
(2a)、(2c)の温度差もほとんどなくなり、また
従来15℃程度あった基体金属(2)の中心部と最周辺
部との温度差も5℃程度にすることができ、実用上問題
はなくなった。
また、副発熱部のを前述のような構成、すなわち副発熱
部■の熱容量を陰極部囚のそれよりも大としている。し
たがって通電を開始すると、まず陰極部が昇温し、それ
に遅れて副発熱部のが昇温する。発熱体(5a)、(5
b)、(5C)および副発熱体(8)を構成する抵抗体
は、正の温度係数を有しているので、副発熱部■の温度
が低い通電初期の段階においては、定常状態より大きな
電流が流れる。そのため、陰極部■を早く昇温すること
ができる。
部■の熱容量を陰極部囚のそれよりも大としている。し
たがって通電を開始すると、まず陰極部が昇温し、それ
に遅れて副発熱部のが昇温する。発熱体(5a)、(5
b)、(5C)および副発熱体(8)を構成する抵抗体
は、正の温度係数を有しているので、副発熱部■の温度
が低い通電初期の段階においては、定常状態より大きな
電流が流れる。そのため、陰極部■を早く昇温すること
ができる。
なお、副発熱部のが昇温しでくると副発熱体(8)の抵
抗値も上昇し電流値も下がるので、発熱体(5a)、(
5b)、(5c)の寿命などへの影響はほとんど無視で
きる。
抗値も上昇し電流値も下がるので、発熱体(5a)、(
5b)、(5c)の寿命などへの影響はほとんど無視で
きる。
第3図は本実施例の陰極構体の通電開始後からの電子放
出特性を示すグラフである。第3図には比較のために従
来例の電子放出特性も併せて示しである。第3図かられ
かるように、電子放射の開始が従来10秒であったもの
が、本実施例では6秒となり、電子放射までの時間が大
幅に短縮されている。さらに定常状態への時間も短縮で
き画面の明るさなどが早く安定する。
出特性を示すグラフである。第3図には比較のために従
来例の電子放出特性も併せて示しである。第3図かられ
かるように、電子放射の開始が従来10秒であったもの
が、本実施例では6秒となり、電子放射までの時間が大
幅に短縮されている。さらに定常状態への時間も短縮で
き画面の明るさなどが早く安定する。
[発明の効果]
以上説明したように、本発明の陰極構体によれば、反射
膜および熱容量の大きい副発熱部を設けているので、基
体金属温度の均一化および基体金属の迅速な昇温ができ
電子放射開始までの時間を短縮できる。
膜および熱容量の大きい副発熱部を設けているので、基
体金属温度の均一化および基体金属の迅速な昇温ができ
電子放射開始までの時間を短縮できる。
第1図は本発明の一実施例の陰極構体の断面図、第2図
は基体金属の温度分布を示すグラフ、第3図は陰極構体
の電子放射特性を示すグラフ、第4図および第5図はそ
れぞれ従来の陰極構体の電子放射面および発熱面の拡大
図、第6図は第4〜5図に示す陰極構体の長手方向断面
図である。 (図面の主要符号) (1):耐熱性絶縁基板 (2)、(2a)、 (2b)、(2c) :基体金属 (4) : @子放射物質 (5a)、(5b)、 (5c) :発熱体 (7):反射膜 (8):副発熱体 ■:陰極部 c!!J:副発熱部
は基体金属の温度分布を示すグラフ、第3図は陰極構体
の電子放射特性を示すグラフ、第4図および第5図はそ
れぞれ従来の陰極構体の電子放射面および発熱面の拡大
図、第6図は第4〜5図に示す陰極構体の長手方向断面
図である。 (図面の主要符号) (1):耐熱性絶縁基板 (2)、(2a)、 (2b)、(2c) :基体金属 (4) : @子放射物質 (5a)、(5b)、 (5c) :発熱体 (7):反射膜 (8):副発熱体 ■:陰極部 c!!J:副発熱部
Claims (1)
- (1)(A)第1耐熱性絶縁基板、前記第1耐熱性絶縁
基板上の一方の面に配設された3個の基体金属、前記各
基体金属上に被覆形成された電子放射物質および前記第
1耐熱性絶縁基板の他方の面に配設された薄膜リボン状
の発熱体を有する陰極部と、(B)前記第1耐熱性絶縁
基板の発熱体が配設された面に対向して所定間隔をおい
て配設された第2耐熱性絶縁基板、前記第2耐熱性絶縁
基板の前記発熱体と対向する面に形成された反射膜およ
び前記第2耐熱性絶縁基板の前記反射膜が形成された面
と反対の面に配設された副発熱体を有する副発熱部 とからなることを特徴とする陰極構体。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1200669A JPH0364823A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 陰極構体 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP1200669A JPH0364823A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 陰極構体 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0364823A true JPH0364823A (ja) | 1991-03-20 |
Family
ID=16428267
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP1200669A Pending JPH0364823A (ja) | 1989-08-02 | 1989-08-02 | 陰極構体 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0364823A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997044803A1 (en) * | 1996-05-21 | 1997-11-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cathode body structure, electron gun body structure, grid unit for electron gun, electronic tube, heater, and method for manufacturing cathode body structure |
-
1989
- 1989-08-02 JP JP1200669A patent/JPH0364823A/ja active Pending
Cited By (2)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO1997044803A1 (en) * | 1996-05-21 | 1997-11-27 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cathode body structure, electron gun body structure, grid unit for electron gun, electronic tube, heater, and method for manufacturing cathode body structure |
US6130502A (en) * | 1996-05-21 | 2000-10-10 | Kabushiki Kaisha Toshiba | Cathode assembly, electron gun assembly, electron tube, heater, and method of manufacturing cathode assembly and electron gun assembly |
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