JPH0359870A - 磁気デイスク装置 - Google Patents
磁気デイスク装置Info
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- JPH0359870A JPH0359870A JP19411889A JP19411889A JPH0359870A JP H0359870 A JPH0359870 A JP H0359870A JP 19411889 A JP19411889 A JP 19411889A JP 19411889 A JP19411889 A JP 19411889A JP H0359870 A JPH0359870 A JP H0359870A
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- magnetic disk
- disk
- head
- magnetic
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- Pending
Links
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- 229910052760 oxygen Inorganic materials 0.000 claims abstract description 22
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Abstract
(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。
め要約のデータは記録されません。
Description
【発明の詳細な説明】
〔産業上の利用分野〕
本発明は磁気ディスク装置に関する。
磁気ディスク装置において、動作時に磁気ヘッドは高速
回転中の磁気ディスク上を所定の隙間を保つように浮上
して記録再生を行なっている。したがって、記録再生動
作中は磁気ヘッドと磁気ディスクは接触する機会が非常
に少ない。そのために、磁気ヘッドと磁気ディスクの接
触により磁気ディスクが損傷することはまれである。し
かし、磁気ディスクの回転開始時あるいは回転停止時装
置には磁気ヘッドと磁気ディスクは接触を繰り返すコン
タクトスタートストップ動作(C8S動作)を行なうた
め、磁気ディスクが損傷し、記録されていた情報が破壊
する危険性が十分ある6したがって磁気ディスク装置の
信頼性を確保するためには磁気ディスクの耐摺動強度を
向上させることが重要な課題の一つである。そこで従来
は磁気ディスクの耐摺動強度を向上させるために磁気デ
ィスク表向に保護潤滑膜を形成する方法や磁気ヘッドス
ライダ−面のうちで磁気ディスクと接触する部分に曲取
りを設は接触時の衝撃をやわらげる方法や磁気ヘッドス
ライダ−材としてガラス材カーボンを使用することによ
りスライダーに潤滑性を持たせ、ディスク破壊を防ぐ方
法がとられてきた。
回転中の磁気ディスク上を所定の隙間を保つように浮上
して記録再生を行なっている。したがって、記録再生動
作中は磁気ヘッドと磁気ディスクは接触する機会が非常
に少ない。そのために、磁気ヘッドと磁気ディスクの接
触により磁気ディスクが損傷することはまれである。し
かし、磁気ディスクの回転開始時あるいは回転停止時装
置には磁気ヘッドと磁気ディスクは接触を繰り返すコン
タクトスタートストップ動作(C8S動作)を行なうた
め、磁気ディスクが損傷し、記録されていた情報が破壊
する危険性が十分ある6したがって磁気ディスク装置の
信頼性を確保するためには磁気ディスクの耐摺動強度を
向上させることが重要な課題の一つである。そこで従来
は磁気ディスクの耐摺動強度を向上させるために磁気デ
ィスク表向に保護潤滑膜を形成する方法や磁気ヘッドス
ライダ−面のうちで磁気ディスクと接触する部分に曲取
りを設は接触時の衝撃をやわらげる方法や磁気ヘッドス
ライダ−材としてガラス材カーボンを使用することによ
りスライダーに潤滑性を持たせ、ディスク破壊を防ぐ方
法がとられてきた。
なお、この種の装置として関連するものには、例えば特
開昭61−240427号、同62−140225号、
同63−70918号等が挙げられる。
開昭61−240427号、同62−140225号、
同63−70918号等が挙げられる。
上記の方法は磁気ディスク装置の動作時におけるディス
ク破壊防止には有効な手段である。さて、ヘッドとディ
スクの相対速度が完全にOの場合。
ク破壊防止には有効な手段である。さて、ヘッドとディ
スクの相対速度が完全にOの場合。
両者の間で摩擦摩耗は発生しない。したがってディスク
破壊は起こりえない。ところが実際には非動作時にヘッ
ドとディスクの相対速度が完全にOになる機会は意外に
少なく、非動作時においても装置外部から加わる振動に
よりヘッド/ディスク間には微小な振幅の往復運動がし
ばしば発生する。
破壊は起こりえない。ところが実際には非動作時にヘッ
ドとディスクの相対速度が完全にOになる機会は意外に
少なく、非動作時においても装置外部から加わる振動に
よりヘッド/ディスク間には微小な振幅の往復運動がし
ばしば発生する。
一般に摩擦摩耗現象の中にはプレッチング(微動摩耗)
と呼ばれる現象があることが知られている。これは、接
触している二物体が微小振動のために往復運動を行ない
、その結果摩耗が発生する現象である。これはヘッド/
ディスク間にもあてはまり、磁気ディスク装置が停止し
ている時にも。
と呼ばれる現象があることが知られている。これは、接
触している二物体が微小振動のために往復運動を行ない
、その結果摩耗が発生する現象である。これはヘッド/
ディスク間にもあてはまり、磁気ディスク装置が停止し
ている時にも。
ヘッド/ディスク間に相対運動が発生し、ディスクが破
壊することがある。フレツチング摩耗は、二物体が連続
摺動して発生する摩耗とは発生機構が全く異なるため従
来から行なわれているディスク破壊防止手段はほとんど
効果がない。
壊することがある。フレツチング摩耗は、二物体が連続
摺動して発生する摩耗とは発生機構が全く異なるため従
来から行なわれているディスク破壊防止手段はほとんど
効果がない。
本発明は上記の諸点に鑑みてなされたものであり、本発
明の目的は、ヘッド/ディスク間におけるプレツチング
麿耗を防止する手段を有する磁気ディスク装置を提供す
ることにある。
明の目的は、ヘッド/ディスク間におけるプレツチング
麿耗を防止する手段を有する磁気ディスク装置を提供す
ることにある。
フレツチングは接触している二物体間で発生する酸化現
象である。したがって、接触部への酸素の供給を断ちき
ることによりフレツチング摩耗をなくすることができる
。本発明では装置内の雰囲気中の酸素濃度を小さくする
ことでプレツチング摩耗の低減を実現している。
象である。したがって、接触部への酸素の供給を断ちき
ることによりフレツチング摩耗をなくすることができる
。本発明では装置内の雰囲気中の酸素濃度を小さくする
ことでプレツチング摩耗の低減を実現している。
今、接触している二物体に微小な振動が特定時間、加わ
ると接触部位には繰返し応力がかかる。
ると接触部位には繰返し応力がかかる。
その結果、真実接触部では、繰返し変形が起こる。
物体にこのような応力を連続的に加えると物体内部でマ
イクロクランクが発生し、さらに応力を加えつづけると
マイクロクラックがつながり、より大きなりラックとな
る。そしてついにはクランクが物体表面まで拡がり、物
体表面には亀裂が発生する。一般に物体表向はごく薄い
酸化層や汚れ等で覆われており、化学的には非常に不活
性な状態にある。これに対して上記現象により発生した
表LO]S、裂は新生+1uであるため、化学的に非常
に活性であり化学反応を起こしやすくなっている。した
がって、この新生向に周囲から酸素が入り込むと酸化反
応が進み、表(角の破壊が進む。この状態が進行し大き
な摩耗にいたるのがフレツチング摩耗である。したがっ
て、フレツチング摩耗を防ぐには新生向に酸素が結合し
ないようにすればよい。
イクロクランクが発生し、さらに応力を加えつづけると
マイクロクラックがつながり、より大きなりラックとな
る。そしてついにはクランクが物体表面まで拡がり、物
体表面には亀裂が発生する。一般に物体表向はごく薄い
酸化層や汚れ等で覆われており、化学的には非常に不活
性な状態にある。これに対して上記現象により発生した
表LO]S、裂は新生+1uであるため、化学的に非常
に活性であり化学反応を起こしやすくなっている。した
がって、この新生向に周囲から酸素が入り込むと酸化反
応が進み、表(角の破壊が進む。この状態が進行し大き
な摩耗にいたるのがフレツチング摩耗である。したがっ
て、フレツチング摩耗を防ぐには新生向に酸素が結合し
ないようにすればよい。
本発明は磁気ヘッドと磁気ディスクを低酸素濃度中に置
くことによって上記新生面と酸素が結合する機会を減ら
し、フレツチング摩耗の巡行を抑えている。もちろん、
雰囲気中のV素を全くなくせばフレツチング摩耗を完全
に防止できる。
くことによって上記新生面と酸素が結合する機会を減ら
し、フレツチング摩耗の巡行を抑えている。もちろん、
雰囲気中のV素を全くなくせばフレツチング摩耗を完全
に防止できる。
第1図に本発明の磁気ディスク装置1の概略構成図を示
す。図に示すように磁気ヘッド2と磁気ディスク3を取
り巻く雰囲気ガス4に低酸素濃度ガスを用いている。本
実施例では酸#濃度O%のチッ素ガスを雰囲気ガスとし
て用いている。耐フレッチング摩耗特性を調べる方法と
して磁気ディスク装置l外部から振動を強制的に加え、
加速評価を行なった。具体的には、振動台の上に当該磁
気ディスク装置を載せ、60也の強制振動を与えた。な
お、磁気ヘッド2と磁気ディスク3は相対的に20μm
の振幅で振動するように振動台の加振加速度を設定した
。
す。図に示すように磁気ヘッド2と磁気ディスク3を取
り巻く雰囲気ガス4に低酸素濃度ガスを用いている。本
実施例では酸#濃度O%のチッ素ガスを雰囲気ガスとし
て用いている。耐フレッチング摩耗特性を調べる方法と
して磁気ディスク装置l外部から振動を強制的に加え、
加速評価を行なった。具体的には、振動台の上に当該磁
気ディスク装置を載せ、60也の強制振動を与えた。な
お、磁気ヘッド2と磁気ディスク3は相対的に20μm
の振幅で振動するように振動台の加振加速度を設定した
。
さらに磁気ディスク装置l外部からフレッチング摩耗の
発生の有無を知るために次の工夫を行なった。すなわち
、磁気ディスク表面になんらかの機械的損傷が発生する
と表面の凹凸状態が変化するため磁気ヘッド/磁気ディ
スク間の鰺擦係数が変化する。そこで、磁気ヘッド2を
支えているジンバルバネに小型の歪ケージを貼り付け、
フレツチング摩耗発生による摩擦係数の変化を感知する
ことによって、装置外部から磁気ディスク表面の変化を
検出した。
発生の有無を知るために次の工夫を行なった。すなわち
、磁気ディスク表面になんらかの機械的損傷が発生する
と表面の凹凸状態が変化するため磁気ヘッド/磁気ディ
スク間の鰺擦係数が変化する。そこで、磁気ヘッド2を
支えているジンバルバネに小型の歪ケージを貼り付け、
フレツチング摩耗発生による摩擦係数の変化を感知する
ことによって、装置外部から磁気ディスク表面の変化を
検出した。
磁気ディスク3の寿命は強制振動を加え始めてからプレ
ッチング摩耗が生じるまでの時間、すなわち摩擦係数が
食化し始めるまでの所要時間で詳細した。なお、値は′
#雰囲気ガス空気を用いて実験を行なった結果に対する
相対位で表している。
ッチング摩耗が生じるまでの時間、すなわち摩擦係数が
食化し始めるまでの所要時間で詳細した。なお、値は′
#雰囲気ガス空気を用いて実験を行なった結果に対する
相対位で表している。
酸素濃度をいろいろ会えて詳細した結果を図2に示す。
実験では雰囲気ガスとしてチッ素に酸素を加えたもの、
アルゴンに酸素を加えたもの、ヘリウムに酸素を加えた
ものの3種類を用いており、酸素濃度はそれぞれ空気中
の酸#濃度にほぼ等しい20%から0%まで変えた。比
較実験は雰囲気ガスに空気を用いて行なった。
アルゴンに酸素を加えたもの、ヘリウムに酸素を加えた
ものの3種類を用いており、酸素濃度はそれぞれ空気中
の酸#濃度にほぼ等しい20%から0%まで変えた。比
較実験は雰囲気ガスに空気を用いて行なった。
図2から分かるように、酸素濃度が大気中標準酸素濃度
から11000ppまでは、磁気ディスクの耐フレツチ
ング特性に大差がなく、−様に磁気ディスクの寿命は小
さくなっている。しかし、さらに酸#a度を小さくして
行くと500ppm付近から磁気ディスクの耐フレツチ
ング特性は急激に向上し、1100ppより小さくなる
と耐フレツチング摩耗性は極めて高くなった。この傾向
は雰囲気ガスの主成分の種類には依存しておらず、酸素
濃度のみに依存している。装置の安全性、安定性を考慮
して雰囲気ガスの主成分には不活性ガスを選んでいるが
、フレッチングの発生は酸素の存在によるものであるの
で、雰囲気ガスの主成分としては不活性ガス以外の物を
選んでも良い。
から11000ppまでは、磁気ディスクの耐フレツチ
ング特性に大差がなく、−様に磁気ディスクの寿命は小
さくなっている。しかし、さらに酸#a度を小さくして
行くと500ppm付近から磁気ディスクの耐フレツチ
ング特性は急激に向上し、1100ppより小さくなる
と耐フレツチング摩耗性は極めて高くなった。この傾向
は雰囲気ガスの主成分の種類には依存しておらず、酸素
濃度のみに依存している。装置の安全性、安定性を考慮
して雰囲気ガスの主成分には不活性ガスを選んでいるが
、フレッチングの発生は酸素の存在によるものであるの
で、雰囲気ガスの主成分としては不活性ガス以外の物を
選んでも良い。
第1図に示したような磁気ディスク装置において、雰囲
気ガス中の酸素濃度を小さくすることで磁気ディスク表
面に発生するフレッチング摩耗を制御することができた
。
気ガス中の酸素濃度を小さくすることで磁気ディスク表
面に発生するフレッチング摩耗を制御することができた
。
第1図は本発明に好適な磁気ディスク装置の構成を示す
概略縦断面図、第2図は雰囲気ガス中の酸素がプレッチ
ング摩耗に及ぼす影響を示す測定図である。 l・・・磁気ディスク装置、2・・・磁気ヘッド、3・
・・磁気ディスク、4・・・ff[気ガス。
概略縦断面図、第2図は雰囲気ガス中の酸素がプレッチ
ング摩耗に及ぼす影響を示す測定図である。 l・・・磁気ディスク装置、2・・・磁気ヘッド、3・
・・磁気ディスク、4・・・ff[気ガス。
Claims (1)
- 【特許請求の範囲】 1、磁気ディスク装置において磁気ヘッド及び磁気ディ
スクが設置されている装置内雰囲気を、不活性ガスを含
み、ガス中の酸素濃度を大気中に含まれる酸素濃度より
小さくした混合ガスとしたことを特徴とする磁気ディス
ク装置。 2、請求項1に記載の磁気ディスク装置内の雰囲気にお
いて混合ガス中の酸素濃度を500PPm以下とするこ
とを特徴とする磁気ディスク装置。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19411889A JPH0359870A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 磁気デイスク装置 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP19411889A JPH0359870A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 磁気デイスク装置 |
Publications (1)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JPH0359870A true JPH0359870A (ja) | 1991-03-14 |
Family
ID=16319218
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP19411889A Pending JPH0359870A (ja) | 1989-07-28 | 1989-07-28 | 磁気デイスク装置 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JPH0359870A (ja) |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007193880A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Hitachi Maxell Ltd | ディスク記録再生装置 |
-
1989
- 1989-07-28 JP JP19411889A patent/JPH0359870A/ja active Pending
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2007193880A (ja) * | 2006-01-18 | 2007-08-02 | Hitachi Maxell Ltd | ディスク記録再生装置 |
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