JPH0350852A - 冷却構造体 - Google Patents

冷却構造体

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Publication number
JPH0350852A
JPH0350852A JP18686489A JP18686489A JPH0350852A JP H0350852 A JPH0350852 A JP H0350852A JP 18686489 A JP18686489 A JP 18686489A JP 18686489 A JP18686489 A JP 18686489A JP H0350852 A JPH0350852 A JP H0350852A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
heat
cooling structure
heat transfer
coolant
cooling
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP18686489A
Other languages
English (en)
Inventor
Katsuhide Natori
名取 勝英
Isao Watanabe
勲 渡辺
Yukihisa Katsuyama
勝山 幸壽
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujitsu Ltd
Original Assignee
Fujitsu Ltd
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Publication date
Application filed by Fujitsu Ltd filed Critical Fujitsu Ltd
Priority to JP18686489A priority Critical patent/JPH0350852A/ja
Publication of JPH0350852A publication Critical patent/JPH0350852A/ja
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  • Cooling Or The Like Of Semiconductors Or Solid State Devices (AREA)

Abstract

(57)【要約】本公報は電子出願前の出願データであるた
め要約のデータは記録されません。

Description

【発明の詳細な説明】 〔1既要〕 半導体装置を液冷する冷却構造体に関し、冷却効率を向
上することを目的とし、 回路基板上に装着してある半導体装置の伝熱基板の上に
弾性伝熱体を介し、伝熱板を底部にもつ冷却構造体を当
接せしめ、該冷却構造体の内部に設けてあるノズルより
冷媒を伝熱板に噴射して冷却せしめ、該冷媒を排水口よ
り排水して循環させる構造をとる冷却構造体において、
前記伝熱板GO)が内面に0.05mm以上の粒状をし
た金属粉(11)を並べて一体焼結したものからなるこ
とを特徴として冷却構造体を構成する。
〔産業上の利用分野〕
本発明は冷却効率を向上した冷却構造体に関する。
情報処理装置の処理能力を向上するため、半導体装置は
単位素子の小形化による大容量化が行われてLSIやV
LSIが実用化されている。
このように高密度化が進むに従って半導体装置の発熱量
も膨大となり、従来の空冷方法では半導体チッブの温度
を最高使用温度範囲内に保持することは不可能になって
きている。
すなわち、今まで半導体素子の発熱量はチップ当たり最
高でも4W程度であり、空冷で足りたが、VLSIにお
いてはIOW程度にまで達しており、強制空冷に代わっ
て液冷が必要になっている。
〔従来の技術] 半導体装置の液冷には各種の方法が提案されているが、
第4図は代表的な液冷構造の断面図である。
すなわち、半導体チップ(以下略してチップ)1が装着
されているフラットパッケージ形半導体装置(以下略し
て半導体装置)2の例えばアルミナなどからなる伝熱基
板3の上に弾性伝熱体4を設け、この弾性伝熱体4を介
して金属あるいはプラスチックからなるベローズ5を備
えた冷却構造体6が接続する構造をとる。
こ\で、冷却構造体6には冷媒を噴出するノズル7と排
水口8とが設けられており、冷媒をベローズ5が繋がる
伝熱板9に噴射して冷却する方法をとることによりチッ
プ1の強制冷却が行われている。
こ\で、半導体装置2と冷却構造体6を繋く弾性伝熱体
4として、例えばシリコンゴムの中に熱伝導性の優れた
セラミック粉末を混和したものが用いられている。
なお、伝熱板9は表面が平坦で、91 (Cu)など熱
伝導性の優れた材料を用いて形成されている。
こ−で、冷却効率を向上するには、伝熱板9の表面を粗
面化して表面積を増すとよいと考えられるが、この冷却
効率すなわち伝熱性能の向上法については従来より半導
体装置の液冷に限らず冷媒配管の冷却性能を向上するな
どを目的として次のような各種の方法が提案されている
■ 金属の表面にメツキ法により無数の蛸壷状の窪みを
作ることにより伝熱性能を向上する。
(特開昭52−27375) ■ 金属の表面にメツキ法により多孔質のメツキ層を島
状に形成することにより伝熱性能を向上する。(特開昭
63−243297) ■ 金属の表面に粒径が0.1〜10μmの金属微粒子
を焼結して多孔質層を形成することにより伝熱性能を向
上する。(特開昭62−219645)然し、これらの
方法を冷却構造体6の伝熱板9に適用してみた結果、こ
のように単純に表面積を増加させる方法では冷媒の流れ
を阻害することになり、必ずしも冷却効率の向上には寄
与していないことが判った。
〔発明が解決しようとする課題〕
先に記したように第4図に示す冷却構造体6を弾性伝熱
体4を介して半導体装置2の伝熱基板3に当接し、チッ
プ1を冷却するには、ノズル7より噴出する冷媒が当た
る伝熱板9を粗面化して冷却効率を向上すると効果的で
ある。
然し、単に表面積の増大を行うだけでは冷却効率が向上
しないことが判った。
そこで、最適な粗面化構造を求めることが課題である。
〔課題を解決するための手段〕
上記の課題は回路基板上に装着してある半導体装置の伝
熱基板の上に弾性伝熱体を介し、伝熱板を底部にもつ冷
却構造体を当接せしめ、該冷却構造体の内部に設けてあ
るノズルより冷媒を伝熱板に噴射して冷却せしめ、該冷
媒を排水口より排水して循環させる構造をとる冷却構造
体において、前記伝熱板00)が内面に0.05.l′
1m以上の粒状金属粉を並べて一体焼結したものからな
ることを特徴として冷却構造体を構成することにより解
決することができる。
〔作用] 第1図は本発明に係る伝熱板10の構造を示す断面図で
あって、内面に直径がQ、05n++n以上の粒状をし
た金属粉11が一層に整列して一体焼結されたものから
構成されている。
発明者等は当初、第4図に示すように冷媒をノズル7よ
り伝熱板9に噴射して後、排出口8より排出し循環させ
て半導体装置2に搭載されているチップ1を効率よく冷
却させるには伝熱板9の表面積を拡大すればよいと考え
た。
それには先に挙げたように金属粉の内面への焼結やメツ
キによる粗面化の方法がある。
こ\で、伝熱板9の冷却効率を高めることは、伝熱板9
の熱抵抗を下げることに他ならないが、発明者等は熱抵
抗を測定した結果、冷媒を循環させて冷却させる構造に
おいては、このような11面化は熱抵抗の減少には殆ど
寄与していないことが判った。
第5図は熱抵抗の測定法を示す部分断面図であって、伝
熱ヒータ13と熱電対14とを備えた伝熱基十反15の
上に熱的結合材16を介して各種の粗面化を行った伝熱
板17と熱電対18を備えた冷却構造体6を当接したも
のである。
そして、測定法としては、ノズル7より冷媒を伝熱板1
7に噴射させ図示を省略した排水口よりυト出させて循
環させている状態で、伝熱基板15の伝熱ヒータ13に
通電して伝熱基板15を加熱し、電熱ヒータ13への印
加電力と二つの熱電対14.18間の温度差の測定から
熱抵抗(’C/W)を測定した。
その結果、先に記したようにメツキによる粗面化は熱抵
抗の減少には効果はなく、焼結法は効果があるが、従来
のように金属粉を多数層に亙って積み重ねた焼結構造は
熱抵抗の減少には効果がなく、金属粉を一層に密に整列
させて一体焼結したものだけが効果があることが判った
また、金属粉の粒径についても従来の粗面化法で提案さ
れている0、1〜10μmのような細粉では効果はなく
、0.05mm以上の粒径の大きなものでないと効果の
ないことが判った。
この理由は、冷媒の循環にあたって流動抵抗が少なく、
且つ冷媒との接触面積ができ得るかぎり大きなことが必
要で、そのため適当に大きな金属粒子を一層に並べ、冷
媒が粒子間の間隙をぬって流れる場合が熱抵抗が最も少
なくなるのである。
〔実施例〕
第2図は銅(Cu)製の伝熱板の上に粒径が0.3柵の
Cu粉を一層に並べて一体焼結したものと二層に並べ、
水素(H2)ガス中で950°Cで1時間に互って一体
焼結したものを従来の平滑な伝熱板と比較し、第5図に
示した測定法で熱抵抗を測定した結果である。
この結果から判るように、二層に焼結した伝熱板の熱抵
抗は無処理の平坦なものよりも高く、冷却効率の向上に
は寄与していないことが到る。
一方、本発明を適用した焼結−層構造の熱抵抗は0.1
8°C/Wであり、熱抵抗は従来の1/2以下にまで低
下している。
また、第3図は粒径の異なるCu粉を一層に並べて一体
焼結した伝熱板を第5図に示す方法で熱抵抗を調べた結
果であって、粒径が増すに従って熱抵抗は減少するが、
0.5mmを越えると次第に増加することが判る。
このことは粒径の増加と共に流動抵抗は減少するが、表
面積が減るために結果として熱抵抗が増加するのである
以上のことから、焼結構造をとる伝熱板に使用する金、
9粉の粒径は0.05mm以上のものが適当であ〔発明
の効果〕 本発明の実施により冷媒と伝熱板との間の熱抵抗を低減
することができ、これより液冷構造をとる半導体装置に
ついて冷却効率の向上が可能となる。
【図面の簡単な説明】
第1図は本発明に係る伝熱板の断面図、第2図は焼結層
と熱抵抗との関係図、 第3図は金属粉と熱抵抗との関係図、 第4図は代表的な液冷構造の断面図、 第5図は熱抵抗の測定法を示す部分断面図、である。 図において、 1はチップ、 3.15は伝熱基板、 7はノズル、 111よ金属1分、 14、18は熱電対、 2は半導体装置、 6は冷却構造体、 9、10.17は伝熱)反、 131よ電熱ヒータ、 本亮Bへに係る伝終版の断面図 第 10 返[結層と酪柩坑との関係図 第 2図 含2粉の体立イ釜と外抵、ギ江、との関係口1+ッフ0 A人匁臼勺守未々額弯、ヱ旨−の迂り一面j第4図 イ48:Aの湧1疋〉デ侶示膚擺分析韻ロ修 「八

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 回路基板上に装着してある半導体装置の伝熱基板の上に
    弾性伝熱体を介し、伝熱板を底部にもつ冷却構造体を当
    接せしめ、該冷却構造体の内部に設けてあるノズルより
    冷媒を伝熱板に噴射して冷却せしめ、該冷媒を排水口よ
    り排水して循環させる構造をとる冷却構造体において、 前記伝熱板(10)が内面に0.05mm以上の粒状を
    した金属粉(11)を並べて一体焼結したものからなる
    ことを特徴とする冷却構造体。
JP18686489A 1989-07-19 1989-07-19 冷却構造体 Pending JPH0350852A (ja)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18686489A JPH0350852A (ja) 1989-07-19 1989-07-19 冷却構造体

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP18686489A JPH0350852A (ja) 1989-07-19 1989-07-19 冷却構造体

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JPH0350852A true JPH0350852A (ja) 1991-03-05

Family

ID=16196002

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP18686489A Pending JPH0350852A (ja) 1989-07-19 1989-07-19 冷却構造体

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JP (1) JPH0350852A (ja)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2014029285A (ja) * 2012-07-31 2014-02-13 Fujitsu Semiconductor Ltd 温度調節装置、温度調節方法、電子装置の製造方法及び温度調節プログラム
US9375107B2 (en) 2010-11-15 2016-06-28 Pacific Market International, Llc Beverage container closure
JP2018014392A (ja) * 2016-07-20 2018-01-25 ローム株式会社 半導体装置およびその製造方法

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US9375107B2 (en) 2010-11-15 2016-06-28 Pacific Market International, Llc Beverage container closure
JP2014029285A (ja) * 2012-07-31 2014-02-13 Fujitsu Semiconductor Ltd 温度調節装置、温度調節方法、電子装置の製造方法及び温度調節プログラム
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